材料分析方法-13 透射电镜电子光学基础
现代材料分析方法

现代材料分析方法现代材料分析方法包括物理、化学、电子、光学、表面和结构等多个方面的技术手段,具有快速、准确、非破坏性的特点。
下面将针对常用的材料分析技术进行详细介绍。
一、物理分析方法1. 微观结构分析:包括金相显微镜分析、扫描电镜、透射电镜等技术。
通过观察材料的显微结构、晶粒尺寸、相组成等参数,揭示材料的内在性质和形貌特征。
2. 热分析:如热重分析、差示扫描量热仪等。
利用材料在高温下的重量、热容变化,分析材料的热行为和热稳定性。
3. 电学性能测试:包括电导率、介电常数、介电损耗等测试,用于了解材料的电导性和电介质性能。
4. 磁性测试:如霍尔效应测试、磁滞回线测试等,用于研究材料的磁性行为和磁性特性。
二、化学分析方法1. 光谱分析:包括紫外可见光谱、红外光谱、核磁共振等。
通过检测材料对不同波长的光谱的吸收、散射等现象,分析材料的组分和结构。
2. 质谱分析:如质子质谱、电喷雾质谱等。
通过挥发、电离和分离等过程,分析材料中不同元素的存在及其相对含量。
3. 电化学分析:包括电化学阻抗谱、循环伏安法等。
通过测量材料在电场作用下的电流、电压响应,研究材料的电化学性能和反应过程。
4. 色谱分析:如气相色谱、高效液相色谱等。
利用材料在色谱柱上的分离和吸附效果,分析材料中组分的种类、含量和分布。
三、电子分析方法1. 扫描电子显微镜(SEM):通过照射电子束,利用电子和物质的相互作用,获得样品表面的详细形貌和成分信息。
2. 透射电子显微镜(TEM):通过透射电子束,观察材料的细观结构,揭示原子尺度的微观细节。
3. 能谱分析:如能量色散X射线谱(EDX)、电子能量损失谱(EELS)等。
通过分析材料与电子束相互作用时,产生的X射线和能量损失,来确定样品的元素组成和化学状态。
四、光学分析方法1. X射线衍射:通过物质对入射的X射线束的衍射现象,分析材料的晶体结构和晶格参数。
2. 红外光谱:通过对材料在红外辐射下的吸收和散射特性进行分析,确定材料的分子结构和化学键。
透射电镜的原理与演示ppt培训讲义

扫描电镜
光镜、透射电镜及扫描电镜的成像光路图解
四、扫描电镜的结构与成像原理
1. 扫描电镜的基本结构
扫描电镜
电子枪 电磁透镜 电子光学系统 扫描线圈 样品室 信号的收集处理及显示系统 真空系统 供电保护系统等
电子枪 (1~10KV)
显示系统(显象管)
电磁透镜 真空系统
扫描线圈
信号的收集处理系统 样品室
成像原理:
高压电子枪 高速电子束
电磁透镜
样品
电子束发生投射
荧光屏 电能转变成光能
浓淡不同的图像 图像各处浓淡的不同真实反映
了样品不同部位的物质结构
透射电镜照片演示
微管蛋白的免疫荧光照片
透 图像各处浓淡的不同真实反映了样品中不同部位的物质结构 射 电 镜 照 片 演 示
一个植物细胞的透射电镜照片
供电 保护 系统
电磁 透镜
电磁 透镜
电子枪灯丝
电子光学系统
Байду номын сангаас
扫描线圈的 束偏转器
显象管
样品 样品托
探测器 扫描电镜的结构简图
2. 扫描电镜的成像原理
电子枪
电子束 荧光点的亮度 扫描线圈
样品表面上相应点 所发出的次级电子数
电磁透镜 次级电子信号
样品表面
探测器
接 受、 转变成光子
放 大、
光电倍增管 转换成电压信号
以提高真空度
➢降低温度可防止电子的热漂移
样品室
样品放置室
冷阱
液氮罐 金属导杆
铜网 样品
物镜
成像与放大装置 中间镜I
中间镜II 投影镜
放大50倍 放大3倍 放大15倍 放大200倍
500,000倍
透射电镜(TEM)原理详解(课堂PPT)

G t 36
当A、B两区不是由同一种物质组成时,衬
度不仅取决于样品的厚度差,还取决于样品的
原子序数差。
同样的几何厚度,含重原子散射作用强,
相应的明场像暗;反之,由轻原子组成的区域,
散射作用弱,相应的明场像亮.
