材料分析测试方法复习摘要

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材料测试技术复习知识点

材料测试技术复习知识点

材料测试技术复习知识点1.材料性能测试:材料性能测试是材料测试技术的核心内容之一、常见的材料性能测试包括力学性能测试、热性能测试、电性能测试等。

力学性能测试主要包括拉伸、压缩、弯曲等力学性能的测试,可以得到材料的强度、弹性模量、延伸率等力学性能参数。

热性能测试主要包括热膨胀系数、热导率、热稳定性等参数的测试。

电性能测试主要包括电导率、电阻率、介电常数等参数的测试。

这些测试可以帮助工程师和科研人员理解材料的性能特点,为材料选择和应用提供依据。

2.材料结构分析:材料结构分析是材料测试技术的另一重要内容。

结构分析主要包括显微结构分析、晶体结构分析和表面形貌分析。

显微结构分析主要通过光学显微镜、电子显微镜等工具对材料微观结构进行观察和分析,可以得到材料的晶粒大小、组织状态等信息。

晶体结构分析主要通过X射线衍射等手段对材料的晶体结构进行研究,可以得到材料的晶格常数、晶面指数等参数。

表面形貌分析主要通过扫描电子显微镜、原子力显微镜等工具对材料表面形貌进行观察和分析,可以得到材料的形貌特征和表面粗糙度等参数。

3.材料成分分析:材料成分分析是材料测试技术的另一个重要内容。

成分分析主要包括元素分析和化学组成分析。

元素分析主要是通过原子吸收光谱、电感耦合等离子体发射光谱等方法对材料中元素的含量进行测定,可以得到材料中各个元素的含量分布。

化学组成分析主要是通过质谱仪、红外光谱仪等方法对材料中化学组成和官能团进行鉴定,可以得到材料的化学成分和官能团结构。

4.材料性能评价:材料性能评价是材料测试技术的另一个重要内容。

性能评价主要是通过对材料进行一系列测试,来评价材料的适用性和可靠性。

常见的材料性能评价方法包括疲劳寿命测试、耐腐蚀性评价、抗磨损性评价等。

这些评价方法可以帮助生产厂家和应用方确定材料的使用寿命和适应环境。

5.材料缺陷检测:材料缺陷检测是材料测试技术的重要应用之一、常见的材料缺陷检测方法包括超声波检测、X射线检测、磁粉检测等。

材料分析测试方法复习摘要

材料分析测试方法复习摘要

材料分析测试方法复习摘要前言:材料现代分析测试方法:光谱分析、电子能谱分析、衍射分析与电子显微分析。

第一章:X射线的物理学基础X射线衍射学:根据衍射花样,在波长已知的情况下测定晶体结构,研究与结构和结构变化相关的各种问题。

X射线光谱学:根据衍射花样,在分光晶体结构已知的情况下,测定各种物质发出的X射线的波长和强度,从而研究物质的原子结构和成分。

产生X射线的条件:1,以某种方式得到一定量的自由电子;2,在高真空中,在高压电场作用下迫使这些电子作定向高速运动;3,在电子运动路径上设障碍物,以急剧改变电子的运动速度。

