安徽金属靶材新建项目投资分析报告

规划设计/投资分析/实施方案

报告说明—

溅射是制备薄膜材朴的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在

真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子

和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底

表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材籵，称为溅射靶材。

该金属靶材项目计划总投资3245.70万元，其中：固定资产投资

2851.64万元，占项目总投资的87.86%；流动资金394.06万元，占项目总

投资的12.14%。

达产年营业收入3688.00万元，总成本费用2906.32万元，税金及附

加53.79万元，利润总额781.68万元，利税总额943.29万元，税后净利

润586.26万元，达产年纳税总额357.03万元；达产年投资利润率24.08%，投资利税率29.06%，投资回报率18.06%，全部投资回收期7.04年，提供

就业职位66个。

靶材是溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材。是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。

第一章项目基本情况

第二章投资单位说明

第三章项目背景及必要性第四章项目市场调研

第五章项目建设规模

第六章选址可行性分析

第七章项目建设设计方案第八章项目工艺及设备分析第九章环境保护、清洁生产第十章项目安全保护

第十一章建设及运营风险分析第十二章节能可行性分析

第十三章项目实施计划

第十四章投资方案说明

第十五章经济收益分析

第十六章项目综合评价结论第十七章项目招投标方案

第一章项目基本情况

一、项目提出的理由

溅射工艺属于物理气相沉积（PVD）技术的一种，是制备电子薄膜材料的主要技术之一。在电子信息产业的发展过程中，金属薄膜的制备十分重要。溅射工艺利用离子源产生的离子，在真空中加速聚集成高速离子流，轰击固体表面，离子和固体表面的原子发生动能交换，使固体表面的原子离开靶材并沉积在基材表面，从而形成纳米（或微米）薄膜。被轰击的固体是溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。靶材质量的好坏对薄膜的性能起着至关重要的决定作用，因此，靶材是溅射过程的关键材料。

高纯溅射靶材行业是典型的技术密集型行业，要求业内厂商具有较强的技术研发实力和先进的生产工艺，具有完善的品质控制能力。其主要技术门槛表现在以下几个方面。纯度和杂质含量控制是靶材质量最重要的指标。靶材的纯度对溅射薄膜的性能有很大影响。若靶材中夹杂物的数量过高，在溅射过程中，易在晶圆上形成微粒，导致互连线短路或断路。靶材的成分与结构均匀性也是考察靶材质量的关键。对于复相结构的合金靶材和复合靶材，不仅要求成分的均匀性，还要求组织结构的均匀性。晶粒晶向控制是产品研发主要攻克的方向。溅射镀膜的过程中，致密度较小的溅射靶材受轰击时，由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放，造成大尺行业深度研究寸的靶材颗粒或微粒飞溅，或成膜之后膜材受二次电子轰击造

成微粒飞溅，这些微粒的出现会降低薄膜品质。例如在极大规模集成电路制作工艺过程中，每150mm直径硅片所能允许的微粒数必须小于30个。怎样控制溅射靶材的晶粒，并提高其致密度以解决溅射过程中的微粒飞溅问题是溅射靶材的研发的关键。靶材溅射时，靶材中的原子最容易沿着密排面方向优先溅射出来，材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大，最终影响下游产品的品质和性能。需根据靶材的组织结构特点，采用不同的成型方法，进行反复的塑性变形、热处理工艺加以控制。

二、项目概况

（一）项目名称

安徽金属靶材新建项目

（二）项目选址

某某产业基地

安徽，简称皖，省名取当时安庆、徽州两府首字合成，是中华人民共和国省级行政区。省会合肥。位于中国华东，界于东经114°54′～

119°37′，北纬29°41′～34°38′之间，东连江苏、浙江，西接河南、湖北，南邻江西，北靠山东，总面积14.01万平方千米。安徽省位于中国华东地区，濒江近海，有八百里的沿江城市群和皖江经济带，内拥长江水道，外承沿海地区经济辐射。地势由平原、丘陵、山地构成；地跨淮河、长江、钱塘江三大水系。安徽省地处暖温带与亚热带过渡地区。淮河以北属暖温带半湿润季风气候，淮河以南为亚热带湿润季风气候，南北兼容。

安徽省是长三角的重要组成部分，处于全国经济发展的战略要冲和国内几大经济板块的对接地带，经济、文化和长江三角洲其他地区有着历史和天然的联系。安徽文化发展源远流长，由徽州文化、淮河文化、皖江文化、庐州文化四个文化圈组成。截至2019年12月，安徽省下辖16个省辖市，9个县级市，52个县，44个市辖区。截至2019年末，安徽生产总值37114亿元，按可比价格计算，比上年增长7.5%。其中，第一产业增加值2915.7亿元，增长3.2%；第二产业增加值15337.9亿元，增长8%；第三产业增加值18860.4亿元，增长7.7%。人均GD达58496元，折合8480美元。

项目选址应符合城乡建设总体规划和项目占地使用规划的要求，同时具备便捷的陆路交通和方便的施工场址，并且与大气污染防治、水资源和自然生态资源保护相一致。投资项目对其生产工艺流程、设施布置等都有较为严格的标准化要求，为了更好地发挥其经济效益并综合考虑环境等多方面的因素，根据项目选址的一般原则和项目建设地的实际情况，该项目选址应遵循以下基本原则的要求。

（三）项目用地规模

项目总用地面积10211.77平方米（折合约15.31亩）。

（四）项目用地控制指标

该工程规划建筑系数53.96%，建筑容积率1.15，建设区域绿化覆盖率6.70%，固定资产投资强度186.26万元/亩。

（五）土建工程指标

项目净用地面积10211.77平方米，建筑物基底占地面积5510.27平方米，总建筑面积11743.54平方米，其中：规划建设主体工程8980.07平方米，项目规划绿化面积786.99平方米。