复型样品的制备中,常采用真空镀膜投影
的方法,由于投影(重)金属或萃取第二相粒
的圆盘,圆盘面垂直于入射电
子束,并且每个入射电子射中
一个圆盘就发生偏转而离开原
入射方向;未射中圆盘的电子
则不受影响直接通过。
27
散射截面的大小
按Rutherford模型,当入射电子经过原子核附近时,
其受到核电场的库仑力-e2Z/rn2作用而发生偏转,其轨
迹是双曲线型。散射角n的大小取决于入射电子和原
0.2~0.3nm
有效放大倍数
103×
106×
物镜孔径角
约700
<10
景深
较小
较大
焦长
较短
较长
像的记录
照相底板
照相底板
正是由于 α很小, TEM的 景深和焦 长都20很大
• TEM成像系统可以实现两种成像操作:一种是将物 镜的像放大成像,即试样形貌观察;另一种是将物 镜背焦面的衍射花样放大成像,即电子衍射分析。
度为ρ和厚度为t的样品上,若入射电子数为n,通过
厚度为dt后不参与成象的电子数为dn,则入射电子散
射率为
单个原子的散射截面
dn N dt A 0
每单位体积样品的散射面积
n
M
单位体积样品中包含的原子个数
厚度为dt的晶体总散射截面
将上式积分,得:
N
N
0
exp
透射电镜分析

透射电镜分析透射电镜是一种常用的材料表征技术,广泛应用于材料科学、生物医学和纳米技术领域。
透射电镜通过电子束的透射来观察样品的内部结构和成分。
本文将介绍透射电镜的原理、仪器结构、操作流程以及在材料科学领域的应用。
透射电镜利用高能电子束穿透样品,通过电子束与样品相互作用的方式,获取样品的内部信息。
与光学显微镜不同,透射电镜具有更高的空间分辨率,可以观察到更细小的结构细节。
同时,透射电镜具有较高的成分分辨率,可以确定材料的化学组成。
透射电镜主要由电子源、透镜系统、样品台和检测器组成。
电子源产生高能电子束,透镜系统对电子束进行聚焦和调节,样品台用于支撑样品并调节其位置,检测器用于接收透射电子并将其转化为图像信号。
在进行透射电镜观察时,首先需要制备适合的样品。
通常,样品要求薄至几个纳米至几十纳米的厚度,以保证电子束的穿透能力。
其次,样品需要通过切片技术制备成透明薄片或通过离子薄化技术获得适当厚度的样品。
制备好的样品被放置在透射电镜的样品台上,并进行位置调节以获得最佳的观察效果。
在透射电镜观察中,可以使用不同的探测模式来获取样品的信息。
例如,原子级分辨透射电镜(HRTEM)可以获得材料的晶体结构信息,高角度透射电子显微镜(HAADF-STEM)可以获得材料的成分信息。
透射电子衍射(TED)可以用于分析晶体的结晶方式和晶格参数。
透射电镜在材料科学领域有着广泛的应用。
首先,透射电镜可以用于研究材料的微观结构和相变行为。
例如,通过观察材料的晶体结构和缺陷,可以了解材料的力学性能和导电性能。
其次,透射电镜可以用于研究材料的纳米结构和纳米尺度现象。
由于透射电镜具有很高的分辨率,可以观察到纳米颗粒、纳米线和二维材料等纳米结构的形貌和性质。
此外,透射电镜还可以用于观察生物样品的超微结构,为生物学研究提供重要的信息。
总之,透射电镜是一种强大的材料表征技术,具有高分辨率和高成分分辨率的优势。
它在材料科学、生物医学和纳米技术等领域发挥着重要作用。
透射电镜基础理论必备知识

10、 选区电子衍射:进行电子衍射分析时,往往对样品的某一微小区域的单晶 电子衍射感兴趣。通过选区,可以直接获得该微区的倒易点阵截面。
11、 选区电子衍射的操作步骤: z 调整中间镜电流使选区光阑边缘的像在荧光屏上非常清晰,这就使中 间镜的物面与选区光阑的平面像重; z 调整物镜电流试样在荧光屏上呈现清晰像,这就使物镜的像平面与选 区光阑及中间镜的物面相重; z 抽出物镜光阑,减弱中间镜(用于衍射的)电流,使其物面与物镜后
