迈图坩埚标准
GE涂层坩埚外观检查标准
外观标准#102 –污物 (表面) (DRT)定义: 在坩埚的内表面或外表面上的外来物质。
如表面簿膜、灰尘、水斑或周边污染。
（见表面外业物质“暴露的夹杂物”）规定: 不可见#104 –细裂纹或裂纹(CRKX)定义: 石英坩埚表面上的任何表面裂纹。
细裂纹是细的开裂线，其以“V”形稍稍进入坩埚壁，当在检验灯下检验时，可以看到是一亮线。
裂缝稍大，可看到是一线性裂口或由撞击而成的一圆形表面图形（有时呈彩虹色）规定: 不可见#105 –崩边(CHPX)定义: 坩埚表面有部分埚壁缺损而形成的完整的碎裂。
1)内圈定义: 内表面上距开口10mm（英寸）内的崩边规定: 没有未修补过的崩边、修过的崩边；其最大尺寸为水平方面10mm，垂直方面5 mm "?").2) 顶部圆周平面定义: 坩埚顶部园周平面内一完整的缺损（透明区域）规定: 没有未修补过的崩边，修过的崩边；其最大深度为 mm (.028")3) 外圈定义: 坩埚外表面上自顶部开口端起（?）内的崩边。
规定: 无未修补的崩边、修过的崩边最大尺寸为12 mm x 12 mm (.47"").修补必须符合最小壁厚规则，即开口端起mm (1/4”)以下。
4) 坩埚体内定义: 在坩埚内壁上，低于开口端环形区的崩边，环形区指自开口端起10mm（?）以下。
规定: 不可见（修过的或未修过的）#109 –划道/擦伤(SCR)定义: 坩埚壁上，裸眼可见的，任何破坏内壁光泽的线条。
（注：“破坏光泽”可用?非金属探针所受阻力探知）规定: 1) 擦伤：没有使内表面光泽破坏或明显变暗的擦伤。
2) 划道：没有大于?宽度的划道。
#112 –气泡(BUB), (DBUB) or (DMBB)定义：在环形区"以下，存在于石英中的球形空洞（穴）。
规定：1)侧壁 (W1)或角处壁 (W2)a) 没有超过" 的。
2) 底部壁(W3)a) 没有超过" 的。
碳化硅坩埚规格
碳化硅坩埚规格
碳化硅坩埚是一种常见的实验室用具，主要用于高温下的化学实验和熔融试样的制备。
它由碳化硅材料制成，具有耐高温、耐腐蚀和优良的热传导性能。
碳化硅坩埚规格的选择对实验结果的准确性和稳定性有着重要影响。
碳化硅坩埚规格通常以容积和尺寸来描述。
容积是指坩埚的容纳量，常用单位为毫升（ml）。
尺寸则包括坩埚的外径、底径、高度等参数，常用单位为毫米（mm）。
根据实验需求，可以选择不同容积和尺寸的碳化硅坩埚。
常见的碳化硅坩埚规格有10ml、25ml、50ml、100ml等。
这些规格适用于不同实验场景和样品量的要求。
例如，在微量试验中，可以选用10ml或25ml的碳化硅坩埚，而在大批量样品处理时，可以选用50ml或100ml的坩埚。
碳化硅坩埚的尺寸也需要根据实验需求来选择。
通常，坩埚的外径和底径会有一定的差异，以方便坩埚的套用和加热。
高度也会根据实验需求而变化，一般在20-50mm之间。
较大尺寸的坩埚适用于大批量样品的加热和熔融，而较小尺寸的坩埚则适用于微量试验和小样品的处理。
在实际使用中，碳化硅坩埚还需考虑到其耐温性能和耐腐蚀性能。
碳化硅坩埚的耐温性能取决于其材料质量和结构设计，一般可以耐
受高温达到1500摄氏度。
而耐腐蚀性能则取决于坩埚的表面处理和材料纯度，碳化硅坩埚可以抵抗酸、碱等化学物质的侵蚀。
选择适合实验需求的碳化硅坩埚规格对于实验结果的准确性和稳定性至关重要。
在选择时，需考虑到实验样品的量和特性，以及所需的耐温性能和耐腐蚀性能。
合理选择碳化硅坩埚规格，可以提高实验效果，保证实验结果的可靠性。
石英坩埚知识
一：石英坩埚的历史和现状1.早期石英坩埚早期的石英坩埚是全部透明的，最早期的石英坩埚是全部的透明的结构，这种透明的结构却容易引起导致不均匀的热传输条件，增加晶棒生长的困难度。
所以这种坩埚基本被淘汰使用。
2.现代的石英坩埚现代拉单晶的石英坩埚一般是采用电弧法生产，半透明状，是拉制大直径单晶硅，发展大规模集成电路必不可少的基础材料现代的石英坩埚则存在二种结构，外侧是一层具有高气泡密度的区域，称为气泡复合层，内侧则是一层3~5mm的透明层，称之为气泡空乏层。
气泡复合层的目的是在与均匀的辐射有加热器所提供的辐射热源。
气泡空乏层的目的在于降低与溶液接触区域的气泡密度，而改善单晶生长的成功率及晶棒品质。
二：国内石英坩埚的情况分析国内石英坩埚厂家有：锦州圣戈班、荆州菲利华、扬州华尔、宁波宝斯达、余姚通达、杭州大和等。
