量子阱和超晶格

合集下载

半导体光学11量子阱, 超晶格,量子线, 量子点

半导体光学11量子阱, 超晶格,量子线, 量子点

比较:
Nipi 结构产生空间间接跃迁,能隙远小 于本征半导体的能隙. 极值点附近的势 能为抛物带(谐振子),因此不论是电 子还是空穴的能级都是等间隔的. 另外,由于n层和p层之间夹着本征半 导体i层,因而电子和空穴的空间重叠 程度小,载流子的寿命长, 这就使得 Nipi结构制作的光电探测仪反应较慢.
▲△无限深势阱
▲波函数 n
r
, k //
V
1 2
exp
i
kx x
ky
y
cos
nz
lz
z
.
另一解为
n
r
, k //
expik//
r n z
V
1 2
exp
i
kx x
ky y
sin
nz
lz
z ,nz为奇数.
能带为
En k //
Enz
2
k
2 //
2me ,h
2
k
2 //
2 2nz2
▲△分类
Ⅰ型:电子和空穴在同一种材料中量子化;
Ⅱ型:电子和空穴在不同种材料中量子化; Ⅲ型:其中一种材料为半金属. ▲△制作 Ⅰ和Ⅱ两种材料晶格常数相近,但禁带不同. Ⅲ-Ⅴ化合物GaAs/ Al1yGay As (对任何y, 两者都具有相同的晶格常数).当y=0.5, GaAs与 Al1yGay As 都是直隙材料. GaAs/
▲一些受到限制的MBE过程被称为原子外 延(ALE)或迁移增强外延(MEE), 该 方法可以将生成层控制到单层程度. ▲MBE中分子束或原子束无碰撞地通过 反应器中抽真空空间,射向衬底表面, 在生长面经物理、化学吸收结合,或再 吸解,该晶体生成过程远离热平衡. ▲相比之下,热壁外延(HWE或HWBE )

