多弧离子镀调研报告
铜箔在石墨烯表面沉积的多弧离子电镀工艺研究

铜箔在石墨烯表面沉积的多弧离子电镀工艺研究Valentin Russier【摘要】A new process of depositing copper on graphene's wafer is tested in this paring to previous researches on growing graphene in copper foil using the CVD,a new non-contact electrical manufacturing process called multi-arc ion plating is adopted in the research.A thin layer of copper is successfully deposited on the graphene.The results show the efficiency of the process of depositing copper.Furthermore,if the roll is used,it would significantly fasten the process so as to make it mass producible.%一项新的铜箔在石墨烯薄膜上的沉积工艺已经被研究出来.和以往通过CVD法在铜箔上生长石墨烯的研究相比较,该研究应用了一种无接触式电子加工工艺的多弧离子电镀法.在实验中,石墨烯表面成功地形成了一层薄的铜膜,表明这种铜箔沉积工艺的实用性.此外,通过滚压可显著加快工艺过程,实现大量生产.【期刊名称】《机械制造与自动化》【年(卷),期】2017(046)006【总页数】4页(P45-48)【关键词】石墨烯薄膜;铜箔;多弧离子电镀法;工艺【作者】Valentin Russier【作者单位】南京航空航天大学,江苏南京210016【正文语种】中文【中图分类】TG174.442石墨烯由于其特殊的性能已广范被应用在诸如热管理等先进技术上[1],最近的研究显示使用CVD法、电化学或机械工艺将石墨烯沉积在材料表面,可以改善结构的导热、导电和光学性能。
脉冲偏压对多弧离子镀TiAlN薄膜的成分和结构的影响研究

书山有路勤为径,学海无涯苦作舟脉冲偏压对多弧离子镀TiAlN 薄膜的成分和结构的影响研究采用多弧离子镀在高速钢基底上沉积TiAlN 薄膜。
利用扫描电镜(SEM)观测薄膜的表面形貌;用EDS 分析薄膜表面的成分;用表面轮廓仪测试薄膜的厚度并结合沉积时间计算出沉积速率;用维氏硬度仪测量薄膜的硬度;用XRD 表征薄膜的微观结构。
结果表明,随着偏压峰值的增大,表面大颗粒逐渐减少,致密性逐渐变好,薄膜硬度也随之增加。
沉积参数对薄膜成分有影响,偏压峰值对薄膜中Al 含量有较明显的影响,而占空比则主要影响Ti 含量。
本文对实验结果进行了较详细的讨论和分析。
TiN 作为第一代硬质薄膜材料因其具有高硬度,低摩擦系数,良好的导电导热性被广泛应用于刀具模具的生产方面。
但随着人们对薄膜材料的要求日渐提高,TiN 由于高温抗氧化性较差,已不能满足在高温、高速切削、干切削刀具、模具等机械加工领域的要求。
TiAlN 薄膜是在TiN 基础上发展起来的一种新型多元薄膜涂层材料,人们在TiN 中添加Al 元素形成TiAlN 薄膜,Al 元素在高温时易形成氧化铝,在很大程度上可以有效提高薄膜的高温抗氧化性能。
TiA1N 薄膜集TiN 和A1N 薄膜的高硬度、高氧化温度、好的热硬性、强附着力、低摩擦系数、低导热率等优良特性于一身,在机械、导电以及抗氧化和抗腐蚀等方面取得了让人满意的结果。
