光电子技术第5章
第5章相控阵雷达要点

6.脉冲压缩的实现:
发射脉冲应按一定规则编码,以获得较大带宽。 接收机中应有一个压缩网络,
脉冲压缩网络实际上是一个匹配滤波器。脉冲压缩常
用的四种
7.调制方式:
线性调频脉冲压缩 非线性调频 相位编码脉冲压缩 时间频率编码脉冲压缩
8.能够进行脉冲压缩的波形:
调制类型
带宽
伪随机二进制序列
比特率
线性调频扫描 非线性调频扫描
N 1
E() E e jk k 0
如果各阵元馈电相位差均为0,上式可用于研究阵列天线的方向图。 假设θ0为波束指向,利用等比级数求和公式,欧拉公式和(5-1),得归 一化天线方向图(p154):
Fa
sin
Nd
sin
N
sin
d
sin
Fa(θ)称为阵列因子或阵因子。如果天线阵元不是向空间所有角 度均匀辐射的,方向图为Fe(θ),阵列方向图变为:
F Fa Fe
Fe(θ)称为阵元因子。
关于阵列天线的栅瓣
阵列因子图: 主瓣
栅瓣
栅瓣
-π/2
0
π/2
π
3π/2 2π
图5-2阵列因子图
主瓣
栅瓣
栅瓣
-π/2
0
π/2
π
3π/2 2π
图5-2阵列因子图
由图5-2可以看出,主瓣是我们感兴趣的,所有栅瓣应去掉。
不出现栅瓣的条件:
πd λ
ht e T
t T 2
11.失配加权
线性调频信号的包络是一个矩形,其经过频谱滤波器输出信号 的包络为sinc函数。见p124图4.13。最大副瓣为-13分贝。在实际 应用中,要求副瓣电平低于-30dB至-45dB。
《光电子技术基础》第二版朱京平Cha

书籍概述
本书综合介绍了光电子技术的基础知识和应用。旨在帮助读者全面了解光电 子技术的原理、发展历科大学生、研究生以及电子工程专业学生。
工程师
从事光电子技术相关工作的工程师和研究人员。
爱好者
对光电子技术感兴趣的科技爱好者和自学者。
主要章节
1
第一章:光电子技术的基本概念
提供与该书内容相关的额外 学习资料、网站链接和参考 书目。
实践活动建议
为读者提供一些实际操作的 建议,帮助他们将理论知识 应用到实际中。
知识测试
最后,读者可以通过一些知 识测试来检验对所学内容的 理解和掌握程度。
《光电子技术基础》第二 版朱京平Cha
这本书是一本全面介绍光电子技术基础的书籍。它详细阐述了光电子技术的 基本概念、光辐射与光电效应、光电子器件、光电探测与信号放大、光电模 块、光电检测系统、光电子应用以及光纤通信与光纤传感等主要章节。
作者的背景和资历
朱京平
拥有多年光电子技术的研究和教学经验,是该领域的专家。
介绍光电子技术的基本原理和核心概念。
2
第二章:光辐射与光电效应
探讨光辐射和光电效应对光电子技术的重要性。
3
第三章:光电子器件
讲解常见的光电子器件和它们的特性及应用。
4
第四章:光电探测与信号放大
介绍光电探测和信号放大的原理与方法。
5
第五章:光电模块
讲述光电模块的构成和应用案例。
学习资源和实践活动
推荐学习资源
光电子教学大纲

《光电子技术》教学大纲课程编码:课程英文名称: Optoelectronics Technology学时数:60学时学分:3.5学分适用专业:电子科学技术专业教学大纲说明一、课程的性质、教学目的与任务课程性质:光电子技术是由电子技术和光子技术互相渗透、优势结合而产生的,是一门新兴的综合性交叉学科,已经成为现代信息科学的一个极为重要的组成部分,以光电子学为基础的光电信息技术是当前最为活跃的高新技术之一。
光电子技术课程是电子科学与技术专业学生的必修专业课程,它的开设为培养合格的专业技术人才提供了必备的理论和实践基础,本门课程不仅是本专业学生在校学习的重要环节,而且对学生毕业后的工作和进一步学习新理论、新技术都将发生深远的影响。