锦州圣戈班、荆州菲利华、扬州华尔,他们的工艺采用真空熔融法，外几家采用的是涂层法，即在坩埚内壁用精细石英砂喷涂到坩埚表面大约1~2mm左右。
涂的不均匀，这就会造成在单晶生长过程中内壁脱落导致单晶生长失败。
宁波宝斯达有一种涂钡锅，可应用到太阳能单晶用坩埚上。
涂钡工艺也可用人工进行，但是人工涂钡的缺点在于在涂钡的同时引进多余的杂质且人工喷涂不均匀，使得在开始拉晶的时候由于杂质过多或者单晶生长过程中内壁脱落，造成放肩时断线，需提杂后才能进行继续拉晶。
注：涂钡工艺的原理：这是因为钡在硅中的平衡偏析系数非常小，使得他在硅晶棒中的浓度小于2.5x10（-9）/cm3，因而不会影响到晶棒的品质。
通常的做法是将石英坩埚壁涂上一层含有结晶水的氢氧化钡（Ba(OH)2.8H2O）（饱和的氢氧化钡水溶液）。
这层氢氧化钡会与空气中的二氧化碳反应形成碳酸钡。
而当这种石英坩埚在单晶炉上被加热时，碳酸钡会分解形成氧化钡，随着氧化钡与石英坩埚反应形成硅酸钡（BaSiO3）。
由于硅酸钡的存在，使得石英坩埚壁上形成一层致密微小的方石英结晶。
实验室常用坩埚及其使用注意事项详解演示文稿
四、镍坩埚
镍易溶于酸，浸取熔块时不可用酸。 新的镍坩埚在使用前应在700℃灼烧数 分钟，以除去油污并使其表面生成氧化膜， 延长使用寿命，处理后的坩埚应呈暗绿色 或灰黑色。以后，每次使用前用水煮沸洗 涤，必要时可滴加少量盐酸稍煮片刻，然 后再用蒸馏水洗涤，烘干使用。
（4）下列的物质不能直接侵蚀或与其它物 质共存下侵蚀铂，在使用铂器皿时应避免 与这些物质接触
❖成分和性质不明的物质不能在铂器皿中 加热或处理。
❖铂器皿应保持内外清洁和光亮。经长久 灼烧后，由于结晶关系，外表可能变灰， 必须及时注意清洁，否则日久后杂质会深 入内部而使铂器皿变脆而破坏。
铂器皿的清洗方法
（4）下列的物质不能直接侵蚀或与其它物 质共存下侵蚀铂，在使用铂器皿时应避免 与这些物质接触
❖易被还原的金属、非金属及其化合物， 如银、汞、铅、铋、锑、锡和铜的盐类在 高温下易被还原成金属，可与铂形成低熔 点合金；硫化物和砷、磷的化合物可被滤 纸、有机物或还原性气体还原，生成脆性 磷化铂及硫化铂。
（1）对铂的领取、使用、消耗和回收都要 制定严格的制度。
铂器皿的使用应遵守下列规则
（2）铂质地软，即使含有少量铑铱的合金也较软， 所以拿取铂器皿时勿太用力，以免其变形。在脱 熔块时，不能用玻璃棒等尖锐物体从铂器皿中刮 取，以免损伤内壁；也不能将热的铂器皿骤然放 入冷水中，以免发生裂纹。已变形的铂坩埚或器 皿可用其形状相吻合的水模进行校正（但已变脆 的碳化铂部分要均匀用力矫正）
银坩埚的质量经烧灼会变化，故不适 宜于沉淀的称量。
四、镍坩埚
镍的熔点为1 450℃，在空气中灼烧易 被氧化，所以镍坩埚不能用于灼烧和称量 沉淀。
镍具有良好的抗碱性物质侵蚀的性能， 故在化验室中主要用于碱性熔剂的熔融处 理。
迈图资料
Weatherable Hardcoat Solutions for Automotive Polycarbonate Applications 车身PC件耐候硬涂层解决方案 车身 件耐候硬涂层解决方案Momentive Performance Materials Golden Zhu, ADE, Aug, 2011The Science Behind The Solutions解决方案背后的科学• Delivering solutions across a wide range of specialty performance applications通过众多特 制产品的应用提供解决方案• Our rich, blended 60+ yearheritage of innovation and market ‘firsts’ provides product portfolios and technical competencies…GE Bayer Silicones我们拥有60年以上的创新及市场 “首创”传统, 能够提供不同的产品 和技术支持…GE and the GE monogram are trademarks of General Electric Company. GE Toshiba, GE Bayer Silicones and GE Silicones are former divisions of General