材料分析方法 周玉 第二版
材料成型及控制工程专业

材料表征-01

Materials Science and Technology, Characterization of Materials Part II, Vol. 2
Eric Lifshin (Editor)
John Wiley & Sons, Incorporated
材料现代表征方法-内容 和课程结构
第一部分 基础( )(6hrs) 基础(Basics)( )( )
Basics
材料( 材料(Materials) )
?
狭义地讲,用以制造有用物件的物质。广 狭义地讲,用以制造有用物件的物质。 义地讲,任何物质都可以称为材料。 义地讲,任何物质都可以称为材料。 从原始的石器时代到现代金属材料、 从原始的石器时代到现代金属材料、无机 非金属材料、高分子材料、复合材料、 非金属材料、高分子材料、复合材料、生 物材料、纳米材料等。 物材料、纳米材料等。
绪论 材料结构基础 电磁辐射、粒子( 电磁辐射、粒子(束)与材料的相互作用 表征方法的共性基础与概述
材料现代表征方法-内容 和课程结构
进阶( 第二部分 进阶(Progress)(39hrs) ) )
衍射分析方法 显微分析方法 能谱分析方法 光谱分析方法 色谱分析方法 质谱分析方法 核磁共振分析方法 电化学分析 热分析
材料现代表征方法
关于我
66782215 lixg@主要参考书题名 作者 出版社 索取号 材料分析测试技术: 材料分析测试技术: 材料X射线衍射与 周玉, 材料 射线衍射与 周玉,武高辉编著 电子显微分析 哈尔滨: 哈尔滨:哈尔滨 TB302.1/8 工业大学出版社, 工业大学出版社, 13 1998 TB302/917 TB303/436
XRF、UV-Vis、MS、XPS、IR、XRD… 、 、 、 、 、
俄歇电子能谱简介

俄歇电子能谱简介摘要:本文介绍了俄歇电子的产生、表示、俄歇电子的过程和能量、样品制备技术、以及俄歇电子能谱仪的应用。
由此得出俄歇电子能谱仪在材料表面性质研究方面, 有着不可替代的作用。
关键词:俄歇电子;俄歇电子能谱仪;样品制备;应用俄歇过程是法国科学家Pierre Auger首先发现的。
1922年俄歇完成大学学习后加入物理化学实验室在其准备光电效应论文实验时首先发现这一现象,几个月后,于1923年他发表了对这一现象(其后以他的名字命名)的首次描述。
30年后它被发展成一种研究原子和固体表面的有力工具。
尽管从理论上仍然有许多工作要做,然而俄歇电子能谱现已被证明在许多领域是非常富有成果的,如基础物理(原子、分子、碰撞过程的研究)或基础和应用表面科学。
1.俄歇电子的产生原子在载能粒子(电子、离子或中性粒子)或X射线的照射下,内层电子可能获得足够的能量而电离,并留下空穴(受激)。
当外层电子跃入内层空位时,将释放多余的能量(退激)释放的方式可以是:发射X射线(辐射跃迁退激方式);发射第三个电子─俄歇电子(俄歇跃迁退激方式)。
如下图:例如,原子中一个K层电子被入射光量子击出后,L层一个电子跃入K层填补空位,此时多余的能量不以辐射X光量子的方式放出,而是另一个L层电子获得能量跃出吸收体,这样的一个K层空位被两个L层空位代替的过程称为俄歇效应,跃出的L层电子称为俄歇电子[1]。
在上述跃迁过程中一个电子能量的降低,伴随另一个电子能量的增高,这个跃迁过程就是俄歇效应。
从上述过程可以看出,至少有两个能级和三个电子参与俄歇过程,所以氢原子和氦原子不能产生俄歇电子。
同样孤立的锂原子因为最外层只有一个电子,也不能产生俄歇电子。
但是在固体中价电子是共用的,所以在各种含锂化合物中也可以看到从锂发生的俄歇电子。
俄歇电子的动能取决于元素的种类。
2.俄歇电子的表示每一俄歇电子的发射都涉及3个电子能级,故常以三壳层符号并列表示俄歇跃迁和俄歇电子。
材料分析方法第3版(周玉)出版社配套课件第7章机械工业出版社

所在的圆为欲求的轨迹;
图7-4 与极点成等夹角点的轨迹
与P点成90点的轨迹为过赤道线
