半导体材料行业投资机会与技术壁垒分析

半导体材料行业投资机会与技术壁垒分析
半导体材料行业投资机会与技术壁垒分析

实验讲义-半导体材料吸收光谱测试分析2015

半导体材料吸收光谱测试分析 一、实验目的 1.掌握半导体材料的能带结构与特点、半导体材料禁带宽度的测量原理与方法。 2.掌握紫外可见分光光度计的构造、使用方法和光吸收定律。 二、实验仪器及材料 紫外可见分光光度计及其消耗品如氘灯、钨灯,玻璃基ZnO薄膜。 三、实验原理 1.紫外可见分光光度计的构造、光吸收定律 (1)仪器构造:光源、单色器、吸收池、检测器、显示记录系统。 a.光源:钨灯或卤钨灯——可见光源,350~1000nm;氢灯或氘灯——紫外光源,200~360nm。 b.单色器:包括狭缝、准直镜、色散元件 色散元件:棱镜——对不同波长的光折射率不同分出光波长不等距; 光栅——衍射和干涉分出光波长等距。 c.吸收池:玻璃——能吸收UV光,仅适用于可见光区;石英——不能吸收紫外光,适用于紫外和可见光区。 要求:匹配性(对光的吸收和反射应一致) d.检测器:将光信号转变为电信号的装置。如:光电池、光电管(红敏和蓝敏)、光电倍增管、二极管阵列检测器。 紫外可见分光光度计的工作流程如下: 0.575 光源单色器吸收池检测器显示双光束紫外可见分光光度计则为: 双光束紫外可见分光光度计的光路图如下:

(2)光吸收定律 单色光垂直入射到半导体表面时,进入到半导体内的光强遵照吸收定律: x x e I I?- =α d t e I I?- =α 0(1) I0:入射光强;I x:透过厚度x的光强;I t:透过膜薄的光强;α:材料吸收系数,与材料、入射光波长等因素有关。 透射率T为: d e I I T?- = =α t (2) 则 d e T d? = =?α α ln ) /1 ln( 透射光I t

论国际贸易的技术壁垒

论国际贸易的技术壁垒 发表时间:2009-12-08T14:20:09.450Z 来源:《中外企业家》2009年第7期下供稿作者:付树农徐小娟 [导读] 为了保护本国企业的利益,各国设置国际贸易障碍和壁垒,阻碍了世界贸易的发展 付树农,徐小娟(东华理工大学经济与管理学院,江西抚州 34000) 摘要:近年来,在全球贸易自由化浪潮的冲击下,传统的非关税壁垒明显减少,高技术标准的措施被更多地用来抵制外国商品的进口。目前,国际贸易中盛行的“技术壁垒”,正是一些发达国家以保护动植物和人类健康安全为理由,而施行的贸易保护主义的新工具。 关键词:技术壁垒;影响;对策 中图分类号:F74 文献标志码:A 文章编号:1000-8772(2009)14-0105-01 为了保护本国企业的利益,各国设置国际贸易障碍和壁垒,阻碍了世界贸易的发展。经济界为了避免全球贸易战的发生,共同签订了世界贸易组织贸易技术壁垒协定(WTO/TBT),为各国开展贸易活动规定了在技术规则方面必须遵守的准则。 一、技术壁垒 1.技术壁垒的定义。技术性贸易壁垒是指一国以维护国家安全、保障人类健康和安全、保护生态环境、防止欺诈行为、保证产品质量为由,采取一些强制性或非强制性的技术措施。 2.技术壁垒的主要形式。TBT的实施手段和形式主要有:制定苛刻的技术标准、法规;制定苛刻的安全、环保标准;采取过于苛刻的卫生标准。 二、技术壁垒对我国对外贸易的影响 1.我国出口受限。目前,我国出口市场主要是美国、日本、欧盟及东盟、韩国等发达国家和新兴工业化国家,出口额占我国出口总额的80%左右,这些国家为保护本国市场,肆意推进技术壁垒,提高产品的技术标准,限制我国的产品出口。 2.出口产品成本增加。由于科技水平的限制,作为发展中国家的我国在技术法规、技术标准、认证制度及检验制度等的制订水平和内容方面与发达国家相距甚远,同一种产品为适应不同的市场,需要经过重复的认证及检验,而高额的检验费用也势必会大大提高出口产品的生产成本。此外,各种中间费用及附加费用的增多,使我国出口产品的生产成本进一步提高,企业的经济效益也将因此受到影响。 3.我国产品的国际竞争力下降。首先,在技术标准上,由于我国的标准内容、体制还存在一定缺陷,以致出口产品难以在短期内达到发达国家的进口产品的技术质量标准。并且,我国的包装材料落后,不易处理,对环境的污染严重。其次,我国出口产品主要集中于纺织、轻工、农副等劳动密集型产品,由于生产条件较差,技术水平落后,致使出口产品质量不高。另外,与发达国家相比,我国对企业出口产品还缺乏完整的检测体系,检测水平不高,使得许多产品达不到国际统一标准,竞争力较低。 三、我国应对技术壁垒的对策 1.普及国际标准,加强信息交流。我国应加强标准、检验等方面的国际互认工作,推广国际标准和技术引进工作,广泛收集、分析有关国际标准和国外先进标准,以加快采用国际标准和国外先进标准的步伐。同时,建设高质量的相关标准信息资源,组织专门的人力、物力研究对外贸易技术贸易壁垒体系,及时收集、整理、跟踪国外的技术贸易壁垒状况,针对性地开展相关技术壁垒和市场准入规则的研究,及时采取积极防御措施,扩大出口。 2.建立统一规范的认证体系。建立统一规范的产品认证标准,可以借鉴美国、欧盟等发达国家和地区建立产品认证的做法,建立具有中国特色的认证认可体系,提高产品认证的有效性;建立与国际权威认证机构协调的认证机制,在建立和完善认证机制的同时,加强对认证机构的监督管理,提高认证机构的国际地位。 3.健全技术法规体系。逐步完善各项技术法规,以预防为主,强化监督管理,构建既符合国际惯例,又能充分反映我国实际和发展需要的技术法律法规体系,促使我国企业对技术壁垒的认识,改进产品,适应各种先进标准,以通过国际标准与质量认证,主动攻破国际贸易中的“技术壁垒”。另外,应针对WTO的新情况,借鉴国际成功经验,根据我国国情,填补现有技术和法律、法规体系的缺陷,建立健全技术法规与标准体系。 参考文献: [1] 余劲松,吴志攀.国际经济法[M].北京:北京大学出版社,2000. [2] 范开石.WTO与国际贸易惯例实用手册[M].北京:对外经济贸易大学出版社,2002. 作者简介:付树农(1968-),女,副教授,主要从事国际贸易研究;徐小娟(1977-),女,江西抚州人,助教,主要从事国际贸易研究。