（六）设备选型方案

项目计划购置设备共计43台（套），设备购置费1097.21万元。

（七）节能分析

1、项目年用电量794701.72千瓦时，折合97.67吨标准煤。

2、项目年总用水量2324.78立方米，折合0.20吨标准煤。

3、“安徽金属靶材新建项目投资建设项目”，年用电量794701.72千

瓦时，年总用水量2324.78立方米，项目年综合总耗能量（当量值）97.87

吨标准煤/年。达产年综合节能量38.06吨标准煤/年，项目总节能率

26.20%，能源利用效果良好。

（八）环境保护

项目符合某某产业基地发展规划，符合某某产业基地产业结构调整规

划和国家的产业发展政策；对产生的各类污染物都采取了切实可行的治理

措施，严格控制在国家规定的排放标准内，项目建设不会对区域生态环境

产生明显的影响。

（九）项目总投资及资金构成

项目预计总投资3245.70万元，其中：固定资产投资2851.64万元，

占项目总投资的87.86%；流动资金394.06万元，占项目总投资的12.14%。

（十）资金筹措

该项目现阶段投资均由企业自筹。

（十一）项目预期经济效益规划目标

预期达产年营业收入3688.00万元，总成本费用2906.32万元，税金

及附加53.79万元，利润总额781.68万元，利税总额943.29万元，税后

净利润586.26万元，达产年纳税总额357.03万元；达产年投资利润率

24.08%，投资利税率29.06%，投资回报率18.06%，全部投资回收期7.04年，提供就业职位66个。

（十二）进度规划

本期工程项目建设期限规划12个月。

选派组织能力强、技术素质高、施工经验丰富、最优秀的工程技术人

员和施工队伍投入本项目施工。项目承办单位一定要做好后勤供应和服务

保障工作，确保不误前方施工。

三、项目评价

1、本期工程项目符合国家产业发展政策和规划要求，符合某某产业基

地及某某产业基地金属靶材行业布局和结构调整政策；项目的建设对促进

某某产业基地金属靶材产业结构、技术结构、组织结构、产品结构的调整

优化有着积极的推动意义。

2、xxx公司为适应国内外市场需求，拟建“安徽金属靶材新建项目”，本期工程项目的建设能够有力促进某某产业基地经济发展，为社会提供就

业职位66个，达产年纳税总额357.03万元，可以促进某某产业基地区域经济的繁荣发展和社会稳定，为地方财政收入做出积极的贡献。

3、项目达产年投资利润率24.08%，投资利税率29.06%，全部投资回报率18.06%，全部投资回收期7.04年，固定资产投资回收期7.04年（含建设期），项目具有较强的盈利能力和抗风险能力。

提振民营经济、激发民间投资已被列入重要清单。民营经济是经济和社会发展的重要组成部分，在壮大区域经济、安排劳动就业、增加城乡居民收入、维护社会和谐稳定以及全面建成小康社会进程中起着不可替代的作用，如何做大做强民营经济，已成为当前的一项重要课题。改革开放以来，我国非公有制经济发展迅速，在支撑增长、促进就业、扩大创新、增加税收，推动社会主义市场经济制度完善等方面发挥了重要作用，已成为我国经济社会发展的重要基础。但部分民营企业经营管理方式和发展模式粗放，管理方式、管理理念落后，风险防范机制不健全，先进管理模式和管理手段应用不够广泛，企业文化和社会责任缺乏，难以适应我国经济社会发展的新常态和新要求。公有制为主体、多种所有制经济共同发展,是我国的基本经济制度；毫不动摇巩固和发展公有制经济，毫不动摇鼓励、支持和引导非公有制经济发展，是党和国家的大政方针。今天，我们对民营经济的包容与支持始终如一，人们在市场经济中创造未来的激情也澎湃如昨。引导民间投资参与制造业重大项目建设，国务院办公厅转发财政部发展改革委人民银行《关于在公共服务领域推广政府和社会资本合作模式指

导意见》，要求广泛采用政府和社会资本合作（PPP）模式。为推动《中国制造2025》国家战略实施，中央财政在工业转型升级资金基础上整合设立了工业转型升级（中国制造2025）资金。围绕《中国制造2025》战略，重点解决产业发展的基础、共性问题，充分发挥政府资金的引导作用，带动产业向纵深发展。重点支持制造业关键领域和薄弱环节发展，加强产业链条关键环节支持力度，为各类企业转型升级提供产业和技术支撑。

制造业数字化、网络化、智能化取得明显进展，智慧园区、智能工厂建设取得显著成效。工业企业两化融合发展指数达到75，综合集成水平企业占规上企业比重达到55%，关键工序数控化率达到55%。

四、主要经济指标

主要经济指标一览表

第二章投资单位说明

一、项目承办单位基本情况

（一）公司名称

xxx科技公司

（二）公司简介

公司全面推行“政府、市场、投资、消费、经营、企业”六位一体合

作共赢的市场战略，以高度的社会责任积极响应政府城市发展号召，融入

各级城市的建设与发展，在商业模式思路上领先业界，对服务区域经济与

社会发展做出了突出贡献。展望未来，公司将围绕企业发展目标的实现，

在“梦想、责任、忠诚、一流”核心价值观的指引下，围绕业务体系、管

控体系和人才队伍体系重塑，推动体制机制改革和管理及业务模式的创新，加强团队能力建设，提升核心竞争力，努力把公司打造成为国内一流的供

应链管理平台。

公司依托集团公司整体优势、发展自身专业化咨询能力，以助力产业

提高运营效率为使命，提供全方面的业务咨询服务。公司是按照现代企业

制度建立的有限责任公司，公司最高机构为股东大会，日常经营管理为总

经理负责制，企业设有技术、质量、采购、销售、客户服务、生产、综合

管理、后勤及财务等部门，公司致力于为市场提供品质优良的项目产品，凭借强大的技术支持和全新服务理念，不断为顾客提供系统的解决方案、优质的产品和贴心的服务。

二、公司经济效益分析

上一年度，xxx公司实现营业收入2227.94万元，同比增长20.71%（382.27万元）。其中，主营业业务金属靶材生产及销售收入为2003.99万元，占营业总收入的89.95%。

上年度营收情况一览表

根据初步统计测算，公司实现利润总额509.49万元，较去年同期相比增长39.31万元，增长率8.36%；实现净利润382.12万元，较去年同期相

比增长37.40万元，增长率10.85%。

上年度主要经济指标

第三章项目背景及必要性

一、金属靶材项目背景分析

溅射是制备薄膜材朴的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉

积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材籵，称为溅

射靶材。

在靶材制造的过程中，需要经历粉末冶炼、粉末屁合、压制成型、气氛烧结、塑性加工、热处理、超声探伤、机械加工、水切割、机械

加工、金属化、绑定、超声测试、超声清冼、栓验出货，共计15道工序。

粉末冶金铸造法是溅射靶材的另一种重要制造工艺。对于钨钛靶

这类由两种熔点差别较大的金属组成的合金靶材则会选择粉末烧结工艺。粉末冶金工艺一般选用高纯、超细粉末作为原料，并使用热等静

压方法成型，而热等静压工艺具有容易获得均匀细晶组织的优点。而

热等静压工艺具有容易获得均匀细晶组织的优点。

溅射靶材行业的核心价值在于通过熔炼、提纯、加工和热处理等

工艺对靶材的成分、微观组织结构、致密度和杂质等系列指标进行严

格的控制，以满足溅射镀膜过程要求。靶材的质量水平会直接影响到

沉积所得薄膜的均匀性和一致性，因此溅射靶材对纯度、致密度和组织均匀性等特性均有严格要求。靶材纯度方面，不同的下游应用要求会有所不同，超大规模集成电路芯片对溅射靶材的金属纯度的要求最高，通常要达到99.9995%（5N5）以上，平板显示器和太阳能电池等领域对金属纯度的要求略低，要求分别为99.999%（5N）和99.995%

