非平衡载流子分析

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12-第五章-非平衡载流子

12-第五章-非平衡载流子
2 i 5
3
n p 1010 cm3
10 3
n n0 n n0 1.5 10 cm
15
3
p p0 p p 10 cm
光电导
V Ir s P
s ne m e pe m
h
r
R
n n 0 n p p0 p
1 ( n0 p0 )
N型半导体 本征半导体 * 大注入
n
1 n0
P型半导体
p
1 p0
1 2ni
p n0 p0
1 p
dp(t ) p(t ) dt
s
s s
l r 0 s
非平衡载流子的复合
非平衡载流子随时 间而减少的速率为
p(t ) p(0) exp t
dp(t ) p(t ) dt
p p0 p p0
p
所有非平衡载流子的平均存在时间
t


0 0
tdp (t ) dp (t )
u ( n0 n)( p0 p ) ni2


n0 p0 ni2
u p(n0 p0 p)
n p
dp p u dt
1 (n0 p0 p)
1 p0
t
p() g
准费米能级
Ec E f n0 N c exp KT
n n0 n
Ec E n f N c exp KT
En Ef n0 exp f KT

E f Ev p0 N v exp KT

非平衡载流子

非平衡载流子

过程前
过程后
间接复合的四个过程 (Nt复合中心浓度,nt复合中心能级上电子浓度)
3.表面复合
表面粗糙 寿命短 表面光洁 寿命长
样品愈小,寿命愈短 样品愈大,寿命愈长
存在表面复合
原因
缺陷 表面晶格的不完态引入 吸附杂质
间接复合
禁带中引入能级
表面复合率:单位时间内通过单位表面积复合掉的电子—空穴对数目 。 Us=S(△p)s
p 1 U r n0 p0 p
(1)小注入条件下 △p<<n0+p0 (2)大注入条件下 △p<<n0+p0

1 r n0 p0
1 rp
2.间接复合
定义:非平衡载流子通过禁带中的杂质和缺陷能级进行的复合。 复合中心:对非平衡载流子的复合起促进作用的杂质和缺陷,复合 中心能级越接近禁带中央,促进复合的作用也就越强。
p /
非平衡载流子的复合
发射光子
发射声子 转移能量:(载流子间,Auger)
直接复合 间接复合
能量 放出
复合构

复合中心 面
1.直接复合
定义:导带中的电子直接落入价带与空穴复合,使一对 电子空穴消失。
产生
Ec
光或热
复合
Ev
热平衡时:Q0(产生率)=R0(复合率)
光照
非平衡态
建立新的动态平衡
n型半导体:平衡状态时的电子是多数载流子; 非平衡态时注入的电子△n称为非平衡多数载流子, 而注入的空穴△p称为非平衡少数载流子。 p型半导体: 平衡状态时的空穴是多数载流子; 非平衡态时注入的空穴△p称为非平衡多数载流子, 注入的空穴△n称为非平衡少数载流子。

第四章非平衡载流子

第四章非平衡载流子

第四章 非平衡载流子(excess carriers )非平衡...一词指的是自由载流子浓度偏离热平衡的情况。

在3.5节讲到的载流子输运现象中,外加电场的作用只是改变了载流子在一个能带中的能级之间的分布,并没有引起电子在能带之间的跃迁,因此导带和价带中的自由载流子数目都没有改变。

