特种光学镀膜材料

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常用光学镀膜材料折射率

常用光学镀膜材料折射率

增透膜、多层膜
电子枪、钽舟、钨舟
增透膜、多层膜
电子枪
增透膜、多层膜
电子枪
紫外近红外多层膜
电子枪
增透膜、多层膜
电子枪
增透膜、多层膜
电子枪

多层膜
电子枪
增透膜、多层膜
电子枪
绝缘膜
电子枪
增透膜、多层膜
电子枪、钽舟
增透膜、多层膜
电子枪、钼舟
增透膜
电子枪、钽舟、钼舟 钼舟、钽舟 电子枪、钽舟、钼舟
多层膜 紫外远红外膜、增透 膜 紫外膜
规格 1.0-4.0mm颗粒 1.0-4.0mm颗粒 1.0-4.0mm颗粒 1.0-4.0mm颗粒 1.0-4.0mm颗粒 1.0-3.0mm颗粒、柱状 1.0-4.0mm颗粒 1.0-4.0mm颗粒 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm烧结颗粒 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm晶体颗粒 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒 1.0-4.0mm颗粒 1.0-4.0mm颗粒、块状 块状
透光范围 蒸发温度 360-7000nm 2200-2300 ℃ 400-12000nm 1800-2000 ℃ 220-10000nm 2100 ℃ 300-7000nm 1900-2000 ℃ 160-8000nm 1300-1600 ℃ 200-2000nm 1800-2200 ℃ 200-5000nm 2000-2200 ℃ 800-8000nm 1200-1600 ℃ 400-12000nm 2000-2200 ℃ 400-12000nm 1800-2000 ℃ 400-12000nm 1800-2000 ℃ 400-12000nm 1700-2000 ℃ 350-7000nm 1900-2200 ℃ 230-7000nm 2300-2500 ℃ 250-7000nm 2500 ℃ 350-9000nm 1800-1900 ℃ 200-8000nm 2000 ℃ 400-16000nm 2000 ℃ 250-8000nm 2300-2500 ℃ 400-11000nm 2000 ℃ 300-5000nm 1400-1600 ℃ 220-14000nm 1450 ℃ 200-14000nm 1100 ℃ 220-15000nm 1280℃ 200-8000nm 800-1000 ℃ 200-14000nm 800-1000℃ 200-14000nm 800-1200 ℃ 400-14000nm 1000-1100 ℃ 600-15000nm 600-900 ℃

光学镀膜技术_文库

光学镀膜技术_文库
透射率 T=1-R=4n0n1/(n0+n1)2 增透膜
19
例:空气折射率是1,玻璃折射率是1.8,镀膜折射率是1.5。
光线从空气直接进入玻璃 透射率=4*1*1.8/(1+1.8) 2=91.84%;
光线从空气进入镀膜再进入玻璃透射率=【4*1*1.5/(1+1.5) 2】*【4*1.5*1.8/(1.5+1.8)2】=95.2%;
利用这种干涉现象,通过对光学零件表面薄膜的材料和厚度的 控制,人为的控制光的干涉,根据需要来实现光能的重新分配。
光学镀膜工作原理
6
光照到光学零件表面时,一部分 光发生反射,另外一部分光投射 进入光学零件。反射光的存在无 疑降低了透射光的强度,反之透 射光的存在降低了反射光的强度;
为了减少反射光或者透射光的强
作用: ➢ 增加光学系统的通透率; ➢ 减少杂散光; ➢ 提高像质;
增透➢膜增加作用距离;
18
当光线从折射率为n0的介质射入折射率为n1的另一介质时,在 两介质的分界面上就会产生光的反射, 如果介质没有吸收,分界 面是一光学表面,光线又是垂直入射,则:
反射率 R=(n0-n1)2/(n0+n1)2
增透膜
20
单层增透膜反射率
增透膜
21
多层窄带增透:多个膜层叠加对单个波长进行反复干涉相消以使 得反射率达到最小。
增透膜
22
多层宽带增透:多个膜层叠加对不同波长的反射光都进行干涉相 消从而达到对一个宽波段的光增透。
增透膜
23
应用:所有透过型光学系统如照相机、测距仪、潜望镜、显微 镜等各种视觉观察和测量系统;
d
膜上表面和下表面的反射光线在上表面的相
位差为1个波长,干涉相长,从而使反射光