因此TiAlN 被认为是较TiN 更有前途的新型涂层材料,被广泛应用到各个领域,例如微型高精密轴承、运载飞机、卫星等方面。
国内外的许多研究人员运用很多工艺来制备TiAlN 薄膜,并且做了大量的研究工作,也发现离子镀膜工艺参数对薄膜结构和性能有很重要的影响,如沉积气压、温度、氮气流。
2014年真空多弧离子镀膜行业分析报告

2014年真空多弧离子镀膜行业分析报告2014年9月目录一、行业管理 (3)1、行业监管体制 (3)2、行业主要法规与政策 (3)二、行业发展历程 (5)三、行业发展特点 (6)四、市场规模 (7)1、市场销售规模 (7)2、行业资产规模 (7)3、行业总产值 (8)4、利润规模 (9)五、影响行业发展的有利因素和不利因素 (10)1、有利因素 (10)(1)国家政策推动行业产业升级 (10)(2)下游需求激增市场空间广阔 (10)2、不利因素 (12)(1)基础技术研究与开发薄弱 (12)(2)人力成本压力较大 (12)(3)外资企业冲击风险 (12)六、行业竞争格局和市场化程度 (13)1、规模企业占主导,市场集中度低 (13)2、企业占主导,市场竞争激烈 (14)3、行业主要企业 (15)(1)北京丹普表面技术有限公司 (15)(2)北京实力源科技开发有限责任公司 (15)(3)肇庆腾胜真空技术工程有限公司 (16)(4)肇庆市振华真空机械有限公司 (16)一、行业管理1、行业监管体制真空离子镀膜行业系在国家宏观经济调控和运作下,遵循市场化发展模式的市场调节管理体制。
我国真空镀膜行业行政主管部门系国家发展与改革委员会以及国家工业与信息化部,上述部门主要负责产业政策的制定并监督、研究其具体执行情况,研究制定行业发展规划,指导产业结构调整,参与行业体制改革、技术进步等工作。
我国真空镀膜行业自律管理机构系中国真空学会,该学会是在国家民政部注册的社团法人,行业主管部门是中国科学技术协会。
中国真空学会成立于1979年10 月,由来自全国的研究所、高等院校和真空产品生产厂家的真空科学与技术专业人员组成,其目的是组织和促进真空科学与技术领域的各种学术活动,基本职能包括:开展学术交流、编辑出版行业刊物、咨询与顾问、普及真空科学知识、开展科技交流、组织举办真空科技和新工艺、新技术、新产品交流展览会等。
2、行业主要法规与政策专用设备制造行业作为装备制造业的重要组成部分,系国民经济发展的支柱产业和基础产业,受到国家产业政策的大力推动,属于国家鼓励发展行业,影响本行业发展的法律法规及政策如下:《国民经济和社会发展十二五规划纲要(2011-2015 年)》中第。
多弧离子镀铝靶金相分析和研究

( b ) ( c )
Ⅲ
图1 ( 0 0 1 ) 、( 0 1 1 ) 、( 1 1 1 ) 晶面蚀 坑形成及蚀坑形状
松 ( 1 9 8 6 一),贵 州贵定 人 ,布 依族 ,硕 士研 究生 ,主要研 究方 向为新 材料 的制 备 。
备 。服役前 ,靶 材经锻造 、轧制 、机械加工等方
法 成形 ,并 经 必 要 的再 结 晶退 火 处 理 控 制 晶粒 尺 寸 。本 文通 过金 相 方法 分 析废 靶 ,探 寻靶 材 在 服 役 后 内部 结 构发 生 的变化 。
~ 画
1 买验
1 . 1 材 料
要得知 内部微观结构 的变化 ,需用废 旧的靶 材作 为 对象 分析 。实验 所用 靶 材为 铝靶 ,纯度
0 前 言
多 弧离 子镀 是 物理 气相 沉积 方 法之 一 。靶 材
9 9 . 9 0 %,圆形 ,直径 1 0 0 m m,靶材制备工艺为铸 造并锻轧成形 ,新靶重0 . 6 5 k g ,废靶重0 . 4 7 k g ,新
靶 位表 面 为平 面 ,旧靶 向 内凹陷 。沿径 向切取小 块