但有些情况是:在外界作用下,能带中的载流子数目发生明显的改变,即产生了非平衡载流子。

在半导体中非平衡载流子具有极其重要的意义,许多效应都是由它们引起的。

本节将讨论非平衡载流子产生与复合的机制以及它们的运动规律。

4.1非平衡载流子的产生与复合处于热平衡状态的半导体,在一定温度下载流子浓度是恒定的。

用0n 和0p 分别表示处于热平衡状态的电子浓度和空穴浓度。

0n 和0p 满足质量作用定律。

如果对半导体施加外界作用,就会使它处于非平衡态。

这时,半导体中的载流子浓度不再是0n 和0p ,而是比它们多出一部分。

比平衡态多出来的这部分载流子,称为过量载流子(excess carriers ),习惯上也称为非平衡载流子。

4.1.1非平衡载流子的产生设想一N 型半导体,0n >0p 。

若用光子能量大于禁带宽度的光照射该半导体,则可将价带的电子激发到导带,使导带比平衡时多出一部分电子n ∆,价带中多出一部分空穴p ∆,如图4-1所示。

在这种情况下,导带电子浓度和价带空穴浓度分别为n n n ∆+=0 (4-1-1)p p p ∆+=0 (4-1-2)而且p n ∆=∆ (4-1-3)式中n ∆和p ∆就是非平衡载流子浓度。

对于N 型半导体,电子称为非平衡多数载流子,简称为非平衡多子或过量多子。

空穴称为非平衡少子或过量少子。

对于P 型半导体则相反。

在非平衡态,2i n np =关系不再成立。

光照产生的载流子可以增加半导体的电导率n p =nq +pq σμμ∆∆∆=n p nq +μμ∆() (1-3-4)σ∆称为光电导。

用光照射半导体产生非平衡载流子的方法称为载流子的光注入。

非平衡载流子

非平衡载流子

(5-3)
South China Normal University
1、非平衡载流子的注入与复合
非平衡载流子的测量: 附加电导率: Δσ=Δnqμn+Δpqμp (5-3) 可通过测量电导率,电压降的方法检 测非平衡载流子注入。 平衡载流子的注入(产生): 光照、电场、磁场。
非平衡载流子的复合 产生非平衡载流子的外部作用撤除后,半导体由非平衡状态 回复到平衡状态,非平衡载流子逐渐消失的过程。
South China Normal University
4、复合理论
(2)间接复合:非平衡载流子通过禁带中的 能级(复合中心)进 行的复合。半导体杂质和缺陷越多,寿命越短。 小注入情况下: 对于n型半导体:τ =1/rpNt (5-38) rp:空穴俘获系数, Nt :复合中心浓度 对于p型半导体:τ =1/rnNt (5-40) rn:电子俘获系数, Nt :复合中心浓度
South China Normal University
3、准费米能级
n n n EF Ei Ec EF EF EF n NC exp( ) n0 exp( ) ni exp( ) k0T k0T k0T
p p p EF EV Ei EF EF EF p NV exp( ) p0 exp( ) ni exp( ) k0T k0T k0T
South China Normal University
2、非平衡载流子的寿命
非平衡载流子的寿命τ :非平衡载流子的平均生存时间。 τ :非平衡载流子的复合几率的倒数。 复合几率:1/τ Δp(t)=(Δp)0e-t/τ (5-6) 非平衡载流子浓度随时间按指数衰减。 取t=τ;得到,Δp(τ)=(Δp)0/e 非平衡载流子寿命指非平衡载流子浓度减少到原值的1/e所需 的时间。寿命长,衰减慢,寿命短,衰减快。 不同材料的非平衡载流子寿命不同。 完整的Ge:104μs;Si:103μs;GaAs:10-8-10-9s。 非平衡载流子的寿命测量:直流光电导衰减法、高频光光电 导衰减法。