光学镀膜材料

光学镀膜材料

光学镀膜材料光学镀膜材料是一种应用广泛的功能性材料,它在光学领域具有重要的应用价值。

光学镀膜材料是指在光学元件表面进行一层或多层薄膜沉积的材料,其目的是改变光学元件的透射、反射和吸收等性能。

光学镀膜材料的种类繁多,常见的有金属膜、氧化物膜、氟化物膜等。

本文将对光学镀膜材料的种类、特性和应用进行介绍。

光学镀膜材料的种类。

光学镀膜材料的种类多种多样,根据其化学成分和结构特点可以分为金属膜、氧化物膜、氟化物膜等。

金属膜是将金属原子通过真空蒸发、溅射等技术沉积在基片表面形成的薄膜,具有良好的导电性和光学性能,常用于反射镜、透镜等光学元件的镀膜。

氧化物膜是将氧化物材料沉积在基片表面形成的薄膜,具有良好的耐腐蚀性和光学性能,常用于光学滤波器、反射镜等光学元件的镀膜。

氟化物膜是将氟化物材料沉积在基片表面形成的薄膜,具有良好的耐磨性和光学性能,常用于光学镜片、滤光片等光学元件的镀膜。

光学镀膜材料的特性。

光学镀膜材料具有一系列特殊的光学性能,如高透射率、低反射率、高吸收率等。

其中,高透射率是指光学镀膜材料对光的透射能力较强,能够使光线通过材料而不产生明显的衍射、散射等现象;低反射率是指光学镀膜材料对光的反射能力较弱,能够减少光线的反射损失;高吸收率是指光学镀膜材料对光的吸收能力较强,能够有效地吸收光线的能量。

这些特性使光学镀膜材料在光学系统中起着重要的作用,能够提高光学元件的透射率、反射率和吸收率,从而提高光学系统的整体性能。

光学镀膜材料的应用。

光学镀膜材料在光学领域具有广泛的应用,主要包括光学镜片、滤光片、反射镜、透镜等光学元件。

其中,光学镜片是将光学镀膜材料沉积在玻璃或塑料基片上形成的薄膜,具有调节光线透射、反射和吸收性能的功能,广泛应用于相机、望远镜、显微镜等光学仪器中;滤光片是将光学镀膜材料沉积在光学玻璃或塑料基片上形成的薄膜,具有选择性透射或反射特定波长光线的功能,广泛应用于激光器、光谱仪、光学仪器等领域;反射镜是将光学镀膜材料沉积在金属或玻璃基片上形成的薄膜,具有增强或减弱特定波长光线的反射性能,广泛应用于激光器、光学系统、激光打印机等领域;透镜是将光学镀膜材料沉积在玻璃或塑料基片上形成的薄膜,具有调节光线透射、反射和吸收性能的功能,广泛应用于眼镜、显微镜、望远镜等光学仪器中。

氟化镁光学镀膜材料

氟化镁光学镀膜材料

氟化镁光学镀膜材料
氟化镁光学镀膜材料是一种常用的光学材料,其特殊的性质使得它在光学领域具有广泛的应用,例如在激光器、LED等光学器件中广泛使用。

本文将分步骤介绍氟化镁光学镀膜材料的相关知识。

一、氟化镁的基本性质
氟化镁是一种无色、无味的晶体,具有高度的热稳定性和良好的光学性质,其介电常数小、色散系数低、透过率高、折射率低等特点使其成为一种优秀的光学材料。