8、半导体材料吸收光谱测试分析

半导体材料吸收光谱测试分析 一、实验目的 1.掌握半导体材料的能带结构与特点、半导体材料禁带宽度的测量原理与方法。 2.掌握紫外可见分光光度计的构造、使用方法和光吸收定律。 二、实验仪器及材料 紫外可见分光光度计及其消耗品如氘灯、钨灯、绘图打印机,玻璃基ZnO 薄膜。 三、实验原理 1.紫外可见分光光度计的构造、光吸收定律 UV762双光束紫外可见分光光度计外观图: (1)仪器构造:光源、单色器、吸收池、检测器、显示记录系统。 a .光源:钨灯或卤钨灯——可见光源,350~1000nm ;氢灯或氘灯——紫外光源,200~360nm 。 b .单色器:包括狭缝、准直镜、色散元件 色散元件:棱镜——对不同波长的光折射率不同分出光波长不等距; 光栅——衍射和干涉分出光波长等距。 c .吸收池:玻璃——能吸收UV 光,仅适用于可见光区;石英——不能吸收紫外光,适用于紫外和可见光区。 要求:匹配性(对光的吸收和反射应一致) d .检测器:将光信号转变为电信号的装置。如:光电池、光电管(红敏和蓝敏)、光电倍增管、二极管阵列检测器。 紫外可见分光光度计的工作流程如下: 光源 单色器 吸收池 检测器 显示 双光束紫外可见分光光度计则为:

双光束紫外可见分光光度计的光路图如下: (2)光吸收定律 单色光垂直入射到半导体表面时,进入到半导体内的光强遵照吸收定律: x x e I I ?-=α0 d t e I I ?-=α0 (1) I 0:入射光强;I x :透过厚度x 的光强;I t :透过膜薄的光强;α:材料吸收系数,与材料、入射光波长等因素有关。 透射率T 为: d e I I T ?-==α0 t (2)

高分子材料典型力学性能测试实验

《高分子材料典型力学性能测试实验》实验报告 学号姓名专业班级 实验地点指导教师实验时间 在这一实验中将选取两种典型的高分子材料力学测试实验,即拉伸实验及冲 击试验作为介绍。 实验一:高分子材料拉伸实验 一、实验目的 (1)熟悉高分子材料拉伸性能测试标准条件、测试原理及其操作,了解测 试条件对测定结果的影响。 (2)通过应力—应变曲线,判断不同高分子材料的性能特征。 二、实验原理 在规定的实验温度、湿度和实验速率下,在标准试样(通常为哑铃形)的 两端沿轴向施加载荷直至拉断为止。拉伸强度定义为断裂前试样承受最大载荷与试样的宽度和厚度的乘积的比值。实验不仅可以测得拉伸强度,同时可得到断裂伸长率和拉伸模量。 玻璃态聚合物在拉伸时典型的应力-应变曲线如下:

是在较低温度下出现的不均匀拉伸,所以又称为冷拉。 将试样夹持在专用夹具上,对试样施加静态拉伸负荷,通过压力传感器、 形变测量装置以及计算机处理,测绘出试样在拉伸变形过程中的拉伸应力—应变曲线,计算出曲线上的特征点如试样直至断裂为止所承受的最大拉伸应力(拉伸强度)、试样断裂时的拉伸应力(拉伸断裂应力)、在拉伸应力-应变曲线上屈服 点处的应力(拉伸屈服应力)和试样断裂时标线间距离的增加量与初始标距之比(断裂伸长率,以百分数表示)。所涉及的相关计算公式: (1)拉伸强度或拉伸断裂应力或拉伸屈服应力或偏置屈服应力σt σt 按式(1)计算: (1) 式中σt—抗拉伸强度或拉伸断裂应力或拉伸屈服应力或偏置屈服应力,MPa; p—最大负荷或断裂负荷或屈服负荷或偏置屈服负荷,N; b—实验宽度,mm;d—试样厚度,mm。 (2)断裂伸长率εt εt 按式(2)计算: 式中εt——断裂伸长率,%;

物理冶金法多晶硅的成本分析与技术壁垒

陈朝**,罗学涛 Chen Chao , Luo Xuetao (厦门大学物理系、材料系,Xiamen University) **E-mail :cchen@https://www.360docs.net/doc/ca4269917.html, ____________________________ *获福建省重大专项/专题(2007ZH0005-2)资助

?一、光伏产业的关键在于降低成本?二、物理冶金法简介 ?三、物理冶金法的成本分析 ?四、物理冶金法的技术壁垒 ?五、当前物理冶金法多晶硅的质量?六、对发展我国物理冶金法的建议

一、光伏产业的关键 在于降低成本 Key problem is reduce cost for PV domain.

?Lack of energy sources,serious pollution in the World,

?光伏发电的优点: 清洁,无机械运动,无污染,轻便,有阳光处就可用,能量回收期短,长寿命。 ?光伏发电的各种应用: (1)并网发电:小电站,屋顶工程; (2)离网发电:移动通讯电源、手机直放站电源 PV-LED(光伏-发光二极管)系统: 电压、电流、功率、直流、安全等方面两者匹配最好!(庭园灯、夜景灯、路灯、交通指挥系统、灯塔、长久广告牌、夜景工程、照明等)可能成为光伏应用的亮点。(3)建筑一体化

?光伏发电一次性投入高,但使用寿命长(10~20年)电池:3-4$/Wp;模组:比电池高0.65$/Wp 光伏电价约是风力电价3倍,常规电价的9倍。 ?发展光伏产业的关键: 除了各国政府推出鼓励性政策外, 须大大降低原料成本(约占60%)和电池制备成本!?如果太阳电池成本降低到~1$/Wp, 则可风力发电相当,光伏产业就不需要政府的优惠政策而进入市场。?如果太阳电池成本降低到~0.3$/Wp, 则可火力发电相当,光伏发电就可进入千家万户。 ?所以,在保证质量的前提下,低成本是光伏产业发展的必经之路!