上F 点的经线大圆NFS,NFS可
视为一平面的投影,其法线的投
影点为P
8
第一节 极射赤面投影法
二、乌氏网
4) 极点的转动 在乌氏网上可将极点绕确定轴转动到新位置
转轴垂直于投影面:如图7-5,将P点绕基圆圆心(轴的投影)转
6
第一节 极射赤面投影法
二、乌氏网
乌氏网是确定晶体方位及测量夹角的工具,应用时注意
1) 晶体投影图基圆的直径与乌氏网相同,使用时将二者中心 重合
2) 测定二极点间夹角时,转动投 影图,使二极点位于同一经线大 圆(包括基圆)或赤道上, 二点间 的纬度差或经度差极为二极点间 夹角,见图7-3。 如A、B极点间 夹角为120, C、D极点间夹角 为20, E、F 极点间夹角为20
X射线衍射是织构测定的主要方法,近年来电子背散射衍 射(EBSD)技术在织构分析方面亦得到广泛应用
3
第一节 极射赤面投影法
一、极射赤面投影法的特点
极射赤面投影法用以表达晶向、晶面的方位,见图7-1
1) 被投影晶体置于参考球球心O,假定晶体的所有晶向、晶 面均通过球心
2) 投射点B为球面上一点的射线,投影 面是与过B点直径垂直的任一平面,平 行于投影面且通过球心的平面与球交成 一大圆, B点向大圆上各点的投影线在 投影面上的交点构成基圆(NESW)
图7-9为立方晶系标准投影图,落在同一大圆弧和直线上的极 点对应的晶面法线在同一平面上, 此平面的法线为这些晶面 的交线。相交于同一直线的晶面属于同一晶带, 其交线称为 晶带轴,用[uvw]表示,晶面指数(hkl)和[uvw]满足晶带定律
树立精品意识建设精品课程——《材料现代分析方法》精品课程建设的体会

D C T O I E U A I N
Fe b
树 立 精 品意 识 建 设 精 品课 程
— —
《 材料 现代 分析 方法》 品课程 建设 的体会 精
俞 建长 李 强
摘要 :材料现代分析方法》 《 是材料科学与工程专业一 门主干专业基础课程 , 材料科学与工程是研究材料 的组成 、 制备 工艺、 结构 与 使用性能的学科 , 而材料的组成与 结构 决定材料 的性 能。材料现代分析方法正是一 门分析 、 检测和表征材料组 成和微观 结构的课 程 , 是材料 学科 的主干基础课 程之一。掌握好材料现代分析方 法对后 续材料 专业课 程的学 习极其重要 , 也是从事材料研 究和 开发 活动 中
为 了延 伸课 堂教学 , 并让精 品课程知识得 到推广 , 我们 制作 网络课程 , 建立 网站 。网络课程及 网站 内容包括 : 程介 绍 、 课 教学 大纲 、 师资 队伍 、 教案 、 网络课程 、 教学 录像 、 考文献 、 参 实验指导 书、 习题集 、 图谱练习 、 卷库 、 试 成果展示和建设规划。教学内容 、 课程简介 、 教学 大纲 、 答疑系统 、 作业 系统 、 课程讨论和课 件说 明 , 以及远程答 疑 、 网上课 程讨 论和作业 批改 。 网站 建立在福 州大 学墩 育在 线/ 品课程平 台上 , 过 网上 可 以进行 远程答 疑 、 精 通 课 程讨论和作业批改等师生互动 , 利于学生课外 复习。同时校外 有 内相关专业学生也经常上 网, 获取有关 知识 , 与教师互动。
应用的衍射法作为讲授 重点 , 并引入计 算机在粉 末衍射分析 中应 用, 介绍全 谱拟合法 在物相定性定量分析 、 微结构 和晶体结构分 析, 拓展了衍射分析应用范嗣与水平。经过多年 系统 的课程教学 改革和总结 , 形成 了适应我院大材料专业培养 目标 和定位要求 的
材料分析测试方法课程的教学实践

集成电路应用 第 38 卷 第 5 期(总第 332 期)2021 年 5 月 113
考核方式灵活化也是本课程改革的重要环节。 传统的考核方式主要以学生平时成绩+结课考试成 绩作为学生习得的标准。平时成绩主要包括上课 出勤、作业表现情况。这样的标准导致学生课堂教 学表现平常,只关注结课考试,教学质量不佳。然 而,在新工科、工程教育认证下,要求学生能够有
Applications 创新应用