半导体器件物理名词解释

半导体器件物理名词解释

半导体器件物理名词解释篇一半导体器件物理里有好多重要名词呢。

先说能带,这玩意儿就像是一群电子的“能量俱乐部”。

不同能量的电子在不同的能带里玩耍。

低能量的电子在价带里待着,价带就像是电子的“温馨小窝”。

高能量的电子呢,可以跑到导带里去撒欢。

导带和价带之间有个区域叫禁带宽度。

禁带宽度可重要啦!它决定了半导体能不能导电。

如果禁带宽度小,电子就容易从价带跳到导带,这样的半导体就容易导电。

要是禁带宽度大,电子就很难跳过去,半导体就不太容易导电。

载流子也是个关键角色。

载流子有两种,电子和空穴。

电子带负电,空穴带正电。

在半导体中,电子和空穴就像一群忙碌的小蜜蜂,跑来跑去传递电流。

载流子的浓度和迁移率决定了半导体的导电性能。

浓度越高,迁移率越大,导电性能就越好。

这些名词在半导体器件中那可是至关重要。

比如二极管,它就是利用半导体的单向导电性制成的。

在二极管中,能带结构决定了电流只能从一个方向通过。

当加上正向电压时,电子从N 区向P 区流动,空穴从P 区向N 区流动,形成电流。

当加上反向电压时,电子和空穴的流动被阻止,几乎没有电流通过。

再说说三极管,三极管可以放大电流。

它的工作原理也和能带、载流子等名词密切相关。

在三极管中,通过控制基极的电流,可以改变发射极和集电极之间的电流。

这是因为基极的电流可以改变载流子的浓度和分布,从而影响发射极和集电极之间的导电性能。

还有场效应管,它也是一种重要的半导体器件。

场效应管的导电性能取决于栅极电压对沟道中载流子的控制作用。

当栅极电压改变时,沟道中的能带结构也会发生变化,从而影响载流子的浓度和迁移率,进而改变场效应管的导电性能。

半导体器件物理中的这些名词对于理解和设计半导体器件至关重要。

只有深入理解这些名词的含义和作用,才能更好地设计和制造出高性能的半导体器件。

未来,随着科技的不断进步,半导体器件的性能也会不断提高,这些名词也将继续发挥着重要的作用。

篇二PN 结嘿,这可是半导体器件里超重要的一个玩意儿。

无机有机杂化量子阱超晶格

无机有机杂化量子阱超晶格

Appl. Phys. Lett. 95, 173305 2009
进展
性能控制
Appl. Phys. Lett. 95, 173305 2009
进展
与上述类似,有人做了 (C8H13NH3)2PbI4多 量子阱,测试性质很接近。
结论:利用这一类特殊的有机/无机自 组装杂化物的相转换特性,及其光学特 性,可将其应用到光电子设备。
特征
1. 量子限域效应
GaAs/AlGaAs多量子阱的光吸收谱
特征
2. 量子阱中的激子效应
与三维体材料相比,量子阱材料中,电子 和空穴的库仑相互作用得到增强,激子效 应随系统尺寸减小而增加,即使在室温下, 量子阱吸收光谱中也能看到很强的激子吸 收峰。
特征
3. 二维电子气 半导体表面反型层中的电子与势阱的 宽度相当,发生量子尺寸效应,在垂 直方向的运动丧失了自由度,只存在 表面内两个方向的自由度,它的散射 几率比三维电子气小得多,因此迁移 率很高。
提出
2. 实验背景
1969年两位半导体物理学家江崎和朱 兆祥在实验中发现了反常电流-电压特 性,包括负阻效应;1972年用MBE技 术首先生长了GaAlAs超晶格异质结半 导体,并且验证了负阻效应的存在, 同时也验证了二维晶体和三维晶体能 带的差别。
提出
B
A
半导体量子阱的结构示意图
量子阱的能带结构示意图
进展
XRR测试
J. Vac. Sci. Technol. A, Vol. 32, No. 1, Jan/Feb 2014
进展
材料的电学和热电性质
J. Vac. Sci. Technol. A, Vol. 32, No. 1, Jan/Feb 2014

超晶格量子阱中束缚态的能级结构

超晶格量子阱中束缚态的能级结构

超晶格量子阱中束缚态的能级结构
超晶格量子阱是一种特殊的量子系统,它由超晶格结构和量子阱组成。

超晶格是一种特殊的晶格结构,其中晶格常数和原子间距相比其他晶格结构都要小。

量子阱是一种特殊的量子系统,由一个能量深度较小的区域和一个能量深度较大的区域组成。

在超晶格量子阱中,由于束缚效应,束缚态能级结构受到超晶格结构和量子阱的影响。

束缚态的能级结构一般是由低能级的局域态和高能级的扩散态组成。

局域态是指在量子阱中被束缚的状态,其能量较低,质量点在量子阱中局域分布。

而扩散态则是指在量子阱中不受束缚的状态,其能量较高,质量点在量子阱外扩散。

超晶格结构对束缚态能级结构的影响主要表现在两个方面:一是影响局域态的能量,二是影响扩散态的能量和扩散系数。

这是因为超晶格结构会对电子的波函数产生影响,而电子的波函数是确定能级结构的关键因素。

半导体微结构物理效应及其应用讲座 第2讲 量子阱、超晶格物理及其在光电子领域中的应用

半导体微结构物理效应及其应用讲座 第2讲 量子阱、超晶格物理及其在光电子领域中的应用
・ >=<・
物理
讲! 座 类超晶格, 电子和空穴分别限制在 ’()* 和 +,-. 中/ 第三种是多元混晶超晶格, 如 ’(0 1 ! +, ! )* 2 +,-.0 1 " )* 3 , +, 的组分 ! 和 )* 的组分 " 可分别调节, 以满 足晶格匹配条件和改变导带、 价带的相对位置/ 自然界中两种晶格常数相近的材料是很少的/ 实验上发现, 利用分子束外延也能生长晶格不匹配 的量子阱或超晶格/ 这时其中一种材料就产生应变/ 如果这个材料层的厚度超过了一个临界层厚度, 则 应变产生的能量就会被释放出来, 产生位错线/ 应变 将影响超晶格的电子态, 可被用来改善激光器的性 能/ ! / "# 自组织生长量子点 利用分子束外延 ( 456 ) 或者金属有机物化学 气相淀积 ( 4789:) , 在一种材料上生长与衬底材料 有很大晶格失配的另一种材料/ 在长了一层很薄的 “ 湿润” 层后, 由于很大的应变能, 接着将生长三维 岛 ( 量子点) / 这种生长模式称为 -;<,(*=>?@<,*;,(AB 模式/ 生成的岛中可能有失配的位错, 也可能没有/ 没有位错的岛称为相干岛 ( CADE<E(; >*F,(G*) / 在 +,)* ( $$0 ) 上 生 长 的 ’()* 岛 (晶格失配
[ K] M H
( )
(#)
这表明, 要达到激光工作, 有源区介质的增益必须等 于它的损失加两端激光输出的损耗/ 以上公式仅仅是光完全在有源区中传播的理想 情形, 没有考虑到光场在垂直方向上的分布/ 实际上 光场除了在有源区内, 还有部分衍射分布在上、 下两 )F+,)* 层中/ 由于只有在有源区中光才能放大, 因 此要求有源区中光的比例越大越好/ 为此定义光的 限制因子为