Electric Company and are predecessors in interest to Momentive Performance Materials. Union Carbide is a trademark of Union Carbide Corporation now a wholly owned subsidiary of the Dow Chemical Company. OSi is a former division of Union Carbide purchased by General Electric Company from a successor in interest and is a predecessor in interest to Momentive Performance Materials.Copyright 2010 Momentive Performance Materials Inc. All rights reserved. CONFIDENTIALThe Science Behind The Solutions 解决方案背后的科学• Delivering solutions across a wide range of specialty performance applications通过众多特 制产品的应用提供解决方案• Our rich, blended 60+ yearheritage of innovation and market ‘firsts’ provides product portfolios and technical competencies… 我 们拥有60年以上的创新及市场“首 创”传统, 能够提供不同的产品和 技术支持…• …That link custom technologyplatforms to opportunities for our customers …将订制的技术平台与客户的商机 紧密联系起来Healthcare EquipmentNXT* Sulfur Silane Hardcoats*NXT is a trademark of Momentive Performance Materials Inc.Copyright 2010 Momentive Performance Materials Inc. All rights reserved. CONFIDENTIALThe New MomentiveTransformational Merger Forges An Industry Leader+Pro forma Revenue $ 7.5 Billion Pro forma Adjusted EBITDA $ 1.2 BillionCopyright 2010 Momentive Performance Materials Inc. All rights reserved. CONFIDENTIALGlobal Leadership Across Technologies & Markets#1 #1 #2 #1QuartzEpoxy Base ResinsSiliconesEngineered Materials Coatings/HardcoatsPhenolic Specialty Resins#1#1#2#1Specialty Epoxy ResinsVersatic™ Acids & DerivativesOilfield Proppant ResinsForest Product ResinsLeading market positions in more than 80% of its revenue baseCopyright 2010 Momentive Performance Materials Inc. All rights reserved. CONFIDENTIAL有机硅及应用Copyright 2010 Momentive Performance Materials Inc. All rights reserved. CONFIDENTIAL什么是有机硅14»Silicon is a chemical element硅元素28.0855»Silicone is man-made polymer in which