850 nm窄带低通滤光片性能指标管控

客户成品指标850 nm窄带低通滤光片性能指标管控
参考波形
激埃特光电ZK850窄带内部管控指标
1）原材料：HWB830黑玻璃，
直径8.0mm公差要求-0.1mm，厚度：3.5mm公差要求+/-0.1mm
表面质量：双面抛光，抛光面光洁度达到60-40以上最好是40-20标准，无肉眼可视砂眼，划伤，印渍，侧面无抛光印渍，崩边小于0.1mm,倒边小于0.2mm
光谱质量：300nm~800nm T<0.1%, 850nm T>70%, 880nm~1100nm T>85%,重点是中心波长管控T=50%处要求在827nm~836nm之间。

2）浮法玻璃：0.55mm玻璃公差在+/-0.05mm之间
3）S1面850窄带镀膜管控标准：镀膜后冷却1小时测量，中心波长在839nm~846nm之间，峰值透过大于80~90%之间，在80%以上的透过必须有5nm以上的空间（即5nm内的波长所对应的透过率应大于80%以上，以确保波长稳定后的合格率），半带宽FWHM控制：若中心波长在839nm半带宽可以放宽到22~25nm之间，若中心波长在846nm半带宽只能在19nm~21nm.
截止区700nm~820nm T<0.5%,880nm~1100nm T<0.5%
4）S2面分光膜面镀膜管控：只测试S1+S2双面情况下数值。

若S1面镀得峰值透过率大于90%镀完分光膜后，透过率要比只镀一面分光膜的高。

即单面镀膜分光54%，S1+S2后由于不受背面4。

2%的玻璃反射，将会达到56%左右。

遇这种情况，要求高透过的窄带镀分光膜时透过要控制低点。

比如53%(这个情况要求品保再做实验以确认实际情况)
相反的若窄带透过率只有70%左右，同样镀54%的分光膜后，将会下降个1%~3%.
5）品保管控：胶合前在投大片材料时，要把S1+S2双面已镀的窄带产品控制在50%~54%之间，需要考虑到分光膜面跟黑玻璃胶合后会有将5%个点的上浮。

同时中心波长也会有1~3nm左右的向长波方向移动现象。

若把850多层膜面跟黑玻璃胶合透过率会下降5~15%个百分点，且不稳定。

务必不能把S1面和S2面相反胶合，否则后果很难确认。

品保对双面镀膜后的中心波长管控：
中心波长：845nm~847nm之间的峰值透过率在50~55%且850nm透过率必须在50%以上。

半带宽在20nm~25nm之间。

中心波长：848nm~852nm之间的峰值透过率在50~55%且850nm透过率必须在50%以上。

半带宽在19nm~21nm之间。

中心波长：853nm~855nm之间的峰值透过率在50~55%且850nm透过率必须在50%以上。

半带宽在20nm。

测试点一个大片至少要测试5个点，距边缘10mm处的且距离档边角20mm处测一个点，再转90度相同情况下测一次，转三次后再测度最中心区域点。

若遇到第四圈特别注意，第四圈靠最外边的边缘15mm内与其它的波长和透过率将变化非常大，要特别测试。

并划分出来再投料。

其余圈，圈与圈之间一般会渐变偏长或波长偏短，透过率上也只是渐变化。

也有可能遇到因为镀膜操作人员放置玻璃时有斜面现象，造成某圈中的某片镜片变化非常大，要特别跟踪。

6)成品光谱曲线管控：
最高峰值透过率不得高于60%。

850nm处透过率在50~59.5%之间。

（这时可以不考滤中心波长位置）
半带宽在18nm~23nm之间，若透过率低半带宽可以宽，透过率高半带宽要窄点。

截止区350nm~820nm T<0.5%, 880~1100nm T<0.5%(在1000-1100nm处可放宽，因为我们检测仪器有误差)
1）我们采用的是HWB830黑玻璃，在850nm处大约有73%左右透过，从800nm开始到880nm 之间黑玻璃的光谱是呈斜线上升。

2）HWB830黑玻璃，通产讲T=50%位置是830nm但因为玻璃在炉内熔化时，不均匀可能部份掺杂的吸收体不一样，会导致同一大块玻璃切割后有波长长的有波长短的现象。