连续X射线谱:由波长连续变化的X射线构成,和白光相似,是多种波长的混合体。

/由于极大数量的电子衍射到阳极上的时间和条件不可能相同,因而得到的电磁波将具有连续的各种波长,形成连续X射线谱。

特征X射线谱:由有一定波长的若干X射线叠加在连续X射线谱上构成,和单色的可见光相似,具有一定波长。

/当管电压等于或高于20KV时,则连续X 射线谱外,位于一定波长处还叠加有少数强谱线,它们就是特征X射线谱。

=K(Z-??)莫塞莱定律:(物质发出的特征谱波长与它本身的原子序数的关系)√????式中:K和σ是常数。

该定律是X射线光谱分析的基本依据,是X射线光谱学的重要公式。

根据莫塞莱定律,将实验结果所得到的未知元素的特征X射线谱线波长,与已知的元素波长相比较,可以确定它是合种元素。

相干散射:由于散射线与入射线的波长和频率一致,位相固定,在相同方向上各散射波符合相干条件。

不相干散射:散射线分布于各个方向,波长各不相等,不能产生干涉现象。

(X射线经束缚力不大的电子或自由电子散射后,可以得到波长比入射X射线长的X射线,且波长随散射方向不同而改变。

)光电效应:物质在光子作用下放出电子的物理过程。

俄歇效应:K层的一个空位被L层的两个空位所替代的现象。

X射线滤波片的选择规则:Z靶<40时,Z滤= Z靶-1;Z靶>40时,Z滤= Z靶-2。

材料分析测试方法复习重点

材料分析测试方法复习重点

材料分析测试方法复习重点材料分析是一项重要的测试方法,广泛应用于科学研究、工程技术以及品质控制等领域。

为了确保材料的性能和品质符合要求,我们需要使用一系列的测试方法对材料进行分析。

本文将重点介绍一些常用的材料分析测试方法及其原理。

一、化学分析方法化学分析方法是通过对材料中化学成分的定性和定量分析来确定材料的组成和含量。

常用的化学分析方法包括火花光谱法、质谱分析法、红外光谱法和紫外可见分光光度法等。

火花光谱法是一种用于金属材料分析的方法,通过在样品上施加高电压或放电,使金属原子受到激发并发出特定波长的光线,根据光谱图谱可以确定材料中金属元素的种类和含量。

质谱分析法是一种通过测量材料中各种离子的质荷比来确定其组成的方法。

通过对物质进行电离和分离,然后利用质谱仪测量各离子的质荷比,可以得到材料中各种离子的含量信息。

红外光谱法是一种通过测量材料对红外光波长的吸收来确定其组成的方法。

每种物质都有独特的红外吸收谱,通过测量材料在不同波长的红外光下的吸收情况,可以确定材料中的化学键、官能团和杂质等信息。

紫外可见分光光度法是一种通过测量材料对紫外或可见光的吸收程度来确定其组成的方法。

不同化合物对光的吸收和透射具有特定的规律,通过测量材料在不同波长的紫外或可见光下的吸收强度,可以确定材料中的成分和浓度。

二、物理分析方法物理分析方法是通过对材料的物理性质进行测试和分析来确定材料的特性和性能。

常用的物理分析方法包括扫描电子显微镜、透射电子显微镜、X射线衍射和热分析等。

扫描电子显微镜是一种通过扫描样品表面并检测反射的电子束来观察材料微观形貌和内部结构的方法。

通过扫描电子显微镜可以获得高分辨率的图像,观察材料表面的形态、颗粒大小和分布等信息。

透射电子显微镜是一种通过透射样品的电子束来观察材料内部结构和成分的方法。

透射电子显微镜具有非常高的分辨率,可以观察到材料的晶体结构、晶粒大小和晶格缺陷等信息。

X射线衍射是一种通过测量材料对入射X射线的衍射图案来确定其晶体结构的方法。

材料测试与分析总复习

材料测试与分析总复习

XRD复习重点1.X射线的产生及其分类2.X射线粉晶衍射中靶材的选取3.布拉格公式4.PDF卡片5.X射线粉晶衍射谱图6.X射线粉晶衍射的应用电子衍射及透射电镜、扫描电镜和电子探针分析复习提纲透射电镜分析部分:4.TEM的主要结构,按从上到下列出主要部件1)电子光学系统——照明系统、图像系统、图像观察和记录系统;2)真空系统;3)电源和控制系统。