Pl a t i ng Al u mi n um Ta r g e t
L UO S o n g 。 WE I Xi a o — w e i , ZHE NG L i , RE N G u a n g — h a o
f 1 . S c h o o l o f Ma t e r i a l S c i e n c e a n d E n g i n e e r i n g , Xi h u a U n v e r s i t y , C h e n g d u 6 1 0 0 3 9 ;
多弧离子镀膜技术的主要工艺参数与涂层性能的关系

多弧离子镀膜技术的主要工艺参数与涂层性能的关系由于影响涂层质量的因素多而复杂,因此研究工艺参数与涂层性能指标之间的关系,以实现涂层性能预测与工艺优化设计,始终是研究人员致力的目标。
国内外研究表明多弧离子镀膜的主要工艺参数有:基体沉积温度、反应气体压强与流量、靶源电流、基体负偏压、基体沉积时间等。
实验对多弧离子镀制备TiC薄膜的工艺与性能进行了研究,得出各工艺参数对涂层显微硬度和涂层/基体结合力的影响程度。
对显微硬度影响程度的主次顺序是反应气体流量、沉积时间、基体负偏压、靶源电流;对涂层/基体结合力影响程度的主次顺序是沉积时间、反应气体流量、基体负偏压、靶源电流。
实验采用多弧离子镀方法制备了TiN/Cu纳米复合涂层,研究了工艺参数对涂层硬度的影响,结果表明对显微硬度影响程度的主次顺序是反应气体压强、沉积时间、基体沉积温度、基体负偏压。
基体沉积温度基体沉积温度对涂层的生成、生长及涂层的性能产生直接的影响。
根据吉布斯的吸附原理可知,温度越高基体对气体杂质的吸附越少。
因此,一般说来,基体沉积温度高,有利于涂层的生成、生长,增大沉积速率;也有利于提高涂层与基体的附着力,使涂层晶粒长大,表面平整光亮。
但温度太高,会引起晶粒粗大,强度和硬度下降。
实验采用多弧离子镀技术在高速钢表面沉积了TiN涂层,研究了不同沉积温度下TiN涂层的表面硬度与涂层/基体的结合力,结果表明在保证基体材料不过热的前提下,提高沉积温度有利于提高TiN涂层的性能。
并得出了最佳的沉积温度为500℃,此时TiN涂层的硬度、涂层/基体结合力与刀具性能最佳。
对刀具进行涂层时,为使涂层与基体牢固结合,提高涂层质量,需在涂层前将基体加热到一定温度。
对于高速钢刀具一般为500℃左右,硬质合金刀具一般在900℃左右。
反应气体压强与流量反应气体的压强与流量大小直接影响涂层的化学成分、组织结构及性能。
实验在W18Cr4VCo5高速钢基体上采用多弧离子镀技术制备了TiAlN涂层,研究了N2分压对熔滴形成的影响,结果表明随N2分压的增加,涂层中颗粒和熔滴的密度、直径减小,主要是通过靶材表面零中毒,不形成氮化物从而提高材料的熔点引起的。
多弧离子镀DLC涂层的结构与力学性能文献综述

多弧离子镀DLC涂层的结构与力学性能文献综述1.1多弧离子镀概述1.1.1多弧离子镀概念多弧离子镀与一般的离子镀相比有很大区别。
多弧离子镀采用弧光放电,而不是传统离子镀的辉光放电以进行沉积。
简单说,多弧离子镀的原理就是将阴极靶作蒸发源,通过靶与阳极壳体之间的弧光放电,使靶材蒸发,从而在空间中形成等离子体,对基体进行沉积。
离子镀技术是结合了蒸发与溅射技术而发展的一种 PVD 技术。
它对产品,特别是刃具之类的工具表面起着装饰和提高寿命的作用。
多弧离子镀最早起源于苏联,美国于1980 年由 Multi-arc 公司引进,是上世纪 80 年代兴起的高新表面处理技术,Multi-arc 公司推广并使之实用化,它的发明使薄膜技术进入了一个崭新的阶段。