半导体物理基础-非平衡载流子

半导体物理基础-非平衡载流子
Rnn0 n02 p0
Gnn
Gnn0
n n0
(3) 陷阱效应
一些杂质缺陷能级能够俘获载流子并长时 间的把载流子束缚在这些能级上。
产生原因:
俘获电子和俘获空穴的能力相差太大
电子陷阱 空穴陷阱
nt
Nt
(ncn p1cp ) cn (n n1) cp ( p
p1 )
例题1
解:温度改变时,费米能级位置要发生 变化,则与Et的相对位置也发生变化.
外部条件拆除后,
n p
光照引起的附加光电导:
qnn qpp
通过附加电导率测量可计算非 平衡载流子。
n, p nonequilibrium carriers
也称 excess carries (过剩载流子)
n型半导体:Δn=Δp《 n0, p型半导体 Δn=Δp《 p0
n1 p0, n0 , p1
1 Ntcp
n1 p0
p
n1 p0
(4)强p型区
p cn (n0 n1) cp ( p0 p1)
U
Ntcncp (n0 p0 )
p0 n1, p1, n0
1 NT cn
n
2. Et
U
np ni2
1 cp Nt
(n
n1 )
1 cn Nt
(
p
p1 )
复合
直接复合(direct recombination):导带电子与价带空 穴直接复合.
间接复合(indirect recombination):通过位于禁带中的 杂质或缺陷能级的中间过渡。
表面复合(surface recombination):在半导体表面发生 的 复合过程。
从释放能量的方法分:

固体物理学§7.5 非平衡载流子

固体物理学§7.5 非平衡载流子

稳定的非平衡载流子分布。
jD
De
d n dx
固体物理
固体物理学
d n
其中, dx 是非平衡载流子(电子)的浓度梯度,
De是电子的扩散系数。非平衡载流子边扩散边复合,在半 导体中形成稳定的分布,其浓度分布满足连续性方程
d dx
De
d n dx
n
上式的左边是因扩散所造成的积累,右边表示因复合 而造成的损失。其解为
非平衡载流子在数目上对多子和少子的影响显然是 不同的。多子的数量一般都很大,非平衡载流子不会对 它有显著影响。但对少子来说,数量的变化将非常明显。
例:室温下,在掺杂n0=1016cm-3的N型Si中, p0=104cm-3,若产生非平衡载流子n=p=1010cm-3
固体物理
固体物理学
因此,在讨论非平衡载流子时,常常最关心的是 非平衡的少数载流子。
1. 辐射复合:载流子多余的能量是以光子的形式释放的, 或者为满足准动量守恒,在发射光子的同时, 伴随着发射或吸收声子。
固体物理
固体物理学
2. 无辐射复合:载流子多余的能量以发射声子的形式释 放,即载流子将多余的能量传递给晶格振动。一般此 过程放出的声子不止一个,故称为多声子过程。
3. Auger过程: 在电子与空穴复合的过程中,电子把能 量传递给其邻近的一个载流子, 使之成为高能载流子, 然后它再与其载流子碰撞而逐渐将能量释放出来。
变化光照的情况下,载流子的寿命决定了光电导反应 的快慢。如果两个光讯号之间的时间间隔小于,那么, 第一个讯号的影响尚未消除,第二个讯号已经传过来 了,使得两个讯号无法区分开。此外, 越大,光电导 的效应就越强。因为一个非平衡载流子只在的时间内 起增加电导的作用, 越大,产生一个非平衡载流子对 增加电导的效果就越大。通过测量光电导的衰减可以 确定非平衡载流子的寿命。