二、氟化镁制备方法
氟化镁的主要制备方法有热分解法和水热法两种。

其中,热分解法是将氟镁矿石与稀盐酸反应后,通过高温热解方法制备氟化镁;水热法是将氟镁矿石和氢氟酸在高压和高温下反应制备氟化镁。

三、氟化镁在光学镀膜中的应用
氟化镁作为一种优秀的光学材料,具有特殊的光学性质,可以广泛应用于光学镀膜领域。

通过对氟化镁进行定向蒸发或离子束溅射,可以制备出高质量、高透过率、低反射率等特性的光学镀膜材料。

此外,氟化镁还可以用于制备反射镜、抗反射膜等光学器件。

四、氟化镁光学镀膜材料的特点
氟化镁光学镀膜材料具有以下特点:
1. 高度的透过率:氟化镁为无色透明材料,具有高透过率的特性。

2. 低的反射率:氟化镁具有低的折射率和反射率,可以制备出高透过率、低反射率的光学镀膜材料。

3. 良好的耐热性:氟化镁的热稳定性好,具有高温耐受性,适合用于高功率激光系统等光学器件。

四、总结
氟化镁光学镀膜材料具有优秀的光学性质和良好的耐热性,在光
学镀膜、激光器、LED等光学器件中广泛应用。

通过对氟化镁的制备和应用的深入研究,有望推动光学技术的发展和提高光学器件的性能。

光学镀膜材料的分类

光学镀膜材料的分类

光学镀膜材料的分类
一、根据镀膜成分的不同分类
1、金属薄膜
金属薄膜是指以金属元素为基础的薄膜,以其独特的反射率和厚度而
具有良好的光学性能,常用于光学镀膜中。