课题中的具体的实验操作、结果分析向学生介绍经 验,开阔学生的视野。 2 教学实践多样化
传统的教学手段以多媒体和板书形式,教师讲
步的教学设计改革,以期得到较好的教学效果。 1 课程内容多元化
随着科学技术的发展,《材料分析测试方法》
材料结构分析(材物) Microsoft Word 文档
材料结构分析(材物)(The Analysis of Material Microstructure)教学大纲本课程与其它课程的联系:先修课程为材料物理导论、材料科学基础、材料物理性能等。
一、课程的性质《材料结构分析》课程是材料类专业学生的专业基础必修课。
二、课程的地位、作用和任务材料显微结构分析是材料科学中最为重要的研究方法之一。
准确、快捷的分析结果为材料的制备工艺、材料性能微结构表征研究及其材料显微结构设计提供可靠的实验和理论依据。
本课程任务在于让学生通过系统学习现代材料科学结构分析方法,初步掌握各种方法的应用原理和方法,使学生能够在材料科学研究中合理的选择适当的分析方法从事材料研究工作。
三、课程教学基本要求本课程是材料科学和材料工程专业的一门专业基础课。
主要介绍红外光谱分析、激光拉曼光谱分析、核磁共振波谱分析以及电子显微技术分析和热分析等结构分析方法,介绍其测试原理、设备及试验方法。
本课程要求学生掌握现代材料科学研究中有关结构分析的方法和应用,理解其测试分析原理,了解各种分析方法的利弊,能够按照实际需要自行设计合理的结构测试分析思路。
四、课程教学内容教学内容按章节目三个层次列出,重点、难点章节分别以★和▲标注。
前言第1章绪论1.1材料研究的意义和内容1.2材料结构和研究方法的分类第2章光学显微分析2.1概述2.2晶体光学基础2.3光学显微分析方法2.4特殊光学显微分析法2.5光学显微分析样品的制备2.6光学显微分析技术的突破——近场光学显微镜2.7光学显微分析在材料科学中的应用第3章 x射线衍射分析3.1X射线的物理基础★3.2X射线衍射原理▲★3.3x射线衍射束的强度3.4实验方法及样品制备★3.5X射线粉末衍射物相定性分析★3.6X射线物相定量分析3.7晶体结构分析3.8x射线衍射技术在其他方面的应用第4章电子显微分析4.1概述4.2透射电镜▲4.3扫描电镜★4.4电子探针仪★4.5电镜的近期发展4.6电子光学表面分析仪第5章热分析★5.1概述5.2热分析技术的分类5.3差热分析★5.4差示扫描量热分析法★5.5热重分析★5.6热膨胀和热机械分析5.7热分析技术的应用5.8热分析技术的发展趋势第6章光谱分析6.1吸收光谱分类及基本原理6.2紫外光谱★6.3红外吸收光谱分析★6.4激光拉曼散射光谱法★第7章核磁共振分析7.1概述7.2核磁共振的基本原理▲7.3质子的化学位移7.4自旋偶合7.5核磁共振的信号强度7.6图谱解释7.7构造和样品制备7.8NMR技术的进展7.9核磁共振谱在材料分析研究中的应用第8章质谱分析★8.1概述8.2质谱技术基本原理-★8.3离子的类型8.4质谱定性分析及图谱解析★8.5质谱定量分析8.6气相色谱一质谱联用技术8.7质谱分析在材料研究中的应用第9章材料测试方法的综合应用★9.1材料结构的测试★9.2材料显微术及其样品制备方法的选择★9.3材料形成过程研究9.4材料剖析五、课内实践教学要求为保证必要的实践性教学环节,单设18学时实验课程(不包含在本课程内)。
材料分析方法 第3版( 周玉) 出版社配套PPT课件 第3章 机械工业出版社
二、几种点阵结构因数计算
2. 体心点阵(同类原子组成)
单胞中有2个原子,坐标分别为(0,0,0)和(1/2,1/2,1/2), 原
子散射因数均为 f
FHKL2 = [f cos2(0) + f cos2(H+K+L)/2 ]2 + [f sin2(0) + f sin2(H+K+L)/2 ]2
三角形式:Acosx+iAsinx
单胞中所有原子散射波振幅的合成就是单胞的散射波振幅Ab
Ab A1ei1 A2ei2 Anein
fa
Aa Ae