（4N5）。杂质会对沉积薄膜的构成污染，因此靶材的杂质含量也会有严格的标准要求。靶材的致密度与气孔的数量成反比，而气孔中的杂质气体在溅射过程中是污染源，因此靶材的致密度会对溅射的沉积速率、溅射膜粒子的密度和放电现象，以及薄膜的电学和光学性能有显著影响。靶材的成分，组织和晶粒度大小主要影响沉积薄膜的均匀性和质量的稳定性，成分和组织均匀性以及晶粒度大小等指标对于靶材的质量控制也是重中之重。

独立而成熟的生产制造技术和研发能力是高纯溅射靶材企业的立身之本。高纯溅射靶材行业以冶金提纯、塑形加工、热处理和机械加工等制造工艺过程为基础，信息技术等领域需求为导向，属于典型的技术密集型产业。半导体芯片，平板显示和信息储存等下游信息产业的产品更新快，技术日新月异，靶材制造企业作为上游关键材料的供应商也必须要求有充分的研发能力来同步更新其产品和技术。

在平板显示领域与靶材需求对应的下游产品以液晶显示面板为主。根据技术特点不同，平板显示器可分为液晶显示器（LCD）、等离子显

示器（PDP）、有机发光二极管显示（OLED）、场致发光显示器（EL）

和场发射显示器（FED）等。OLED由于供货不足和价格高企等原因，目前主要应用于部分小尺寸显示领域；PDP主要应用于部分电视和大屏幕显示器领域；相比之下，LCD由于在性价比、分辨率、耗电量、屏幕尺寸多样化等关键指标上占据显著优势，是当前平板显示领域主导技术

和产品，占据了平板显示90%以上的市场份额。因此，主要通过对全球和中国液晶显示面板出货量和出货面积进行分析以预测平板显示用靶

材市场容量的增长趋势。

国外企业经过几十年的发展和技术积累，在品牌、技术、产品质量、规模和客户资源等各方面均有深厚的基础。在上游，国外这些跨

国公司有与之配套的高纯金属原料供应优势，在下游应用领域有集中

的客户资源优势，在靶材制造环节有技术先发优势和规模优势，因此

在未来一定时间内美国和日本这些公司在溅射靶材领域的垄断地位仍

是国内溅射靶材企业必须应对的常态

在平板显示大尺寸靶材生产领域，国外有成熟的技术能成产出宽1200毫米，长3000毫米的单块靶材。隆化节能的产品距离国外还有不

小的差距。同时，在产能上，日本的装备月产量可达30吨至50吨，我国国产装备年产量只有30吨。进口一台设备价格要花一千万元，且核心技术完全把控在国外设备厂，这是我国国产靶材目前还很难突破的领域。

二、金属靶材项目建设必要性分析

靶材是溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材。是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。

高纯度溅射靶材主要应用于电子元器件制造的物理气相沉积（PhysicalVaporDeposition，PVD）工艺。PVD镀膜目前主要有三种形式，分别是溅射镀膜、蒸发镀膜以及离子镀膜。

为推动国内靶材产业发展，增强产业创新能力和国际竞争力，带动传统产业改造和产品升级换代，我国制定了一系列靶材行业相关支持政策。

靶材行业产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节。其中，靶材制造和溅射镀膜环节是整个靶材产业链中的关键环节。

靶材产业下游包括半导体、光伏电池、平板显示器等等，其中，半导体芯片行业用的金属靶材，主要种类包括：铜、钽、铝、钛、钴

和钨等高纯靶材，以及镍铂、钨钛等合金类的靶材。铜靶和钽靶通常

配合起来使用。

靶材主要应用在平板显示、记录媒体、光伏电池、半导体等领域。其中，在靶材应用领域中，半导体芯片对靶材的金属材料纯度、内部

微观结构等方面都设定了极其苛刻的标准，需要掌握生产过程中的关

键技术并经过长期实践才能制成符合工艺要求的产品。

半导体芯片行业是金属溅射靶材的主要应用领域之一，也是对靶

材的成分、组织和性能要求最高的领域。

目前晶圆的制造正朝着更小的制程方向发展，铜导线工艺的应用

量在逐步增大，因此，铜和钽靶材的需求将有望持续增长。铝靶和钛

靶通常配合起来使用。目前，在汽车电子芯片等需要110nm以上技术

节点来保证其稳定性和抗干扰性的领域，仍需大量使用铝、钛靶材。

靶材在半导体材料中占比约为2.5-3%，由于半导体靶材市场与晶

圆产量存在直接关系，中国大陆晶圆厂产能占全球比例在15%左右，推算出2019年国内半导体用靶材市场约为10.3亿元。

目前，全球的靶材制造行业，特别是高纯度的靶材市场，呈现寡

头垄断格局，主要由几家美日大企业把持，如日本的三井矿业、日矿

金属、日本东曹、住友化学、日本爱发科，以及美国霍尼韦尔、普莱克斯等。

目前，国内靶材厂商主要聚焦在低端产品领域，在半导体、平板显示器和太阳能电池等市场还无法与国际巨头全面竞争。

但是，依靠国内的巨大市场潜力和利好的产业政策，以及产品价格优势，它们已经在国内市场占有一定的市场份额，并逐步在个别细分领域抢占了部分国际大厂的市场空间。

近年来，我国政府制定了一系列产业政策，如863计划、02专项基金等来加速溅射靶材供应的本土化进程，推动国产靶材在多个应用领域实现从无到有的跨越。这些都从国家战略高度扶植并推动着溅射靶材产业的发展壮大。

第四章项目市场调研

一、金属靶材行业分析

溅射工艺属于物理气相沉积（PVD）技术的一种，是制备电子薄膜材料的主要技术之一。在电子信息产业的发展过程中，金属薄膜的制备十分重要。溅射工艺利用离子源产生的离子，在真空中加速聚集成高速离子流，轰击固体表面，离子和固体表面的原子发生动能交换，

金属靶材生产制造项目可行性研究报告

金属靶材生产制造项目可行性研究报告规划设计/投资分析/产业运营

报告摘要说明溅射是制备薄膜材朴的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材籵，称为溅射靶材。溅射工艺属于物理气相沉积（PVD）技术的一种，是制备电子薄膜材料的主要技术之一。在电子信息产业的发展过程中，金属薄膜的制备十分重要。溅射工艺利用离子源产生的离子，在真空中加速聚集成高速离子流，轰击固体表面，离子和固体表面的原子发生动能交换，使固体表面的原子离开靶材并沉积在基材表面，从而形成纳米（或微米）薄膜。被轰击的固体是溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。靶材质量的好坏对薄膜的性能起着至关重要的决定作用，因此，靶材是溅射过程的关键材料。该金属靶材项目计划总投资3997.64万元，其中：固定资产投资2719.49万元，占项目总投资的68.03%；流动资金1278.15万元，占项目总投资的31.97%。本期项目达产年营业收入8754.00万元，总成本费用6664.95万元，税金及附加76.14万元，利润总额2089.05万元，利税总额2453.33万元，税后净利润1566.79万元，达产年纳税总额886.54万