半导体材料能带测试及计算

半导体材料能带测试及计算 对于半导体,是指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料,其具有一定的带隙(E g)。通常对半导体材料而言,采用合适的光激发能够激发价带(VB)的电子激发到导带(CB),产生电子与空穴对。 图1. 半导体的带隙结构示意图。 在研究中,结构决定性能,对半导体的能带结构测试十分关键。通过对半导体的结构进行表征,可以通过其电子能带结构对其光电性能进行解析。对于半导体的能带结构进行测试及分析,通常应用的方法有以下几种(如图2): 1.紫外可见漫反射测试及计算带隙E g; 2.VB XPS测得价带位置(E v); 3.SRPES测得E f、E v以及缺陷态位置; 4.通过测试Mott-Schottky曲线得到平带电势; 5.通过电负性计算得到能带位置. 图2. 半导体的带隙结构常见测试方式。 1.紫外可见漫反射测试及计算带隙 紫外可见漫反射测试 2.制样:

背景测试制样:往图3左图所示的样品槽中加入适量的BaSO4粉末(由于BaSO4粉末几乎对光没有吸收,可做背景测试),然后用盖玻片将BaSO4粉末压实,使得BaSO4粉末填充整个样品槽,并压成一个平面,不能有凸出和凹陷,否者会影响测试结果。 样品测试制样:若样品较多足以填充样品槽,可以直接将样品填充样品槽并用盖玻片压平;若样品测试不够填充样品槽,可与BaSO4粉末混合,制成一系列等质量分数的样品,填充样品槽并用盖玻片压平。 图3. 紫外可见漫反射测试中的制样过程图。 1.测试: 用积分球进行测试紫外可见漫反射(UV-Vis DRS),采用背景测试样(BaSO4粉末)测试背景基线(选择R%模式),以其为background测试基线,然后将样品放入到样品卡槽中进行测试,得到紫外可见漫反射光谱。测试完一个样品后,重新制样,继续进行测试。 ?测试数据处理 数据的处理主要有两种方法:截线法和Tauc plot法。截线法的基本原理是认为半导体的带边波长(λg)决定于禁带宽度E g。两者之间存在E g(eV)=hc/λg=1240/λg(nm)的数量关系,可以通过求取λg来得到E g。由于目前很少用到这种方法,故不做详细介绍,以下主要来介绍Tauc plot法。 具体操作: 1、一般通过UV-Vis DRS测试可以得到样品在不同波长下的吸收,如图4所示; 图4. 紫外可见漫反射图。

2020年半导体材料行业分析报告

2020年半导体材料行业分析报告 2020年12月

目录 一、半导体硅片规模持续扩大,国内企业加速追赶 (6) 1、半导体硅片市场规模持续扩大 (6) (1)半导体硅片处于产业链上游,发挥着重要的行业基础支撑作用 (6) (2)全球半导体硅片小幅波动,近来行业回暖后趋向稳态 (8) (3)受益下游应用需求拉动,中国半导体硅片行业市场规模持续扩大 (8) 2、境外企业垄断,国内企业加快追赶世界水平 (9) (1)半导体硅片行业壁垒高,长期被境外先进企业垄断 (9) (2)国内企业加大研发与投资,努力追赶世界先进水平 (10) 3、受益企业:立昂微 (10) 二、湿电子化学品集中度高,替代空间较大 (11) 1、湿电子化学品市场发展迅速,集中度较高 (11) 2、受益企业:晶瑞股份 (14) 三、特种气体国内空间巨大,国产替代大势所趋 (14) 1、特种气体市场增长迅速 (14) (1)半导体领域对特种气体的需求最大 (15) (2)电子气体分为电子特种气体和电子大宗气体 (16) (3)全球工业气体市场近年来呈现稳步增长的态势 (17) (4)我国人均工业用气水平较低,预计未来仍将保持两位数以上增长 (17) (5)特种气体市场规模发展迅速,预计未来仍将高速增长,空间广阔 (18) (6)电子气体是仅次于大硅片的第二大市场需求半导体材料 (19) (7)下游产业技术快速更迭,对特种气体产品技术要求持续提高 (19) 2、市场集中度较高,寡头垄断明显 (20) (1)特种气体市场具有较高的技术、客户认证、资金壁垒 (20) (2)较高的壁垒导致全球竞争格局高度集中 (21)

技术壁垒对我国对外贸易的影响及对策分析

毕业论文 题目技术壁垒对我国对外贸易的影响及对策分析 姓名 系别 专业 学号 指导教师 日期年月日

1 技术性贸易壁垒的概念、内容及特点 所谓技术贸易壁垒,是指一国或一个区域组织以维护国家安全或区域基本安全,保障人类健康和安全,保护动植物的生命和健康,保护生态环境,防止欺诈行为,保证产品质量为由而采取的一些强制性或非强制性的技术性措施,这些措施对其他国家或区域组织的商品、服务和投资进入该国或该区域市场产生影响。TBT有广义和狭义之分:狭义的TBT主要是指WTO《TBT协议》规定的技术法规、标准和合格评定程序。广义的TBT还包括动植物及其产品的检验和检疫标准(SPS)及其它任何对贸易产生影响的技术性措施。归纳起来,TBT具有以下特点。 1. 广泛性从TBT所涉及到的产品来看,不但包括初级产品,而且涉及所有的中间产品和工业制成品。从TBT影响的过程上看,涵盖了生产、加工、包装、运输和消费整个产品的生命周期;从TBT所涉及的领域上看,已从有形商品扩展到金融、信息等服务贸易及环境保护等各个领域。贸易技术壁垒措施的表现形式极具广泛性,涉及法律、法令、规定等各个方面。 2 隐蔽性它不像关税壁垒那样,有一个量化指标,也不同于进口配额、许可证,有直接的数量限制。贸易技术壁垒往往隐蔽在保护消费者利益、环保等合法外衣之下,甚至利用名义上的合理性和形式上的合法性,掩盖其实施贸易壁垒的真实意图。 3 复