半导体超晶格与多量子阱

半导体超晶格与多量子阱

• 生长 InGaAs/InP 超晶格通常使用含有 In 、 Ga 的 金属有机物做为Ⅲ族源,PH3和AsH3为Ⅴ族源。 • InxGa1-xAs与衬底InP在x=0.53时两者晶格匹配,偏 离这一点将产生失配。偏离越大,失配越大。 x>0.53时产生压缩应变,x<0.53时产生伸张应变。 为 了 生 长 无 失 配 的 InGaAs/InP 界 面 , 必 须 严 格 控 制 x=0.53。 • 生长速率是由反应物输入总量决定 ,一般生长 InP 和 InGaAs 分别控制在 0.1~0.3nm/s 和 0.2~0.5nm/s 为宜。
HgTe Ec1 Ev1 Λ
CdTe Ev2
EF Γ B
一、 组分超晶格的制备
制备组分超晶格时应满足如下的要求:
(1)组分超晶格是超薄层异质周期排列结构,因此制备 时生长速率应能精确地控制,以保证各层厚度的重复性;
(2)异质界面应该平坦,粗糙度低,组分变化陡峭。这 就要求生长时源的变化要快,且在保证晶体质量的条件 下,生长温度尽可能的低,以防层间组分的互扩散;
半导体超晶格与多量子阱
半导体超晶格是由两种或两种以上性质不同的超薄层材料 交替生长而成的多层结构晶体。相邻两层不同材料的厚度 的和称为超晶格的周期长度。 一般来说这个周期长度比各层单晶的晶格常数大几倍或更 长,因此这种结构获得了“超晶格”的名称。 各超薄层的厚度要与电子的de Brog1ie波长相当。设半导体 中电子的有效质量m*约为自由电子质量的l/10,能量E约 为0.1eV,则电子的de Broglie波长大致为
生长时应控制在层状生长,防止岛状生长并且采取合适 中断生长工艺,以防止界面处组分的互掺等。
界面的特性可利用PL谱和X射线双晶衍射技术来研究。

量子阱和超晶格课件

量子阱和超晶格课件
这些制备技术各有特点,可以根据具体的研究需求和实验条件选择合适的技术进行 量子阱和超晶格的制备。
05
量子阱和超晶格的应用前景
量子阱在光电子器件中的应用
光子晶体管
量子阱结构可用于制造光子晶体管,这种器件可以控制光子的流动,从而实现光信号的放大和调制,提高光通信系统 的性能。
发光二极管(LED)
量子阱LED具有更高的发光效率和更好的色彩渲染能力,广泛应用于显示技术和照明领域。
超晶格对量子阱性能的影响
限域效应增强
超晶格结构可以增强量子阱的限 域效应,进一步限制电子的运动 范围,从而影响量子阱的性能。
调制掺杂效应
在超晶格中,不同材料之间的电 荷转移和调制掺杂效应可以对量 子阱中的载流子浓度和分布进行 调控,从而影响量子阱的输运性
质。
应变工程
超晶格中的应变可以传递给量子 阱,通过应变工程对量子阱的性 能进行调控,如改变发光波长、
量子阱和超晶格课件
• 量子阱概述 • 超晶格概述 • 量子阱与超晶格的关系 • 量子阱和超晶格的制备技术 • 量子阱和超晶格的应用前景 • 量子阱和超晶格的最新研究进展
01
量子阱概述
量子阱的定 义
定义
量子阱是一种利用量子力学原理 在纳米尺度上限制电子、光子等 微观粒子的运动,从而改变其物 理性质的人工结构。
精度提升
近年来,研究人员致力于发掘 新型材料用于量子阱的制备, 如铟砷磷、镓砷氮等,以拓展 量子阱在光电子、微电子领域 的应用范围。
低维材料,如二维材料和一维 纳米线等,作为量子阱的构成 元素,在新型量子阱材料的研 发中占据重要地位。它们具有 优异的物理性能和广泛的潜在 应用。
通过改进生长技术、优化生长 条件,实现量子阱材料的高精 度、高质量制备,以满足量子 计算和量子通信等高端应用的 需求。