organic and inorganic substances are chemically combined 有机硅是人工合成高分子， 有机硅是人工合成高分子，将无机物和有机物以化学键结合SilicaSiO2SiliconR SiChemical ProcessingSiliconeR R’ R R’ R” - Si - O - Si - O - Si R’Copyright 2010 Momentive Performance Materials Inc. All rights reserved. CONFIDENTIAL什么是有机硅Silicone organic substituentFluoro 氟Chem. Pesistance Lipophobicity, Release,有机官能团取代RRRRH - Si – O - Si –- O - Si – O - Si R’Amina 氨基Functional Olefin antifoam, low friction Styryl 苯乙烯基R’AHAcrylate 丙烯酸酯BR’Epoxy 环氧基Polyether 聚醚Olefin 烷基surface modificationsAffinity Softness Reactivityorganic compatibilityUV cure, copolymer propertiesUV cure, copolymer propertiesorganic compatibility, high RICopyright 2010 Momentive Performance Materials Inc. All rights reserved. CONFIDENTIAL有机硅特性»Superior high and low temperature stability »Excellent ozone / UV / oxidation resistance »Low surface tension »Moisture resistant »Gas permeable »High compressibility »Excellent dielectric properties »High physiological inertness杰出的高低温稳定性 极好的耐臭氧/紫外 氧化性 极好的耐臭氧 紫外/氧化性 紫外 低的表面张力 抗水性 透气性 高的可压缩性能 极好的绝缘性能 良好的生理惰性Copyright 2010 Momentive Performance Materials Inc. All rights reserved. CONFIDENTIAL有机硅在汽车中有广泛的应用耐候胶条 (WSC)coating 车体 Wax Tire Polish Glass Coating 轮胎 Mold Release Green Tire Additive 燃油箱 Heat Insulation Foam 电子集成与探头 Adhesive, Potting, JCR, Coating安全气囊 Bag Coating Seam Coat车灯 Hard CoatBase Coat 镀铝底涂 Adhesive 密封 密封制品 Oil pan Head Cover铝合金部件 Mold Release发动机部件 SPB; Hoses; Engine head gaskets Oil seals; Ignition CableCopyright 2010 Momentive Performance Materials Inc. All rights reserved. CONFIDENTIAL我们在汽车工业的客户有机硅硬涂层HardcoatsCopyright 2010 Momentive Performance Materials Inc. All rights reserved. CONFIDENTIALCopyright 2010 Momentive Performance Materials Inc. All rights reserved. CONFIDENTIALWhat is Hardcoat?什么是硬涂层？