一个原子中所有电子相干散射波的合成振幅 一个电子相干散射波的振幅
n
Ab Ae ( f1ei1 f 2ei2 f nein ) Ae f j ei j j 1 9
由于衍射线的相互干涉,某些方向的强度将会有所加强, 某些方向的强度将会减弱甚至消失,习惯上将这种现象称 为系统消光
7
第二节 单位晶胞对X射线的散射与结构因数
一、结构因数公式的推导
如图3-3,取单胞顶点O为坐标原点,单胞中第 j 个原子 A
的位置矢量为,
rj = xj a + yj b + zj c
数(HKL)N平1 方: N和2 :之N3比: N为4,: N5 2 : 4 : 6 : 8 :10
13
第二节 单位晶胞对X射线的散射与结构因数
二、几种点阵结构因数计算
3. 面心点阵(同类原子组成)
单胞中有4个原子,坐标分别为(0,0,0)、 (0,1/2,1/2)、
(1/2, 0,1/2)、 (1/2,1/2, 0),原子散射因数均为 f FHKL2 = f 2
现代测试技术课程教学大纲
《现代测试技术》课程简介课程内容:现代测试技术是一门用以培养学生材料结构分析与测试技能的专业选修课.通过学习使学生掌握X射线衍射和电子显微技术的基础理论,试验方法及基本技能;掌握X射线衍射仪,透射电镜,扫描电镜和电子探针等现代测试设备的结构及其在材料分析测试技术中的原理及试验方法.应用X射线衍射方法进行晶体结构的测定,物相分析,宏观应力测定;掌握透射电镜的复型和薄膜制备技术及电子衍射的原理,应用电子衍射对材料进行微关组织结构的分析,应用扫描电镜和电子探针对材料进行表面形貌和微观结构及成分进行分析. 以培养学生使用分析测试方法为材料科学研究服务.本课程主要内容包括:X射线衍射学,透射电子显微学,扫描电子显微镜,电子探针,光谱分析等.Brief IntroductionCourse Description:Modern Techniques of Measurement is one of elective course to train pupils techniques of material structure analyzing and testing.Through learning students can understand the modern testing equipment, theory and method such as X-ray diffractometer, transmission electron microscopy, scanning election microscopy and electron probe. Crystal structure can be tested, contents can be analyzed and macro-stress can be measured by using X-ray diffraction. Surface morphology, microstructures and component of materials can be measured by using scanning election microscopy and election probe.The main sections of this course: X-ray diffraction, transmission election microscopy, scanning electron microscopy, electron probe, spectral analysis.一、教学内容第一章X射线的性质1.1 X射线的本质1.2 X射线谱1.3 X射线与物质相互作用教学重点:掌握X射线谱产生的机理.教学难点:X射线的吸收,相干散射和非相干散射.第二章X射线运动学衍射理论2.1 X射线衍射方向2.2 布拉格方程的讨论2.3 倒易点阵2.4 X射线衍射强度教学重点:掌握布拉格方程成立条件,掌握倒易空间中的爱瓦尔德图解.