hU + kV + lW = N 高阶劳埃带的特征:
导致高阶劳埃带形成的主要因素 z 电子波长——劳埃球半径 Ê z 样品厚度——倒易杆拉长 Ê z 晶格常数——沿电子束方向的倒易周期 Ê z 样品取向的影响 高阶高埃带的意义: z 给出了晶体结构第三维(沿电子束方向) 的信息 z 估计倒易面的间距——通过高阶劳埃带的直径 z 估计样品的厚度——通过高阶劳埃带的宽度 z 估计入射电子束的偏离角度——通过透射斑与劳埃带中心的偏离 z 菊池电子衍射也包含了高阶劳埃衍射的信息 z 会聚束电子衍射技术的发展,使高阶劳埃电子衍射对晶体的结构和取向
则 D0=AB 称为焦深。
14、 景深:设像面调焦于 I 点,于 I 点前、后的 A、B 之间面内的像均清楚, 则 Df=AB 称为景深。
15、 衬度:样品的下表面出射波的强度分布,即像的衬度。(明场像,暗场像)。 衬度有质厚衬度(与原子有关),相位衬度(透射束,衍射束相互干涉), Z 衬度和衍射衬度。
透射电镜课件

第二章 电子显微分析
•聚光镜用来会聚电子枪
射出的电子束,以最小的 损失照明样品,调节照明 强度、孔径角和束斑大小。 一般都采用双聚光镜系统, 如图2-25所示。第一聚光 镜是强激磁透镜,束斑缩 小率为10~50倍左右,将 电子枪第一交叉点束斑缩 小为1~5μm;而第二聚 光镜是弱激磁透镜,适焦 时放大倍数为2倍左右。结 果在样品平面上可获得2~ 10μm的照明电子束斑。
2r
P
透镜平面
Q
R
2r 2r Df tg
如r 1nm,= 10-3~10-2 弧度时,Df 大 约是 200~2000nm,这就是说,厚 度小于2000 nm的试样,其间所有细 节都可调焦成象。由于电子透镜景深大, 电子透镜广泛应用在断口观察上。
P1 2Mr
第二章 电子显微分析
第二章 电子显微分析 (三)投影镜
投影镜的作用是把经中间镜放大(或缩小) 的像(电子衍射花样)进一步放大,并投影到 荧光屏上,它和物镜一样,是一个短焦距的强 磁透镜。投影镜的激磁电流是固定的。因为成 像电子束进入投影镜时孔镜角很小(约103rad),因此它的景深和焦深都非常大。
三级放大成像示意图
第二章 电子显微分析
第二章 电子显微分析
四、电磁透镜的像差和理论分辨本领
电磁透镜成的像模糊不清,或与原物的几何形状 不完全相似,这种现象称为像差。主要包括球差、色 差、像散、畸变。 球差、像散、畸变是因为透镜磁场几何形状上的缺 陷而造成的; 色差是由于电子波的波长或能量发生一定幅度的改 变而造成的。
第二章 电子显微分析
f L1 L2 L1 L1 f f
电磁透镜成像时也可以应用上式。所不同的是,光学透镜的 焦距是固定不变的,而电磁透镜的焦距是可变的。电磁透镜 焦距f常用的近似公式为: VD
材料分析方法透射电镜的结构最全PPT资料
vz)、绕轴旋转(vt)和指向轴的运动(vr),作圆锥螺旋近轴运动,最后会聚在轴线上的一点F。 五、电磁透镜的景深与焦长 第一个过程:平行电子束受到周期结构试样散射作用后,除透射束外,还形成各级衍射束,经物镜聚焦会聚在其后焦面上,以衍射花
(2)、聚光镜
• 作用: • ①会聚经加速管加速的电
子束,以最小的损失照射 样品; • ②调节照明强度、孔径角 和束斑大小。
• 一般都采用双聚光镜系统, 结果在样品上可获得2~ 10μm的照明电子束斑。
第一聚光镜
强磁透镜,f很短; M为 1 ~ 1
10 50
调节照射到样品上的束 斑的大小(改变第一聚 光镜的焦距来控制)