教学目的:该课程介绍光电子技术的理论和应用基础,内容可以分为四大主要部分:(1) 激光原理基础及典型激光器;(2) 光的耦合与调制技术;(3) 光电探测器及其应用;(4) 光电子集成器件及光电子器件在光通信中的应用。
主要介绍了光电子系统中关键器件的原理、结构、应用技术和新的发展。
该课程在阐明基本原理的同时,突出应用技术,使学生能够把握光电子技术的总体框架,有兴趣、有信心投入实践和创新活动。
教学任务:通过本课程的学习,使学生熟悉光电子技术的基础知识以及实际应用,为今后从事光电子技术方面的研究和开发工作打下一定的基础。
并通过实验教学环节使学生加深光电子技术课程的理论知识的掌握,通过一定的实验,培养学生应用所学知识解决实际问题的能力,获得相应技术、实验方法和技能锻炼。
二、课程教学的基本要求本课程以课堂讲授为主,课下自学为辅。
对自学的内容布置讨论及思考题,提高学生独立思考及解决问题的能力。
适当增加flash动画、视频材料,同时安排一些课外科技学术报告,使学生了解到本学科的最新前沿进展。
通过本课程的学习,应使学生掌握光电子技术的基本原理、基本概念,了解光电子技术的应用实例,了解光电子领域的新成果和新进展,对光电子技术有比较全面、系统的认识和理解。
第5章_电致发光(ELD)

主动式与被动式特性相反,成本较昂贵、 制造较复杂,它在面板上增加了一层电子 底板,每个像素通过在电子底板上相应的 薄膜晶体管和电容器来进行独立的寻址。 即每个像素可连续与独立驱动,并可记忆 驱动信号,不需在高脉冲电流下操作,效 率较高,寿命也可延长,适用于大尺寸、 高分辨率之高信息容量的全彩化OLED显示 产品。
图5.2 ACTFEL结构示意图 1金属电极;2绝缘层;3发光层;4绝缘层;5透明电极;玻璃衬底
ACTFEL优点是寿命长(大于2万小时), 亮度高,工作温度宽(-55℃~+125℃), 缺点是只有掺Mn的发光效率高,且为橙黄 色,对全色显示要求三基色研制高效的发 光材料是当今研究的课题。EL器件目前已 被应用在背光源照明上,在汽车、飞机及 其他设备仪器仪表、手机、手表、电子 钟、LCD模块、笔记本电脑显示器等方面 获得应用。也作为交通安全标志,公司标 志,出口通道等发光指示牌上的发光显示 器件。
交流电致发光显示是目前高场电致发光显示的主 流。ACEL结构如图5.1所示。 它是将电致发光粉ZnS:CuCl或(ZnCd)S:CuBr 混合在环氧树脂和氰乙基醣的混合物的有机介质 中,两端夹有电极,其中一个为透明电极。另一 个是真空蒸镀铝或银电极,构成一个EL。 实质上,ACEL是大量几微米到几十微米的发光粉 状晶体悬浮在绝缘介质中的发光现象,也称德斯 垂效应。ACEL所加的电压通常为数百伏。ACEL 是晶体内的发光线发光,不是体发光。线发光强 度可达3.4×105cd/m2,总体发光亮度约40cd/m2 功率转换效率为1/%,寿命约1000小时。
5.3、OLED
图5.3 柯达L633数码相机显示屏
有机发光显示器(OLED)又称有机EL,是以有 机薄膜作为发光体的自发光显示器件。 它是固体自发光器件,可适应恶劣工作环境;它 响应时间短、发光效率高、视角宽、对比度高; 它可在5V~10V的低电压下工作,功耗低,工艺简 单;制造成本低、有机发光材料众多、覆盖发光 光谱从红外到紫外,适合全彩色显示;价廉、易 于大规模生产;OLED的生产更近似于精细化工 产品,可在塑料、树脂等不同的材质上生产,产 品的机械性能好,不仅可以制造出笔记本电脑、 台式机适用的显示器,还有可能创造出墙壁大小 的屏幕、可以弯曲折叠的屏幕。人们预言,随着 规模量产的到来,OLED可以比LCD成本低 20%。
第5章相控阵雷达

移相的量化误差。
波束形成网络
波束形成分发射波束形成、接收波束形成, 一般指接收波束形成。
射频波束形成 中频波束形成 数字波束形成 多波束形成
§5.5有源相控阵雷达
每个阵元有一个收发组件
§5.6相控阵雷达的有缺点及发展趋势