元；达产年投资利润率52.26%，投资利税率61.37%，投资回报率39.19%，全部投资回收期4.05年，提供就业职位141个。高纯溅射靶材行业是典型的技术密集型行业，要求业内厂商具有较强的技术研发实力和先进的生产工艺，具有完善的品质控制能力。其主要技术门槛表现在以下几个方面。纯度和杂质含量控制是靶材质量最重要的指标。靶材的纯度对溅射薄膜的性能有很大影响。若靶材中夹杂物的数量过高，在溅射过程中，易在晶圆上形成微粒，导致互连线短路或断路。靶材的成分与结构均匀性也是考察靶材质量的关键。对于复相结构的合金靶材和复合靶材，不仅要求成分的均匀性，还要求组织结构的均匀性。晶粒晶向控制是产品研发主要攻克的方向。溅射镀膜的过程中，致密度较小的溅射靶材受轰击时，由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放，造成大尺行业深度研究寸的靶材颗粒或微粒飞溅，或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅，这些微粒的出现会降低薄膜品质。例如在极大规模集成电路制作工艺过程中，每150mm直径硅片所能允许的微粒数必须小于30个。怎样控制溅射靶材的晶粒，并提高其致密度以解决溅射过程中的微粒飞溅问题是溅射靶材的研发的关键。靶材溅射时，靶材中的原子最容易沿着密排面方向优先溅射出来，材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大，最终影响下游产品的品质和性能。需根据靶材的组织结构特点，采用不同的成型方法，进行反复的塑性变形、热处理工艺加以控制。

北京金属靶材新建项目可行性分析报告

北京金属靶材新建项目可行性分析报告投资分析/实施方案

北京金属靶材新建项目可行性分析报告高纯溅射靶材行业是典型的技术密集型行业，要求业内厂商具有较强的技术研发实力和先进的生产工艺，具有完善的品质控制能力。其主要技术门槛表现在以下几个方面。纯度和杂质含量控制是靶材质量最重要的指标。靶材的纯度对溅射薄膜的性能有很大影响。若靶材中夹杂物的数量过高，在溅射过程中，易在晶圆上形成微粒，导致互连线短路或断路。靶材的成分与结构均匀性也是考察靶材质量的关键。对于复相结构的合金靶材和复合靶材，不仅要求成分的均匀性，还要求组织结构的均匀性。晶粒晶向控制是产品研发主要攻克的方向。溅射镀膜的过程中，致密度较小的溅射靶材受轰击时，由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放，造成大尺行业深度研究寸的靶材颗粒或微粒飞溅，或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅，这些微粒的出现会降低薄膜品质。例如在极大规模集成电路制作工艺过程中，每150mm直径硅片所能允许的微粒数必须小于30个。怎样控制溅射靶材的晶粒，并提高其致密度以解决溅射过程中的微粒飞溅问题是溅射靶材的研发的关键。靶材溅射时，靶材中的原子最容易沿着密排面方向优先溅射出来，材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大，最终影响下游产品的品质和性能。需根据靶材的组织结构特点，采用不同的成型方法，进行反复的塑性变形、热处理工艺加以控制。

该金属靶材项目计划总投资8901.86万元，其中：固定资产投资 7019.05万元，占项目总投资的78.85%；流动资金1882.81万元，占项目总投资的21.15%。达产年营业收入15613.00万元，总成本费用11822.40万元，税金及附加171.54万元，利润总额3790.60万元，利税总额4484.98万元，税后净利润2842.95万元，达产年纳税总额1642.03万元；达产年投资利润率42.58%，投资利税率50.38%，投资回报率31.94%，全部投资回收期4.63年，提供就业职位259个。报告从节约资源和保护环境的角度出发，遵循“创新、先进、可靠、实用、效益”的指导方针，严格按照技术先进、低能耗、低污染、控制投资的要求，确保投资项目技术先进、质量优良、保证进度、节省投资、提高效益，充分利用成熟、先进经验，实现降低成本、提高经济效益的目标。 ...... 溅射是制备薄膜材朴的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材籵，称为溅射靶材。

靶材质量对大面积镀膜生产的影响

靶材质量对大面积镀膜生产的影响The influence of the target equality on the large area coating glass production 胡冰王烁摘要：真空磁控溅射镀膜现在已经成为工业镀膜生产中最主要的技术之一。靶材作为磁控溅射镀膜使用的大宗原材料，其质量对膜层性能有很大的影响，同时会影响到镀膜的生产效率和成本，对大面积玻璃镀膜企业有很大的影响。本文结合生产实际使用情况，将靶材对镀膜生产影响的主要特征参数，包括靶材的密度、晶粒尺寸、纯度、与衬管（背板）连接质量等因素进行了分析和研究，并在其参数控制方面给予相关建议。 Abstract：In present，vacuum magnetron sputtering coating has become one of the main techniques of coating industry . Be used as bulk raw materials of the magnetron sputtering coating，targets have a great influence on film quality, efficiency and cost of coating production,have a great influence on large area coating glass industry.In this paper, the main characteristic parameters of the targets, including the grain size , purity, density of target materials and quality of bonding,etc. which influence the quality of the large area coating were analysised and studied combine with the actual production，some advices in the parameters control were given. 关键词大面积镀膜Low-E玻璃靶材 Key words Large area coating low-emissivity glass targets 1 引言现代建筑大多已开始采用大面积玻璃采光，这一方面带给我们更明亮的房间以及更宽阔的视野，另一方面由于透过玻璃传递的热能远高于周围墙体，导致整个建筑物的使用能耗明显增大。经过几十年的发展，低辐射（Low-E）镀膜玻璃在建筑领域得到了广泛的应用，对降低建筑能耗和节约能源有着显著的作用。目前制备低辐射薄膜成熟的技术包括化学气相沉积（在线Low-E）和真空磁控溅射镀膜（离线Low-E）两种。相对于颜色单一，辐射率较高的在线Low-E玻璃，离线Low-E玻璃辐射率和隔热系数更低，颜色种类多，遮阳系数和透光率均可根据设计师的要求进行调整，制备成中空玻璃或夹层玻璃进行使用，更适合社会发展对节能越来越高的要求，是社会持续发展的必然趋势。相对发达国家高达90%以上低辐射玻璃的使用率，中国的Low-E玻璃普及率仅12%左右，其在中国还有非常大的发展空间。但是相对于普通玻璃和在线Low-E玻璃，离线Low-E玻璃的生产成本比较高，这在一定程度上限制了其应用，国内玻璃加工企业有义务不断降低镀膜产品的生产成本，使低辐射玻璃加快普及进程，节约能源，改善环境，实现社会的可持续发展。真空磁控溅射镀膜能有效地降低靶室的工作压强和靶的工作电压，提高溅射和沉积速率，降低基片温度，减小等离子体对膜层的破坏，特别适合于大面积镀膜生产。影响溅射成膜速度和质量的因素除包括真空度、溅射气氛、气压、使用功率和靶基距等一系列设备工艺条件外，靶材作为镀膜使用的大宗原材料其本身的特性，包括靶材形状、纯度、密度、孔隙度、晶粒度及绑定质量都对成膜品质和溅射速率有非常大的影响。优质的靶材不但可以保证好的膜层质量，也可以延长Low-e产品的使用周期，更重要的可降低生产成本，提高生产效率，对镀膜玻璃行业有很大的经济效益。因此，对于大面积镀膜行业，靶材的相关研究也显得尤为重要。 2 靶材形状的影响

