二元光学
二元光学在凸非球面零件检测中的应用

二元光学在凸非球面零件检测中的应用
二元光学是一种非常实用的光学技术,在工业生产中有广泛的应用。
而在凸非球面零件的检测中,二元光学也能够发挥其独特的优势,提高产品的质量和生产效率。
凸非球面零件是指表面不同于球面的凸曲面。
由于其形状的特殊性,传统的光学检测方法难以对其进行有效的检测。
而二元光学通过
将两个不同的光源进行叠加,形成明暗交替的条纹,从而达到对非球
面零件曲面的检测。
该技术需要特殊的设备支持,主要包括两个光源、一组精密的透
镜和检测器。
其中,两个光源需要同时照射到被测物体上,形成相互
交替的亮线和暗线。
而透镜和检测器则需要将这些亮暗条纹转化为数
字信号,从而获得凸非球面零件表面的精确信息。
通过二元光学技术进行凸非球面零件的检测,可以大大提高产品
的质量和生产效率。
它不仅可以检测零件的外形和曲率,还可以捕捉
到微小的表面缺陷和变形。
这有助于避免产品的无效制造和缺陷的产生,同时也减少了人工检测的时间和成本。
总之,二元光学技术在凸非球面零件检测中发挥着非常重要的作用。
它能够提高生产效率、降低成本,同时还能够保证产品的质量和
安全。
未来,随着技术的不断发展,相信二元光学技术将会在更多的
工业生产领域得到广泛应用。
二元光学工艺操作说明

切割的基片,将黑色不感光相纸放在操作台上,基片涂有光刻胶的一面向下 放置在操作台的黑纸上; 3)根据所要使用的基片尺寸,用金刚刀及尺子将基片切割成适合的尺寸;同时 把垫在基片下的黑纸做适当的切割(以能覆盖住切割后的基片大小为准,用 于保护基片上的光刻胶); 4)用吹球吹去切割产生的玻璃残渣,将切割好的基片和黑纸小心放入黑盒中备 用。 4.注意事项:镊子、尺子和金刚刀刀都必须事先清洁过。
1
放置在自来水龙头前清洗 10 分钟,注意水流不要过大,以防止硫酸溅到身体 上。洗片时注意正、反面都要标示好,以利于辨认。严禁划伤正面。 3)从支架上取下基片,用手指夹紧基片侧面,用棉花球加洗洁精清洗,在自来 水下冲洗 15 分钟,基片正、反面、侧面都要擦洗。对于已经匀过胶的石英基 片,可打开洁净工作台的抽风机,戴上一次性手套和防毒口罩,将其放入装 有丙酮的培养皿中浸泡 10 分钟,然后取出用自来水冲洗 10 分钟,用镊子夹 持棉花球擦拭干净。 4)打开去离子水水阀,从石英基片的上面往下缓慢均匀冲洗,一边冲洗,一边 用棉花擦拭,正反面擦拭完后,放入装有去离子水的培养皿中浸泡 15 分钟后 再取出,放置在去离子水水阀下冲洗,四个侧面方向都要来回冲洗一次。 5)冲洗完毕后,立即拿到电吹风前吹干,基片要竖直方向拿,电吹风从上向下 吹,吹干后放入干净的培养皿中。 2.光刻胶涂片所用到的药液配方 铬版腐蚀液配比:硝酸铈铵 200g+浓度为 98%冰醋酸 35mL+去离子水 1000mL 光刻胶:AZ1500;显影液:AZ303 3.光刻胶版的涂片
二元光学器件制作工艺流程及其检测方法
一、切割
1.切割设备:金刚刀,尺子,镊子,洁净、不感光且表面光滑的黑纸(保证切割 基片时,涂有光刻胶的一面不曝光且不受污染),黑色、密闭的盛片盒(主要用 于保护涂覆有光刻胶的基片不曝光并保持一定的洁净度),医用手套,吹球 2.工作条件:暗房(若切割未涂有光刻胶的基片,可不必在暗房内操作),操作 台(要保证一定的洁净度,特别不能有颗粒状物体存在)。 3.操作过程: 1)穿上洁净服,将暗房内的操作台清洁,把切割设备摆放在暗房的操作台上,
二元光学元件的设计理论

二元光学元件的设计理论、特殊工艺与应用分析摘要:二元光学自从80年代提出以来,由于其具有衍射效率高,色散性能好,以及具有传统光学不具有的独特的光学性能,而获得了迅速的发展。
本文介绍了二元光学的发展历程、加工方法、特殊工艺,并阐述了常用二元光学器件的具体应用,及其发展方向。
为同类元器件的研制与推广提供参考。
关键词:微光学、二元光学、衍射、光刻工艺1、前言传统光学元件是基于折反射原理的器件,如透镜、棱镜等都是用机械或手工的方法进行加工,不仅制造工艺复杂、而且元件尺寸大、重量大,已不能适应现代光学设备小型化、阵列化的趋势。
80年代中期,美国MIT林肯实验室的威尔得坎普率先提出了“二元光学”的概念,二元光学有别于传统光学元件制造方法,基于衍射光学的原理,元件表面采用浮雕结构,制造上可以采用现有集成电路生产方法,由于采用二元掩模故称为二元光学。
关于二元光学的准确定义,至今还没有统一的看法,但目前的共识是二元光学基于光波衍射理论,利用计算机辅助设计、并采用超大规模集成电路制造工艺在元件表面蚀刻产生不同台阶深度的浮雕结构,形成具有极高衍射效率的衍射光学元件,是光学与微电子学相互渗透交叉的前沿学科[1]。