A thin (4-8 um) layer of a Silicone-based or modified coating applied as a liquid in solvent and either cured at 120-130 C (for PC) or hardened with UV Radiation有机硅基树脂或者其改性的树脂有机硅基树脂或者其改性的树脂, , , 经溶剂稀释后涂覆在塑料基材上经溶剂稀释后涂覆在塑料基材上经溶剂稀释后涂覆在塑料基材上，，通过紫外辐射固化或者热固化通过紫外辐射固化或者热固化((PC PC基材基材基材:120:120:120--130130℃℃)，形成高硬度的薄涂层硬度的薄涂层..Momentive Silicones Hardcoats are modified to provide various properties by the addition of UV Absorbers, Adhesion Promoters (to make Primerless Coatings) and Flexibilisers etc.迈图有机硅硬涂层可通过加入紫外线吸收剂迈图有机硅硬涂层可通过加入紫外线吸收剂、、附着促进剂附着促进剂、、增韧剂等来进行改性从而提供多方面的性能增韧剂等来进行改性从而提供多方面的性能。
坩埚
坩埚为一陶瓷深底的碗状容器。当有固体要以大火加热时，就必须使用坩埚。因为它比玻璃器皿更能承受高温。坩埚使用时通常会将坩埚盖斜放在坩埚上，以防止受热物跳出，并让空气能自由进出以进行可能的氧化反应。坩埚因其底部很小，一般需要架在泥三角上才能以火直接加热。坩埚在铁三角架上用正放或斜放皆可，视实验的需求可以自行安置。坩埚加热后不可立刻将其置于冷的金属桌面上，以避免它因急剧冷却而破裂。也不可立即放在木质桌面上，以避免烫坏桌面或是引起火灾。正确的作法为留置在铁三角架上自然冷却，或是放在石棉网上令其慢慢冷却。坩埚的取用请阅坩埚钳。
(6)离心时作为盛装的容器(1)装溶液时不超过试管容量的1/2，加热时不超过试管的1/3。
(2)用滴管往试管内滴加液体时不能伸入试管口；
(3)取块状固体放入试管要用镊子，不能使直接固体坠入试管中，防止试管底破裂；
(4)加热使用试管夹、试管口不能对着人。加热盛有固体的试管时，管口稍向下，加热液体时倾斜约45°；
坩埚试管规格：试管分普通试管、具支试管、离心试管等多种。
普通试管的规格以外径(mm)×长度(mm)表示，如15×150、18×180、25×200等。(1)盛取液体或固体试剂；
(2)加热少量固体或液体；
(3)制取少量气体反应器；
(4)收集少量气体用；
(5)溶解少量气体、液体或固体的溶质。
坩埚的种类大体分为三大类：第一类炼铜坩埚，其规格“号”，；第二类为炼铜合金坩埚，特圆形有100个号，圆形有100个号，第三种炼钢用的坩埚，有100个号。
坩埚规格(大小)，通常是用顺序号大小表示的，1号坩埚具有能熔化1000g 黄铜的容积，其重量为180g。坩埚在熔炼不同金属或合金时熔化量计算，可以坩埚的容重规格号，乘上相应金属和合金系数。
镁质坩埚种类及规格
镁质坩埚种类及规格
镁质坩埚是一种用于高温熔炼金属和其他材料的容器。
它有很高的耐热性和化学稳定性，因此在许多工业领域得到广泛应用。
以下是常见的镁质坩埚类型和规格:
1. 普通型镁质坩埚: 适用于常规金属熔炼，如铜、铝、锌等。
规格从10毫升到30升不等。
2. 高纯度镁质坩埚: 适用于高纯度金属熔炼，如锗、硅、锡等。
规格从5毫升到20升不等。
3. 钛涂镁质坩埚: 适用于铜合金、铝合金、镁合金等的熔炼。
规格从10毫升到100升不等。
4. 碳化硅涂镁质坩埚: 适用于高温熔炼，如钨、钼、铂等。
规格从5毫升到50升不等。
5. 氮化硅涂镁质坩埚: 适用于氮化硅、氮化铝等材料的熔炼。
规格从5毫升到20升不等。
以上是常见的镁质坩埚类型和规格，具体选择应根据熔炼材料的特性和使用条件来确定。
- 1 -。
坩埚中层砂指标-概述说明以及解释
坩埚中层砂指标-概述说明以及解释1.引言1.1 概述概述是文章引言的重要组成部分，它旨在向读者介绍本文的主题和背景。
在本篇长文中，我们将探讨关于坩埚中层砂指标的问题。
坩埚中层砂指标是指在金属冶炼过程中，用于填充坩埚中层，以支撑和保护熔融金属的一种特定砂料。
这种砂料需要具备一定的物理和化学性质，以确保金属冶炼过程的顺利进行。
本文将从以下几个方面对坩埚中层砂指标进行详细介绍。
首先，我们将从概念和定义方面出发，解释什么是坩埚中层砂指标以及其在金属冶炼过程中的作用。