太原金属靶材新建项目可行性分析报告

太原金属靶材新建项目可行性分析报告规划设计/投资分析/产业运营

太原金属靶材新建项目可行性分析报告溅射是制备薄膜材朴的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材籵，称为溅射靶材。该金属靶材项目计划总投资2782.52万元，其中：固定资产投资2117.33万元，占项目总投资的76.09%；流动资金665.19万元，占项目总投资的23.91%。达产年营业收入6350.00万元，总成本费用5067.07万元，税金及附加51.78万元，利润总额1282.93万元，利税总额1511.67万元，税后净利润962.20万元，达产年纳税总额549.47万元；达产年投资利润率 46.11%，投资利税率54.33%，投资回报率34.58%，全部投资回收期4.39年，提供就业职位117个。本报告所描述的投资预算及财务收益预评估均以《建设项目经济评价方法与参数（第三版）》为标准进行测算形成，是基于一个动态的环境和对未来预测的不确定性，因此，可能会因时间或其他因素的变化而导致与未来发生的事实不完全一致，所以，相关的预测将会随之而有所调整，敬请接受本报告的各方关注以项目承办单位名义就同一主题所出具的相关后

续研究报告及发布的评论文章，故此，本报告中所发表的观点和结论仅供报告持有者参考使用；报告编制人员对本报告披露的信息不作承诺性保证，也不对各级政府部门（客户或潜在投资者）因参考报告内容而产生的相关后果承担法律责任；因此，报告的持有者和审阅者应当完全拥有自主采纳权和取舍权，敬请本报告的所有读者给予谅解。 ...... 高纯溅射靶材行业是典型的技术密集型行业，要求业内厂商具有较强的技术研发实力和先进的生产工艺，具有完善的品质控制能力。其主要技术门槛表现在以下几个方面。纯度和杂质含量控制是靶材质量最重要的指标。靶材的纯度对溅射薄膜的性能有很大影响。若靶材中夹杂物的数量过高，在溅射过程中，易在晶圆上形成微粒，导致互连线短路或断路。靶材的成分与结构均匀性也是考察靶材质量的关键。对于复相结构的合金靶材和复合靶材，不仅要求成分的均匀性，还要求组织结构的均匀性。晶粒晶向控制是产品研发主要攻克的方向。溅射镀膜的过程中，致密度较小的溅射靶材受轰击时，由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放，造成大尺行业深度研究寸的靶材颗粒或微粒飞溅，或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅，这些微粒的出现会降低薄膜品质。例如在极大规模集成电路制作工艺过程中，每150mm直径硅片所能允许的微粒数必须小于30个。怎样控制溅射靶材的晶粒，并提高其致密度以解决溅射过程中的微粒飞溅问题是溅射靶材的研发的关键。靶材溅射时，靶材中的原子最容易沿着密排

稀土行业标准《钪铝合金靶材》(预审稿)编制说明

稀土行业标准《钪铝合金靶材》（预审稿）编制说明一、工作简况 1.1立项的目的和意义《钪铝合金靶材》是属于国家稀土稀有金属新材料研发和产业化项目重点支持的对象之一，近年来，靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。根据形状分为长靶，方靶，圆靶，三角形靶；根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材；根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等；根据应用领域分为微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、其他靶材。随着微电子等高科技产业的高速发展及对靶材需求的领域不断的增加，中国的靶材市场将日益扩大，钪铝合金靶材的发展将迎来了新的机遇和挑战，国内每年钪铝合金的产量达到了1000吨，国内钪铝靶材的需求量超过了5000片，产值达5亿元以上，市场前景广阔。目前国外制备靶材最好的国家主要以日本、美国及德国为主，国外知名靶材生产厂商主要有德国的Singulus technologies、美国的Heraeus G mb H等企业，其产品具有纯度高、晶粒细小及均匀，利用率高（≥85%）的特点。国内靶材生产企业主要惠州拓普、有安泰科技、湖南稀土金属材料研究院、有研亿金等；国内生产的稀土金属及合金靶材致密度不高，晶粒大小及分布不均，材料利用率低下（＜60%），与国外先进水平具有很大的差距。由于64兆位DRAM以上的大规模集成电路的线条宽度≤0.3微米，继续发展甚至可望达到0.01微米，这就要求配线材料具有低电阻、高耐热性和良好的加工性能，由于硅的屏膜和接触孔的封闭多采用高融点金属，迄今使用的主要是高纯铝为配线材料，其在高温喷镀等制造工艺中经常发生断线现象，而用铝硅铜合金等其它材料取代，又会降低电导率。但是，采用铝钪合金靶材作为配线材料，可以提高硬度，改善应力位移，有效地避免与铝原子流出、断线有关的电子迁移，既能保持与高纯铝相同的电导率，而且与铝硅铜系靶材配线材料相比，铝钪合金靶材能数倍地改善电子迁移和应力位移。是大规模集成电路的优选材料，由于铝钪合金靶材所具备的优越性能促进了中国的铝钪合金靶材市场的日益扩大。在国内，钪铝合金靶材产品得到了有效的开发，该产品的生产也已初具规模，但是，