它的出现将给传统光学设计和加工工艺带来新的革命。
2、二元光学元件研究进展2.1 设计理论二元光学元件的设计类似于传统的光学元件的设计方法,已知入射光的光场分布,以及所要达到的输出平面的光场分布,如何计算中间光学元件的参数,使得入射光经过光学系统后光场分布符合设计要求。
但是它们之间不同之处在于传统光学设计软件采用的是光线追击以及传递函数的设计方法,而二元光学采用的是衍射理论及傅立叶光学的分析方法。
但是在设计方法上仍有其共同点:如修正算法、模拟退火法、二元搜索法等也同样适合于二元光学元件的设计。
由于在许多情况下,二元光学元件的特征尺寸在波长量级或亚波长量级,故标量衍射理论已不在适用,因此必须发展描述光偏振特性和不同偏振光之间相互作用的矢量衍射理论[2]。
二元光学面 反射镜 加工

二元光学面反射镜加工英文回答:Diffractive Binary Optics.Diffractive binary optics (DBO) is a type of optical element that uses the principles of diffraction to create a desired optical effect. DBOs are typically made by patterning a thin film of material with a series of binary (i.e., two-level) structures. The pattern of the structures determines the optical properties of the DBO, such as its focal length, magnification, and aberration correction.DBOs have a number of advantages over traditional refractive optics. First, they are much thinner and lighter than refractive optics, making them ideal for applications where space and weight are critical. Second, DBOs can be fabricated using a variety of low-cost manufacturing techniques, making them a cost-effective option for many applications. Third, DBOs can be designed to correct for awide range of aberrations, making them ideal for use in high-precision optical systems.DBOs are used in a wide variety of applications, including:Laser beam shaping.Holography.Microscopy.Telecommunications.Optoelectronics.Fabrication of DBOs.DBOs are typically fabricated using a two-step process. In the first step, a thin film of material is deposited onto a substrate. The material is typically a polymer or a metal. In the second step, the film is patterned with aseries of binary structures. The pattern of the structures is typically created using a photolithography process.The fabrication of DBOs is a complex and precise process. The following are some of the key factors that must be controlled in order to produce high-quality DBOs:The thickness of the film.The