其次，我们将研究和分析目前市场上常用的几种坩埚中层砂指标的种类和性质，比较它们的优缺点，并提出一些改进和优化的建议。
然后，我们将深入探讨坩埚中层砂指标的选用原则，包括物理性能要求、化学稳定性、磨损性能等方面的考虑。
我们将从微观角度出发，分析这些指标对金属冶炼工艺参数的影响，以期达到提高冶炼效率和产品质量的目的。
最后，在结论部分，我们将对本文进行总结，并展望未来坩埚中层砂指标的发展方向和应用前景。
我们相信，通过对坩埚中层砂指标的深入研究和有效应用，将为金属冶炼领域的发展做出重要的贡献。
通过本文的研究，我们希望可以增加人们对坩埚中层砂指标的了解，促进其在金属冶炼过程中的应用，为相关领域的科研人员和工程技术人员提供参考和借鉴，同时也为金属冶炼工艺的改进和创新提供有益的思路和方法。
让我们一起深入研究坩埚中层砂指标，为金属冶炼行业的发展贡献自己的力量。
1.2 文章结构文章结构:本文分为引言、正文和结论三个部分。
引言部分主要概述了坩埚中层砂指标的研究背景和目的，说明了文章的重要性和意义。
正文部分将重点阐述和探讨坩埚中层砂指标的相关要点，具体分为第一个要点和第二个要点两个部分。
结论部分将对整篇文章进行总结，并展望未来坩埚中层砂指标研究的发展方向和趋势。
此外，文章还会包含一些其他内容，如引用文献、实验数据和图表等，以支持对坩埚中层砂指标的论述和分析。
通过以上结构的安排，读者可以清晰地了解文章的框架和内容，有助于提高文章的逻辑性和可读性。
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Quartz Crucibles
P.S. :
8-3-510 (PV)
Types PV (Photo voltaic) Page: 1 of 3
INSPECTION CRITERIA Date: September 13, 2007
PV 型(太阳能级)石英坩锅检验标准
Filename: 8-3-510 X China.doc * Indicates a Change
Owner: P.L. Mgr. Approved: Quality Supersedes:
适用范围： 本标准适用于迈图石英(原GE 石英)产的太阳能级坩锅的检验。
#112 – BUBBLES 气泡 气泡中不能含有夹杂或色差
#112A* –封闭的气泡BUBBLES (Enclosed) (BUB)
定 义：石英中存在的球形的空间。
(Definition: Spherical voids existing in the quartz.)
位置
外径小于20英寸(508mm)的石英坩埚 外径≥20” (508mm)
从边缘向下38mm
不能有超过4mm 的气泡 W1-侧壁 不能有超过1.5mm 的气泡 W2-壁角
不能有超过1.5mm 的气泡
W3 –底部
不能有超过2.0mm 的气泡
不能有超过2.0mm 的气泡
最多有2个1.5mm~2.0mm 的气泡 最多有4个1.5mm~2.0mm 的气泡 最多有3个1.0mm~1.5mm 的气泡 最多有6个1.0mm~1.5mm 的气泡 通常的
(W1, W2, 或 W3)
最多有20个0.5mm~1.0mm 的气泡
最多有40个0.5mm~1.0mm 的气泡
#112E* -开口气泡OPEN BUBBLES (OBB)
1) 外表面上的开口气泡(Outside Surface)
定 义： 一个孔状气泡破坏了正常的外表面，存在于从坩埚边缘向外表面下方38mm 处。
标 准：a) 不论多深，直径不能超过2mm 。
b ）深度不能超过正常壁厚的1/3。
2) 内表面上未打磨的气泡孔Unglazed ID Bubble Hole 定 义： 象是被刀向下挖出来的边缘尖锐的孔。
Limit 标准: 不可以有。
3) 内表面上打磨过的气泡孔（对照缺陷＃124C 白雾即内表面上由于白雾引起的向下凹陷）
定 义：一个看上去向内表面凹陷的孔，孔的边缘和底部都很光滑。
标 准： a) 不论多深，直径不能超过2mm 。
Quartz Crucibles
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Types PV (Photo voltaic) Page: 2 of 3
INSPECTION CRITERIA Date: September 13, 2007
PV 型(太阳能级)石英坩锅检验标准