• 电子波的波长为: h
mv
• 物质波的波长等于普朗克常量除以动量 。
•
电子的运动速度v,取决于加速电压U:
1 2
mv
2
eU
• •
h
2em U
• 注:当电子运动速度很高时,电子质量须经过相对论修正。
• 不同加速电压下的电子波波长
加速电压U/kV
•
20
电子波长λ/Å
0.0859
加速电压U/kV
120
• 照明系统 • 成像系统 • 观察记录系统
• 成像系统是电子光学 部分最核心的部分。
• 透射电镜的工作过程:
• 电子从透射电镜最上面的电子枪发射出来。
• 发射出的电子在加速管内被加速,通过照明系 统的电子透镜照射到试样上。
• 透过试样的电子被成像系统的电子透镜放大、 成像。
• 从观察室的窗口可以观察像,也可将观察到的 像用照片或其他形式记录下来。
材料分析方法课件-13 透射电镜电子光学基础
M有效=人眼分辨率/电镜分辨率 =0ห้องสมุดไป่ตู้2mm/0.2nm=1000000倍
1.3 电子显微镜的像差
旁轴条件:只让那些与轴距离r和轨迹对轴的斜率 dr/dE很小的电子通过------无像差
实际上参加成像的电子并不完全满足旁轴条件----有像差
光镜中可以用组合透镜的方法将像差消除,但是磁 透镜中只有正透镜,消除像差要比光镜难得多。
∵ ∴
取 Δr0=1 nm, α=10-2rad 若 M=200, DL=8 mm 若 M=20000,DL=80 cm 电磁透镜的这一特点给电子显微镜图象的照相记录带来了极大的方便,只要在荧 光屏上图象聚焦清晰,在荧光屏上或下十几厘米放置照相底片,所拍得的图象也 是清晰的。
1.2 电磁透镜
1. 短磁透镜的聚焦原理
均匀磁场一般由通电流的长螺线管产生,这种长螺线管 产生的均匀磁场又称长磁透镜。
长螺线管产生的磁场具有聚焦成像的作用,但不能放大 也不能缩小,故这种磁场不能用做显微镜的磁透镜。
用非均匀对称磁场做成的透镜称为短磁透镜。
➢ 1, 不论磁场(或线圈)电流方向如何,短磁透镜恒为会聚透 镜。
≈0.61/
孔径角不能太小,否则光阑的衍射效应就成了限 制因素,要选择合适的孔径角,以得到最好的分 辨率。
在磁透镜里对电镜分辨率影响最大的是衍射效 应和球差。
即使电子波长只有光波长的1/105左右,但由 于还不能造出无像差的大孔径角的电子透镜, 只能用很小的孔径角来使球差、像散、色差等 减至最小。而磁透镜的孔径角只是光学透镜的 几百分之一,所以磁透镜的分辨率只比光学透
磁透镜的两个基本用途: 任意捕获样品上一点发射的所有光线, 然后再生成像上一点 将平行光线聚焦到透镜焦平面上的一点
第四章电子光学基础及透射电子显微镜
第一聚光镜的缩小倍数为10~50倍,它将 有效光源强烈地缩小成1~5 m的光斑像。 第二聚光镜缩小倍数约为1/2倍。这样, 通过第二聚光镜在试样平面上形成直径约 为2-10 m的光斑,显著地提高了照明效 果。
2). 成像系统 物镜、中间镜和投影镜现也都采用磁透
镜。它们和样品室构成成像系统,作用是 安置样品、放大成像。
因此,选区光阑一般放在物镜的像
平面位置。这样布置达到的效果与光阑 放在样品平面处是完全一样的。但光阑 孔的直径就可以做得比较大。如果物镜 放大倍数是50倍, 则一个直径等于 50 μ m的光阑就可以选择样品上直径为 1 μ m的区域。
选区光阑
第八章透射电镜
4.4 TEM样品制备 电子束的穿透能力不大,这就要求要将
(1) 物镜 物镜是透射电镜的核心,它获得第一幅具有