量子阱和超晶格

量子阱和超晶格
“L. Esaki, L.L.Chang. R.Tsu, 12th Low Temp. Phys. Kyoto, Japan P.551”
• 1972年观察到负微分电导,输运的振荡现象,微带结构。
随后,新颖的物理现象被揭示,新理论被提出,与之相应的高 性能的新型器件被研究和开发。
• 直条影区指具有相 近晶格常数但不同 能隙宽度的材料
3.1 量子限制效应(quantum confinement effect) 3.2 共振隧穿效应 3.3 超晶格中的微带 3.4 声子限制效应 3.5 二维电子气
3.1 量子限制效应(quantum confinement effect)
量子阱宽度小于电子运动的Bloch波长,电子在垂直异质结结面 的方向(z方向)的运动约束到一系列分裂的能级。 设势能
(4)多维超晶格 一维超晶格与体单晶比较具有许多不同的性质,这些特点
来源于它把电子和空穴限制在二维平面内而产生量子力学效应。 进一步发展这种思想,把载流子再限制在低维空间中,可能会 出现更多的新的光电特性。用MBE法生长多量子阱结构或单量 子阱结构,通过光刻技术和化学腐蚀制成量子线、量子点。
§3 超晶格量子阱中的新现象
EcA
E2
EgA EgB EcB
E1
EvB EvA
多量子阱能带图
∆Ec ∆Ev
E2 E1
超晶格能带图
超晶格分类
(1)组分调制超晶格 (2)掺杂调制超晶格 (3)应变超晶格 (4)多维超晶格 (5)非晶态半导体的超晶格 (6)半磁超晶格 (7)渐变能隙超晶格(锯齿状)
超晶格能带结构来源于两种材料禁带的变化,存在内界面。
GaAs/AlGaAs 异质结的电子能级结构
—— 最接近理想的二维电子系统
  1. 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
  2. 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
  3. 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。