pattern of the structures.The etching depth.The sidewall angle.Applications of DBOs.DBOs have a wide range of applications in optics. Some of the most common applications include:Laser beam shaping: DBOs can be used to shape the beam of a laser into a desired shape. This is useful for avariety of applications, such as laser cutting, laser welding, and laser marking.Holography: DBOs can be used to create holograms. Holograms are three-dimensional images that can be viewed using a laser.Microscopy: DBOs can be used to improve the resolution of microscopes. This is useful for a variety of applications, such as medical imaging and materials science.Telecommunications: DBOs can be used to multiplex and demultiplex optical signals. This is useful for increasing the capacity of optical communication systems.Optoelectronics: DBOs can be used to create a varietyof optoelectronic devices, such as optical switches and modulators.Advantages of DBOs.DBOs have a number of advantages over traditionalrefractive optics. These advantages include:Thin and lightweight.Cost-effective.Can be designed to correct for a wide range of aberrations.Disadvantages of DBOs.DBOs also have some disadvantages. These disadvantages include:Can be difficult to fabricate.Can be sensitive to environmental factors.中文回答:衍射二元光学。
二元衍射光学元件

二元衍射光学元件
二元衍射光学元件是一种基于光的干涉和衍射现象的光学元件,由两个或更多具有不同折射率或透振幅的层状结构组成。
它们可以通过使用二元掩膜制造,其中掩膜由二进制编码的形式进行分层,这使得元件的制造更加简单和高效。
二元衍射光学元件具有体积小、重量轻、易复制、造价低、衍射效率高、设计自由度多、材料可选性宽、色散性能独特等特点。
同时,它们能实现传统光学器件难以完成的整列化、集成化及任意波面变换的功能,这使得它们在以光学元件为基础的信息捕获、抽取、测量及控制等过程中具有极大的应用潜力。
在学术研究方面,二元光学的发展并不止于对现有光学器件的小型化和集成化。
实际上,其概念的提出为解决一些传统光学无法解决的问题提供了新的思路和方法。
例如,二元光学元件的特殊性质使得它在一些对精度和稳定性有极高要求的应用场景中具有显著的优势。
然而,尽管二元光学元件具有许多优点,但它们也有一些局限性。
例如,二元光学元件的设计和制造需要精确控制光的干涉和衍射过程,这需要高度的专业知识和先进的制造技术。
此外,虽然二元光学元件可以实现高精度的波前控制,但在一些需要高精度测量和控制的场合,还需要进一步改进和优化。
总的来说,二元衍射光学元件是一种具有很大潜力的光学元件,它在许多领域都有广泛的应用前景。
随着科学技术的不断发展和进步,我们有理由相信,二元光学将会在更多的领域得到应用和发展。
二元光学元件

1