教学难点:X射线衍射强度与结构因子的关系,以及结构因子的定义.第三章多晶体X射线衍射分析方法3.1 粉末照相法3.2 X射线衍射仪教学重点:理解德拜照相法,掌握衍射仪的测量方法.教学难点:X射线衍射峰位的指标化.第四章X射线衍射方法的实际应用4.1 点阵常数测量4.2 物相分析4.3 宏观应力测定教学重点:掌握X射线衍射仪的点阵常数的精确测定,掌握物相定量分析方法,理解X射线应力测定原理.教学难点:X射线应力测定实验精度的保证及测试原理的适用条件.第五章透射电子显微分析5.1 透射电镜的结构及应用5.2 电子衍射5.3 金属薄膜的透射电子显微分析教学重点:掌握透射电镜成像原理,了解透射电镜的结构.教学难点:透射电镜衍射花样的标定.第六章扫描电子显微分析6.1 扫描电镜工作原理,构造和性能6.2 扫描电镜在材料研究中的应用6.3 波谱仪结构及工作原理6.4 能谱仪结构及工作原理6.5 电子探针分析方法及微区成分分析技术教学重点:掌握扫描电镜成像原理,掌握扫描电镜在材料研究中的应用,了解扫描电镜的结构.教学难点:扫描电镜能谱线分析.第七章表面成分分析7.1 俄歇电子能谱7.2 原子探针显微分析教学重点:掌握俄歇电子能谱在材料研究中的应用.教学难点:纳米级表面成分定量分析.第八章电子显微技术的新进展及试验方法选择8.1 电子显微术的新进展8.2 现代显微分析方法选择第九章高分子材料分析技术和红外与拉曼光谱简介9.1 高分子材料分析技术9.2 红外与拉曼光谱二、教学基本要求第一章X射线的性质教学要求:掌握X射线的本质;熟悉X射线的产生装置;掌握X射线谱产生的实质;了解X射线谱的实验规律;了解X射线与物质的相互作用;掌握吸收限的应用.第二章X射线运动学衍射理论教学要求:了解X射线的衍射方向,掌握布拉格衍射定律;了解衍射与反射的本质区别;理解倒易点阵在X射线衍射中的应用;掌握X射线衍射强度的含义.第三章多晶体X射线衍射分析方法教学要求:掌握X射线衍射方法;理解粉末照相法和X射线衍射仪的原理和结构;掌握初步操作设备仪器的能力.第四章X射线衍射方法的实际应用教学要求:掌握多晶体的物相分析原理;掌握PDF卡片的内容及含义;掌握物相定性分析方法;了解物相定量分析方法;注意实际分析时的难点及注意事项;了解三类应力的实质;掌握X射线应力测定的基本原理;并根据基本原理了解试验方法;明确试验精度的保证及测试原理的使用条件.第五章透射电子显微分析教学要求:了解透射电镜的结构及应用;掌握透射电镜成像原理;掌握透射电镜的复型技术和方法;简单了解电子衍射方法;能够进行薄膜样品制备;熟悉透射电镜分析方法.第六章扫描电子显微分析教学要求:了解扫描电镜的结构及应用;掌握扫描电镜成像原理;熟练掌握扫描电镜的主要性能;样品制备方法;熟悉扫描电镜分析方法;可举例说明扫描电镜在材料研究中的应用;掌握扫描电镜断口分析;熟悉波谱仪和能谱仪工作原理及应用条件;掌握电子探针分析方法及微区成分分析技术。
材料研究方法与测试技术
中国海洋大学本科生课程大纲课程属性:公共基础/通识教育/学科基础/专业知识/工作技能,课程性质:必修、选修一、课程介绍1.课程描述:材料科学涵盖了金属材料工程、冶金工程、无机非金属材料工程、高分子材料工程、材料物理和材料化学等专业,它是研究材料的组成与结构、合成与制备、性质及使用性能和测试与表征等四个基本要素及其相互关系与制约规律的一门科学。
在这其中,材料性能的测试和对其结构的表征与计算,是实现按照预定性能设计材料和制备材料的关键,《材料研究方法与测试技术》正是在这个需求的基础上开设的一门核心基础课程。
《材料研究方法与测试技术》是材料科学一门具有重要学科意义且实用性极强的核心基础课之一。
它主要涉及材料研究方法的基础理论知识和材料分析、测试的技术手段,是综合性和实践性紧密相结合的课程,是每一位学习材料的学生必须掌握的知识,在材料学科中具有无可比拟的地位。
2.设计思路:《材料研究方法与测试技术》的理论内容主要是采用课堂讲述的形式,对基本理论、仪器操作和结果分析进行有机结合,培养学生利用所学基础知识分析问题,解决问题的能力,为学生以后从事材料科学研究和工程技术工作打下坚实的理论基础,进而满足社会对于材料科学与工程人才的需求。