一定分辨本领的放大电子像。这幅像的任何缺陷 都将被其它透镜进一步放大,所以透射电镜的分 辨本领就取决于物镜的分辨本领。因此,要求物 镜有尽可能高的分辨本领、足够高的放大倍数和 尽量小的像差。磁透镜最大放大倍数为200倍,最 大分辨本领为0.1nm。
透镜的实际分辨本领除了与衍射效应
有关以外,还与透镜的像差有关。 光学透镜,已经可以采用凸透镜和凹
透镜的组合等办法来矫正像差,使之对 分辨本领的影响远远小于衍射效应的影 响;
但电子透镜只有会聚透镜,没有发散 透镜,所以至今还没有找到一种能矫正 球差的办法。这样,像差对电子透镜分 辨本领的限制就不容忽略了。
0.2~0.3nm
有效放大倍数 物镜孔径角
103× 约700
106× <10
景深
较小
较大
焦长
较短
较长
像的记录
胶片或数码成像
透射电镜分析PPT课件
单晶电子衍射花样的标定方法
(2)求R2比值,找出最接近的整数比,由此确定各斑点所属的衍射
晶面族RA。2 :
RB2
:
RC2
:
R
2 D
2
:
4:
6
:18
这是体心立方结构的N值。当然也可写成1:2:3:9作为简单立方结构的 比值,这是在指数化过程中经常遇到的情况。
(3) 尝试斑点的指数,最短矢量的A斑点对应的晶面族{110}共有
为电子显微镜的有效相机常数
L
rd f1
r R MiM p
第15页/共67页
3.单晶体和多晶体电子衍射花样指数标定
★单晶体衍射花样 其特征是衍射斑点规则排列。在衍射斑
点花样中最基本的是简单电子衍射花样— 单晶带电子衍射花样,它是通过倒易点阵 原点的一个二维倒易面的放大像
第16页/共67页
3.单晶体和多晶体电子衍射花样指数标定
复杂电子衍射花样:1.高阶劳埃带 第33页/共67页
3.单晶体和 多晶体电子衍射花样指数标定
2.菊池线
第34页/共67页
第35页/共67页
第36页/共67页
Kikuchi lines
第37页/共67页
Kikuchi line formation
第38页/共67页
Kikuchi line formation More forward scattering – higher
3.单晶体和多晶体电子衍射花样指数标定
第29页/共67页
3.单晶体和多晶体电子衍射花样指数标定
d1
L
R1
1.9 9.38
0.202μm
d2
L
R2
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电子波的波长
德布罗意公式: = h/mu
h=6.626×10-34 J·S 普朗克常数
m 运动电子的质量
u 电子的速度
计算电子波长的简化公式:
h 1.225 2m0eV V
透镜电压为100~200kV时,电子运动的速度可与光速相比,所以要
进行相对论修正,修正后的计算电子波长的简化公式:
➢ 另一个影响因素是样品本身,此外衬度效应起着重 要作用。
1.2 电磁透镜
1. 短磁透镜的聚焦原理
均匀磁场一般由通电流的长螺线管产生,这种长螺线管 产生的均匀磁场又称长磁透镜。
长螺线管产生的磁场具有聚焦成像的作用,但不能放大 也不能缩小,故这种磁场不能用做显微镜的磁透镜。
用非均匀对称磁场做成的透镜称为短磁透镜。
一个无限小的理想点光源O,经过会聚透镜L在位于像平面 S的屏幕上成像O’的情况。由光阑AB限制的光束产生衍射,在 屏幕上出现一系列干涉条纹,使得图象O’不是一个点像,而是 一个由不同直径明暗相间的衍射环包围的亮斑----艾里斑。
瑞利判据:如果两个点光源接近到使两个光斑的中心 距离等于第一级暗环的半径,且两个亮斑之间的光强 度与峰值的差大于19%,则这两个亮斑尚能分辨开。
3, 像散:透镜磁场非旋转对称所引起的,例如极靴圆孔不圆, 或由于极靴内部被污染,致使透镜磁场不对称。由旁轴电子 引起的。