二元光学( Binary Optics )是衍射 光学、微光学的主要分支学科,是光 学与微电子、微计算机相互融合、渗 透而形成的前沿交叉学科。是研究微 米、亚微米级特征尺寸光学元件的设 计、微细加工技术及利用该元件以实 现光束的发射、聚焦、传输、成象、 分光、图象处理、光计算等一系列功 能的理论和技术。
2
二、二元光学元件的结构
γ d x
闪耀光栅 光栅周期d,闪耀角γ
相位轮廓化
多阶相位轮廓光栅 γ d Δh x 光栅常数d/N,阶梯深度Δh
h
d sin , N
N 2n
3
折射透镜到二元菲涅尔透镜的演变过程
4
三、二元光栅夫朗和费衍射强度分布及特点
由图得以下关系:
A O B Δh d'
2
6
四、二元光学元件的制作方法
掩膜
刻蚀
刻蚀
刻蚀
光学光刻制作8台阶衍射微光学元件的原理
7 下一节
I sin m / N sin m I 0 m sin m 1 / N
2
1、衍射效率与台阶的数目N和衍射级次m有关;
2、台阶的数目N越大,+1级的衍射效率越高。当N 趋于无穷时,能量将全部集中到+1级上。此时
I sin / N I0 / N
第七节 二元光学元件
(Binary Optical Element,BOEs )
一、概念
基于光波的衍射理论,运用计算机辅助设计, 并运用超大规模集成电路制作工艺,在片基上刻蚀 产生两个或多个台阶深度的浮雕结构,形成纯相位、 同轴再现、具有极高衍射效率的一类衍射光学元件。
随之形成的一门新的学科分支,称二元光学 。
二元光学应用课件

04
二元光学在传感领域的应 用
二元光学在传感系统中的作用
信号转换
二元光学能够将待测信号转换为光信号,实现非 光学量与光学量之间的转换。
提高灵敏度
通过二元光学技术,可以显著提高传感系统的灵 敏度,实现微弱信号的检测。
降低噪声
二元光学能够降低噪声干扰,提高信号的信噪比, 从而提高传感精度。
二元光学在传感中的优势
调制器
调制器是光通信中的核心元件之一,用于将信息 加载到光信号上。二元光学调制器具有调制速度 快、调制精度高和稳定性好的优点,能够实现高 速、大容量的光信号调制。
滤波器
二元光学滤波器是一种具有窄带滤波特性的光学 器件,能够实现光信号的过滤和选择。在光通信 中,二元光学滤波器可用于信道选择、噪声抑制 和信号解调等方面。
二元光学在成像中的优到各种成像系统中。
高效率
二元光学元件具有高反射 率和透射率,能够有效地 利用光能,降低能耗。
高稳定性
二元光学元件具有优异的 热稳定性和环境稳定性, 能够在各种恶劣条件下保 持稳定的性能。
二元光学在成像中的具体应用案例
激光雷达与遥感
通过二元光学元件实现激光雷达的高精度测距和目标识别,用于 地形测绘、环境监测和无人驾驶车辆的导航。
光学加密与信息保护
利用二元光学元件实现信息加密和防伪鉴别的高安全性,用于保 护信息安全和知识产权。
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THANKS
二元光学应用课件
• 二元光学简介 • 二元光学在通信领域的应用 • 二元光学在成像领域的应用 • 二元光学在传感领域的应用 • 二元光学在其他领域的应用
01
二元光学简介
二元光学的基本概念
总结词
二元光学是一种利用二元结构(如光栅、透镜等)对光进行调控的技术。
二元光学元件的制造技术

二元光学元件的制造技术一.概述二元光学是基于光波衍射理论发展起来的一个新兴光学分支,是光学与微电子技术相互渗透、交叉而形成的前沿学科。
基于计算机辅助设计和微米板加工技术制成的平面浮雕型二元光学器件具有质量轻、易复制、造价低等特点,并能实现传统光学难以完成的微小阵列、集成及任意波面变换等新功能,从而使光学工程与技术在诸如空间技术、激光加工技术与信息处理光纤通信及生物医学等现代国防、科学技术与工业等诸多领域中显示出前所未有的重要作用及广阔前景。
20世纪80年代中期,美国MIT林肯实验室率先提出,衍射光学元件的表面带有浮雕结构,使用了制作集成电路的生产方法,所用的掩模是二元的,而且掩模用二元编码形式进行分层,故引出了“二元光学”的概念。
随后加拿大、德国、俄罗斯等国也相继开展了这一领域的工作。
20世纪90年代初期,国际上兴起研究二元光学的热潮,并引起学术界和工业界的极大兴趣和青睐。
与此同时,我国也开始了该方面的研究。
经过十几年的研究,二元光学元件在设计理论、制作工艺和应用等方面取得了突破性进展。
(一)二元光学元件的结构二元光学元件是以光的衍射理论和计算机技术作为设计基础,以现代微电子技术作为加工和测量手段发展起来大的。
设计人员应用衍射理论和计算机数值计算,设计出满足一定功能的二元光学元件的位相分布,然后通过制造掩模、光刻、离子蚀剂、镀膜等各种细微加工方法,在玻璃、硅片或晶体片基上形成由亚微米级离散像素构成的浮雕型结构。