在随后的几十年的时间里,该技术有了突飞猛进的发展。
至今欧美国家仍然大力发展多弧离子镀膜技术。
[1]1.1.2多弧离子镀的基本结构多弧离子镀的基本组成包括真空镀膜室,阴极弧源,基片,负偏压电源,真空系统等。
阴极弧源是多弧离子镀的核心,它所产生的金属等离子体自动维持阴极和镀膜室之间的弧光放电。
微小狐班在阴极靶面迅速徘徊,狐班的电流密度很大,电压为20V左右。
由于微弧能量密度非常大,狐班发射金属蒸汽流的速度可达到10的8次方m/s.阴极靶本身既是蒸发源,又是离化源。
外加磁场可以改变阴极狐班在靶面的移动速度,并使狐班均匀,细化,以达到阴极靶面的均匀烧蚀,延长靶的使用寿命。
[1]在靶面前方附近形成的金属等离子体,有电子,正离子,液滴和中性金属蒸汽原子组成,由于金属蒸汽原子仅占很小部分(低于百分之二),因而在基片上沉积的粒子束流中几乎全部由粒子和液滴组成。
为了解释这种高度离化的过程,已建立了一种稳态的蒸发离化模型。
该模型认为,由于阴极狐班的能流密度非常大,在阴极的表面上形成微小熔池,这些微小熔池导致阴极靶材的剧烈蒸发。
热发射和场至发射共同导致电子发射,而且电子被阴极表面的强电场加速,以极高的速度飞离阴极表面,在大约一个均匀自由程之后,电子与中性原子碰撞,并使之离化,这个区域称之为离化区。
多弧离子镀工艺对硬质合金PCB_铣刀涂层性能的影响

多弧离子镀工艺对硬质合金PCB 铣刀涂层性能的影响*杨小璠1, 林海洋2, 陈艺聪2, 纪荣杰2, 沈志煌1, 李凌祥2(1. 集美大学 海洋装备机械工程学院, 福建 厦门 361021)(2. 厦门慧至拓数字制造技术研究院, 福建 厦门 361100)摘要 在硬质合金PCB(printed circuit board)铣刀表面制备高性能的硬质涂层,可以改善切削过程中刀具快速磨损的问题。
采用多弧离子镀涂层技术在YG06硬质合金试片及PCB 铣刀基体上分别制备AlCrN 单涂层、CrN/AlCrN 复合涂层以及AlCrSiN/AlCrN 纳米复合涂层,利用压痕仪及扫描电镜分析观察3种涂层的力学性能及形貌特征,且在相同条件下对3种PCB 涂层铣刀进行涂层性能对比试验,分析刀具磨损机理。
结果表明:3种工艺方案的涂层均有较好的膜基结合力;AlCrSiN/AlCrN 纳米复合涂层铣刀使用寿命最长,约为CrN/AlCrN 复合涂层铣刀的1.5倍,AlCrN 单涂层铣刀的1.9倍;且其涂层的致密性和表面质量最好,更适用于IT158覆铜板的高速切削加工。
关键词 PCB ;多弧离子镀;AlCrSiN/AlCrN 纳米复合涂层;铣削;刀具寿命中图分类号 TG71; TG135.5 文献标志码 A 文章编号 1006-852X(2023)05-0586-06DOI 码 10.13394/ki.jgszz.2022.0123收稿日期 2022-08-08 修回日期 2023-01-18印制电路板(printed circuit board ,PCB)是由铜箔、合成树脂和玻璃纤维等组成的层状复合材料,随着人工智能的开发以及工业自动化的升级,PCB 行业发展迅速。
由于PCB 板中铜层的强黏附性以及玻璃纤维增强材料的高磨损性,其铣削过程摩擦阻力大,刀具易出现排屑不良、崩刃、快速磨损等失效形式,较低的刀具寿命导致频繁换刀,已成为制约PCB 板高效加工的主要因素之一[1]。
_多弧离子镀膜工艺的技术开发

表 6 因素分类表
序号
因素
Z显著性 S 显著性 因素性质
1
V 2, p 2
显著
2
t3
显著
3 t1 , V 1, t 2, p 1,k 不显著
不显著 显著
不显著
稳定因素 稳定因素 次要因素
知 ,只有 t1 是影响硬度稳定性的显著因素 ,其余为次要因素 .