杂、灵活贸易技术壁垒因其涉及的技术和适用X围的广泛性,使其比配额、许可证等其他非关税壁垒形式更为复杂。一方面由于科技的进步和管理的改进,各国所制定的标准愈加精细。另一方面,发达国家为了限制外国商品的进口,在技术规定和标准设计上费尽了心机,不断地变化花样。 4 争议性强 贸易技术壁垒之所以争议性强,出于两方面的原因:一方面,各国在维护人类健康、安全及生活环境等方面存在着不同的价值观;另一方面,各国的工业化程度和科技发展水平也存在着差异,因而各国制定的技术法规和标准也不尽相同,在对外贸易中各国都坚持自己的技术标准和法规,结果不同国家间难以协调,容易引起争议。 2 技术性贸易壁垒对我国对外贸易的影响 技术性贸易壁垒其实具有两面性:一方面它是社会发展到一定阶段的产物,具有一定的合理性;另一方面,它又成为贸易保护主义的借口,充当了贸易壁垒。 1 技术性贸易壁垒的积极影响(1)阻止境外产品可能对境内相关产业造成的冲击。在完全竞争条件下,一国如缺乏相应的贸易壁垒措施,境外产品的大量进入势必对境内相关产业形成冲击,致使市场均衡被破坏,即外部因素致使国内产品销售价格下跌,整个市场平均利润下降,部分企业因市场环境的不断恶化而被迫退出市场,从而形成对境内相关产业的损坏,严重的情况下,还会对经济和产业结构形

贸易技术壁垒案例介绍60例

贸易技术壁垒案例介绍60例 上海市标准化协会WTO/TBT咨询中心 编者按在世界经济一体化进程的加快,以及国际贸易自由化程度进一步提高的同时,贸易技术壁垒也已成为重要发达国家保护本国产业和市场、排斥外国产品的重要手段,成为当今贸易保护主义的重要工具。从下面介绍的60个案例中,我们可以发现,贸易技术壁垒具有针对性、隐蔽性、可操作性和限制性极强等特点,它已成为我国出口贸易发展的最大障碍,中国即将加入世界贸易组织,融入世界经济的大家庭,我们应充分认识和了解其他国家的贸易技术壁垒,认真研究,积极采取措施,以突破国外的技术壁垒。 一、法规壁垒案例 1.美国的肉类批发法规定,凡进口肉类必须符合美国标准,这是对向美国出口肉类的国家的一项技术壁垒。美国进口牛肉,每当进口量超过本国产量的7%时,美国牛肉商就要求政府实行保护。1970年10月,美国曾以所谓卫生标准不符合要求为借口,限制了从澳大利亚进口牛肉。 2.由于欧盟未执行世贸组织关于反对欧盟禁止进口经激素处理牛肉的裁决,且实施这项禁令达10年,世贸组织于1999年7月裁定,美国和加拿大可分别获1.168亿美元和1130万加元的损害赔偿。美国宣布,从1999年7月29日起对价值1.168美元的欧盟出口商品征收100%的惩罚性关税。这些商品包括丹麦火腿、法国馅饼、意大利蕃茄和德国肉汤等。 3.1990年美国禁止进口墨西哥的金枪鱼及其制品,其理由是认为其在东太平洋地区没有按照美国的法律规定捕捞金枪鱼,而是采用拖拉大围网捕捞,结果捕获珍贵动物海豚的数量超过美国船只的1.25倍。 4.1999年,由于发现WIN98操作系统会根据计算机硬件配置情况,生成一串与用户、地址相关的全球唯一的识别码,通过WIN98的注册程序自动传送到微软网站上;即使用户指明不要这样做,注册程序还是会在用户不知晓的情况下悄悄发送这些信息;IntelⅢ的电脑会在人们不知不觉中通过互联网把该机型号、所在位置、机主等基本信息反馈到Intel公司的未用数据库中。为此许多国家政府规定政府上网机不准使用配置WIN98或IntelⅢ芯片的电脑。这使微软和Intel公司失去一大批用户。 5.日本从1990年开始研制高清晰度电视(HDTV)技术,采用1125行、每秒60帧的MUSE制式,于1990年11月正式播放。由于信息量(图像为模拟、伴音为数字)激增,必须在比现在TV宽得多的频带中传送,因此不得不通过卫星播送,且和现有的电视机和电视节目不兼容。 欧盟于1986年开始研制HDTV,采用1250行、每秒50帧的HD-MAC体制。欧盟的HDTV也要通过卫星播送,但它还附加了一个转换器,因而普通电视机也能接收HDTV节目。为了排斥日本成熟的HDTV技术,欧盟规定:①欧洲卫星不得转播非MAC制式的电视节目;②大屏幕电视机必须配装HDTV转换器。 美国从1998年开始研制HDTV技术。研制一开始就充分应用数字压缩技术,较好地解决了利用现有的TV设施传送和播送问题。为此美国联邦通信委员会(ECC)规定:①美国的HDTV应当既能用卫星,又能利用现有的地方广播电视设施播送;②美国的HDTV必须与现有的普通电视机和电视节目兼容。这两条"合理"的规定,一举把日本和欧盟的HDTV 技术排斥在美国市场外。 6.日本规定微型计算机的操作系统必须用日语编程。这样,成功地把美国的微机阻挡在日本市场之外,从而保障了日本微机工业的高速发展。 7.1999年,法国政府为了防止英国疯牛病牛肉流入法国,规定来自英国的牛肉必须标贴"英国制造"标识。