电子枪、第一聚光镜、第二聚光镜、聚光镜光阑、样品台、物镜光阑、物镜、选区光阑、中间镜、投影镜、双目光学显微镜、观察窗口、荧光屏、照相室。

5. TEM和光学显微镜有何不同?光学显微镜用光束照明,简单直观,分辨本领低(0.2微米),只能观察表面形貌,不能做微区成分分析;TEM分辨本领高(1A)可把形貌观察,结构分析和成分分析结合起来,可以观察表面和内部结构,但仪器贵,不直观,分析困难,操作复杂,样品制备复杂。

6.几何像差和色差产生原因,消除办法。

球差即球面像差,是由于电磁透镜的中心区域和边缘区域对电子的折射能力不符合预定的规律而造成的。

减小球差可以通过减小CS值和缩小孔径角来实现。

色差是由于入射电子波长(或能量)的非单一性造成的。

采取稳定加速电压的方法可以有效的减小色差;适当调配透镜极性;卡斯汀速度过滤器。

7.TEM分析有那些制样方法?适合分析哪类样品?各有什么特点和用途?制样方法:化学减薄、电解双喷、竭力、超薄切片、粉碎研磨、聚焦离子束、机械减薄、离子减薄;TEM样品类型:块状,用于普通微结构研究;平面,用于薄膜和表面附近微结构研究;横截面样面,均匀薄膜和界面的微结构研究;小块粉末,粉末,纤维,纳米量级的材料。

二级复型法:研究金属材料的微观形态;一级萃取复型:指制成的试样中包含着一部分金属或第二相实体,对它们可以直接作形态检验和晶体结构分析,其余部分则仍按浮雕方法间接地观察形态;金属薄膜试样:电子束透明的金属薄膜,直接进行形态观察和晶体结构分析;粉末试样:分散粉末法,胶粉混合法思考题:1.一电子管,由灯丝发出电子,一负偏压加在栅极收集电子,之后由阳极加速,回答由灯丝到栅极、由栅极到阳极电子的折向及受力方向?2.为什么高分辨电镜要使用比普通电镜更短的短磁透镜作物镜?高分辨电镜要比普通电镜的放大倍数高。

材料现代分析测试方法复习

材料现代分析测试方法复习

XRD X 射线衍射 TEM 透射电镜—ED 电子衍射 SEM 扫描电子显微镜—EPMA 电子探针(EDS能谱仪 WPS 波谱仪) XPS X 射线光电子能谱分析 AES 原子发射光谱或俄歇电子能谱IR —FT —IR 傅里叶变换红外光谱 RAMAN 拉曼光谱 DTA 差热分析法 DSC 差示扫描量热法 TG 热重分析 STM 扫描隧道显微镜 AFM 原子力显微镜测微观形貌:TEM 、SEM 、EPMA 、STM 、AFM 化学元素分析:EPMA 、XPS 、AES (原子和俄歇)物质结构:远程结构(XRD 、ED )、近程结构(RAMAN 、IR )分子结构:RAMAN官能团:IR 表面结构:AES (俄歇)、XPS 、STM 、AFMX 射线的产生:高速运动着额电子突然受阻时,随着电子能量的消失和转化,就会产生X 射线。

产生条件:1.产生并发射自由电子;2.在真空中迫使电子朝一定方向加速运动,以获得尽可能高的速度;3.在高速电子流的运动路线上设置一障碍物(阳极靶),使高速运动的电子突然受阻而停止下来。

X 射线荧光:入射的X 射线光量子的能量足够大将原子内层电子击出,外层电子向内层跃迁,辐射出波长严格一定的X 射线俄歇电子产生:原子K 层电子被击出,L 层电子如L2电子像K 层跃迁能量差不是以产生一个K 系X 射线光量子的形式释放,而是被临近的电子所吸收,使这个电子受激发而成为自由电子,即俄歇电子14种布拉菲格子特征:立方晶系(等轴)a=b=c α=β=γ=90°;正方晶系(四方)a=b ≠cα=β=γ=90°;斜方晶系(正交)a ≠b ≠c α=β=γ=90°;菱方晶系(三方)a=b=c α=β=γ≠90°;六方晶系a=b ≠c α=β=90°γ=120°;单斜晶系a ≠b ≠c α=β=90°≠γ;三斜晶系a ≠b ≠c α≠β≠γ≠90°布拉格方程的推导 含义:线照射晶体时,只有相邻面网之间散射的X 射线光程差为波长的整数倍时,才能产生干涉加强,形成衍射线,反之不能形成衍射线。