3. 3 最优化工艺参数组合分析与估计
转速
p 2 / Pa n / ( r mi n- 1)
p 21
n1
p 22
n2
p 23
n3
在镀膜过程中 ,工件形状以及摆放位置和方向不同 ,是造成膜层厚度不均匀的误差因素 , 每个误差因素均为 2位级 (见表 2) .
根据有关理论及生产实践 ,对膜厚指标可综合为如下两位级的综合误差因素: N 1: A′2B′2 C′2 (使膜厚趋向最小值的综合条件 ) , N 2: A′1B′1 C′1 (使膜厚趋向最大值的综合条件 ) . 上述误差因素对硬度的影响没有规律 ,因此这种综合对硬度没有意义 . 但为了减少实验 次数 ,利用膜厚外表中信号因素与综合误差因素的各种搭配 (见表 3) ,作为硬度的各种误差因 素位级组合 .
3 实验数据统计分析
3. 1 信噪比与灵敏度计算
膜厚属动态特性 . 其信噪比是描述稳健性的指标 ;灵敏度是描述线性关系大小 (即 U)的指 标 . 信噪比的计算公式为 [3 ]
Z= 10 lg
1 V
(
SU-
Ve )
/VN
,
( 2)
∑ ∑ K
式中 V为有效除数 ,V= V0 Mj2; SU 为信号因素线性效应的波动平方和 , SU=
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多弧离子镀技术的现状调研 引言 物理气相沉积技术早在20世纪初已有些应用,但在最近30年迅速发展,成为一门极具广阔应用前景的新技术,并向着环保型、清洁型趋势发展。20世纪90年代初至今,在钟表行业,尤其是高档手表金属外观件的表面处理方面得到越来越为广泛的应用。 离子镀技术是在真空蒸镀和真空溅射的基础上于20世纪60年代初发展起来的新型薄膜制备技术,于1963年由D.M.Mattox提出,1971年Chamber等发表了电子束离子镀技术,1972年又出现了反应蒸发镀(ARE)技术,并制作了TIN及TIC超硬膜。同年,MOLEY和SMITH将空心阴极技术应用于镀膜。多弧离子镀属于离子镀的一种改进方法,是离子镀技术中的皎皎者。最早由苏联人开发,80年代初,美国的Multi-Arc公司首先把这种技术实用化,至此离子镀达到工业应用水平。 离子镀种类很多,蒸发远加热方式有电阻加热、电子束加热、等离子电子束加热、高频感应加热等 然而多弧离子镀与一般的离子镀有着很大的区别。多弧离子镀采用的是弧光放电,而并不是传统离子镀的辉光放电进行沉积。简单的说,多弧离子镀的原理就是把阴极靶作为蒸发源,通过靶与阳极壳体之间的弧光放电,使靶材蒸发,从而在空间中形成等离子体,对基体进行沉积。由于多弧离子镀技术具有镀膜速度高,膜层的致密度大,膜的附着力好等特点,使多弧离子镀镀层在工具、模具的超硬镀膜、装饰镀膜等领域的应用越来越广泛,并将占据越来越重要的地位。 离子镀技术是当前使用面最为广泛、最为先进的表面处理技术之一,而多弧离子镀更是其中的佼佼者。据不完全统计,国内外有近一半以上表面处理使用多弧离子镀技术, 尤其是那些需要耐磨、耐蚀及特殊要求的场合。随着社会的进步,科学的发展,离子镀技术必将加完善。 目录
欧瑞康巴尔查斯有限公司 ..................................... 1 物理气相沉积技术 物理气相沉积技术种类 物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)技术是在真空条件下,采用物理方法,将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。 物理气相沉积的主要方法有(1)真空蒸镀;(2)溅射镀膜;(3)离子镀膜。 