材料测试与分析总复习

XRD复习重点 1.X射线的产生及其分类 2.X射线粉晶衍射中靶材的选取 3.布拉格公式 4.PDF卡片 5.X射线粉晶衍射谱图 6.X射线粉晶衍射的应用 电子衍射及透射电镜、扫描电镜和电子探针分析复习提纲 透射电镜分析部分: 4.TEM的主要结构,按从上到下列出主要部件 1)电子光学系统——照明系统、图像系统、图像观察和记录系统;2)真空系统; 3)电源和控制系统。电子枪、第一聚光镜、第二聚光镜、聚光镜光阑、样品台、物镜光阑、物镜、选区光阑、中间镜、投影镜、双目光学显微镜、观察窗口、荧光屏、照相室。 5. TEM和光学显微镜有何不同? 光学显微镜用光束照明,简单直观,分辨本领低(0.2微米),只能观察表面形貌,不能做微区成分分析;TEM分辨本领高(1A)可把形貌观察,结构分析和成分分析结合起来,可以观察表面和内部结构,但仪器贵,不直观,分析困难,操作复杂,样品制备复杂。 6.几何像差和色差产生原因,消除办法。 球差即球面像差,是由于电磁透镜的中心区域和边缘区域对电子的折射能力不符合预定的规律而造成的。减小球差可以通过减小CS值和缩小孔径角来实现。 色差是由于入射电子波长(或能量)的非单一性造成的。采取稳定加速电压的方法可以有效的减小色差;适当调配透镜极性;卡斯汀速度过滤器。 7.TEM分析有那些制样方法?适合分析哪类样品?各有什么特点和用途? 制样方法:化学减薄、电解双喷、竭力、超薄切片、粉碎研磨、聚焦离子束、机械减薄、离子减薄; TEM样品类型:块状,用于普通微结构研究; 平面,用于薄膜和表面附近微结构研究; 横截面样面,均匀薄膜和界面的微结构研究; 小块粉末,粉末,纤维,纳米量级的材料。 二级复型法:研究金属材料的微观形态; 一级萃取复型:指制成的试样中包含着一部分金属或第二相实体,对它们可以直接作形态检验和晶体结构分析,其余部分则仍按浮雕方法间接地观察形态; 金属薄膜试样:电子束透明的金属薄膜,直接进行形态观察和晶体结构分析; 粉末试样:分散粉末法,胶粉混合法 思考题: 1.一电子管,由灯丝发出电子,一负偏压加在栅极收集电子,之后由阳极加速,回答由灯丝到栅极、由栅极到阳极电子的折向及受力方向? 2.为什么高分辨电镜要使用比普通电镜更短的短磁透镜作物镜? 高分辨电镜要比普通电镜的放大倍数高。为了提高放大倍数,需要短焦距的强磁透镜。透镜的光焦度1/f与磁场强度成H2正比。较短的f可以提高NA,使极限分辨率更小。 3.为什么选区光栏放在“象平面”上? 电子束之照射到待研究的视场内;防止光阑受到污染;将选区光阑位于向平面的附近,通过

半导体材料行业全景分析(1)--市场空间

半导体材料投资地图 光刻胶湿制程化学品 硅片靶材CMP抛光材料电子特气光掩膜113.8亿美元13.7亿美元20.1亿美元17.3亿美元16.1亿美元42.7亿美元40.4亿美元

沪硅产业硅片沪硅产业是中国大陆规模最大的半导体硅片企业之一,在中国大陆率先实现300mm半导体硅片规模化销售。主要产品为提供的产品类型涵盖300mm抛光片及外延片、200mm及以下抛光片、外延片及SOI硅片,在特殊硅基材料SOI硅片领域具有较强的竞争力。客户包括台积电、中芯国际、华虹宏力、华力微电子、长江存储、武汉新芯、华润微等。 半导体材料投资地图 CMP抛光材料鼎龙股份是国产CMP抛光垫领域的龙头企业,主要产品包括用于半导体晶圆的打磨和抛光过程的化学机械CMP抛光垫、清洗液和用于柔性面板显示产业的基材PI浆料,以及打印复印通用耗材,产品销往欧美、日韩、东南亚市场,拥有包括众多世界五百强在内的国内外知名大企业。公司2019年CMP材料客户拓展顺利,未来有望带来业绩增量。 鼎龙股份 安集科技CMP抛光材料安集科技主营产品为抛光液和光刻胶去除剂,客户包括中国大陆的中芯国际、长江存储、华虹宏力、华润微电子和中国台湾的台积电等。公司光刻胶去除剂具有国内领先技术水平;机械抛光液已在130-28nm技术节点实现规模化销售,14nm技术节点产品已进入客户认证阶段,10-7nm技术节点产品正在研发中。 靶材有研新材是国内规模最大、材料种类最齐全的高端电子信息用材料研发制造商,其核心业务为高纯金属材料/靶材业务和稀土业务,产品广泛应用于半导体、平板显示、太阳能等领域。公司技术实力雄厚,在高纯金属材料领域,已实现从高纯金属材料到靶材生产的一体化模式,靶材客户覆盖中芯国际、大连Intel、TSMC、UMC、北方华创等多家高端客户。 有研新材 江丰电子靶材主要产品为各种高纯溅射靶材,包括铝靶、钛靶、钽靶、钨钛靶等,产品广泛应用于半导体、平板显示、太阳能等领域。目前,公司的超高纯金属溅射靶材产品在全球先端7nm FinFET(FF+)技术超大规模集成电路制造领域批量应用,成功参与电子材料领域的国际市场竞争。 公司主要从事掩膜版的研发、设计、生产和销售业务,产品根据基板材质的不同主要可分为石英掩膜版、

贸易技术壁垒案例分析非关税壁垒案例

贸易技术壁垒案例分析非关税壁垒案例贸易技术壁垒案例分析非关税壁垒案 例 话题:非关税壁垒案例案例分析企业 贸易技术壁垒案例分析刘荣娟2011-4-4贸易壁垒种类和内容1关税壁垒一一通过制定各种关税措施来限制进出口的方法。2非关税壁垒一一是指以关税以外的招限制进口的措施。A、技术壁垒一一如规定产品标准;产品试验、检验标准;卫生检疫规定;商品包装和标签规定。B、绿色壁垒一一与环境保护、生态平衡有关的非关税壁垒。C、配额和许可证*进口配额制:一国政府在一定时期内对某些商品的进口数量或金额加以直接的限制,可分为绝对配额和关税配额。自动”出口配额制:出口国家或地区"自动”规定某一时期内,某些商品在限定的配额内出口,超过限额即不准出口。*进口许可证制:进口国家规定某些商品必须事先领取许可证才可进口。D、外汇管制:一国政府通过法令对国际结算和外汇买卖实行限制,以平衡国际收支和维持本国货币汇价。E、进口最低限价:一国政府规定某种进口商品的最低 价格,凡进口货价低于此则征收进口附加税或禁止进口。Print贸易技术壁垒贸易技术壁垒:以国家或地区的技术法规、协议、标准和认证体系(合格评定程序)等形式出现,涉及的内容广泛,含盖科学技术、卫生、检疫、安全、环保、产品质量和认证等诸多技术性指标体系,运用于国际贸易当中,呈现出灵活多变、名LI繁多的规定。(各国制定不同的产品技术标准、不同的产品认证程序,这对于产品由一国进入另一国形成了阻碍,特别是技术发展水平高的发达国家制定的技术标准较高,必然会阻碍技术发展水平低的发展中国家的产品进入,这样就形成了贸易技术壁垒。更有一些国家对本国产品和进口产品规定不同的检验标准,釆取歧视进口产品的政策,这也是贸易技术壁垒。)案例【案情】浙江一家专门从事女装出口的制衣公司将一批成衣按订单要求发往