特点:p182有8个特点 发展:战术相控阵和战略相控阵
小结
1.相控阵雷达的基本概念 2.与相控阵雷达相关的技术 3.相控阵雷达的特点 4.阵因子和阵元因子 5.远场和近场 6.栅瓣和克服栅瓣的方法 7.相控阵雷达扫描与角分辨率 8.相控阵雷达的组成 9.相位扫描系统
第七章 其他若干现代雷达体制简介
1.连续波雷达
零差拍连续波雷达,p227 超外差连续波雷达,p228 • 调频连续波雷达 • 调相连续波雷达
2.脉冲压缩
产生一个这样的脉冲,它的TB积远大于1,一般在20-100 之间。作用距离以T为标准,距离分辨率以B为标准,两者兼顾。
3.雷达距离分辨率:
r
c 2B
4.压缩比D
D T TB 1/ B
5.脉冲压缩的优点:
时宽带宽互相基本独立,可选择较宽的脉冲宽度,有较大的作用距 离。
有较高的距离分辨率。 有较好的抗干扰能力。 脉冲压缩的缺点: 由于加大了“T”,最小作用距离增加了。 信号处理复杂。 存在距离旁瓣 存在一定的测距模糊和测速模糊。
θ
dsin(θ )
波阵面
dd 0 12
d N-1
图5.1阵列天线示意图
天线阵元之间的间距为d,目标方位(不一定是波束指向)与天线 阵面法矢量夹角为θ。相邻阵元回波相位差为ψ,波程差为dsin (θ),由波程差引起的相位差为:
第五章 固溶体半导体材料

李斌斌
5.1 固溶体的概念
5.2 SiGe固溶体 5.3 应用 Nhomakorabea
5.1 固溶体
凡在固体条件下,一种组分(溶剂)内“溶解” 了其它组分(溶质)而形成的单一、均匀的晶态 固体称为固溶体。
固溶体半导体材料是某些元素半导体或者化合物 半导体相互溶解而形成的一种具有半导体性质的 固态溶液材料,又称为混晶半导体或者合金半导 体。
SiGe合金是目前较为成熟的一种高温热电材料, 适用于制造由放射线同位素供热的温差发电器, 并已得到实际应用。
1977年旅行者号太空探测器首次采用SiGe合金作 为温差发电材料; 在此后美国NASA的空间计划中,SiGe差不多完 全取代PbTe材料。
其它内容
见教材
赝晶生长--共度生长
临界厚度---应力没有释放
产生位错和形成表面起伏是释放SiGe失配应 力的两种方式。
当Ge组分较低时(x<0.2),通过产生位错 来释放失配引起的应力; 当Ge组分介于0.2~0.6之间时将会导致形成 台阶,诱导生成均匀的3D岛; 当Ge组分大于0.6时,遵循SK模式三维生长, 利于形成表面起伏来释放失配引起的应力。 可以用来生长高组分表面起伏的多量子阱
电学性质--禁带宽度
Eg ( x) a bx cx
2 2
1.115 0.43x 0.0206 x (0 x 0.85)
Eg ( x) 2.01 1.27 x(0.85 x 1)
带隙和温度的关系
E
Si g
1.206 2.7310 T
4
第五章(全)--光电子技术

工作原理:常作成长条形,如图所示。当光点沿长条方向扫过时, 外加电场驱使光生载流子沿光点扫描方向迁移,并保证光点扫描速 度等于载流子迁移速度,光场在元件上产生的载流子被外加电场扫 在一起,最后堆积到元件末端的两电极之间,从而改变该区域的光 电导,在外回路得到光信号电流。在光电扫描与载流子迁移过程中, 信号经累积(积分)输出,而噪声由于其不相关特性,不会像信号— 样累积,从而大大提高了器件的灵敏度,比通常的8-14um波段的红 外探测器背景限提高了几倍。
I
•光电导的驰豫特性限制了器件对 较高调制频率的光功率的响应。
63 37 0 1 0 1
பைடு நூலகம்t/τ
图5.7、光电导的驰豫特性
ξ5.3 实用光电导探测器
5.3.1 单晶光电导探测器
(一)本征型: (1)碲镉汞 (HgCdTe)(2)锑化铟(InSb)(3)碲锡铅(PbSnTe) (二)杂质型: (1)锗掺汞 (Ge:Hg)(2)锗掺镓 (Ge:Ga)(3)硅掺砷(Si:As)