发展到目前,物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、、聚合物膜等。 真空蒸镀 真空蒸镀基本原理是在真空条件下,使金属、金属合金或化合物蒸发,然后沉积在基体表面上,蒸发的方法常用电阻加热,高频感应加热,电子束、激光束、离子束高能轰击镀料,使其蒸发成气相,然后沉积在基体表面,历史上真空蒸镀是PVD法中使用最早的技术。 溅射镀膜基本原理是充氩气的真空条件下,使氩气进行辉光放电,这时氩原子电离成氩离子,氩离子在电场力的作用下,加速轰击以镀料制作的阴极靶材,靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。如果采用直流辉光放电,称直流(Qc)溅射,射频(RF)辉光放电引起的称射频溅射。磁控(M)辉光放电引起的称磁控溅射。 离子镀基本原理是在真空条件下,采用某种等离子体电离技术,使镀料原子部分电离成离子,同时产生许多高能量的中性原子,在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下,离子沉积于基体表面形成薄膜。
物理气相沉积技术主要厂商 PLATIT涂层设备公司 PLATIT公司总部位于瑞士,属于BCI集团旗下企业。该公司是目前唯一只做设备不做涂层服务的公司。目前在国内的市场主要由代理商科汇负责,科汇最早在香港开了涂层中心,于2006年在深圳成立分厂,但现在基本都转移到深圳。PLATIT的最大优点是开发纳米结构涂层,而且宣传的非常好,PLATIT的设备是目前在国内销售的最多的外国涂层设备。
赛利涂层技术有限公司? ? 赛利涂层技术有限公司原是天威赛利涂层技术有限公司,由天威集团与德国CemeCon AG共同投资成立。公司成立于2003年09月。2005年04月,天威赛利成功通过德国TüV(莱茵公司)的ISO9001:2000质量认证,2008年06月顺利完成了由德国CemeCon独资的股权变更,公司名称变更为:保定赛利涂层技术有限公司。公司主营业务为:PVD(物理气相沉积)与金刚石涂层产品、涂层设备、配件与耗材的制造、销售与售后服务。
欧瑞康巴尔查斯有限公司? ? 欧瑞康巴尔查斯涂层(苏州)有限公司是瑞士独资公司,注册成立于2003年,目前全国有7个涂层中心,分别位于天津、江苏苏州、浙江温岭、陕西汉中和西安、四川成都、广州东莞。目前我们正在建设两个新的涂层中心,分别位于在重庆市和山东济南市。欧瑞康已涉足六大领域:涂层、真空、光学和航空元件、纺织品、推进系统、半导体等。欧瑞康巴尔查斯产品在国市场的占有份额约为15%~20%,这一份额已经是国内最大的PVD涂层公司,比其它涂层公司要高出很多,目前巴尔查斯在全球市场所占份额约为三分之一。 德国PVT涂层有限公司 德国PVT涂层有限公司,是由德国PVT公司在中国投资设立的涂层加工中心,公司总部在德国的本斯海姆,目前该公司自己在国内有四个涂层中心:黑龙江哈尔滨、江苏常州、浙江温岭、广东东莞。德国PVT公司是当今世界上最先进的超硬涂层技术研发和设备制造公司之一,是专门开发设计具有世界领先水平的离子和等离子真空镀膜设备的高科技公司,主要集涂层设备制造,涂层新工艺研发及涂层加工于一体。特别是其动态磁场设计,电弧运动速度快,而且遍布整个靶面,能够提高膜层均匀性、提高靶材利用率、减小液滴等特点。
瑞士Sulzer 瑞士Sulzer公司成立于1984年,1987年在德国Bevgisch Gladbach建立独立的涂层中心,主要以MAXIT耐磨涂层为主。1992年开始生产制造设备,并扩大了涂层服务,1997年兼并了Klocknev Ionon GmbH公司,业务范围扩展到等离子渗氮领域,即IONIT R耐磨保护,1999扩展到装饰涂层领域。2001年该公司被瑞士Sulzer公司收购,2002年扩大了Bergisch Gladbach的IONIT和IONIT OX的生产规模,成为最大的工业等离子表面处理制造商。2003年兼并了美国前DB薄膜公司,开始从事MAXIT、IONIT、IONITOX生产服务。