材料分析测试方法考点总结

材料分析测试方法考点总结

材料分析测试方法XRD1、x-ray 的物理基础X 射线的产生条件:⑴ 以某种方式产生一定量自由电子⑵ 在高真空中,在高压电场作用下迫使这些电子做定向运动⑶ 在电子运动方向上设置障碍物以急剧改变电子运动速度→x 射线管产生。

X 射线谱——X 射线强度随波长变化的曲线:(1)连续X 射线谱:由波长连续变化的X 射线构成,也称白色X 射线或多色X 射线。

每条曲线都有一强度极大值(对应波长λm )和一个波长极限值(短波限λ0)。

特点:最大能量光子即具有最短波长——短波限λ0。

最大能量光子即具有最短波长——短波限λ0。

影响连续谱因素:管电压U 、管电流 I 和靶材Z 。

I 、Z 不变,增大U→强度提高,λm 、λ0移向短波。

U 、Z 不变,增大I ;U 、I 不变,增大Z→强度一致提高,λm 、λ0不变。

(2)特征X 射线谱:由一定波长的若干X 射线叠加在连续谱上构成,也称单色X 射线和标识X 射线。

特点:当管电压超过某临界值时才能激发出特征谱。

特征X 射线波长或频率仅与靶原子结构有关,莫塞莱定律特定物质的两个特定能级之间的能量差一定,辐射出的特征X 射线的波长是特定。

特征x 射线产生机理:当管电压达到或超过某一临界值时,阴极发出的电子在电场加速下将靶材物质原子的内层电子击出原子外,原子处于高能激发态,有自发回到低能态的倾向,外层电子向内层空位跃迁,多余能量以X 射线的形式释放出来—特征X 射线。

X 射线与物质相互作用:散射,吸收(主要)(1)相干散射:当X 射线通过物质时,物质原子的内层电子在电磁场作用下将产生受迫振动,并向四周辐射同频率的电磁波。

由于散射线与入射线的波长和频率一致,位相固定,在相同方向上各散射波符合相干条件,故称相干散射→ X 射线衍射学基础 ()σλ-=Z K 1(2)非相干散射:X 射线光子与束缚力不大的外层电子或自由电子碰撞时电子获得一部分动能成为反冲电子,X 射线光子离开原来方向,能量减小,波长增加,也称为康普顿散射。

材料测试方法复习提纲

材料测试方法复习提纲

第一章X射线的应用:①透射学②衍射学③光谱X射线如何产生的:X射线产生的条件(1)以某种方式得到一定量的自由电子;(2)在高真空中,在高压电场作用下迫使这些电子作定向高速运动;(3)在电子运动路径上设障碍物,以急剧改变电子的运动方和向。

X射线谱分为:连续X射线谱、特征X射线谱(标示X射线谱)应用X射线的,形状、大小、方向中含有大量物质结构信息用于判断。

特征X射线产生的物理机制:从X射线管中的热阴极发出的电子,在高电压的作用下,以很快速度撞到阳极上是,若X射线管的管电压超过某一临界值Vk时,则电子的动能就足以将阳极物质原子中的K层电子撞击出来,于是,在K层中形成了一个空位,这个过程称为激发。