常用的金属薄膜有金、银、钛、铂、铝等,其中,金属膜的镀膜膜层厚度可达几十微米,在光学镀膜中具
有十分重要的地位。

其优点在于反射率高,耐腐蚀性好,透射率低;缺点
在于制作工艺复杂,成本高。

2、非金属薄膜
非金属薄膜是指以其它元素,如硅、磷、锗等非金属元素为主要成分
的薄膜。

由于这些非金属物质的结构稳定性高,以及它们比金属元素质量小,反射率与金属薄膜相比要低,但其透射率要高,因而在特定的光谱波
段上,它们可以更好地发挥其光学性能。

由于它们的可制作性好,制作成
本低,因此在一些特定需求的情况下,常常以非金属薄膜材料为主要成分
的光学镀膜被广泛应用,如硅薄膜,硅酸盐薄膜等。

3、氮化物薄膜
氮化物薄膜是指以氮化物元素,如氧化物、氮化物、氟化物等为主要
成分的薄膜,也可以改变膜层的性质。

常用镀膜膜料

常用镀膜膜料

常用镀膜膜料镀膜技术是一种将一种或多种材料涂覆在另一种材料表面的方法,以增强材料的性能或获得特定的特性。

常用的镀膜膜料包括光学膜、磁性膜、隔热膜、导电膜等。

1. 光学膜光学膜是一种应用广泛的膜料,主要用于光学器件和显示器件的制造。

光学膜的材料有硅氧化物、氮化硅、氧化铟锡等。

光学膜的特性主要包括透光性、抗反射、耐磨损等。

2. 磁性膜磁性膜是一种具有磁性的膜料,主要应用于磁性材料的制造。

磁性膜的材料有氧化铁、氧化铁钴、氧化铁镍等。

磁性膜的特性主要包括磁性、饱和磁感应强度、矫顽力等。

3. 隔热膜隔热膜是一种防止热量传递的膜料,主要应用于建筑、车辆、航空航天等领域。

隔热膜的材料有聚乙烯、聚氨酯、聚苯乙烯等。

隔热膜的特性主要包括隔热性能、防水、耐候性等。

4. 导电膜导电膜是一种具有导电性的膜料,主要应用于电子器件和电气设备的制造。

导电膜的材料有氧化锡、氧化铟锡、氧化锌等。

导电膜的特性主要包括导电性能、透明度、耐腐蚀性等。

5. 防紫外线膜防紫外线膜是一种防止紫外线辐射的膜料,主要应用于汽车玻璃、建筑玻璃等领域。

防紫外线膜的材料有聚酯、聚丙烯等。

防紫外线膜的特性主要包括防紫外线能力、透光性、耐磨损性等。

6. 防眩光膜防眩光膜是一种防止眩光的膜料,主要应用于车辆玻璃、建筑玻璃等领域。

防眩光膜的材料有聚乙烯、聚氨酯等。

防眩光膜的特性主要包括防眩光能力、透光性、耐磨损性等。

总结:镀膜膜料是一种非常重要的材料,广泛应用于各种领域。

不同种类的镀膜膜料具有不同的特性和应用范围,根据实际需要选择适合的镀膜膜料可以提高材料的性能和特性,实现更好的应用效果。

中红外介质反射膜镀膜

中红外介质反射膜镀膜1.引言1.1 概述概述中红外介质反射膜镀膜是一种重要的光学材料,广泛应用于红外光学、热成像、光学仪器等领域。

它具有优异的反射性能和透过率,能够高效地反射或透过中红外光线。

这种膜层的制备方法和技术也在不断地进步和改进,以满足不同领域和应用的需求。

中红外介质反射膜是一种能够在中红外波段范围内具有高反射率的薄膜材料。

它的制备方法主要包括物理气相沉积、化学气相沉积、离子束溅射、电子束蒸发等技术。

通过选择合适的材料和工艺参数,可以实现中红外介质反射膜的高反射率和良好的光学性能。

中红外介质反射膜的制备技术不仅要求材料具有良好的光学性能,还要具备高温稳定性、耐腐蚀性、机械强度等特点。

目前,常用的中红外介质反射膜材料包括金属氟化物、多层堆积膜、金属光子晶体等。

这些材料的选择取决于实际应用的要求和性能需求。

中红外介质反射膜的应用前景非常广阔。

在红外光学领域,中红外介质反射膜可以用于红外目标探测、红外成像、红外光学传输等方面。

在热成像领域,中红外介质反射膜可以用于热成像仪器的镜片、滤波器等部件。

在光学仪器领域,中红外介质反射膜可以用于光学透镜、光学滤波器等器件。

这些应用领域对中红外介质反射膜的性能和稳定性提出了更高的要求。

中红外介质反射膜的发展趋势主要包括材料性能的改进和制备工艺的创新。

未来,人们将继续研究和开发新型的中红外介质反射膜材料,以提高其光学性能和机械性能。

同时,制备工艺方面也将进行改进,以提高制备效率和降低制备成本。

这些努力将促进中红外介质反射膜在各个应用领域的广泛应用和发展。

1.2 文章结构文章结构部分的内容可以包括以下方面:文章结构的安排和逻辑性:该部分可以简要介绍整篇文章的结构安排和各个章节之间的逻辑关系。

可以提及文章为了全面介绍中红外介质反射膜镀膜,分为引言、正文和结论三个部分。

引言部分主要从概述、文章结构以及目的等方面进行介绍;正文部分则涵盖红外介质反射膜的定义和原理以及中红外介质反射膜的制备方法和技术;结论部分则讨论中红外介质反射膜的应用前景和发展趋势。

光学镀膜材料

光学镀膜材料氮化物氮化硅氮化铝氮化硅氮化钛氮化硼硼化物硼化铬(CrB) 二硼化铬(CrB2)六硼化镧(LaB6) 五硼化二钼(Mo2B5)硼化铁(FeB) 二硼化铪陶瓷靶材(HfB2) 硼化二铬(Cr2B)硼化铌(NbB) 二硼化铌(NbB2硼化二钼(Mo2B)硼化钽(TaB) 二硼化锆(ZrB2) 硼化二钨(W2B)硼化钨(WB) 二硼化钒(VB2)硼化钒(VB) 二硼化钛(TiB2)Tantalum Boride (TaB2) 三硼化五铬(Cr5B3)氟化物氟化铝(AlF3) 氟化钡(BaF3)氟化镉(CdF2)氟化钙(CaF2)氟化铈(CeF3) 氟化镝(DyF3) 氟化铒(ErF3)氟化铪(HfF4)氟化钾(KF) 氟化镧(LaF3) 氟化铅(PbF2) 氟化钠(NaF)氟化锂(LiF) 氟化镨(PrF3) 氟化镁(MgF2) 氟化钕(NdF3)氟化钐(SmF3) 铝氟酸钠(冰晶石)(Na3AlF6) 氟化锶(SrF2) 氟化钍(ThF4)氟化钇(YF3) 氟化镱(YbF3)硒化物硒化铋(Bi2Se3) 硒化铟(In2Se3)硒化钼(MoSe2)硒化镉(CdSe) 硒化铅(PbSe) 硒化铌(NbSe2)硒化钽(TaSe2) 硒化钨(WSe2) 硒化锌(ZnSe)硅化物二硅化钴(CoSi2) 二硅化铌(NbSi2)硅化三铬(Cr3Si) 二硅化铬(CrSi2)二硅化钽(TaSi2) 硅化三钒(V3Si)二硅化铪(HfSi2)二硅化钼(MoSi2) 二硅化钒(VSi2)二硅化钛(TiSi2) 三硅化五钽(Ta5Si3) 二硅化锆(ZrSi2) 二硅化钨(WSi2) 三硅化五钛(Ti5Si3)硫化物硫化锑(Sb2S3) 硫化镉( CdS)硫化铁(FeS)硫化砷(As2S3) 硫化铅(PbS) 硫化钼(MoS2)硫化铌(NbS1.75) 硫化钽(TaS2) 硫化钨(WS2)硫化锌(ZnS)碲化物碲化镉(CdTe) 碲化铌(NbTe2)碲化锌(ZnTe)碲化铅(PbTe) 碲化钽(TaTe2) 碲化铟(InTe)碲化钼(MoTe2) 碲化钨(WTe2) 磷化铟(InP)砷化铅(PbAs) 掺铬一氧化硅(Cr-SiO) 砷化铟(InAs)混合物。