相同厚度下有波长会在825nm，有的波长会在835nm等。

3）HWB830这类型的有色玻璃，会因为玻璃厚度的变化，玻璃厚0.1mm波长就会偏长，薄0.1mm 波长就会偏短，这些偏长偏短看起来都在830nm左右变化，但实际上这个参数会影响850nm 处的透过率，若直径8*3.5mm在850nm处透过率是73%,返工后抛光会抛薄了，抛后厚度是直径8*3.26mm厚，在850nm处的透过率就变成了78%。

4）关于HWB830黑玻璃在850nm处的透过率高低对我们镀了850窄带加分光膜起到的影响力。

我们通过试验来证明。

5）拿M型BP850未镀分光，中心透过在72%，左边低，右边高达87%双山峰形状，采用镀膜面与黑玻璃胶合后，测试M型状未改变，但发现，左边原本透过低的偏得更低，左右透过高的最后只有71%透过。

测试黑玻璃在这位置的原本透过有74%。

因此最高点相差3%，左边相差高达20%。

也就是我们说的没有规律可言，使镀膜无法正常生产。

6）拿M型BP850未镀分光，中心透过72%的，左边低右边高达86%双山峰形状，采用未镀膜与黑玻璃胶，测试M型状未改变，但发现，左边853nmT75%降到T64%（相差11%）,右边863nmT86%降到T76%（相差10%）。

因此可得结果是玻璃面相胶合，峰值下降是有一定的规律，当然，我们刚才选的中心波长是858nm，这时黑玻璃的透过率相对比较高，都有72%~78%之间的透过，因此下降有规律性。

7）采用镀膜分光膜和BP850的产品，拿BP850多层膜面与黑玻璃胶合，胶合前中心透过51%，曲线呈抛物线状，胶合后，曲线也类同抛物线，但在右边已略微感觉到此产品曲线变成M型，是左边高右边低现象。

中心位置没有变化仍在849nm，透过率却只有41%，跟胶合前比较相差10%左右。

由于黑玻璃在850左边是斜下来的曲线，因此胶合后再看BP850左边带变窄了。

也就是把胶合前的缺点再明显的暴光出来。

8）采用镀了分光膜和BP850的产品，拿分光膜面与黑玻璃胶合，胶合前中心透过53%，胶合后中心透过49%(前后相差4%左右)，胶合前中心波长在844nm，胶合后中心波长在847nm（前后相差3nm），这个的偏差重点是因为黑玻璃在做怪，黑玻璃是斜线曲线，被压掉之后就产生了这现象。

黑玻璃的透过率越高中心位置的偏移就越不明显，胶合前的中心波长越靠近850nm中心波长也相对偏移少。

因此，我们不要太在意胶合前的中心波长。

重点要知道哪些参数影响我们胶合后的产品。

9）采用直径8*0.55mm测试，放置的角度总会有偏，因此波长总感觉与黑玻璃胶合后会有偏短，及胶合的发现波长偏长了3-5个纳米。

因为黑玻璃胶合后，相对垂直于台面，但一样也会左右偏角，导致波长偏短现象。

10）胶合前的中心波长若在843nm要确保当时850nm处透过有54%以上的透过，
总结：
1，针对NBP850窄带工艺难度性，内部生产过程中，将镀膜窄带时的带宽放宽到25nm,最窄不能低于20nm，即按23nm做为控制点。

2，镀S2面分光膜面,镀前一定要做实验，定片定坑定取放（要做实验陪镀的BP850放在哪个圈哪个框，镀前要测试大片的五个点透过并记录，镀后再同时测试这五个点并记录。

）3，镀膜后，待稳定后，品保投料应按如下分开产品。

首先所有将投料产品确保850nm 处透过至少在54%以上，第二中心波长若在843~846之间的产品要求半带宽一定要超过23nm。

4，黑玻璃选择，首先要对所有的黑玻璃的厚度进行测试，3.50~3.45mm，
3.40~3.44mm,3.35~3.39mm,3.30~3.34mm,3.25~3.29mm分五个档分类，按不同分类测出
850nm处的透过率是否在73%左右，超过部份需要做试胶合实验.要确保850nm处透过率等于73%正负1%的偏差，统一挑选。