对L/M/N.等壳层中的电子跳入K层空位是发出的X射线称为K K K 他们共同构成了K系标识X射线。

标识X射线产生根本原因是原子内层电子的跃迁。

X射线与物质的相互作用,规律,对以后的分析有哪些影响?相互作用:X射线与物质的作用主要为吸收和散射。

吸收是指X射线通过物质时光子的能量变成了其他形式的能量。

也即产生的光电效应和俄歇效应,使入射X射线的能量变成光电子、俄歇电子、荧光电子的能量,使X射线强度被衰减。

散射:分相干散射和不相干散射其中相干散射为是X射线在晶体中产生衍射现象的基础。

光电效应在分析工作中起到重要作用,在衍射分析中,荧光X射线会增加衍射击花样的背底,应尽量避免。

光谱分析中可利用进行成分析。

俄歇效应可作为研究物质表面微区成分的有力工具。

散射中的相干散射为衍射分析的基础。

散射现象相干散射:散射线的波长与入射线相同,并有一定的位相关系,它们可以相互干涉,形成衍射图样,所以称为相干散射。

不相干散射:波长不相同,随着散射角度的不同,散射波的波长也不相同。

X射线产生的基础。

光电吸收(光电效应)光电效应:当X射线的波长足够短时,其光子的能量就很大,以至能把原子中处于某一能级的电子打出来,而他本身则被吸收,他的能量就传递给了电子,使之成为具有一定能量的光电子,并使原子处于高能的激发态,这个过程称之为光电吸收。

材料分析测试技术复习资料

材料分析测试技术复习资料

材料分析测试技术复习资料材料分析测试技术复习1.X射线的本质是什么?是谁⾸先发现了X射线,谁揭⽰了X射线的本质?本质是⼀种波长很短的电磁波,其波长介于0.01-1000A。

1895年由德国物理学家伦琴⾸先发现了X射线,1912年由德国物理学家laue揭⽰了X射线本质。

2.试计算波长0.071nm(Mo-Kα)和0.154A(Cu-Kα)的X射线束,其频率和每个量⼦的能量?E=hν=hc/λ3.试述连续X射线谱与特征X射线谱产⽣的机理连续X射线谱:从阴极发出的电⼦经⾼压加速到达阳极靶材时,由于单位时间内到达的电⼦数⽬极⼤,⽽且达到靶材的时间和条件各不相同,并且⼤多数电⼦要经过多次碰撞,能量逐步损失掉,因⽽出现连续变化的波长谱。

特征X射线谱: 从阴极发出的电⼦在⾼压加速后,如果电⼦的能量⾜够⼤⽽将阳极靶原⼦中内层电⼦击出留下空位,原⼦中其他层电⼦就会跃迁以填补该空位,同时将多余的能量以X射线光⼦的形式释放出来,结果得到具有固定能量,频率或固定波长的特征X射线。

4. 连续X射线谱强度随管电压、管电流和阳极材料原⼦序数的变化规律?发⽣管中的总光⼦数(即连续X射线的强度)与:1 阳极原⼦数Z成正⽐;2 与灯丝电流i成正⽐;3 与电压V⼆次⽅成正⽐:I 正⽐于i Z V2可见,连续X射线的总能量随管电流、阳极靶原⼦序数和管电压的增加⽽增⼤5. Kα线和Kβ线相⽐,谁的波长短?谁的强度⾼?Kβ线⽐Kα线的波长短,强度弱6.实验中选择X射线管以及滤波⽚的原则是什么?已知⼀个以Fe为主要成分的样品,试选择合适的X射线管和合适的滤波⽚?实验中选择X射线管要避免样品强烈吸收⼊射X射线产⽣荧光幅射,对分析结果产⽣⼲扰。

必须根据所测样品的化学成分选⽤不同靶材的X射线管。

其选择原则是:Z靶≤Z样品+1应当避免使⽤⽐样品中的主元素的原⼦序数⼤2-6(尤其是2)的材料作靶材。

滤波⽚材料选择规律是:Z靶< 40时:Z滤=Z靶-1Z靶>40时:Z滤=Z靶-2例如: 铁为主的样品,选⽤Co或Fe靶,不选⽤Ni或Cu靶;对应滤波⽚选择Mn7. X 射线与物质的如何相互作⽤的,产⽣那些物理现象?X 射线与物质的作⽤是通过X 射线光⼦与物质的电⼦相互碰撞⽽实现的。