i
2 N
2 iN f i2 Ng r
i
2 NJ
1kHz
1MHz
图5.2、光电导探测器的噪声分布
二、光电导探测器的性能参数 A. 响应率
IS 电流响应率: RI P
前面的推导我们已经得到 可以得到响应率为:
VS 电压响应率: RV P
e IP GP hv
e RI G hv e RV GRd hv
P( x)
hv P( x) wLhv
:在x处单位时间吸收的光子数
n( x )
:在x方向上单位长度体积内的被吸收的光子数 密度,由于α 包含了量子效率在里面,因此也 等于单位时间、单位体积产生的光电子数。
光电子技术概论

§1、问题的提出及概述
•什么是“光电子学”; •什么是“光电子技术”; •什么是“光电子技术基础”;
光电子技术
光通信
无线光通信
量子通信
宽带、高速、长距离(干线,点对点)
城域网
无线接入网
光传感
光纤传感
医疗诊断
生物信息
环境监测
安全监测
其它:光盘、存储、条形码、加工、武器……
波分复用光通信系统
Wavelength Division Multiplexing (WDM)Erbium Doped Fiber Amplifier (EDFA)
➢ 将电子学使用的电磁波频率提高到光频,产生电子 学所不可能产生的许多新功能。
➢
以前由电子方法实现的任务现在用光学方法来
完成 ——光电子学,研究光子与束缚电子的
相互作用,是光子学的第一个阶段。
➢ 激光器的发明(1960年)是20世纪的重大成就之一是 继原子能、半导体、计算机后的又一重大发明
➢ 计算机延伸了人的大脑 而激光延伸了人的五官 是探索大自然奥秘的超级“探针”
光电子技术
ELECTRONIC TECNOLOGY
本书主要内容
绪论 第1章 光电系统中的常用光源 第2章 光辐射的调制 第3章 光辐射探测器 第4章 光电成像器件 第5章 光存储器 第6章 平板显示器件
绪论
➢ §1、问题的提出及概述 ➢ §2、光电子学与光电子技术简介 ➢ §3、 光电子信息产业的重要性 ➢ §4 、光电子技术的应用 ➢ §5 、本课程的主要内容 ➢ §6 、本课程学习方法、要求
信号
λ1
发射机
光放大器
λ1
功放
预放
λn 复用器
光通信:光波频率~ 1016Hz, 允许高频调制,
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画出了 I I 0 V 曲线的一部分以及光强调制的情形。为 使工作点选在曲线中点处,插入λ/4 波片,使之产生 90 度的 相位差。
激光器输出为偏振光
采用电光调制器的光通信线路
3 横向电光强度调制 电压加在X方向,入射光沿Z方向,X方向偏振;X、Y、Z与 晶体边平行。
3 no kl 3 l x y k o (no 63 E3 ) ne l k o (no ne )l 0 no 63V 2 2d 2 d V V k o (no ne )l 3 k o no 63 l V
第一项表示天然双折射造成的相位差; 第二项由电光效应引起,为电光延迟。 由第一项确定工作点位置后,根据第二项正比于l/d,恰当选 择长宽比,以实现有效的电光调制。 自然双折射容易受温度影响,必须对晶体进行温控。
采用光轴方向垂直的两 块晶体串接可消除自然 双折射. 横向电光调制可降低半波电压,通过晶体长度选择可以 控制相位延迟大小和工作点;采用两块晶体可消除自然双折 射,但结构较复杂。
2 5 no ne
2 2 2 2 E 2 n n 41 2 o e 2
(1)施加外场后,新折射率椭球的主轴是由旧主轴绕 y旋转
角后形成的,与外加电场成正比,但是一个小值。 ( 2)施加外场后,折射率椭球由旋转椭球变为一般椭球,单 轴晶体变为双轴晶体,双轴晶体的光轴方向之一仍为原 z 轴, 另一光轴位于以 轴为对称轴且和 z 对称的方向上。 z