合肥金属靶材新建项目策划方案

合肥金属靶材新建项目策划方案投资分析/实施方案

报告说明— 高纯溅射靶材行业是典型的技术密集型行业，要求业内厂商具有较强的技术研发实力和先进的生产工艺，具有完善的品质控制能力。其主要技术门槛表现在以下几个方面。纯度和杂质含量控制是靶材质量最重要的指标。靶材的纯度对溅射薄膜的性能有很大影响。若靶材中夹杂物的数量过高，在溅射过程中，易在晶圆上形成微粒，导致互连线短路或断路。靶材的成分与结构均匀性也是考察靶材质量的关键。对于复相结构的合金靶材和复合靶材，不仅要求成分的均匀性，还要求组织结构的均匀性。晶粒晶向控制是产品研发主要攻克的方向。溅射镀膜的过程中，致密度较小的溅射靶材受轰击时，由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放，造成大尺行业深度研究寸的靶材颗粒或微粒飞溅，或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅，这些微粒的出现会降低薄膜品质。例如在极大规模集成电路制作工艺过程中，每150mm直径硅片所能允许的微粒数必须小于30个。怎样控制溅射靶材的晶粒，并提高其致密度以解决溅射过程中的微粒飞溅问题是溅射靶材的研发的关键。靶材溅射时，靶材中的原子最容易沿着密排面方向优先溅射出来，材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大，最终影响下游产品的品质和性能。需根据靶材的组织结构特点，采用不同的成型方法，进行反复的塑性变形、热处理工艺加以控制。

该金属靶材项目计划总投资9435.86万元，其中：固定资产投资7828.69万元，占项目总投资的82.97%；流动资金1607.17万元，占项目总投资的17.03%。达产年营业收入15225.00万元，总成本费用11834.36万元，税金及附加164.39万元，利润总额3390.64万元，利税总额4022.70万元，税后净利润2542.98万元，达产年纳税总额1479.72万元；达产年投资利润率35.93%，投资利税率42.63%，投资回报率26.95%，全部投资回收期5.21年，提供就业职位202个。溅射工艺属于物理气相沉积（PVD）技术的一种，是制备电子薄膜材料的主要技术之一。在电子信息产业的发展过程中，金属薄膜的制备十分重要。溅射工艺利用离子源产生的离子，在真空中加速聚集成高速离子流，轰击固体表面，离子和固体表面的原子发生动能交换，使固体表面的原子离开靶材并沉积在基材表面，从而形成纳米（或微米）薄膜。被轰击的固体是溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。靶材质量的好坏对薄膜的性能起着至关重要的决定作用，因此，靶材是溅射过程的关键材料。

钯靶材

钯概况（Survey）：钯是一种化学元素，化学符号为Pd，原子序数46。性状（Character）：钯是一种罕见的、有光泽的银白色金属，钯与铂、铑、钌、铱、锇形成一组铂族金属的元素家族。铂族金属化学性质相似，但钯的熔点最低，是这些贵金属中密度最低的一种。物理性质（Physical property）：状态：固体密度（接近室温）：12.023 g2cm?3 熔点时液体密度：10.38 g2cm?3 熔点：1828.05 K，1554.9 °C，2830.82 °F 沸点：3236 K，2963 °C，5365 °F 熔化热：16.74 kJ2mol?1 汽化热：362 kJ2mol?1 比热容：25.98 J2mol?12K?1 原子性质（Atomic properties）：氧化态：0, +1, +2, +4, +6（弱碱性）电负性：2.20（鲍林标度）原子半径：137 pm 共价半径：139±6 pm 范德华半径：163 pm 名称规格尺寸纯度钯丝（Pd）Φ0.2—1.0mm 99.9% 99.99% 99.9995+% 99.9999% 99.9999+% Φ1.0—3.0mm 99.9% 99.99% 99.9995+% 99.9999% 99.9999+% Φ3.0—6.0mm 99.9% 99.99% 99.9995+% 99.9999% 99.9999+% 钯片（Pd）50*50*（0.2-1.5）mm 99.9% 99.99% 99.999+% 99.9999% 99.9999+%

99.9% 99.99% 99.999+% 99.9999% 99.9999+% 100*100*（0.2-1.5）mm 99.9% 99.99% 99.999+% 99.9999% 99.9999+% 200*250*（0.2-1.5）mm 99.9% 99.99% 99.999+% 99.9999% 99.9999+% 钯棒（Pd）Φ（10-152.4）*1000mm 99.9% 99.99% 99.999+% 99.9999% 99.9999+% Φ25.4*1000mm 99.9% 99.99% 99.999+% 99.9999% 99.9999+% Φ50.8*500mm 99.9% 99.99% 99.999+% 99.9999% 99.9999+% Φ76.2*200mm 99.9% 99.99% 99.999+% 99.9999% 99.9999+% Φ101.6*200mm 99.9% 99.99% 99.999+% 99.9999% 99.9999+% Φ127*200mm 99.9% 99.99% 99.999+% 99.9999% 99.9999+% Φ152.4*200mm 钯粒（Pd）1-10mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.999+% 99.9999% 99.9999+% Φ2*10mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.999+% 99.9999% 99.9999+% Φ3*3mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.999+% 99.9999% 99.9999+% Φ3*10mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.999+% 99.9999% 99.9999+% Φ6*6mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.999+% 99.9999% 99.9999+% Φ6*12mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.999+% 99.9999% 99.9999+% 99.9% 99.99% 99.999+% 99.9999% 99.9999+% 钯块（Pd）10-100mm 99.5% 99.9% 99.95% 99.99% 钯粉（Pd）0.5-75um

江苏金属靶材新建项目策划方案

江苏金属靶材新建项目策划方案规划设计/投资方案/产业运营

承诺书申请人郑重承诺如下： “江苏金属靶材新建项目”已按国家法律和政策的要求办理相关手续，报告内容及附件资料准确、真实、有效，不存在虚假申请、分拆、重复申请获得其他财政资金支持的情况。如有弄虚作假、隐瞒真实情况的行为，将愿意承担相关法律法规的处罚以及由此导致的所有后果。公司法人代表签字： xxx科技公司（盖章） xxx年xx月xx日

项目概要靶材是溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材。是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。溅射是制备薄膜材朴的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材籵，称为溅射靶材。该金属靶材项目计划总投资12959.61万元，其中：固定资产投资10190.65万元，占项目总投资的78.63%；流动资金2768.96万元，占项目总投资的21.37%。达产年营业收入22216.00万元，总成本费用17218.47万元，税金及附加222.25万元，利润总额4997.53万元，利税总额5909.09万元，税后净利润3748.15万元，达产年纳税总额2160.94万元；达产年投资利润率38.56%，投资利税率45.60%，投资回报率28.92%，全部投资回收期4.96年，提供就业职位509个。本文件内容所承托的权益全部为项目承办单位所有，本文件仅提供给项目承办单位并按项目承办单位的意愿提供给有关审查机构为投资项目的审批和建设而使用，持有人对文件中的技术信息、商务信息等应做出保密性承诺，未经项目承办单位书面允诺和许可，不得复制、