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电子衍射和 X 射线衍射相比较的不同之处: (1)电子波的波长比 X 射线短的多,在同样满足布拉格条件时,它的衍射角θ很 小,约为 10-2rad。而 X 射线产生衍射时,其衍射角最大可接近 2 。 (2)在进行电子衍射操作时采用薄晶样品,薄样品的倒易阵点会沿着样品厚度 方向延伸成杆状。因此,增加了倒易阵点和埃瓦尔德球相交截的机会,结果使略 微偏离布拉格条件的电子束也能发生衍射。 (3)因为电子波的波长短,采用埃瓦尔德球图解时,反射球的半径很大,在衍 射角θ较小的范围内反射球的球面可以近似地看成是一个平面,从而也可以认为 电子衍射产生的衍射斑点大致分布在一个二维倒易截面内。 (4) 原子对电子的散射能力远高于它对 X 射线的散射能力 (约高出 4 个数量级) , 故电子衍射束的强度较大,摄取衍射花样的时曝光时间仅需数秒钟。 电子衍射基本公式:R=λ
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=
(光学透镜 ∆������0≈
������ ������

电磁透镜的像差及其对分辨率的影响:电磁透镜和光学透镜一样,除了衍射 效应对分辨率的影响外,还有像差对分辨率的影响:电磁透镜的像差包括球差、 像散和色差。 球差:因为电磁透镜近轴区域磁场和远轴区域磁场对电子束的折 射能力不同而产生的。 像散 :是由透镜磁场的非旋转对称引起的像差。 色差: 是由于成像电子的能量不同而变化, 从而在透镜磁场中运动轨迹不同以致不能聚 焦在一点而形成的像差。
景深 :是指成像时,像平面不动(像聚不变) ,在满足成像清晰的前提下,
物平面沿轴线前后可移动的距离。 焦长:是指物点固定不变(物距不变) ,在保持成像清晰的条件下,像平面 沿透镜轴线可移动的距离。 透射电子显微镜的结构:电子光学系统、电源系统、真空系统、循环冷却系 统和控制系统。 光阑的位置和作用: 在透射电子显微镜中有许多固定光阑和可动光阑,作用 主要是挡掉发散的电子, 保证电子束的相干性和照射区域。 第二聚光镜光阑作 用是限制照明孔径角,安装在第二聚光镜下方的焦点位置。 物镜光阑(衬度光 阑) : 作用是挡住散射角较大的电子, 使之在像平面上形成具有一定衬度的图像, 另一个作用是在后焦面上套取衍射束的斑点(即副焦点)成像。 位置:放在物 镜的后焦面上。 选区光阑 (场限光阑或视场光阑) : 放在物镜的像平面位置 (等 同于放在样品上)作用是使电子束只能通过光阑限定的微区。 第六章:电子衍射
第四章: X 射线衍射方法的应用 X 射线衍射揭示的是晶体材料的晶胞大小、类型和原子种类与原子排列的规 律, 所以 X 射线衍射方法可以用来分析研究晶体材料的结构特征, 从而进行材料 的物相分析、 测定单晶的取向以及多晶体材料取向变化产生的织构,可以通过衍 射分析来精确测定晶格常数, 可以通过测定材料中原子排列及镜面间距的变化来 表征材料中应力状态。 德拜照相法的系统误差来源: 相机半径误差; 底片伸缩误差; 试样偏心误差; 试样吸收误差。 → 采用精密实验最大限度地消除误差。为了消除试样 吸收的影响,粉末试样做成直径 <∅0.2mm;为了消除试样偏心误差,采用精密加 工的相机,并在低倍显微镜下精确调整位置;为了使衍射线条更加锋锐,精确控 制试样粉末的粒度和处于无应力状态;为了消除相机半径不准和底片伸缩,采用 偏装法安装底片;为了消除温度的影响,将实验温度控制在±0.1℃。 