本课程主要介绍了光学显微分析、X射线衍射分析、电子衍射分析、电子显微分析、热分析、光谱分析、核磁共振分- 5 -析及质谱分析等分析方法以及这些方法在材料研究中的综合应用,广泛满足了材料科学与工程专业的培养需求。
《材料研究方法与测试技术》作为材料科学与工程专业的一门重要专业基础课,结合信息化时代背景下材料测试技术学科的发展,利用实践和视频教学补充理论教学的方式,提高了教学效果,并通过实验项目的设置,理论联系实际,激发学生的学习兴趣,提高学生的学习积极性,培养学生的动手能力和思考能力,满足社会对于材料科学与工程人才的需求。
3. 课程与其他课程的关系:本课程是专业必修课,讲解各类金属材料、无机非金属陶瓷材料和高分子材料常用的的分析测试方法,对材料制备、设计、加工、应用具有重要意义。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
第一章 X 射线物理学基础 1、在原子序24(Cr)到74(W)之间选择7 种元素,根据它们的特征谱波长(Kα),用图解法验证莫塞莱定律.(答案略)
2、若X 射线管的额定功率为1.5KW,在管电压为35KV 时,容许的最大电流是多少? 答:1.5KW/35KV=0。043A。 4、为使Cu 靶的Kβ线透射系数是Kα线透射系数的1/6,求滤波片的厚度。 答:因X 光管是Cu 靶,故选择Ni 为滤片材料。查表得:μ m α =49。03cm2/g,μ mβ =290cm2/g, 有公式, , ,故: ,解得:t=8。35um t
6、欲用Mo 靶X 射线管激发Cu 的荧光X 射线辐射,所需施加的最低管电压是多少?激发出的荧光辐射的波长是多少?
答:eVk=hc/λ Vk=6。626×10-34×2.998×108/(1.602×10-19×0。71×10-10)=17.46(kv) λ 0=1。24/v(nm)=1.24/17.46(nm)=0.071(nm) 其中 h为普郎克常数,其值等于6。626×10—34 e为电子电荷,等于1.602×10—19c 故需加的最低管电压应≥17.46(kv),所发射的荧光辐射波长是0。071纳米。 7、名词解释:相干散射、非相干散射、荧光辐射、吸收限、俄歇效应 答:⑴ 当χ 射线通过物质时,物质原子的电子在电磁场的作用下将产生受迫振动,受迫振动产生交变电磁场,其频率与入射线的频率相同,这种由于散射线与入射线的波长和频率一致,位相固定,在相同方向上各散射波符合相干条件,故称为相干散射。
⑵ 当χ 射线经束缚力不大的电子或自由电子散射后,可以得到波长比入射χ 射线长的χ 射线,且波长随散射方向不同而改变,这种散射现象称为非相干散射。
⑶ 一个具有足够能量的χ 射线光子从原子内部打出一个K 电子,当外层电子来填充K 空位时,将向外辐射K 系χ 射线, 这种由χ 射线光子激发原子所发生的辐射过程,称荧光辐射.或二次荧光。
⑷ 指χ 射线通过物质时光子的能量大于或等于使物质原子激发的能量,如入射光子的能量必须等于或大于将K 电子从无穷远移至K 层时所作的功W,称此时的光子波长λ 称为K 系的吸收限。
⑸原子钟一个K层电子被光量子击出后,L层中一个电子跃入K层填补空位,此时多余的能量使L层中另一个电子获得能量越出吸收体,这样一个K层空位被两个L层空位代替的过程称为俄歇效应。
第二章 X 射线衍射方向 2、下面是某立方晶第物质的几个晶面,试将它们的面间距从大到小按次序重新排列:(123),(100),(200),(311),(121), (111),(210),(220),(130),(030),(221),(110)。 答:立方晶系中三个边长度相等设为a,则晶面间距为d=a/ 则它们的面间距从大小到按次序是:(100)、(110)、(111)、(200)、(210)、(121)、(220)、(221)、(030)、(130)、(311)、(123)。