半导体物理与器件 第五章非平衡载流子解读

半导体物理与器件 第五章非平衡载流子解读

D p
d 2p dx 2
p
Dn
d 2n dx 2
n
但p( x)、n( x)仍是空间x的函数
上述两个方程的解:
p(x) Aexp( x ) B exp( x )
Lp
Lp
n(x) C exp( x ) B exp( x )
Ln
Ln
Lp Dp p 空穴扩散长度 Ln Dn n 电子扩散长度
第五章非平衡载流子
5.1非平衡载流子的注入与复合 5.2 非平衡载流子的寿命 5.3准费米能级 *5.4复合理论 *5.5 陷阱效应 5.6 载流子的扩散方程 5.7 载流子的漂移运动,爱因斯坦关系式 5.8 连续性方程
5.1非平衡载流子的注入与复合
过剩载流子的产生: ①光注入
光照使半导体产生非平衡载流子
光照
1
1
0
2 0
R
L S
l
s
2 0
V IR p
半导体R1
V R2>>R1
5.1非平衡载流子的注入与复合
②电注入:
二极管加正向电场,n区的 电子扩散到p区,p区的空穴 扩散到n区
p
n
P区
p n
p0 n0
p n
n区
p n
p0 p n0 n
加反向电场,少子抽取,n区空穴飘移到p区,p 区的电子飘移到n区
5.1非平衡载流子的注入与复合
光生过剩电子和过剩空穴的浓度 非平衡载流子通常指非平衡少数载流子
5.1非平衡载流子的注入与复合
非简并半导体,处于热平衡时,电子浓度n0,空穴
浓度P0
Eg
n0 p0 ni2 Nc Nve k0T
如果对半导体施加外界作用,半导体处于非平衡状

第五章-非平衡载流子

第五章-非平衡载流子

5.4.1 直接复合 半导体中存在载流子产生 复合两个相反的过程 产生和 两个相反的过程。 半导体中存在载流子产生和复合两个相反的过程。 单位时间和单位体积内所产生的电子-空穴对数称 单位时间和单位体积内所产生的电子 空穴对数称 产生率; 为产生率 单位时间和单位体积内复合掉的电子-空穴对数称为 单位时间和单位体积内复合掉的电子 空穴对数称为 复合率。 复合率。
t
3、关于寿命的讨论: 与半导体材料、材料制备工艺等因素有关 半导体材料、材料制备工艺等因素有关 掺金 、辐照
5.3 准费米能级
半导体中的电子系统处于热平衡状态, 半导体中的电子系统处于热平衡状态 , 半导体中有 统一的费米能级,电子和空穴浓度都用它来描写。 统一的费米能级,电子和空穴浓度都用它来描写。 非简并情况: 非简并情况:
EC − EF n0 = NC exp(− ) k0T EF − EV p0 = NV exp(− ) k0T
(5 −8)
半导体处于非平衡状态时, 半导体处于非平衡状态时,就不再存在统一的 费米能级。 费米能级。 引入 导带费米能级 价带费米能级
电子准费米能级(E 电子准费米能级 Fn) 准费米能级 空穴准费米能级 空穴准费米能级(EFp)
Ch5 非平衡载流子
重点和难点
非平衡载流子的产生与复合 非平衡载流子的寿命 准费米能级 复合理论 复合中心与陷阱中心的区别 扩散方程 爱因斯坦关系 连续性方程
5.1 非平衡载流子的注入与复合
1、非平衡载流子的产生 热平衡状态, 定 载流子浓度一定。 热平衡状态,T定,载流子浓度一定。 热平衡状态下载流子浓度,称平衡载流子浓度。n0, p0 热平衡状态下载流子浓度, 平衡载流子浓度。
产生过剩载流子的办法
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第一步:

电子由导带进入复合中心 Et; (一)
(二)
第二步:
Ec Et
Ev
电子由复合中心进入价带(或空穴 被 Et 所俘获)。
但上述两个逆过程也存在,间接复合也是个统 计性的过程
1.间接复合

第一步:电子由Ec→Et
(甲)
(乙)
甲:Et 俘获电子的过程 —电子由 EcEt

(丙)
(丁)
乙: Et 发射电子的过程
d
1 rd n0
d
1 rd p0
电导率高 寿命短
本征半导体: 1
2rd ni
(2)、大信号 大注入:
p n0 p0
d
1 rd p
只与非 子有关
不是常 数
∴ 小注入时,非子寿命决定于材料,当温度
和掺杂一定时,它是个常数;多子浓度
大,小,或者电导率高,寿命就短。
大注入时,非子寿命决定于注入;注入 浓度大,小
—电子由 EtEc(甲的逆过程)
第二步:电子由 Et→Ev
丙:Et 俘获空穴的过程—电子由 Et Ev
丁:Et 发射空穴的过程—电子由 Ev Et
EC
Et
Ev