衍射仪精确测定点阵常数, 衍射线的������角系统误差来源: 未能精确调整仪器; 计数器转动与试样转动比(2:1)驱动失调;θ角 0° 位置误差;试样放置误差; 试样表面与衍射仪轴不重合;平板试样误差,因为平面不能替代聚焦圆曲面;透 射误差;入射 X 射线轴向发散度误差;仪器刻度误差等。 → 衍射仪精确 测定点阵常数,工作前必须进行仔细的测量仪调整。可以通过在正 2θ角范围内 对衍射线进行顺时针及逆时针扫描测量,取平均值作为衍射线位置,减小测角仪 转动精度的影响。相对于入射线作正 2θ和负 2θ 方向的扫描测量,可以减小仪器 的零位误差。对仪器的角度指示可以采用标样校正。试样制备中晶粒大小、应力 状态、样品厚度、表面形状等必须满足要求。直线外推法,柯恩法等数据处理方 法也可用来消除误差。 X 射线物相定性分析原理:X 射线物相分析是以晶体结构为基础,通过比较 晶体衍射花样来进行分析的。 对于晶体物质来说,各种物相都有自己特定的结构 参数(点阵类型、晶胞大小、晶胞中原子或分子的数目、位置等) ,结构参数不 同则 X 射线衍射花样也就各不相同, 所以通过比较 X 射线衍射花样可以区分出不 同的物相。 当多种物相同时衍射时,其衍射花样也是各种物相自身衍射花样的机 械叠加。它们互不干扰,相互独立,逐一比较就可以在重叠的衍射花样中剥离出 各自的衍射花样,分析标定后即可鉴别出各自物相。 物相定性分析方法用数字索引进行物相鉴定的步骤: (1)根据待测相的衍射数据,得出三强线的晶面间距值 d1,d2 和 d3(并估算它们 的误差) 。 (2)根据最强线的面间距 d1,在数字索引中找到所属的组,在根据 d2 和 d3 找到其中的一行。 (3)比较此行中的 3 条线,看其相对强度是否与被摄物 质的三强线基本一致。如 d 和 I/I1 都基本一致,则可初步断定未知物质中含有 卡片所载的这种物质。 (4)根据索引中查找的卡片号,从卡片盒中找到所需的卡 片。 (5)将卡片上全部 d 和 I/I1 与未知物质的 d 和 I/I1 对比,如果完全吻合, 则卡片上记载的物质,就是要鉴定的未知物质。 物相定量分析方法:外标法;内标法;直接比较法。
(1)用细玻璃丝涂上胶水后,捻动玻璃丝黏结粉末。为获得足够多粉末,可多
次涂胶水和捻动黏结粉末。 (2)采用石英毛细管、玻璃毛细管来制备试样。将 粉末填入石英毛细管或玻璃毛细管中即制成试样。 (3)用胶水将粉末调成糊状 注入毛细管中,从一端挤出 2mm~3mm 长作为试样。 X 衍射仪法样品制备:试样可以使金属、非金属的块状、片状或各种粉末。 对于块状、 片状试样可以用胶黏剂将其固定在试样框架上,并保持一个平面与框 架平面平行。 粉末试样用胶黏剂调和后填入试样架凹槽中,使粉末表面刮平与框 架平面一致。试样对晶粒大小(1um~5um) 、试样厚度、择优取向、应力状态和 试样表面充分条 件,可借助倒易点 阵和厄瓦德图解
不同点:波长λ 长,试样是大块粉末 1.要精确满足布拉格条件 2.衍射角可以很大 3.衍射强度弱,暴光时间长
电子衍 射
相同点:满足衍射 的必要和充分条 件,可借助倒易点 阵和厄瓦德图解
不同点:波长λ 短,试样是薄片 1.倒易点变成倒易杆 2.不要精确满足布拉格条件 3.衍射角很小 4.衍射强度强,暴光时间短
π
Lg=Kg
式中 Lλ 称为电子衍射的相机常数,而