2016年半导体封装专用材料键合丝行业分析报告

2016年半导体封装专用材料键合丝行业分析报告 2016年9月

目录 一、行业市场规模 (5) 1、半导体行业整体市场规模 (5) (1)全球半导体行业市场规模 (5) (2)国内半导体行业市场规模 (6) 2、键合丝行业市场规模 (6) 二、行业发展趋势 (7) 1、半导体行业发展趋势 (7) (1)新材料、新技术不断发展和应用 (7) (2)半导体进入库存周期时代,随着去库存结束,最坏的时候已经过去 (7) (3)国内封装业者加速全球化趋势 (8) 2、键合丝行业发展趋势 (8) (1)新材料开发 (8) 三、行业监管体系与相关法规政策 (10) 1、行业监管体制 (10) (1)行业主管部门、监管体制 (10) (2)自律管理机构 (10) 2、相关法规及行业政策 (11) 四、影响行业发展的因素 (14) 1、有利因素 (14) (1)下游产业发展提升市场需求 (14) (2)国家政策的有力支持 (15) 2、不利因素 (15) (1)贸易保护主义的限制 (15) (2)人才短缺 (16) (3)价格竞争 (16) 五、行业主要企业简况 (17)

1、田中电子(杭州)有限公司 (17) 2、贺利氏招远(常熟)电子材料有限公司 (17) 3、杭州日茂新材料有限公司 (17) 六、行业上下游的关系 (18) 1、与上游行业的关系 (18) 2、与下游行业的关系 (18) 七、进入本行业的主要壁垒 (19) 1、技术和研发壁垒 (19) 2、品牌和资格认证壁垒 (19) 3、资金壁垒 (19)

半导体封装用键合丝(bonding wire in semiconductor devices)作为芯片与外部电路主要的连接材料,具有良好的力学性能、电学性能和第二焊点稳定性,广泛替代键合金丝应用于微电子工业。键合丝主要应用于晶体管、集成电路等半导体器件和微电子封装的电极部位或芯片与外部引线的连接。 随着集成电路的发展,先进封装技术不断发展变化以适应各种半导体新工艺和新材料的要求和挑战。半导体封装内部芯片和外部管脚以及芯片之间的连接起着确立芯片和外部的电气连接、确保芯片和外界之间的输入/输出畅通的重要作用,是整个后道封装过程中的关键。引线键合以工艺实现简单、成本低廉、使用多种封装形式而在连接方式中占主导地位,目前所有封装管脚的90%以上采用引线键合连接。在全球范围内,从50年代开始发展了引线键合技术,六七十年代以来发展了载带自动键合、倒装焊以及梁式引线等连接技术。未来半导体键合内引线连接的主要方式仍将是引线键合和倒装焊两类连接。 电子产品向微型化、薄型化、智能化和高可靠性方向发展,为人们的生产和生活带来了极大的便利。为了适应电子产品多功能、小型化、便携性等需要,新的封装技术不断涌现。新的封装技术也对键合丝性能提出了更高的要求,促使新的键合材料产生,而新的键合材料的产生又推动了封装技术的进步,两者相辅相成、互相促进,推动了整个半导体封装行业的发展。

技术性贸易壁垒TBT及案例汇总

技术性贸易壁垒目录: 一、定义 二、壁垒形式 三、原因 四、我国受国外技术壁垒影响现状 五、对策 附录:案例

一、定义 1、技术性贸易壁垒是国际贸易中商品进出口国在实施贸易进口管制时通过颁布法律、法令、条例、规定,建立技术标准、认证制度、检验制度等方式,对外国进出口产品制定过分严格的技术标准,卫生检疫标准,商品包装和标签标准,从而提高进口产品的技术要求,增加进口难度,最终达到限制进口的目的的一种非关税壁垒措施。 2、它是目前各国,尤其是发达国家人为设置贸易壁垒,推行贸易保护主义的最有效手段。 3、WTO关于技术性贸易壁垒的文件有两个,分别是 “技术性贸易壁垒协定”(TBT协定)和“实施卫生与动 植物卫生措施协定”(SPS协定),于1995年1月1日WTO 正式成立起开始执行。 二、壁垒形式 1、严格繁杂的技术法规和技术标准 利用技术标准作为贸易壁垒具有非对等性和隐蔽性。在国际贸易中,发达国家常常是国际标准的制定者。他们凭借着在世界贸易中的主导地位和技术优势,率先制定游戏规则,强制推行根据其技术水平定出的技术标准,使广大经济落后国家的出口厂商望尘莫及。而且这些技术标 准、技术法规常常变化,有的地方政府还有自己的 特殊规定,使发展中国家的厂商要么无从知晓、无 所适从,要么为了迎合其标准付出较高的成本,削 弱产品的竞争力。 2、复杂的合格评定程序 在贸易自由化渐成潮流的形势下,质量认证和 合格评定对于出口竞争能力的提高和进口市场的