亚特梯尔镀层科技有限公司 亚特梯尔镀层科技有限公司是由香港Art Technology Development LTD与英国Teer Coating LTD共同投资组建的外资企业。Teer coating主要强项是非平衡磁控溅射,公司位于东莞市凤岗镇塘沥村福民工业区,主要从事机械加工用的刀、模具的镀层处理,目前主要生产CrAlTiN、Graphit-iC和MoST三种高性能的镀层。
爱恩邦德技术有限公司 爱恩邦德技术有限公司于2005年由IonbondAG集团投资140万美金成立了爱恩邦德涂层(苏州)有限公司,公司下设苏州、昆山两个工厂分别位于苏州工业园区和昆山经济技术开发区。IonbondAG集团中国总部―--爱恩邦德(无锡)技术有限公司设于无锡市高新科技技术区,IonbondAG集团致力于CVD(化学气相沉积)、PVD(物理气相沉积)、PACVD(离子加强化学气相沉积)以及CVA(铝化学气相沉积)等多种表面膜层技术及其设备的研发与生产。 豪泽(Hauzer)技术镀层公司 豪泽(Hauzer)技术镀层公司是PVD技术的全球供应商,该技术广泛应用于切削刀具、汽车零部件及卫浴五金件。母公司易普森国际是市场上领先的真空热处理技术供应商,易普森工业炉(上海)有限公司是其在中国的生产基地。豪泽公司以易普森上海为其在中国的基地,为豪泽公司先进的镀层和PVD系统的用户提供本地化的服务支持。除了为切削刀具提供一流的硬镀层外,豪泽公司也为硬质钢的干式高速加工以及铝、不锈钢和钛合金的切削刀具提供最优化的工具镀层技术和减磨镀层技术。Hauzer在汽车发动机零部件涂层上的市场份额是全球第一的,另外他最突出的涂层技术是在DLC膜上,这几年刀具涂层方面的业务发展迅速。
北京丹普表面技术有限公司 北京丹普表面技术有限公司是由北京丹鹏表面技术研究中心和意大利普罗泰克表面技术有限公司于2000年4月共同投资兴建的中意股份合作企业。主要从事物理气相沉积(PVD)技术的研究和开发。主营产品为阴极电弧离子蒸发系统和非平衡磁控溅射系统, AS系列和Propower(简称PP)系列计算机全自动控制离子镀膜设备是其主打产品。
物理气相沉积技术总结 磁控溅射技术和电弧技术在工具涂层领域各有优势,到目前为止还很难说哪种技术更好。磁控溅射技术这几年发展很快,世界涂层领域在工具涂层上溅射技术做的最好的还是德国的Cemecon公司,而且涂层的产品几乎全是刀具。 在刀具涂层领域,涂层设备的设计制造也有一些新的趋势。一些知名的国外涂层设备制造商纷纷推出电弧加溅射的涂层设备,例如Sulzer的Domino系列涂层设备,Balzers的Innova,以及豪泽公司的涂层设备。因此溅射技术还是存在电弧技术代替不了的优势的。 最近两年来,高能脉冲磁控溅射技术炒的很热。以Cemecon和Hauzer公司为代表,已经推出了采用这种技术的涂层设备。从原理上讲,这确实是一种能够结合电弧和溅射技术所有优点的涂层技术。如果发展的顺利,高能脉冲磁控溅射技术将代表工具涂层技术未来的发展方向。 在国内物理气相沉积镀膜设备主要是以进口为主,目前国内在物理气相沉积技术方面还属于引进的阶段,缺少自主知名品牌,在市场上没有竞争力,这也同时预示着国内物理气相沉积技术的发展空间。总体技术的差距导致国外公司的垄断,在这方面应该加大投资,研发具有自主知识产权的高性能设备与产品提高竞争力。