L 称为相机长度。R 是正空间的矢量,而 ghkl 是倒易空间的矢量,因此相机常数 L λ 是一个协调正、倒空间的比例常数。 单晶电子衍射花样的标定: (1)查表标定法:标定步骤→①在底片上测量 约化四边形的边长 R1、R2、R3 及夹角,计算 R2/R1 及 R3/R1。②用 R2/R1、R3/R1 及∅去 查倒易点阵平面基本数据表。 若与表中相应数据吻合, 则可查到倒易面面指数 (或 晶带轴指数)uvw,A 点指数 h1k1l1 及 B 点指数 h2k2l2。③由 Rdhkl=f0∙MI∙Mp∙λ =L’λ 计算 dEi,并与 d 值表或 X 射线粉末衍射卡片 PDF(或 ASTM)上查得的 dTi 对比, 以核对物相。 此时要求相对误差为 ������ =
法:照相法;衍射仪法。
底片的安装方法:正装法;反装法;偏装法。 德拜法的样品制备: 脆性材料→用碾压或研钵研磨获取; →粉末经过筛→退火去应力处理→试 A) 塑性材料(金属,合金)→用锉刀锉 样 出碎屑粉末。 B) 金属丝样品尽可能减少应力和避免形成织构,用腐蚀方法使之达到要求 试样尺寸∅(0.4~0.8) × (5~10)圆柱样品所采用的方法:
材料分析测试方法复习摘要
前言: 材料现代分析测试方法:光谱分析、电子能谱分析、衍射分析与电子显微分 析。 第一章:X 射线的物理学基础 X 射线衍射学:根据衍射花样,在波长已知的情况下测定晶体结构,研究与 结构和结构变化相关的各种问题。 X 射线光谱学:根据衍射花样,在分光晶体结构已知的情况下,测定各种物 质发出的 X 射线的波长和强度,从而研究物质的原子结构和成分。 产生 X 射线的条件: 1, 以某种方式得到一定量的自由电子; 2, 在高真空中, 在高压电场作用下迫使这些电子作定向高速运动;3,在电子运动路径上设障碍 物,以急剧改变电子的运动速度。 连续 X 射线谱:由波长连续变化的 X 射线构成,和白光相似,是多种波长的 混合体。/由于极大数量的电子衍射到阳极上的时间和条件不可能相同,因而得 到的电磁波将具有连续的各种波长,形成连续 X 射线谱。 特征 X 射线谱:由有一定波长的若干 X 射线叠加在连续 X 射线谱上构成,和 单色的可见光相似,具有一定波长。/当管电压等于或高于 20KV 时,则连续 X 射线谱外,位于一定波长处还叠加有少数强谱线,它们就是特征 X 射线谱。 莫塞莱定律: (物质发出的特征谱波长与它本身的原子序数的关系) ������=K (Z-������) 式中:K 和 σ 是常数。该定律是 X 射线光谱分析的基本依据,是 X 射线光谱学的 重要公式。 根据莫塞莱定律, 将实验结果所得到的未知元素的特征 X 射线谱线波 长,与已知的元素波长相比较,可以确定它是合种元素。 相干散射:由于散射线与入射线的波长和频率一致,位相固定,在相同方向 上各散射波符合相干条件。 不相干散射:散射线分布于各个方向,波长各不相等,不能产生干涉现象。 (X 射线经束缚力不大的电子或自由电子散射后,可以得到波长比入射 X 射线长 的 X 射线,且波长随散射方向不同而改变。 ) 光电效应:物质在光子作用下放出电子的物理过程。 俄歇效应:K 层的一个空位被 L 层的两个空位所替代的现象。 X 射线滤波片的选择规则:Z 靶 <40 时,Z 滤= Z 靶-1;Z 靶>40 时,Z 滤= Z 靶-2。
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