保护作用愈益突出。目前,世界上广泛采用的质量认定标准是ISO9000系列标准。此外,美、日、欧盟等还有各自的技术标准体系。 3、严格的包装、标签规则 为防止包装及其废弃物可能对生态环境、人类及动植物的安全构成威胁,许多国家颁布了一系列包装和标签方面的法律和法规,以保护消费者权益和生态环境。从保护环境和节约能源来看,包装制度确有积极作用,但它增加了出口商的成本,且技术要求各国不一、变化无常,往往迫使外国出口商不断变换包装,失去不少贸易机会。 三、我国产品遭遇技术性壁垒的原因 (一)外因 1、维护该国的利益是一切国际关系的根本目的。虽然为了推进经济全球化和贸易自由化的发展,各国在乌拉圭回合谈判中承诺进一步降低关税和在保持现状下逐步消除各种非关税壁垒。但现在国际竞争日益激烈,各国为了维护该国的贸易利益,在逐步取消明显有违WTO精神的一些传统的非关税壁垒的同时又不断推出更为隐蔽的技术性贸易壁垒,而且名目繁多,要求越来越苛刻。在发达国家之间、发达国家与发展中国家之间、发展中国家之间都存在技术性贸易壁垒。只是由于在技术水平上,发展中国家远低于发达国家,所以技术性贸易壁垒对发展中国家影响更大。 2、《WTO协定》中的许多例外条文和漏洞,也为技术性壁垒的实施提供了法律上的依据。如《贸易技术壁垒协议》中规定:“任何国家在其认为适当的范围内可采取必要的措施保护环境,只要这些措施不致认为在具有同等条件的国家之间造成任何不合理的歧视,或成为对国际贸易产生隐蔽限制的一种手段。”又如《实施卫生与植物卫生措施协定》规定:“缔约方有权采纳为保护人类、动物或植物生命或健康的卫生和植物卫生措施”而且只要缔约方确认其的措施有科学依据和保护水平是适当的就“可以实施或维持高于国际标准、指南和建议的措施”。这意味着技术性贸易壁垒的建立具有很大的合法性。 3、各国和国际性环保组织的地位在不断地提高,对政府决策的影响力越来越大。所以各国政府在实行有关政策时,不得不考虑他们的声音,在有关方面做

高分子材料测试技术答案 青岛科技大学考试复习资料

聚合物结构与性能 1.非晶体聚合物的力学三态,说明各自分子运动特点,并用曲线表示出来。 力学三态:玻璃态、高弹态和粘流态称为聚合物的力学三态 玻璃态:温度低,链段的运动处于冻结,只有侧基、链节、链长、键角等局部运动,形变小; 高弹态:链段运动充分发展,形变大,可恢复; 粘流态:链段运动剧烈,导致分子链发生相对位移,形变不可逆。 2.晶态聚合物的力学状态及其转变 在轻度结晶的聚合物中,少量的晶区起类似交联点的作用,当温度升高时,其中非晶区由玻璃态转变为高弹态,可以观察到 Tg 的存在,但晶区的链段由于受晶格能的限制难以运动,使其形变受到限制,整个材料表现为由于非晶区的高弹态而具有一定的韧性,由于晶区的存在具有一定的硬度。 若晶区的Tm>T f (非晶区),则当晶区熔融后,非晶区已进入粘流态,不 呈现高弹态; 若TmT f 时才进入 粘流态。 3.聚合物的分子运动具有以下特点 (1)运动单元的多重性(2)聚合物分子的运动是一个松弛过程:(3)聚合物的分子运动与温度有关 4.玻璃化温度的影响因素 (1)聚合物的结构(a) 主链结构(b) 侧基或侧链(c) 分子量(d) 化学交联 (2)共聚、共混与增塑 (3)外界条件 红外光谱分析思考题 1.红外光谱的定义 当样品受到频率连续变化的红外光照射时,分子吸收了某些频率的辐射,并由其振动或转动运动引起偶极矩的净变化,产生分子振动和转动能级从基态到激发态的跃迁,使相应于这些吸收区域的透射光强度减弱。记录物质对红外光的吸收程度(或透过程度)与波长或波数关系曲线,就得到红外光谱 形变

技术性贸易壁垒对我国对外贸易的影响及对策分析

技术性贸易壁垒对我国对外贸易的影响及对策分析 伴随着全球贸易自由化,市场一体化程度的不断加深,在国际贸易中严控贸易数量以及高关税的限制作用越来越弱化。WTO各成员国原则上已不能再通过对数量进行限制和征收高关税来为国内产品提供保护,而通过颁布技术法规、推行技术标准、实施认证制度和检验制度等技术性贸易壁垒措施保护本国产品。目前技术性贸易壁垒已经成为阻碍我国对外贸易的第一大非关税壁垒,我国作为最大的发展中国家,在我国对外贸易额不断增长的今天,技术性贸易壁垒对我国的国际贸易冲击相当大,而技术性贸易壁垒具有隐蔽性、难对付的特点,在此情况下,对技术性贸易壁垒给我国对外贸易带来的影响及对策分析显得尤其重要。 标签:技术性贸易壁垒;国际贸易;国际合作 1 什么是技术性贸易壁垒 在国际贸易中,贸易壁垒分为两个大类:有形壁垒和无形壁垒。有形壁垒包括关税和数量限制,而技术性贸易壁垒则属于无形壁垒。技术性贸易壁垒,是指进口国通过制定技术法规、协议、标准和认证体系等苛刻标准以此来限制进口,这些苛刻标准涉及卫生、检疫、环保、安全、产品质量等诸多领域和环节。技术性壁垒由于其“技术性”而披上了合法外衣,使其具有隐蔽性和难对付等特点。技术性指标本身在设计之初可能并非有意设置的贸易壁垒,可能是出于对消费者健康和安全、环境保护等考虑,然而在现实的对外贸易中,一些发达国家往往利用其技术上的优势,通过技术法规、技术标准的制定与实施,通过商品检验及认证工作,限制其对商品的进口。WTO《技术性贸易壁垒协议》将技术性贸易壁垒分为技术法规、技术标准和合格评定程序。技术壁垒的主要特点: (1)范围上的广泛性。从产成品到生产的全过程,技术壁垒无处不在。从初级产品到制成品,进口国有严格的限制。而且这种限制还在逐步的扩大; 从生产过程看,它含概了原料采购,生产加工,包装,运输,销售,消费全过程。随着技术的进步,技术壁垒将会涉及到贸易的各个领域和环节。 (2)形式上的合法性。技术壁垒由于其“技术性”大多是通过国内外公开立法的形式而存在,而使其存在表现为合法性。由于国际上还没有关于技术壁垒的统一立法,对进口商品的技术要求大多由国内立法规定。这些法规是要求进口商强制遵守,这样外国厂商被合法的排除在外。 (3)保护方式的隐蔽性。发达国家由于科技发展水平高,往往设置高于世界平均水平的技术标准,使科技发展水平相对落后的发展中国家难以适应。这种方式看似具有公平性,而不直接体现歧视性,但发展中国家厂商为了达到发达国家设置的高标准,只好加大投入,由此而增加了生产成本,降低了产品的竞争力。 (4)法规上的严格性。为阻碍外国商品的进入本国市场,保护本国市场,各国不断在标准和法规上下功夫,通过立法等形式使标准具有强制性,使产品标准日趋严