电子俘获 电子发射
电子俘获率: 电子产生率:
Rn=rnn(Nt-nt) Gn=s-nt
rn:电子俘获系数 s- :电子发射系数
空穴俘获 空穴发射
t>0,加光照
△Vr ↑有净产生0Leabharlann t(2) 取消光照
在t=0时,取消照射,
复合>产生 。
非平衡载流子在半导体 中的生存时间称为非子 寿命。
△Vr ↓有净复合
0
t
(3)非子的平均寿命
假设t=0时,停止光照 t=t时,非子浓度为p(t) t=t+t时,非子浓度为p(t+t)
在t时间间隔中,非子的减少量:p(t)—p(t+t) 单位时间、单位体积中非子的减少为:
及少数载流子遵循的方程——连续性方程。
§5.1 非平衡载流子的注入与复合
处于热平衡状态的半导体,在一定温度下,载
流子的浓度是一定的。
平衡载流子
非简并条件下,半导体处于热平衡的判据式:
n0
p0
NV
NC
exp(
Eg kT
)
ni 2
当对半导体施加外界作用时,出现与平衡态的偏 离,载流子浓度发生变化,可比no和po多出一部 分,即非平衡载流子。
EF EFp
p / p0 e KT
n p
EFn EFp
e KT
n0 p0
ni2
EFn和EFp两者相差愈大 偏离平衡愈厉害
§5.4 复 合 理 论
内部的相互作用引起微观过程之间的平衡,即非平衡向平 衡的过度,即非子的复合。复合理论是个统计性的理论。
一、载流子的复合形式: •
Ec
直接复合:
按复合机构分: 间接复合:
n0e KT
能级偏离原来EF就 越远
EF EFp
同理: p p0e KT
2.准费米能级的位置
n n0 n
n型材料 Ec EFn Ec EF
EFn EF
p p0 p p0
EFp Ev EF Ev
EFp EF
p p0
N型材料:
EFn 略高于EF ,
EFp
远离EF(因 为 ⊿p>>p0)
us ps
ps :为样品表面处单位体积的载流子数(表面
处的非子浓度1/cm3)
第五章 非平衡载流子
Non-equilibrium Carrier
主要内容:
*掌握非平衡载流子的概念,以及其产生与复合的一
般过程,了解非平衡载流子对电导率的影响。 *理解非平衡载流子寿命的概念,掌握非平衡载流子浓
度随时间的变化规律及常用的测量寿命的方法。 *理解准费米能级的概念,并能用其表征非平衡态时载 流子浓度和衡量半导体偏离平衡态的程度。 *掌握几种复合机构和复合理论。 *理解陷阱的概念和陷阱效应。 *载流子的扩散运动和漂移运动,了解爱因斯坦关系式
2.直接复合的净复合率 ud
直接复合的净复合率 ud
=非平衡态下的复合率-非平衡态下的产生率
即‖
热平衡态下的产生率
即‖
rd np rd n0 p0
热平衡态下的复合率
(产生率G仅仅是温度的函
数,和n、p无关)
rdp n0 p0 p
3.直接复合的非子寿命
非子的净复合率=
p
rd p(n0
一、非平衡载流子的产生
1.光注入
∆n
用波长比较短的光
no
光照
h Eg po
照射到半导体
∆p
光照产生非平衡载流子
2.电注入( PN结正向工作时) 3.非平衡载流子浓度的表示法
产生的非子一般都用n,p来表示 。
达到动态平衡后:
n=n0+n p=p0+p
n0,p0为热平衡时电子浓度和空穴浓度 , n,p为非子浓度。
ud
p0
p)
非子寿命
1
rd (n0 p0 p)
● rd:rd 大, 小
●寿命 与热平衡载流子浓度 n0、p0 有关
●与注入有关
讨论:
1
rd (n0 p0 p)
(1)、小信号 小注入:p n0 p0
d
1 rd (n0
p0 )
非平衡载流子的寿命是常数
N 型:n0>>p0
P 型:p0>>n0
p(t) p(t t) t
当t0时,t时刻单位时间单位体积被复合掉 的非子数 ,为:
dp dt
1
复合概率为:
dp(t) p(t) 1
dt
t
p(t) ce
C为积分常数
t=0 时, p(0) p0
t
p(t) p0e
p
(p)0
(p)0
e