(4)脉冲调制与脉冲编码调制
脉冲调制: 用一种间歇的周 期性脉冲序列作 为载波,使载波 的某一参量按调 制信号规律变化 的调制方法。 调幅度 调宽度 调频率 调位置
脉冲编码调制(采样、量化、编码)
用码子的不同组合表示欲传递的信息。
5.3 电光调制
5.3.1 电光效应
电光效应:当介质的两端所加外电场较强时,原子内的电 子分布状态将发生变化,以致介质的极化强度以及折射率 也各向异性地发生变化的现象。 电光效应弛豫时间很短,仅有10-11s量级
2
y' 方向的二线偏振光之间的位相差
2
2 n0 63V
2 2 j1 所以, E x E0e ,E y E0e j1 e j 2 2 再经1/4波片后,引入 / 2 相位差,则
j ( 1 2 ) 2 2 j ( 1 2 ) E x E0 e ,E y E0 e e j ( / 2 ) 2 2
利用超声波作用下介质折射率周期性变化的声光效应可以 制作声光调制器;
利用法拉第效应可以制作磁光调制器与光隔离器。
3. 调制方式
激光的瞬时光场
E(t ) E0 sin( 0 t )
调制信号是余弦信号 a(t ) Am cos mt (1)幅度调制
E ( t ) E0 (1 M a cos m t ) sin( 0t )
第五章 光调制技术----光信息系统的信号加载与控制 5.1 调制的基本概念
光调制 通过改变光波的振幅、强度、相位、频率或偏振等参数, 使传播的光波携带信息的过程。 功能 在光通信系统中实现从电信号到光信号的转换。
光调制器
利用光和物质相互作用所产生的效应来控制光波的强度或 相位的器件。 载波:激光(高频) 调制信号:起控制作用的低频信息
外场的施加或撤消导致的折射变化或恢复瞬间即可完成 可用作高速调制器、高速开关等 为突出物理思路、简化推导,讨论基于以下条件 (1)外加电场相对光场为低频
(2)外加电场沿着某一介电主轴作用于晶体,此时D与E的 方向一致,因而D只随E的大小变化。
泡克尔斯(Pockels)效应与克尔(Kerr)效应
当外加电场沿某一介电主轴作用于晶体时,电位移矢量为
1 1 2 63 E 3,n z ne 2 n y n0
2 由于 63 E3 1 / n0 ,运用近似式得到:
3 no n x no 63 E3 2
n y
3 no no 63 E3 2
结论:
(1) 施加外场 E3 后, KDP 由单 轴晶体变为双轴晶体。 x 方向 偏振光的折射率小, y 方向偏 振光的折射率大。 (2)沿 x 方向偏振的光传播相 速度加大,而沿 y 方向偏振 的光传播速度减小,因此 x 轴称为快轴, y 轴为慢轴。
3 2 n E E E kE 2 n0 2n 0
Δn 与外加电场的一次方成正比,称为泡克尔斯效应;
Δn与外加电场平方成正比,称为克尔效应。
5.3.2 KDP晶体的线性电光效应 KDP晶体是人工生长的KH2PO4单晶的简称。
1.外加电场平行于光轴 新主轴 x y z 相对旧主轴 xyz 旋转了 450 角度,则 1 1 得 到 :2 2 63 E 3, n x n0
根据这一原理,可完成光信号强度随电信号的变化而不断 改变的调制过程,即实现强度调制。 设入射光场为
Ein Ae jt
3 e
外加电场作用下光波产生的相位变化为:
n 33 LV / d n 33
3 e
L Vm sin m t d
5.3.3 电光调制 1. 电光相位延迟 以外加电场平行于光轴(Z轴)的KDP晶体为例,光波沿z 方向传播距离l后,两偏振光之间的相位差为
3 3 x y ko no 63 E3l ko no 63V
V E3l
E x 、E y 的变化曲线及相应的光场矢量变化情形
D 0 E E 2 E 3
为不加电场时的介电常数,称线性介电常数。