图1给出三种不同类型的二元光学元件剖面示意图。
其中图a为二值型,只包含0, 两个位相等级;图b为多值型,包含有N=2n个位相等级(图中n=2);图c为混合型,它由一个折射光学元件和一个二元光学元件组合而成。
图(1)(a)二值型元件;(b)多值型元件;(c)混合型元件(二)二元光学元件特点二元光学元件除具有体积小、质量轻、容易复制等优点外,还具有如下许多独特的功能和特点:1.高衍射效率二元光学元件是一种纯相位衍射光学元件,为得到高衍射效率,可做成多位相等级的浮雕结构。
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二元光学元件的设计以及制造
几 种 典 型 的 二 元 光 学 器 件
二元光学元件的设计问题是去构造一个 新的分布函G(u),G(u)=|G(u)|. exp(i. f(u)) 它满足以下三个条件: (1) |G(u)|=1,(纯相位型元件,振幅为 常数); (2) f(u)是L 等级量化的(二元光学元件 ); (3) G(u)的夫琅和费衍射花样g(x)= FT{G(u)}的强度分布|g(x)|2 以高精 度地逼 近已知的强度信号| f (x)|2
二元光学元件的设计步骤
(1) 编码过程 将原先振幅分布中所携带的信 息,尽可能多的编码到相位分布中去。 (2) 量化处理 对连续分布的相位进行分级量 化处理。 主要有:G-S 算法、Y-G 算法及SA( Simulation Annealing)算法。 普通光学零件的面形是用研磨、抛光方法加 工而成的,而二元光学元件的面 形是用与超大规 模集成电路制造技术相同的方法加工的。 由于制 造技术仍是制约二元光学元件发展的关键问题, 所以改进制造技术是 一个主要的研究领域。
2
3 消反射的衍射元件
为了抑制光学表面的菲涅尔反射,通常采用镀膜方法,即在光学
表面镀一层 具有梯度射射率的薄膜,使得两种介质界面的光学性质近似
的连续变化,从而获 得极低的反射率。由于镀膜中常用的化学萃取和共 蒸发方法都要用到各向异性材料,因而不可避免的带来热学和力学性能
不均匀等问题,使得高质量镀膜难以成功的制作 。
7
其它应用
莱福枪上的夜视仪 ,具有可宽带使用、大数值口径、携带方便、低 成本和大量复制等特点。
飞行员头上的平视显示仪 ,具有重量轻、光能损失小、单色显示且
显示清晰等优点。 达曼光栅分束器,其光束利用率极高,各光束强度均匀性好。
还可用于集成平面微光学系统中,灵活的控制光线传输的过程 。
二元光学的特点和功能
二元光学技术是利用计算全息方法与微细加工 技术,在任意片基材料上制作出位相深度为多台 阶微浮雕结构的衍射微光学元件。二元光学元件 的形状是以往折射型光学元件所没有的特殊状, 以二元透镜为例说明二元透镜的形状,按折射型 透镜的形状去掉波长整数倍光程差的部分。这是 因为即使这样也不改变其性能,再以几分之一波 长的厚度将形状量化。这种阶梯式量化形状就是 二元光学元件的特点。
4 灵巧扫描
input out put
由一对正负微透镜列阵以共焦形式组合,当其中之一作横向移动时, 可对透过它们的激光束形成灵巧扫描。
5 激光光盘读出头
随着激光技术、精密机械技术和电子技术的发展,光、机、 电三者相结合的产品已成为当前高科技产业中最重要的产品之一。 其中,激光扫描技术和信息存储光盘技术的发展十分迅速。早在 1989 年,激光条形码扫描器、激光打印机、激光唱机的销售量 分别已达二十万台、一百万台和一千万台。最近几年,它们的销 售量在成倍的增长。 二元光学元件作为这些器件中的核心元件 -----扫描光学元
利用折射和衍射正好相反的色散特点,将二元光学技术用在折 衍混合系统设计中,消除系统色差。
Refractive Optics
Binary Optics
Mixed Optics
+
BLUE RED RED BLUE
=
WHIT E
第三,有更多的参数选择性。 在一般的光学系统设计中,为校正像差,需弯曲一 些曲面;而校正色差,需用两种不同性质的玻璃,但校正 参数的选择余地是 很小的。例如,想消除像差时,只能 弯曲曲面,而现在就不同了,利用二元光学器 件,只需 在平面或曲面上做一些台阶,而台阶的宽度 、 深度 、位 置等都是可变的,所以选择性就大多了。
高斯光束转化为平台光束示意图
二元光学方法:单个的衍射光学元件便能够同时实现对入射 高斯激光束的相位调制、强度变换和聚焦
2 像差校正
——He-Ne激光聚焦校正器
医疗仪器中长期悬而未决的难题,如何将CO2“刀光束”与 指示照明用的He-Ne 激光束聚焦到同一平面上?