Filename: 8-3-510 X China.doc * Indicates a Change
Owner: P.L. Mgr. Approved: Quality Supersedes:
b ）凹陷不能超过0.5mm 深。
#124C -石英白雾(白点,气化物) VAPOR (VAP)
标准：在坩埚内表面上浓缩的石英物质，通常是壁厚的一部分，覆盖在光滑的表面之上。
白雾是均匀的分布在坩埚表面的，且有一个个的很细小的气泡孔样子（通常大于3mm 长），每个单独的气泡要小于0.64mm 。
白雾相对于坩埚表面呈白色，且呈蜂窝状凹陷入壁厚中。
气化物可能有乳白色外观，这是由透明的细泡以及在壁内光滑的细泡形成的表面凹坑（有光泽的凹陷）形成的。
标准:
1）未打磨的或粗糙的表面是不可以的 2）单个的白雾面积不能超过40 mm 2
（注意：40mm 2即3.18 x 12.7, 4 x 10 mm, 5 x 8 mm; 或直径7.1 mm 的圆面积） 3）一个坩埚上不能超过5个白雾，且每个白雾要大于3.18mm 长。
#141 –夹杂物（黑点等）
A. 暴露在内表面上的夹杂物
定 义： 任何在内表面中并暴露于内表面上的非石英物质的外来物，可视为在光泽的内表面
中的一个断口。
Limit 标准: 不能有。
B. 未暴露的夹杂物
定 义：完全处于坩埚壁内中的非石英的任何外来物。
标准Limits ：
位置
标准
外径＜20” (508mm)
外径≥(20”)508mm
0.25~0.5mm 的不能超过25个 0.25~0.5mm 的不能超过50个
0.5~1.5mm 的不能超过10个 0.5~1.5mm 的不能超过20个 通用位置（W1, W2 和W3）
1. 5~3mm 的不能超过3个 1. 5~3mm 的不能超过6个
C. 暴露于外表面的夹杂物 (INC) OD Exposed Inclusions (INC)
Quartz Crucibles
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8-3-510 (PV)
Types PV (Photo voltaic) Page: 3 of 3
INSPECTION CRITERIA Date: September 13, 2007
PV 型(太阳能级)石英坩锅检验标准
Filename: 8-3-510 X China.doc * Indicates a Change Owner: P.L. Mgr. Approved: Quality Supersedes:
定义：任一外来物质（不是石英）暴露在外表面上
标准 依照内表面未暴露的夹杂的标准，从内表面可以看到和测量得到。
注意: 对于水渍，可以用DI 水和（或）酒精布(酒精布不能重复使用)清洗干净。
#105 -崩边 定 义：坩埚表面有部分埚壁缺损而形成的完整的碎裂。
1)
内壁边缘 定 义： 从开口一端算起到内表面的距离在10mm 范围内的缺口。
标准： 没有修整过的缺口是不可以有的。
修整过的缺口的最大尺寸是 水平方向上长10mm ，竖直方向上长5mm ，即长10mm ×宽5mm 。
2)
顶部圆周平面 定 义： 在坩埚顶部边缘处平坦的壁厚面上的整个壁厚缺失。
标准： 没有修整过的缺口是不可以有的。
修整过的缺口最深为0.7mm
3)
外部边缘 定 义： 从坩埚开口端算起到外表面的距离在12.7mm 范围内的缺口
标准：没有修整过的缺口是不可以有的。
修整过的缺口的最大尺寸为：12mmX12mm 。
从开口端向下6.4mm 的位置处的修整必须符合最小壁厚要求.
4)
坩埚腔体上的缺口 定 义： 缺口在坩埚内表面上。
从距离开口端10mm 向下的范围内。
标 准： 不可以有（修整或未修整）
#142 Impurities: 纯度
Routinely Monitored Impurities: (PPMW ) 定期检测的杂质含量（单位：百万分之一）
杂质元素
(典型值) 500
15.0 0.4
< .05
0.2
0.5
0.1 < .05
0.6 0.8
1.0
0.9
注：Certifications 合格证
None required, unless specified elsewhere (e.g. Customer Product Standard ). 除非另有要求（如客户的产品标准），一般不需要合格证。