600459贵研铂业股份有限公司关于贵金属装联材料产业化项目立项的公告2020-11-18

证券简称：贵研铂业证券代码：600459 公告编号：临2020－038 贵研铂业股份有限公司关于贵金属装联材料产业化项目立项的公告本公司董事会及全体董事保证本公告内容不存在任何虚假记载、误导性陈述或者重大遗漏，并对其内容的真实性、准确性和完整性承担个别及连带责任。重要内容提示： ●拟投资标的名称：贵金属装联材料产业化项目 ●预估项目总投资金额：5.6亿元 ●风险提示：本项目尚处于立项阶段，能否通过审批存在不确定性，是否实施投资建设尚存在不确定性。项目具体投资方案尚未确定，后续公司尚需按照相关规定编制可行性研究报告，确定具体投资方案，并另行履行董事会和股东大会（如需）审批程序且履行相应的信息披露义务。项目的实施符合国家政策法规，但建设方案尚需通过相关政府主管部门审批和备案。项目实施后，存在产品上市后受市场竞争格局和市场需求变化影响不能达成产品规划时预期目标的风险。一、项目立项概述本项目开发的贵金属装联材料产品主要包括以金基材料为主的贵金属键合丝、高纯贵金属蒸镀材料、溅射靶材三大类。由于贵金属装联材料具有优良的抗腐蚀、导电导热性、耐热冲击性强、封接强度高、焊接工艺性好、熔流点稳定等特点，是半导体行业中芯片制备、封装测试、功能性连接中关键基础材料，主要用于制备化合物半导体芯片、固态照明芯片，应用在5G、大数据中心、人工智能、工业互联网和固态照明等领域。当前时期，公司面临国家大力发展半导体行业、全面实施国产化替代的良好政策环境，以及市场需求稳步增长的机遇；在市场需求牵引下，公司突破了高端集成电路(IC)用超细键合金丝批量化制备关键技术、选择性深度除杂-电位调控还原技术、集成电路用贵金属短流程清洁制备批量化工艺，开发了IC用超细键合金丝、集成电路用高清洁性蒸镀金和大尺寸、薄板、小晶粒靶材产品；为开发国内高端贵金属装联材料市场，实现国产替代，提供了良好的支撑，对完善行业产业链具有重要意义。二、投资标的基本情况

讨论稿试验报告-高纯钯化学分析方法杂质元素含量的测定辉光放电质谱法

高纯钯化学分析方法杂质元素含量的测定辉光放电质谱法试验报告（预审稿）贵研铂业股份有限公司 2020年7月

高纯钯化学分析方法杂质元素含量的测定辉光放电质谱法前言高纯钯以其独特的物理化学性能，应用于现代工业和尖端技术领域。高纯钯提纯技术、加工制造技术与其分析检测能力密切相关，研究高纯钯中杂质元素含量检测方法非常重要。已有的纯金属钯中杂质测定方法有发射光谱法（AES）[1]、电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-AES）[2-5]、电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）[6-9]等。产品标准GB/T 1420-2015海绵钯，要求测定三个牌号SM-Pd99.9、SM-Pd99.95、SM-Pd99.99的18个杂质元素，测定方法其一采用《YS/T 362-2006 纯钯中杂质元素的发射光谱分析》，其二采用《附录A 电感耦合等离子体原子发射光谱法》。其中直流电弧发射光谱法需要用钯基体配制粉末标样，不但需要消耗大量的钯基体且钯基体制备方法困难，目前此方法已很少被使用。液体进样检测的ICP-AES法满足不了高纯钯所需检测下限范围。ICP-MS法检测限较低，但对试剂、环境要求较高，易被污染，同时基体浓度也不宜太高。辉光放电质谱法（GD-MS）是20世纪后期发展起来的一种重要无机质谱分析技术，作为目前被公认对固体材料直接进行痕量及超痕量元素分析最有效的分析手段之一[10-12]，GD-MS的应用主要在于高纯度材料的杂质元素分析，已成为国际上高纯金属材料、高纯合金材料、稀贵金属、溅射靶材等材料中杂质分析的重要方法。制定高纯钯辉光放电质谱法测定杂质元素含量标准分析方法，有助于进一步完善贵金属材料产品检验表征及评价方法技术体系。 GD-MS的方法原理是将高纯试样安装到仪器样品室中作为阴极进行辉光放电，其表面原子被惰性气体（例如：高纯氩气）在高压下产生的离子撞击发生溅射，溅射产生的原子被离子化后，离子束通过电场加速进入质谱仪进行测定。在每一待测元素选择的同位素质量处以预设的扫描点数和积分时间对应谱峰积分，所得面积为谱峰强度。根据强度比与浓度比的关系计算得到被测元素含量。试验研究通过调节仪器参数，确定最佳工作条件。对基质元素及共存元素质谱干扰进行分析讨论，GD-MS法测定高纯钯中七十种杂质元素含量，测定其中杂质元素含量在1×10-5%（0.1μg/g）以上的结果，其相对标准偏差（n=7）小于 20%。大多数元素分析检测限在0.001～0.005μg/g。 1 实验部分 1.1 主要仪器与材料 ASTRUM型辉光放电质谱仪（英国NU仪器公司）；高纯钽片和钽棒（ωTa≥99.99%）；高纯铟（ωIn≥99.99999%）；硝酸（优级纯）；盐酸（优级纯）；无水乙醇（优级纯）；超纯水（电阻率为18.25MΩ·cm）；高纯氩气（体积分数大于99.995%）；液氮（-170℃）。 1.2 仪器工作条件用钽片或钽棒对仪器放电条件进行调节，将仪器参数调节至表1所示的值，放电电流为2.00mA，放电电压在900～1100V之间。钽基体同位素181Ta的信号强度即法拉第电流值达到10-10A(电子计数值109cps)以上，分辨率大于4000。测定电子倍增器与法拉第杯检测器离子计数效率ICE值必须大于75%。并进行质量峰位置校正。

铝靶材

铝概况（Survey）：铝（英语：Aluminium / Aluminum）是化学元素。化学符号是Al。原子序数是13。性状（Character）：铝有特殊化学、物理特性，是当今工业常用金属之一，不仅重量轻，质地坚，而且具有良好延展性、导电性、导热性、耐热性和耐核辐射性，是国家经济发展的重要基础原材料。铝在空气中会迅速形成一层致密的氧化铝薄膜，阻止腐蚀的继续进行。物理性质（Physical property）：状态：固态密度（接近室温）：2.70 g2cm?3 熔点时液体密度：2.375 g2cm?3 熔点：933.47 K，660.32 °C，1220.58 °F 沸点：2792 K，2519 °C，4566 °F 熔化热：10.71 kJ2mol?1 汽化热：294.0 kJ2mol?1 比热容：24.200 J2mol?12K?1原子性质（Atomic properties）：氧化态：3, 2, 1（两性氧化物）电负性：1.61（鲍林标度）原子半径：143 pm 共价半径：121±4 pm 范德华半径：184 pm 铝靶名称规格尺寸纯度铝丝（Al）Φ0.2—1.0mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.9995+% 99.9999% 99.9999+% Φ1.0—3.0mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.9995+% 99.9999% 99.9999+% Φ3.0—6.0mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.9995+% 99.9999% 99.9999+% 铝片（Al）（50*50*0.2-1.5mm）99.9% 99.99% 99.999% 99.999+% 99.9999% 99.9999+% （100*100*0.2-1.5mm）99.9% 99.99% 99.999% 99.999+% 99.9999% 99.9999+%