t
tdp(t)
非子的平均寿命:
t
1 e k0T
f
p
E
1
EFp E
1 e k0T
EFn 导带电子 准费米能级
EFp 价带空穴 准费米能级
二、非平衡态时的载流子浓度
1.表达式:
Ec EF
热平衡态时 : n0 Nce KT
非平衡时:
n
Ec EFn
Nce KT
Ec EF ( EFn EF )
Nce
KT
非子越多,准费米
EFn EF
在n –Si中, AU- 在p –Si中, AU+
四、表面复合
表面电子能级:
表面能级
表面吸附的杂质或其它
损伤形成的缺陷态,它
们在表面处的禁带中形
成电子能级。
表面有促进载流子复合的作 用,表面复合也是一种间接
复合形式
1.表面复合率us
us:单位时间流过单位表面积的非平衡 载流子,单位:个/s·cm2
P型材料: EF EFp 小, EFp 略低于EF ,
EF EFp 大, EFn 远离EF
N型
Ec EFn EF
EFp Ev
P型
Ec
EFn
EF EFp Ev
3.非平衡态的浓度积与平衡 态时的浓度积
EFn EF
n n0e KT
EFn EF
n / n0 e KT
EF EFp
p p0e KT
数,和n和p无关。
(2) 产生率:G
单位时间、单位体积中产生的载流子,用G表示
在非简并条件下,激发概率不受载流子浓度 n和 p的影响,所以,产生率基本相同,仅仅是温度 的函数,和n、p无关。
在达到热平衡时,产生率必须等于复 合率: (n=n0, p=p0 )
Rd G rd n0 p0 rd ni2
Rnp
R=rnp
r:比例系数,它表示单位时间一个电子
与一个空穴相遇的几率,通常称为复合系数
或复合概率
和速度相关的统计量
当n=n0,p=p0时, rn0p0=热平衡态时单位时间、单位体积 被复合掉的电子、空穴对数
对直接复合,用Rd表示复合率 Rd=rdnp—非平衡 Rd=rdn0p0—热平衡
rd 为直接复合的复合系数 ,是温度的函
u rnrp Nt (np ni2 )
rn (n n1) rp ( p p1)
np ni2
p (n n1) n ( p p1)
5、俘获截面
假设复合中心为截面积为的球体

俘获系数
rn rp
vT vT
载流子热运动速 度大,碰上复合 中心而被俘获的
概率就大
其中
电子俘获截面 空穴俘获截面
n型:n>n0,p型:p>p0
●注入的非平衡载流子浓度大于平衡时的少子浓 度,小于平衡时的多子浓度,称为小注入。
n型:p0<n<n0,或p型:n0<n<p0
即使在小注入下,非平衡少数载流子还是可以 比平衡少数载流子的浓度大得多,它的影响就 显得很重要了,对多子而言,影响可以忽略。 所以,非子就是指非平衡少子。
对同块材料 :
非平衡载流子浓度有:n=p 热平衡时n0·p0=ni2,非平衡时,n·p>ni2
n型:
n—非平衡多子 p—非平衡少子
p型:
p—非平衡多子 n—非平衡少子
注意:
n,p—非平衡载流子的浓度 n0,p0—热平衡载流子浓度 n,p—非平衡时导带电子浓度
和价带空穴浓度
4.大注入、小注入
● 注入的非平衡载流子浓度大于平衡时的多子浓 度,称为大注入。
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