像散对分辨率的限制往往超过球差和衍射差,但像散可以 矫正,引入一个强度和方向可调的矫正场,称为消像散器。
4, 色差:能量不同的电子通过透镜后具有不同的焦距。电子的 速度效应,透镜对快速电子的偏转作用小于慢速电子。
镜提高1000倍左右。
1.4 电磁透镜的景深和焦长
1,景深
任何样品都有一定厚度。理论上,当透镜焦距、像距一定时,只有一层样品平 面与透镜的理想物平面相重合,能在像平面上获得该层平面的理想图像。偏离 理想物平面的物点都存在一定程度的失焦,从而在像平面上产生一个具有一定 尺寸的失焦园斑。如果失焦园斑尺寸不超过由衍射效应和像差引起的散焦斑, 那么对透镜分辨率不会产生影响。 景深:当像平面固定时(像距不变),能维持物像清晰的范围内,允许物平面(样品) 沿透镜主轴移动的最大距离Df。 它与电磁透镜分辨率Dr0、孔径半角α之间的关系
≈0.61/
孔径角不能太小,否则光阑的衍射效应就成了限 制因素,要选择合适的孔径角,以得到最好的分 辨率。
在磁透镜里对电镜分辨率影响最大的是衍射效 应和球差。
即使电子波长只有光波长的1/105左右,但由 于还不能造出无像差的大孔径角的电子透镜, 只能用很小的孔径角来使球差、像散、色差等 减至最小。而磁透镜的孔径角只是光学透镜的 几百分之一,所以磁透镜的分辨率只比光学透
光镜的有效放大倍数
M有效=人眼分辨率/光镜分辨率 =0.2mm/200nm=1000倍
电镜的有效放大倍数
M有效=人眼分辨率/电镜分辨率 =0.2mm/0.2nm=1000000倍
1.3 电子显微镜的像差
旁轴条件:只让那些与轴距离r和轨迹对轴的斜率 dr/dE很小的电子通过------无像差
电镜中的磁透镜
电镜中的磁透镜头近似地等于单色光凸透镜 (会聚)的作用
磁透镜的两个基本用途: 任意捕获样品上一点发射的所有光线, 然后再生成像上一点 将平行光线聚焦到透镜焦平面上的一点
磁透镜中的像翻转
3. 磁透镜的焦距与光学性质
有效放大倍数
保证物镜的分辨本领充分利用时所对应的显微 镜的放大倍数。
为了减低色差,要求电压和电流的稳定度达到2×10-6,现代电 镜已经可以通过提高加速电压和透镜电流的稳定性以及适 当调配透镜极性,将色差调整到分辨本领允许的范围内。
几种像差中球差的影响最大,无简便方法消 除,其他的像差可采用各种措施,基本上可以 消除.
对电镜分辨本领有影响的主要是衍射效应 和球差.
短磁透镜的汇聚作用
2. 磁透镜的设计 ➢ 为了加强励磁的同时又缩小磁场的范围,采用
如下图的设计,有效磁场可以集中在透镜轴很 短的距离内(几毫米)。
图1.5 短磁透镜的不同设计模式 (a)只有线圈组成的短磁透镜,(b)三面有软磁材料包围的短磁透镜, (c)带有环状狭缝的软磁铁壳短磁透镜,(d)带有极靴的短磁透镜。
实际上参加成像的电子并不完全满足旁轴条件----有像差
光镜中可以用组合透镜的方法将像差消除,但是磁 透镜中只有正透镜,消除像差要比光镜难得多。
目前电镜分辨率的提高不是受限于衍射效应,而是 受限于磁透镜的像差,像差使透镜的分辨率只有2 Å,而不是理论上的0.02 Å。
电镜像差分为:
1,几何像差:是因为旁轴条件不满足引起的,他 们是折射介质几何形状的函数.主要有球差,像散 和畸变。
2, 畸变:是由球差引起的,球差的存在使透镜对边缘区域的聚 焦 能力比中心大.像的放大倍数将随离轴径向距离的加大而 增大或减小,此时图像虽然是清晰的,但是由于离轴径向尺寸的 不同,图像产生不同程度的位移---畸变。
衍射分析时径向畸变会影响衍射点或衍射斑的准确位置,采用 两个畸变相反的投影镜可消除畸变.