3.3 超晶格中的微带(miniband)和态密度
超晶格势垒区较薄时,阱中量子化的孤立能级相互耦合 而成微带结构。微带有载流子公有化运动。超晶格布里渊区 小,带宽小,呈现一系列新现象: 布洛赫振荡 万尼尔-斯塔克效应
超晶格中的微带形成
3.4 声子限制效应
类似于电子态,声子态也有量子约束效应。
• 声学声子,两种材料的
GaAs/Al0.2Ga0.8As量子阱中不同阱宽下激子吸收光谱。l表示 GaAs阱宽,T=2K。随阱宽的减少呈现台阶形的吸收谱,阱宽 为400nm时阶消失。
4.2 激子光谱
和体材料相比,量子阱的激子光谱有明显不同的特征: (1)在低温下量子阱的光谱中自由激子的吸收和荧光占主 导地位。 (2)按照简单的理论分析,轻重空穴各自形成独立的子带。 (3)激子的束缚能和玻尔半径将受阱宽Lz、电子和空穴势阱 的深度(∆Ec和∆Ev)的影响。 (4)室温下在量子阱吸收光谱中也能看到很强的激子吸收 峰。
这意味着GaAs/AlGaAs异质结已将杂质、缺陷等对二维 电子系统的“干扰”降低到最低限度,这才使电子间的多 体相互作用显得更为重要起来。 因此,从某种意义上说,性质优异的异质结结构为整数量 子Hall效应和分数量子Hall效应的发现提供了必要条件。
迄今为止 , GaAs/AlGaAs 调制掺杂异质结能获得的电子 迁移率已高达1×107cm2/ V· s 。
§1 引言
• 1970年IBM公司江崎(Esaki), 朱兆祥(Tsu) : “Superlattice and Negative Deferential Conductivity in Semiconductors” , 周期性地外延生长半导体超晶格:微带结构,布里渊区大 大缩小,负微分电导。
(2)掺杂调制超晶格
利用电离杂质中心产生的静电势在晶体中形成周期性变化 的势,例如n-i-n-i结构超晶格。
(3)应变超晶格
初期研究超晶格材料时,除了A1xGa1-xAs/GaAs体系以 外,对其他物质形成的超晶格的研究工作不多。 原因:晶格常数相差很大,会引起薄膜之间产生失配位错而 得不到良好质量的超晶格材料。 解决方法:当多层薄膜的厚度十分薄时,在晶体生长时反而 不容易产生位错。即,在弹性形变限度之内的超薄膜中,晶 格本身发生应变而阻止缺陷的产生。因此,巧妙地利用这种 性质,可制备出晶格常数相差较大的两种材料所形成的应变 超晶格。 SiGe/Si是典型应变超晶格材料,随着能带结构的变 化,载流子的有效质量可能变小,可提高载流子的迁移率, 可做出比一般Si器件更高速工作的电子器件。
Ⅱ型异质结(ΔEc和ΔEv的符号相同),分两种: *ⅡA类超晶格:材料1的导带和价带都比材料2的低,禁带是 错开的。材料1是电子的势阱,材料2是空穴的势阱。电子和 空穴分别约束在两材料中。超晶格具有间接带隙的特点,跃 迁几率小,如GaAs/AlAs超晶格。
ⅡB类超晶格:禁带错开更大,窄带材料的导带底和价带顶 都位于宽带材料的价带中,有金属化现象,如 InAs/GaSb 超晶格。
4.3 激子的饱和吸收
• 当光强比较小的时候, 一般物体的光吸收系数 和光强无关,称之为线 性光学吸收。 • 当光强较大的时候,吸 收系数可能随着光强的 增加而减小,出现了光 吸收的饱和现象,称之 为非线性吸收。
GaAs/AlGaAs多量子阱中的激子饱和吸收
4.4 室温荧光特性
由于量子限域作用:
• 1971年第一个GaAs/AlxGa1-xAs人工周期结材料: “L. Esaki, L.L.Chang. R.Tsu, 12th Low Temp. Phys. Kyoto, Japan P.551”
• 1972年观察到负微分电导,输运的振荡现象,微带结构。
随后,新颖的物理现象被揭示,新理论被提出,与之相应的高 性能的新型器件被研究和开发。
声子 谱 相 似 , 超 晶 格的 声学 声 子 是 两 种 体 材料 声子谱的“折叠”。 • 光学声子,两种材料 的谱 不 同 ,光 学 振 动模 约束在各自材料中,声 子谱 分 裂 成 系 列 离 散的 声子频率,无色散关系。
3.5 二维电子气
目前, 二维电子气主要以下面三个方式实现: (1)MOSFET (2)超晶格 (3)液He表面
2 2
(3-2)
x , y 平面中的运动是有效质量 为 m* 的自由电子运动,而 z 方 向上的运动是在一维量子阱中
的运动,通常具有量子化的束
缚能。
3.2 共振隧穿效应
当外加电压使量子阱中 能级与外电极费米能级 或邻近阱中的电子态一 致时,电子可穿过势垒 到邻近阱中所对应的能 级,隧穿几率几乎为1。 而与相近邻阱中的能级 不一致时隧穿几率为零。
—— 最接近理想的二维电子系统
为什么说GaAs/AlGaAs 异质结是最接近理想的二维 电子系统?
• 由于GaAs/ AlGaAs 是晶体匹配的材料体系。利用现代分子 束外延生长技术几乎可以获得原子级平整的界面,大大减少了 界面缺陷和界面粗糙度对输运性质的影响。 • 超高真空下分子束外延生长保证了GaAs、AlGaAs本征材料 的纯度可达到1013cm-3的水平。 • 更为重要的是,施主杂质在离界面一定距离以外的 AlGaAs 一侧,而电子被转移到窄能隙的GaAs 侧界面势阱内,远离产 生它的电离施主,使它们感受到的库仑散射作用大大减弱,极 大地提高了二维电子气在低温下的迁移率。
量子阱和超晶格
2015年11月28日
半导体超晶格和量子阱
§1 §2 §3 §4 §6