4、α-Fe 属立方晶体,点阵参数a=0。2866.如用CrKαX 射线(λ=0.2291mm)照射,试求(110)、(200)及(211)可发生衍射的掠射角。
答:立方晶系的晶面间距: = a / ,布拉格方程:2dsinθ =λ ,故掠射角θ =arcsin(λ /2 ),由以上公式得: 2d(110)sinθ 1=λ ,得θ 1=34.4°,同理θ 2=53.1°,θ 3=78.2°。
6、判别下列哪些晶面属于[111]晶带:(110),(231),(231),(211),(101),(133),(112),(132),(011),(212)。
答:(110)、(231)、(211)、(112)、(101)、(011)属于[111]晶带。因为它们符合晶带定律公式:hu+kv+lw=0
7、试计算(311)及(132)的共同晶带轴。 答:由晶带定律:hu+kv+lw=0,得:—3u+v+w=0 (1) , —u—3v+2w=0 (2) ,联立两式解得:w=2v, v=u, 化简后其晶带轴为:[112]。
第三章 X 射线衍射强度 1、用单色X 射线照射圆柱柱多晶体试样,其衍射线在空间将形成什么图案?为摄取德拜图相,应当采用什么样的底片去记录?
答:当单色X 射线照射圆柱柱多晶体试样时,衍射线将分布在一组以入射线为轴的圆锥而上。在垂直于入射线的平底片所记录到的衍射花样将为一组同心圆。此种底片仅可记录部分衍射圆锥,故通常用以试样为轴的圆筒窄条底片来记录。
2、原子散射因数的物理意义是什么?某元素的原子散射因数与其原子序数有何关系? 答:(1)原子散射因数f是一个原子中所有电子相干散射波的合成振幅与单个电子相干散射波的振幅的比值。它反映了原子将X 射线向某一个方向散射时的散射效率。
(2)原子散射因数与其原子序数有何关系,Z 越大,f 越大。因此,重原子对X 射线散射的能力比轻原子要强。
3、洛伦兹因数是表示什么对衍射强度的影响?其表达式是综合了哪几个方面考虑而得出的?
答:洛伦兹因数是表示几何条件对衍射强度的影响。洛伦兹因数综合了衍射积分强度,参加衍射的晶粒分数与单位弧长上的积分强度。
4、多重性因数的物理意义是什么?某立方第晶体,其{100}的多重性因数是多少?如该晶体转变为四方系,这个晶体的多重性因数会发生什么变化?为什么?
答:(1)表示某晶面的等同晶面的数目。多重性因数越大,该晶面参加衍射的几率越大,相应衍射强度将增加。(2)其{100}的多重性因子是6;(3)如该晶体转变为四方晶系多重性因子是4;(4)这个晶面族的多重性因子会随对称性不同而改变。 6、多晶体衍射的积分强度表示什么?今有一张用CuKα摄得的钨(体心立方)的德拜相,试计算出头4 根线的相对积分强度(不计算A(θ)和e—2M,以最强线的强度为100).头4 根线的θ值如下:
答:多晶体衍射的积分强度表示晶体结构与实验条件对衍射强度影响的总和 I = I0 λ3 32πR( e2 mc2 )2 V VC2 P|F|2φ(θ)A(θ)e−2M
即:查附录表F (p314),可知:20。20 Ir = P F 2 1+COS2θ sin2θcos θ = 14。12; 29。20 Ir = P F 2 1+COS2θ sin2 θcos θ = 6。135 ; 36.70 Ir = P F 2 1+COS2θ sin2θcos θ = 3。777 ; 43.60Ir = P F 2 1+COS2θ sin2 θcos θ = 2.911
不考虑A(θ) )、 e−2M 、 P 和|F|2 I1=100; I2=6.135/4.12=43。45; I3=3.777/14.12=26。75; I4=2.911/4。12=20.62
头4 根线的相对积分强度分别为100、43。45、26.75、20。26. 第四章 多晶体分析方法 2、同一粉末相上背射区线条与透射区线条比较起来其θ较高还是较低?相应的d较大还是较小?既然多晶粉末的晶体取向是混乱的,为何有此必然的规律.