光学镀膜材料的分类

光学镀膜材料的分类无机材料是指由无机化合物构成的光学膜材料。

常见的无机材料有:1.金属材料:金属材料的反射率高,广泛应用于镜片和反射镜等光学元件。

常见的金属材料有铝、银、黄铜、镍等。

这些金属材料通常通过真空蒸发或溅射等方法制备。

2.氧化物材料:氧化物材料在光学膜制备中也得到了广泛应用。

例如,二氧化硅(SiO2)和二氧化硅(TiO2)等氧化物材料常用于提高光学元件的抗反射性能。

3.氟化物材料:氟化物材料以其低散射和低吸收特性而受到青睐。

常见的氟化物材料有镁氟化物(MgF2)、氟化镁(MgF2)等。

有机材料是指由有机化合物构成的光学膜材料。

常见的有机材料有:1.有机高分子材料:有机高分子材料具有良好的透明性和柔韧性,广泛应用于透明电子产品的显示器件。

例如,聚酰胺、聚合物、聚对苯二甲酸二乙酯(PET)等。

2.有机溶液材料:有机溶液材料可通过溶液法制备薄膜,在涂覆光学元件表面后形成膜层。

常见的有机溶液材料有溴化银、碘化银等。

根据其它分类标准,光学镀膜材料还可以进一步分为单层膜和多层膜。

单层膜是指直接在光学元件表面形成的一层薄膜材料。

它可以用来增加光学元件的折射率,改变光学元件的反射性能,或提高光学元件的耐磨性。

单层膜广泛应用于镜片、透镜、滤光片等光学元件中。

多层膜是指在光学元件表面依次涂覆多层不同材料的薄膜。

通过控制每一层的厚度和材料,可以实现对光学性能更精确的调控。

多层膜常用于涂覆分光镜、辉光板、干涉滤光片等光学元件中。

总之,光学镀膜材料是根据材料类型、薄膜形成方法和薄膜组成方法等多个标准进行分类的。

这些分类有助于选择适合特定应用需求的材料,并实现光学元件的性能调控。

随着科学技术的不断进步,光学镀膜材料的分类仍在不断扩大和完善中。

光学镀膜材料你还知道有哪些呢?