参考书: “半导体超晶格物理学” 夏建白等,上海科学出版社,1994 “半导体超晶格-材料与物理” 黄和鸾等, 辽宁大学出版社,1991 “半导体异质结物理” 虞丽生,科学出版社,2006
引言 超晶格和量子阱的一般描述 超晶格量子阱中的新现象 超晶格量子阱的光学性质 超晶格和量子阱器件
MOSFET 示意图
MOSFET 的电子能级结构
半导体反型层
三角形势阱
在极低温度下,界面势阱使电子失去了沿z方向运动的自由度, 被冻结在最低的量子化子能级E0上,电子波函数被局域在界面 势阱的范围之内。 在这种情况下,电子只能沿界面作自由运 动,故可视作二维电子气。
GaAs/AlGaAs 异质结的电子能级结构
0 z W 0 V ( x) z 0 or z W
(3-1)
有效质量方程分析(前提:势 能在空间缓变,即要求阱宽远 大于晶体的晶格常数)
2 2 2 [ ( x y ) z V ( z )] ( x, y, z ) E ( x, y, z ) 2m 2m
E = E (kz) + ħ2/2m (kx2+ky2)
在xy平面内电子的动能是连续的, z 方向附加周期势场使电子的能 量分裂为一系列子能带。
A B
不连续点的kz值满足: kz =±n/D,D为超晶格周期。
超晶格多量子阱能带结构示意图
多量子阱和超晶格的本质差别在于势垒的宽度:当势垒 很宽时电子不能从一个量子阱隧穿到相邻的量子阱,即 量子阱之间没有相互耦合,此为多量子阱的情况;当势 垒足够薄使得电子能从一个量子阱隧穿到相邻的量子阱, 即量子阱相互耦合,此为超晶格的情况。Biblioteka 一维双势垒超晶格结构的隧穿特性
张 立 纲 等 首 先 在 GaAs/AlxGa1-xAs 双势垒 结构中观察到共振隧穿 现象。
实验测量的是隧穿电流与电极上外加电压的关系。当外加电压 变化到量子阱中的束缚态能级与发射极电子的费米能级对齐时, 电流达到极大, dI/dV=0 。实验测得的( dI/dV)-V 曲线上发现 有两个极值dI/dV=0,说明量子阱中有两个束缚能级。
(1)组分调制超晶格
在超晶格结构中,如果超晶格的重复单元是由不同半导 体材料的薄膜堆垛而成,则称为组分超晶格。在组分超晶格 中,由于构成超晶格的材料具有不同的禁带宽度,在异质界 面处将发生能带的不连续。
按异质结中两种材料导带和价带的对准情况,江崎把异质 结分为三类: Ⅰ型异质结 : 窄带材料的禁带完全落在宽带材料的禁带中, ΔEc和ΔEv的符号相反。不论对电子还是空穴,窄带材料都是 势阱,宽带材料都是势垒,即电子和空穴被约束在同一材料中。 载流子复合发生在窄带材料一侧。 GaAlAs/GaAs和InGaAsP/InP都属于这一种。
(4)多维超晶格 一维超晶格与体单晶比较具有许多不同的性质,这些特点 来源于它把电子和空穴限制在二维平面内而产生量子力学效应。 进一步发展这种思想,把载流子再限制在低维空间中,可能会 出现更多的新的光电特性。用 MBE 法生长多量子阱结构或单量 子阱结构,通过光刻技术和化学腐蚀制成量子线、量子点。
4.1 吸收光谱实验
Dingle等研究了上述量子阱中电子从价带束缚态跃迁到导 带束缚态时对应的光吸收实验。
• 阱宽l = 400 nm,量子效应消失,对应于GaAs的本征 吸收光谱; • 阱宽l = 21 nm和14nm,量子效应显示出来,这些峰 为电子从价带束缚态跃迁到导带束缚态所对应的吸收。
重、轻空穴激子
§3 超晶格量子阱中的新现象
3.1 量子限制效应(quantum confinement effect) 3.2 共振隧穿效应 3.3 超晶格中的微带
3.4 声子限制效应
3.5 二维电子气
3.1 量子限制效应(quantum confinement effect)
量子阱宽度小于电子运动的Bloch波长,电子在垂直异质结结面 的方向(z方向)的运动约束到一系列分裂的能级。 设势能
EcA EgA EcB EvB EvA E2 E1 EgB E2 E1
∆Ec
∆Ev
多量子阱能带图
超晶格能带图
超晶格分类
(1)组分调制超晶格 (2)掺杂调制超晶格 (3)应变超晶格 (4)多维超晶格 (5)非晶态半导体的超晶格 (6)半磁超晶格 (7)渐变能隙超晶格(锯齿状)
相关文档
最新文档