答:背射区线条与透射区线条比较,θ较高,相应的d较小。产生衍射线必须符合布拉格方程,2dsinθ=λ,对于背射区属于2θ高角度区,根据d=λ/2sinθ, θ越大,d越小。
3、衍射仪测量在入射光束、试样形状、试样吸收以及衍射线记录等方面与德拜法有何不同? 答:(1)入射X射线的光束:都为单色的特征X射线,都有光栏调节光束。不同:衍射仪法:采用一定发散度的入射线,且聚焦半径随2θ变化;德拜法:通过进光管限制入射线的发散度。
(2)试样形状:衍射仪法为平板状,德拜法为细圆柱状。 (3)试样吸收:衍射仪法吸收时间短,德拜法吸收时间长,约为10~20h。 (4)记录方式:衍射仪法采用计数率仪作图,德拜法采用环带形底片成相,而且它们的强度(I)对(2θ)的分布(I—2θ曲线)也不同;
4、测角仪在采集衍射图时,如果试样表面转到与入射线成30°角,则计数管与入射线所成角度为多少?能产生衍射的晶面,与试样的自由表面呈何种几何关系?
答:当试样表面与入射X射线束成30°角时,计数管与入射线所成角度为60°,能产生衍射的晶面与试样的自由表面平行。
第八章 电子光学基础 1、电子波有何特征?与可见光有何异同? 答:(1)电子波与其它光一样,具有波粒二象性。(2)可见光的波长在390—760nm,在常用加速电压下,电子波的波长比可见光小5个数量级。
2、分析电磁透镜对电子波的聚焦原理,说明电磁透镜的结构对聚焦能力的影响。 答:电磁透镜的聚焦原理: 利用通电短线圈制造轴对称不均匀分布磁场,是进入磁场的平行电子束做圆锥螺旋近轴运动.
电磁透镜的励磁安匝数越大,电子束偏转越大,焦距越短. 3、电磁透镜的像差是怎样产生的?如何来消除和减少像差? 答:电磁透镜的像差包括球差、像散和色差。 (1)球差即球面像差,是磁透镜中心区和边沿区对电子的折射能力不同引起的,增大透镜的激磁电流可减小球差。
(2)像散是由于电磁透镜的轴向磁场不对称旋转引起。可以通过引入一强度和方位都可以调节的矫正磁场来进行补偿
(3)色差是电子波的波长或能量发生一定幅度的改变而造成的。稳定加速电压和透镜电流可减小色差。
4、说明影响光学显微镜和电磁透镜分辨率的关键因素是什么?如何提高电磁透镜的分辨率? 答:(1)光学显微镜分辨本领主要取决于照明源的波长;衍射效应和像差对电磁透镜的分辨率都有影响。
(2)使波长减小,可降低衍射效应。考虑与衍射的综合作用,取用最佳的孔径半角。 5、电磁透镜景深和焦长主要受哪些因素影响?说明电磁透镜的景深大、焦长长,是什么因素影响的结果?假设电磁透镜没有像差,也没有衍射埃利斑,即分辨率极高,此时它们的景深和焦长如何?
答:(1)电磁透镜景深为Df=2Δr0/tanα,受透镜分辨率和孔径半角的影响。分辨率低,景深越大;孔径半角越小,景深越大。
焦长为DL=2Δr0αM2/,M为透镜放大倍数。焦长受分辨率、孔径半角、放大倍数的影响.当放大倍数一定时,孔径半角越小焦长越长.
(2)透镜景深大,焦长长,则一定是孔径半角小,分辨率低。(3)当分辨率极高时,景深和焦长都变小。
第九章 透射电子显微镜 1、透射电镜主要由几大系统构成?各系统之间关系如何? 答:(1)由三大系统构成,分别为电子光学系统、电源与控制系统和真空系统. (2)电子光学系统是透射电镜的核心,为电镜提供射线源,保证成像和完成观察记录任务。供电系统主要用于提供电子枪加速电子用的小电流高压电源和透镜激磁用的大电流低压电源。真空系统是为了保证光学系统时为真空,防止样品在观察时遭到污染,使观察像清晰准确.电子光学系统的工作过程要求在真空条件下进行。