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基本薄膜材料 名称:钇(Y )三氧化二钇,(Y2O3)使用电子枪蒸镀,该材料性能随膜厚而变化,在500nm 时折射率约为1.8.护膜其极受欢迎,特别相对于800—12000nm 区域高入射角而言,可用作眼镜保护膜,且24小时暴中.一般为颗粒状和片状.透光范围(nm) 折射率(N) 蒸发温度(℃)蒸发源 应用 蒸气成分500nm250--8000 1.79 2300--2500电子枪 防反膜,铝保护膜名称:二氧化铈(CeO2)使用高密度的钨舟皿(较早使用)蒸发,在200℃的基板上蒸着二氧化铈,得到一个约为2.2的折射率3000nm 有一吸收带其折射率随基板温度的变化而发生显著变化,在300℃基板500nm 区域折射率为波长短过400nm 时有吸收,传统方法蒸发缺乏紧密性,用氧离子助镀可取得n=2.35(500nm)的低吸收一般为颗粒状,还可用一增透膜和滤光片等.透光范围(nm) 折射率(N) 蒸发温度(℃)蒸发源 应用 杂气排放量500nm400--16000 2.35 约2000 电子枪 防反膜, 多名称:氧化镁(MgO)必须使用电子枪蒸发因该材料升华,坚硬耐久且有良好的紫外线(UV)穿透性,250nm 时n=1.86, n=2.06. 166nm 时K 值为0.1, n=2.65.可用作紫外线薄膜材料.MGO/MGF2膜堆从200nm---400nm 区良好,但膜层被限制在60层以内(由于膜应力)500nm 时环境基板上得到n=1.70.由于大气CO2的干露表面形成一模糊的浅蓝的散射表层,可成功使用传统的MHL 折射率3层AR 膜(MgO/CeO2/MgF2).名称:硫化锌(ZnS)折射率为2.35, 400—13000nm 的透光范围,具有良好的应力和良好的环境耐久性, ZnS 在高温蒸着华,这样在需要的膜层附着之前它先在基板上形成一无吸附性膜层,因此需要彻底清炉,并且在最高干,花数小时才能把锌的不良效果消除.HASS 等人称紫外线(UV)对ZNS 有较大的影响,由于紫外线导致15—20nm 厚的硫化锌膜层完全转变成氧化锌(ZNO).透光范围(nm) 折射率(N) 蒸发温度(℃)蒸发源 应用 方式550nm400--14000 2.35 1000--1100 电子枪,钽钼舟 防反膜,升华应有:分光膜,冷光膜,装饰膜,滤光片,高反膜,红外膜.名称:二氧化钛(TIO2)TIO2由于它的高折射率和相对坚固性,人们喜欢把这种高折射率材料用于可见光和近红外线区域,身又难以得到一个稳定的结果.TIO2, TI2O3. TIO, TI ,这些原材料氧—钛原子的模拟比率分别1.67, 1.5, 1.0, 0. 后发现比率为1.67的材料比较稳定并且大约在550nm 生成一个重复性折射的坚固的膜层,比率为2的材料第一层产生一个大约2.06的折射率,后面的膜层折射率接近于2.21.0的材料需要7个膜层将折射率2.38降到2.21.这几种膜料都无吸收性,几乎每一个TIO2蒸着原则:在可使用的光谱区内取得可以忽略的吸收性,这样可以降低氧气压力的限制以及温度和蒸着制.TIO2需要使用IAD 助镀,氧气输入口在挡板下面.TI3O5比其它类型的氧化物贵一些,可是很多人认为这种材料不稳定性的风险要小一些,PULKER 等人后的折射率与无吸收性是随着氧气压力和蒸着温度而改变的,基板温度高则得到高的折射率.例如,度为400℃时在550纳米波长得到的折射率为2.63,可是由于别的原因,高温蒸着通常是不受欢迎的助镀已成为一个普遍采用的方法其在低温甚至在室温时就可以得到比较高的折射,通常需要提供足以避免(因为有吸收则降低透过率),但是可能也需要降低吸收而增大镭射损坏临界值(LDT).TIO2与真空度和蒸发速度有很大的关系,但是经过充分预熔和IAD 助镀可以解决这一难题,所以在可见外线光谱中,TIO2很受到人们的欢迎.