h
1.225
2m0eV
(1
eV 2m0c2
)
V (1106V )
影响分辨率的因素
➢ 100kV时,电子波的波长为0.037Å,理论分辨率约 为0.02 Å ,但是目前100kV的电镜实际分辨率大于2 Å (目前1000kV的电镜实际分辨率可达1 Å )。
➢ 出现上述差异的原因是磁透镜还不完善,有像差。
极限分辨距离d 显微镜的分辨率d由下式决定
d = 0.61/(nsin)
λ- 光波在真空中的波长 α- 孔径半角 n - 透镜和物体间介质的折射系数(折射率)
d = 0.61 /NA 数值孔径 NA = nsin
波长越短,数值孔径越大,显微镜的分辨率就越高。
Prince Louis-victor de Broglie
3 电磁透镜的分辨率
借Байду номын сангаас组合透镜的方法,以及折射表面形状的 设计,可将像差消除到忽略不计,故光学透镜 的分辨本领基本上由衍射决定
=0.61/n·sin
在光学上采用大的孔径角不会使像的质量变 化, 可接近90°,故光镜的分辨率可近似地认 为等于半波长.
在磁透镜中,大的孔径角可引起大的像差,特别 是球差,但是由于电子波的波长较短,可通过减小 孔径角的方法也就是说减小光阑尺寸的办法减小 像差,提高分辨率,对于磁透镜 n 约为1.2, 约 为3~5°,因此
第三篇 透射电子显微学
正常情况下人眼所能分辨的最小细节大 约是0.1mm。
光学显微镜能够将 人眼的分辨率提高 1000倍。
亚共晶白口铁 铸造 树枝状珠光体+变温莱 氏体
共晶白口铁 铸造 变温莱氏体
光学显微镜的应用实例
软木的细胞结构
跳蚤的图片
蚊子的头 部(200倍)
第一章 电子光学基础
1.1 分辨率
2,色差:是由于电子光学折射介质的折射率随 电子速度不同而造成的。
1 ,球差:由于在透镜磁场中,远轴区域和近轴区域对电子束的 折射能力不同产生的。
s = Cs 3
s是最小漫散圆半径, Cs是球差系数, 是孔径半角,通常Cs约为3mm,对于高 分辨电镜Cs<1mm.因为s ∝ 3 ,若用小孔径光阑挡住外围射线,可以使球差迅 速下降,但同时分辨率降低,因此,必须找到使两者合成效应最小的 值。 现代物镜可获得的Cs大约为0.3mm, 大约为10-3rad,对应的分辨率约为2 Å。
∵ ∴
取 Δr0=1 nm, α=10-2rad 若 M=200, DL=8 mm 若 M=20000,DL=80 cm 电磁透镜的这一特点给电子显微镜图象的照相记录带来了极大的方便,只要在荧 光屏上图象聚焦清晰,在荧光屏上或下十几厘米放置照相底片,所拍得的图象也 是清晰的。
➢ 1, 不论磁场(或线圈)电流方向如何,短磁透镜恒为会聚透 镜。
➢ 2, 可借助调节线圈电流很方便地改变透镜的焦距,这在实际 应用上是很方便的。
➢ 3, 焦距与加速电压 及电子速度有关,电 压越高,电子速度越 大,焦距也越长.因此 在电子显微镜中需 要加速电压高速稳 定,以减小透镜焦距 的变化,降低色差,保 持高质量的电子像。
取 Δr0=1 nm, a=10-2~10-3rad 则 Df = 200~2000nm 试样(薄膜)一般厚200~300nm, 上述景深范围可保证样品整个厚度 范围内各个结构细节都清晰可见。
2, 焦长
当透镜的焦距、物距一定时,像平面在一定的轴向距离内移动,也会引起失焦, 产生失焦园斑。若失焦园斑尺寸不超过透镜衍射和像差引起的散焦斑大小,则对 透镜的分辨率没有影响。 定义:固定样品的条件下(物距不变),象平面沿透镜主轴移动时仍能保持物像 清晰的距离范围,用DL表示,见图。 DL与分辨率Dr0 、像点所张的孔径半角β之间的关系