He -Ne Laser He -Ne CO 2 Laser CO ZnSe
二元光学解决途径:在衍射光学元件表面刻蚀高空间频率的连续 位相光栅结构。由于光栅的空间周期极小,使得只有零级衍射光在入射
介质和衬底中传播, 如同处于折射率呈梯度分布的有效介质中一样,从
而达到消反射的功效。通过合理的匹配光栅周期,选择入射光波长等参 数来设计消反射结构元件,可以获得在宽波段和广角度范围内极低的反 射率,从而有效地抑制光学表面的菲涅尔反射。
在惯性约束核聚变高功率激光系统中 ,用随机位相板来实现光束平 滑处理。
结语
微光学的发展,使光学元件的尺寸进入微米、亚微 米级领域,使人的认识 进一步深入,使传统光学及其技 术发生巨大变革,这对光学领域特别是信息领域 的发展 将产生难以估量的作用。 三微技术(微电子、微光学、 微机械)的结合将改变人类社会的生产、生活的观念和方 式。
巧妙的解决办法: 在聚焦透镜表面刻蚀出起负透镜作用的衍射沟槽,
使得He-Ne 可见光束聚焦点拉远而对长波段的CO2 红外激光束不起作 用,从而使CO2“刀光束”和He-Ne “照明光束”很好的聚焦于同一
点。
2 像差校正
——He-Ne激光聚焦校正器
He -Ne Laser He -Ne CO Laser ZnSe CO 2
第二个优点是其独特的色散性能。 对于一般的折射光学器件,由于光波不同,红光与蓝 光聚焦的地方不同,即存在色散,而二元光学器件,控制 相位台阶的位置与高度,使红光与蓝光聚焦在不同的地方 ,但红光、蓝光的相对位置正好同折射器件相反。若将折 射器件与二元光学器件叠加在一起,红光、蓝光可聚焦在 同一个点上,甚至白光也可完全聚焦在一个点,因此可利 用二元光学器件去补偿折射器件的色散,形成折衍混台系 统,因此,可利用这些特性,构造混合系统,可大大简化 光学系统,减轻重量,减小体积。
二元光学
前言
二元光学是衍射型光学元件新的制作技术。 衍射型光学元件是根据光衍射现像的原理, 即从波动光学的观点出发,所设计的光学元件。 与此相反,现在使用最多的透镜和棱镜等光 学元件是按折射定律把光作为光线来处理,即从 所谓的几何光学的观点出发所设计的折射型光学 元件。在现在的光学机械中,主要使用折射型光 学元件而很少使用衍射光学元件。这是因为衍射 型光学元件还存在着一些问题。 二元光学就是利用最新的光学技术来解决这 些问题,并进一步实现衍射型光学元件的固有功 能。
折射透镜到二元光学器件浮雕结构的演变
二元光学器件有如下优点: 第一,有比较高的衍射效率。
经过理论计算,两台阶,衍射效率达41%;四台阶,可达 81% ;而八台阶,高达95%。利用更多的掩膜,四块、六块或八块时,能 得到更高的衍射效率。但这样做是很不值的,八台阶以后,衍射效率 已趋于饱和。况且,每套刻一次,就失掉一次精度,不可能每次套刻 那么准,所以一般做成八台阶器件。
二元光学元件的制作
多掩膜法 主要有光刻法、掩模移动法、灰阶掩模法、热熔法
和梯度折射
一种直角坐标 方式的激光直 写系统
光刻热溶法—表面折射微光学元件
二元光学元件的应用
1 衍射光学激光共振腔
一般的激光共振腔是由平面反射镜、球面反射镜构成 的,出射的基模激光束 的光强分布是高斯型分布,而且对高 阶模的抑制比较困难。这在许多应用中是不利的,用二元光 学技术可以制作具有所需要的反射系数的反射镜,从而出现 一种新的激光共振腔。它出射的激光模式形状、光束的光强 分布可以得到控制,并可以有很高的模式甄别能力。
二元光学概念
随着20 世纪60 年代激光的出现,由于其具 有单色、相干长度好等特点,许多重要的研究必 须使用激光才能更充分地发挥仪器的优良特性, 因此,在科学技术发展中以透镜棱镜为主、且光 机电集成的趋势下的光学仪器,越来越显得重、 大、笨,因此研制小型、高效、阵列化的光学器 件己刻不容缓。
二元光学是衍射光学的主要分支学科,是研 究微米、亚微米级特征尺寸光学元件的设计、微 细加工技术及利用该元件以实现光束的发射、聚 焦、传输、成象、 分光、图象处理、光计算等一 系列功能的理论和技术的学科,是光学与微电子 、 微计算机相互融合、渗透而形成的前沿交叉学 科。
2
2 像差校正
——He-Ne激光聚焦校正器
通常使用的ZnSe(硒化锌)透镜在He-Ne 激光 器输出波长比在
CO2 激光器输出波长上更高的折射率,使得He 一Ne 激光照明光 束聚
焦位置更靠近透镜而远离CO2 激光照明光束聚焦点。所有现存的传统 光学的 解决办法,也都会带来新的问题 。 衍射光学技术提供了直接
件和读出光学头,具有大数值孔径、重量轻、并可偏振方向选择
的特性;具有广阔的应用前景。
6 多头激光划片机
利用二维达曼光栅形成上 百条平行光束,经过反射、 折射及微透镜聚焦后,形
成多头激光束,对移动的
工件进行划片操作。 例如,用于太阳电池的划
片切割,具有划片速度快、
切割损耗小、使用效率高 的优点。