在IAD 助镀TIO2时,使用屏蔽栅式离子源蒸发则需要200EV,而用无屏蔽栅式离子源蒸发时则需要者更少一些,在那里平均能量估计大约是驱动电压的60%,如果离子能量超过以上数值,TIO2将有SIO2有电子枪蒸发可以提供600EV 碰撞(离子辐射)能量而没有什么不良效应.TIO2/SIO2制程中都使用300EV 的驱动电压,目的是在两种材料中都使用无栅极离子源,这样避免改变驱动电压,驱动电压高低的选择取决于TIO2所允许的范围,而蒸着速度的高低取决于完全致密膜所允许之范围.TIO2用于防反膜,分光膜,冷光膜,滤光片,高反膜,眼镜膜,热反射镜等,黑色颗粒状和白色点:1175℃透光范围折射率(N) 蒸发温度蒸发源 应用杂气排放量(nm) 500nm (℃) 400--120002.35 2000-2200电子枪, 防反膜,增透多TIO2用于防反膜, 装饰膜, 滤光片, 高反膜 TI2O3用于防反膜 滤光片 高反膜 眼镜膜名称:氟化钍(ThF4)260—12000nm 以上的光谱区域,是一种优秀的低折射率材料,然而存在放射性,在可视光谱区N 降到1.38(1000nm 区域)在短波长趋近于1.6,蒸发温度比MGF2低一些,通常使用带有凹罩的舟皿良性颗粒火星飞溅出去,而且形成的薄膜似乎比MGF2薄膜更加坚固.该膜在IR 光谱区300NM 小水有吸收,这意味着有望得到一个低的光谱移位以及更大的整体坚固性,在8000到12000NM 完全没有替代.名称: 二氧化硅(SIO2)经验告诉我们,,氧离子助镀(IAD)SIO 将是SIO2薄膜可再现性问题的一个解决方法,并且能在生产一个可以接受的高速度蒸着薄膜.SIO2薄膜如果压力过大,薄膜将有气孔并且易碎,相反压力过低薄膜将有吸收并且折射率变大,,需供高能离子或氧离子以便得到合乎需要的速度和特性,必要是需要氧气和氩气混合充气,但是这是况,冷镀时这种性况不存在.SIO2用于防反膜,冷光膜,滤光片,绝缘膜,眼镜膜,紫外膜.透光范围(nm) 折射率(N) 蒸发温度(℃)蒸发源 应用 杂气排放量550nm200--2000 1.46 1800-2200电子枪, 防反膜,增透少,升华无色颗粒状,折射率稳定,放气量少,和OS-10等高折射率材料组合制备截止膜,滤光片等.名称: 一氧化硅(SIO)透光范围(nm) 折射率(N) 蒸发温度(℃)蒸发源 应用杂气排放量550nm600--80001.55at550nm1200-1600 电子枪, 冷光膜 ,升华 1.8at1000nm钽钼舟 装饰膜 1.6at7000nm保护膜制程特性:棕褐色粉状或细块状.熔点较低,可用钼舟或钛舟蒸发,但需要加盖舟因为此种材料受热直接升华. 使用电子枪加热时不能将电子束直接打在材料上而采用间接加热法. 制备塑料镜片时,一般第一层是SIO,可以增加膜的附着力.名称:OH-5(TIO2+ZrO2)透光范围(nm) 折射率(N) 蒸发温度(℃)蒸发源 应用杂气排放量 550nm300--80002.1 约2400 电子枪, 增透一般蒸气成分为:ZRO,O2,TIO,TIO2 呈褐色块状或柱状尼康公司开发之专门加TS--ェート系列抗反射材料,折射率受真空度,蒸发速率,氧气压力的影响很时不加氧或加氧不充分时,制备薄膜会产生吸收现象,但是我们在实际应用时没有加氧也比较好用.名称:二氧化镐(ZrO2)ZrO2具有坚硬,结实及不均匀之特性,该薄膜有是需要烘干以便除去它的吸收,其材料的纯度及为重不够薄膜通常缺乏整体致密性,它得益于适当使用IAD 来增大它的折射率到疏松值以便克服它的不目前纯度达到99.99%基本上解决了以上的问题.SAINTY 等人成功地使用ZRO2作为铝膜和银膜的保膜层(指ZRO2)是在室温基板上使用700EV 氩离子助镀而得到的.一般为白色柱状或块状,蒸发分子为透光范围(nm) 折射率(N) 蒸发温度(℃)蒸发源 应用 杂气排放量550nm320-7000 2.05 约2500 电子枪, 增透,加硬膜一般2.0AT2000 眼镜膜保护膜制程特性:白色颗粒,柱状,或块状,粉状材料使用钨舟或钼舟.颗粒状,粉状材料排杂气量较多,柱状少.真空度小于2*10-5Torr 条件下蒸发可得到较稳定的折射率,真空度大于5*10-5Torr 时蒸发,薄膜渐变小。