0
dD 0 2E 3E 2 dE
2 n 2 n0 2E 3E 2
第一项大大于后面各项,作泰勒级数展开
n n0
n0
E
3 2 E 2n 0
如果外加信号电压为正弦电压, V Vm sint ,则透过率为:
Vm 1 I / I [1 sin( sint )] 2 V
一般情况下: Vm / V 1
V 3 2n0 63
I 1 Vm sint I 0 2 2 V
输出光强近似为正弦形,实现无失真调制。
部分晶体的 V 和 63
2 纵向电光强度调制
图(4-21) 电光调制装置示意图
(1)电光强度调制装置由两块交叉偏振片及其间放置的一块单 轴电光晶体组成。偏振片的通振动方向分别与x、y轴平行。 (2)设某时刻加在电光晶体上的电压为V,入射到晶体的在x 方向上的线偏振激光电矢量振幅为E0 进入晶体时沿快轴 x' 和慢轴 y' 的电矢量振幅都变为 E0 通过晶体后,沿 x ' 和
4 电光相位调制
加电场后,振动方向与晶体的感应主轴相平行的光通 过长度为 l 的晶体,其位相增加为
3 n0 2 n0 63 Ez l 2
出射光为:
E0 E0e jt e jk0 nx l
3 n E0e jt e jk0 n0 l e xp( jk0 0 63V ) 2
当相位延迟Γ=0时,光场为 x 方向偏振的线偏振光,当 Γ=π/2时,光场为圆偏振光,当Γ=π时,光场又变成 沿y方向偏振的线偏振光。 与Γ=π对应的偏振光相对入射光旋转了 90°,其相应的 电压称为半波电压
V
3 k o no 63
晶体的电光系数越大,相应半波电压越低 .
通过测量半波电压可以计算出相应的电光系数。
2 外加电场垂直于光轴
E1 E3 0
E2 E 0
新主轴坐标系中三个主折射率近似为 5 2 no ne 2 2 2 2 n x no E 2 n n 41 2 e o 2 2 2 2 no ne
ny no
n z no
2 2 2 no ne
E p ( t ) E 0 cos( 0 t p cos m t )
频率调制和相位调制都是调相位角.
p k Am
E(t ) E0 cos( c t m cosm t c )
m为调制系数
产生无数多个边频,当m很小时,边频数量减少。
(3)强度调制 2 E0 I (t ) (1 M I cos m t ) sin2 ( 0 t ) 2 为得到较好的抗干扰效果,常采用二次调制方式,即先 用低频信号对高频副载波进行频率调制,再用已调频的高频 信号对光波进行强度调制(称为FM/IM调制)。在传输过程 中,即使受到干扰使强度发生抖动,但在解调时,信息包含 在调频副载波中,不会受到破坏。
E0 A cos( t sinm t )
3 n0 式中, k0 63V 为相位调制度, 2
k0n0l
Байду номын сангаас
5 波导电光调制器
波导调制器是将具有电光特性的材料做成光波导,调制电 场加在通光波导区,可以在很低的外加电压下获得所需的 调制场强。 可以通过波导特性,如模式转换、模式耦合、定向耦合等 特性来实现光的直接强度调制与开关等 。
Ma Am / E0
Ma Ma E ( t ) E0 sin( 0t ) E0 sin( 0 m )t E0 sin( 0 m )t 2 2
产生2个边频
(2)频率调制和相位调制
激光频率调制和相位调制的表达式分别为: M f / m E f ( t ) E 0 cos{( 0 M f cos m )t }
通过振动方向与 y 轴平行的偏振片检偏后产生的光振幅分 别为 E x' y , E y' y ,则有:
j ( 1 2 ) 1 1 j ( 1 2 ) E xy E0 e ,E yy E0 e e j ( / 2 ) 2 2 沿y方向分量的总和: j ( 1 2 ) 1 E y E0e e j ( / 2 ) 1 2