技术壁垒案例

美国的一纸法案,将中国全地形车企业逼向绝境。在技术壁垒为发达国家屡屡使用的今天,年轻的中国制造正遭受前所未有的压力。 2009年10月23日,上海热度不减,中美全地形车产业外展会议间隙。 浙江休闲运动车行业协会秘书长应刚毅,义无反顾地把吉布?穆伦“逼”到了墙角,体型上看他们并不是一个重量级,但并不妨碍应刚毅对美国消费品安全委员会(CPSC)表达不满——在他看来,美国用技术壁垒把中国全地形车产业逼到绝境。 穆伦很职业地扶了扶眼镜,微笑着打量这位小个子,无奈地耸耸肩膀,“今后中国出口企业必须提交一份行动计划并被美国批准,这是前提。” 引发激烈争论的全地形车(ATV),亦称“沙滩车”,这种集娱乐、体育、旅游一体的特种车辆,可在沙滩、河床、林道等多种地形使用,在欧美等发达国家非常流行。2000年以前,全地形车生产技术还被美国、日本等少数发达国家垄断,属于价格昂贵的贵族运动。 九年前,行业格局被“中国制造”改写。 2001年,物美价廉的中国全地形车出口,轻松成为对美最大输出国。与此同时,中国全地形车迅速抢占全球市场份额。2008年,中国全地形车出口金额达4亿美元左右,产量约占世界全地形车总量的40%,欧美日一些传统全地形车企业丧失价格优势退出市场,贵族运动开始走向普及。 大好形势下,美国一项法案让远在中国的应刚毅们“一夜回到解放前”,今年出口美国全地形车数量骤降,“出口大户”金华甚至无一批产品入美。 美国法案逼企业入死胡同

4月13日,美国《消费品安全改进法案》生效,打了中国企业一个措手不及。 金融危机让美国政府捂紧钱袋,这份CPSC法案体现前所未有的苛刻——所有全地形车进口商都要提交一份合格的“行动计划”和含铅认证、符合美国国家标准的第三方检测报告,“否则都视为违法行为,将面临严厉的处罚”。而此前,美国并没有针对全地形车的强制性标准。 美国设定“安全标准”,意在限制中国廉价全地形车大量涌入美国。 一位官员私下向记者透露,制定标准要有一个执行期,不能一下子把产业治死,美国突如其来的法案是非常典型的技术壁垒,实际就是针对中国企业的。事实证明了这种判断,美国行动计划批准速度极其缓慢,截止2009年9月4日,CPSC官方网站公布的全球获批准企业(含进口商)共25家,中国仅有5家企业获批,这意味着大部分申请企业无法出口。 CPSC还要求提供符合美国国家标准的第三方检测报告,但第三方检测机构不明确,目前该检测认证只能在美国完成,这也大大增加了企业的认证时间、费用。 “寒冬”突袭将中国全地形车企业逼向死亡边缘,上游产业和外协配套厂家损失惨重,应刚毅对本刊记者无奈地摊了摊手,“今年3月到8月ATV行业基本就没有出口到美国去,就是零。” 作为第三届中美消费品安全峰会的核心,中美全地形车产业外展会议格外引人关注。魏传忠副局长领队的国家质检总局、特纳鲍姆主席领队的美国消费品安全委员会反复进行交涉,众多中国全地形车生产企业与美国进口商表现敏感,沟

半导体材料能带测试及计算

半导体材料能带测试及计算对于半导体,是指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料,其具有一定的带隙(E g)。通常对半导体材料而言,采用合适的光激发能够激发价带(VB)的电子激发到导带(CB),产生电子与空穴对。 图1. 半导体的带隙结构示意图。 在研究中,结构决定性能,对半导体的能带结构测试十分关键。通过对半导体的结构进行表征,可以通过其电子能带结构对其光电性能进行解析。对于半导体的能带结构进行测试及分析,通常应用的方法有以下几种(如图2): 1.紫外可见漫反射测试及计算带隙E g; 2.VB XPS测得价带位置(E v); 3.SRPES测得E f、E v以及缺陷态位置; 4.通过测试Mott-Schottky曲线得到平带电势; 5.通过电负性计算得到能带位置.

图2. 半导体的带隙结构常见测试方式。 1.紫外可见漫反射测试及计算带隙 紫外可见漫反射测试 2.制样: 背景测试制样:往图3左图所示的样品槽中加入适量的BaSO4粉末(由于BaSO4粉末几乎对光没有吸收,可做背景测试),然后用盖玻片将BaSO4粉末压实,使得BaSO4粉末填充整个样品槽,并压成一个平面,不能有凸出和凹陷,否者会影响测试结果。 样品测试制样:若样品较多足以填充样品槽,可以直接将样品填充样品槽并用盖玻片压平;若样品测试不够填充样品槽,可与BaSO4粉末混合,制成一系列等质量分数的样品,填充样品槽并用盖玻片压平。 图3. 紫外可见漫反射测试中的制样过程图。 1.测试:

用积分球进行测试紫外可见漫反射(UV-Vis DRS),采用背景测试样(BaSO4粉末)测试背景基线(选择R%模式),以其为background测试基线,然后将样品放入到样品卡槽中进行测试,得到紫外可见漫反射光谱。测试完一个样品后,重新制样,继续进行测试。 ?测试数据处理 数据的处理主要有两种方法:截线法和Tauc plot法。截线法的基本原理是认为半导体的带边波长(λg)决定于禁带宽度E g。两者之间存在E g(eV)=hc/λg=1240/λg(nm)的数量关系,可以通过求取λg来得到E g。由于目前很少用到这种方法,故不做详细介绍,以下主要来介绍Tauc plot法。 具体操作: 1、一般通过UV-Vis DRS测试可以得到样品在不同波长下的吸收,如图4所示; 图4. 紫外可见漫反射图。 2. 根据(αhv)1/n = A(hv – Eg),其中α为吸光指数,h为普朗克常数,v为频率,Eg为半导体禁带宽度,A为常数。其中,n与半导体类型相关,直接带隙半导体的n取1/2,间接带隙半导体的n为2。

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