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微型“生物发动机”问机
特种光学镀膜材料
钻探过程,以便将检测仪器下到钻孔中。

暂停钻探进程的代价极高,就近海钻探而言,一天损失高达!"万美元#$"万美元。


一段时间以来,在钻探过程中利用光纤遥测技术传送井下钻具信息的想法,引起了石油和天然气钻探业人士的兴趣。

然而,人们认为这种技术的成本太高,必须用体积庞大的铁甲来保护脆弱的光纤,而放置光纤也会干扰钻探工作。

而由美国桑迪亚国家实验室开发的技术所采用的光纤不是靠铁甲,而是靠一层透明的保护型塑料薄膜加以保护,这种薄膜类似于导弹制导系统中所采用的薄膜。

与传统的可反复使用的笨重光纤相比,这种不带铁甲的光纤很轻,密度很高,容易操作。

光纤和泥土一起顺着钻具到达钻孔的底部,从那里将信息及时地传给钻井操作人员。

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一种可以替代进口、适用于纸币防伪功能的特种光学镀膜材料———高纯度氟化镁光学镀膜材料已由长春奥普光电技术股份有限公司研制成功。

这项最新研究成果填补了国内空白,各项性能指标均达到国际先进水平。

高纯度氟化镁镀膜材料是光学透镜、激光元件、集成光学和光纤通讯等领域的重要光学镀膜材料。

特别是近年来,随着光学镀膜材料开发和利用的进一步深入,氟化镁镀膜材料做为重要原料已被应用于纸币的防伪技术,因而越来越受到人们的普遍重视。

我国的氟化镁材料纯度低、镀膜时崩点多,长期以来光学镀膜行业及近二年来发行的新版人民币采用的光变色防伪油墨所需的高纯度氟化镁光学镀膜材料不得不全部依靠进口。

为了攻克氟化镁纯度这一影响光学镀膜质量的技术难题,中科院长春光机所于!++,年就
开始组织部分光学镀膜材料专家和氟化物光学晶体专家开展了高质量氟化镁镀膜专项研究工
作,!+++年在中科院长春分院的资助和组织下进
一步进行了该项目的研究与开发工作。

之后,长春光机所将该项目注入到奥普公司,成为奥普公司重点发展项目,从而加大了研发力度。

经过科研人员的不懈努力,通过真空融炼法等不同工艺解决了原料纯度问题,研制开发出高纯度光学镀膜特种材料氟化镁。

采用双坩埚区熔连续漏注法用于材料制备,单炉产量已达-"./0炉。

从而使得用该方法生产的高纯度氟化镁光学镀膜材料在消除崩点这一关键性的技术上获得了重大突破,产品纯度高达++1++2。

而且其生产工艺成熟,达到或超过日本佳能等世界主要公司的技术水平。

该镀膜材料具有产量高、低能耗、成本低、性能稳定等优点。

目前,该公司的光学防伪材料已经销售到广州、沈阳、徐州、河南等地的十几个厂家,使用效果良好。

该产品的研制与生产,不仅可以满足我国国防工业、光电子行业和民用行业光学镀膜的需要,而且将使纸币防伪技术得到飞跃
性发展。

与此同时,还将提高我国相关产品在国际市场上的竞争能力,以实现出口创汇。

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利用人体内的自然能量作动力驱动一个带桨叶的微型机器的两种新型“生物发动机”已在美国问世。

发明者希望能用它们来装备纳米电脑,或者制成能在人体血液中移动,疏通被堵塞的血管并杀死癌细胞的微型机器人。

这种混合式纳米机械系统使用的能源是人体细胞本身的能源,即三磷酸腺苷酸。

它的桨叶长34"56,直径
!4"56,
是用表面涂有一层肽,并经过处理的硅圆柱体制成的。

试验结果表明,浸没在三磷酸腺苷
酸溶液中的这种“纳米直升机”可以连续运转两个小时。

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