关于编制贵金属靶材生产建设项目可行性研究报告编制说明

关于编制贵金属靶材生产建设项目可行性研究报告编制说明（模版型）【立项批地融资招商】核心提示：贵金属靶材项目投资环境分析，贵金属靶材项目背景和发展概况，贵金属靶材项目建设的必要性，贵金属靶材行业竞争格局分析，贵金属靶材行业财务指标分析参考，贵金属靶材行业市场分析与建设规模，贵金属靶材项目建设条件与选址方案，贵金属靶材项目不确定性及风险分析，贵金属靶材行业发展趋势分析 1、本报告为模板形式，客户下载后，可跟据报告说明，自行修改，完成属于自己的，高水平的可研报告，从此写报告不在求人。 2、客户可联系我公司，协助编写完成可研报告，可行性研究报告大纲（具体可跟据客户要求进行调整）编制单位：北京中投信德国际信息咨询有限公司专业撰写资金申请报告项目建议书商业计划书节能评估报告可行性研究报告

目录目录 ............................................................................................................................ - 1 - 第1章贵金属靶材项目总论 ..................................................................................... ７§1.1 项目背景 ....................................................................................................... ７§1.1.1 项目名称 ............................................................................................. ７ §1.1.2 项目承办单位 ..................................................................................... ７ §1.1.3 项目主管部门 ..................................................................................... ７ §1.1.4 项目拟建地区、地点 ......................................................................... ７ §1.1.5 承担可行性研究工作的单位和法人代表 ......................................... ７ §1.1.6 研究工作依据 ..................................................................................... ７ §1.1.7 研究工作概况 ..................................................................................... ８§1.2 可行性研究结论 ........................................................................................... ８§1.2.1 市场预测和项目规模 ......................................................................... ８ §1.2.2 原材料、燃料和动力供应 ................................................................. ９ §1.2.3 厂址 ..................................................................................................... ９ §1.2.4 项目工程技术方案 ............................................................................. ９ §1.2.5 环境保护 ............................................................................................. ９ §1.2.6 工厂组织及劳动定员 ......................................................................... ９ §1.2.7 项目建设进度 ..................................................................................... ９ §1.2.8 投资估算和资金筹措 ..................................................................... １０ §1.2.9 项目财务和经济评论 ..................................................................... １０ §1.2.10 项目综合评价结论 ....................................................................... １０§1.3 主要技术经济指标表 ............................................................................... １０§1.4 存在问题及建议 ....................................................................................... １０第2章贵金属靶材项目背景和发展概况 ............................................................. １１§2.1 项目提出的背景 ....................................................................................... １１§2.1.1 国家或行业发展规划 ..................................................................... １１ §2.1.2 项目发起人和发起缘由 ................................................................. １１§2.2 项目发展概况 ........................................................................................... １１§2.2.1 已进行的调查研究项目及其成果 ................................................. １１ §2.2.2 试验试制工作情况 ......................................................................... １２ §2.2.3 厂址初勘和初步测量工作情况 ..................................................... １２ §2.2.4 项目建议书的编制、提出及审批过程 ......................................... １２§2.3 投资的必要性 ........................................................................................... １２第3章市场分析与建设规模 ................................................................................. １４§3.1 市场调查 ................................................................................................... １４§3.1.1 拟建项目产出物用途调查 ............................................................. １４ §3.1.2 产品现有生产能力调查 ................................................................. １４ §3.1.3 产品产量及销售量调查 ................................................................. １４ §3.1.4 替代产品调查 ................................................................................. １５ §3.1.5 产品价格调查 ................................................................................. １５ §3.1.6 国外市场调查 ................................................................................. １５

金属靶材生产加工项目立项报告

金属靶材生产加工项目立项报告规划设计/投资分析/实施方案

金属靶材生产加工项目立项报告高纯溅射靶材行业是典型的技术密集型行业，要求业内厂商具有较强的技术研发实力和先进的生产工艺，具有完善的品质控制能力。其主要技术门槛表现在以下几个方面。纯度和杂质含量控制是靶材质量最重要的指标。靶材的纯度对溅射薄膜的性能有很大影响。若靶材中夹杂物的数量过高，在溅射过程中，易在晶圆上形成微粒，导致互连线短路或断路。靶材的成分与结构均匀性也是考察靶材质量的关键。对于复相结构的合金靶材和复合靶材，不仅要求成分的均匀性，还要求组织结构的均匀性。晶粒晶向控制是产品研发主要攻克的方向。溅射镀膜的过程中，致密度较小的溅射靶材受轰击时，由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放，造成大尺行业深度研究寸的靶材颗粒或微粒飞溅，或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅，这些微粒的出现会降低薄膜品质。例如在极大规模集成电路制作工艺过程中，每150mm直径硅片所能允许的微粒数必须小于30个。怎样控制溅射靶材的晶粒，并提高其致密度以解决溅射过程中的微粒飞溅问题是溅射靶材的研发的关键。靶材溅射时，靶材中的原子最容易沿着密排面方向优先溅射出来，材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大，最终影响下游产品的品质和性能。需根据靶材的组织结构特点，采用不同的成型方法，进行反复的塑性变形、热处理工艺加以控制。

该金属靶材项目计划总投资7444.10万元，其中：固定资产投资 5178.95万元，占项目总投资的69.57%；流动资金2265.15万元，占项目总投资的30.43%。达产年营业收入18041.00万元，总成本费用14083.11万元，税金及附加150.99万元，利润总额3957.89万元，利税总额4654.80万元，税后净利润2968.42万元，达产年纳税总额1686.38万元；达产年投资利润率53.17%，投资利税率62.53%，投资回报率39.88%，全部投资回收期4.01年，提供就业职位314个。报告根据项目产品市场分析并结合项目承办单位资金、技术和经济实力确定项目的生产纲领和建设规模；分析选择项目的技术工艺并配置生产设备，同时，分析原辅材料消耗及供应情况是否合理。 ...... 靶材是溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材。是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。