简凯-低迁移性光引发剂的研究
一类大分子低迁移氧化膦UV-LED光引发剂的制备方法[发明专利]
![一类大分子低迁移氧化膦UV-LED光引发剂的制备方法[发明专利]](https://img.taocdn.com/s3/m/c043e9de0b4c2e3f56276341.png)
专利名称：一类大分子低迁移氧化膦UV-LED光引发剂的制备方法
专利类型：发明专利
发明人：孙建,郑康健
申请号：CN201711295942.7
申请日：20171208
公开号：CN109897063A
公开日：
20190618
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明提供一类大分子低迁移氧化膦UV‑LED光引发剂的制备方法，采用1，3，5‑三甲基苯为原料，在路易斯酸或固体超强酸的催化作用下与三氯乙酰氯或者苯甲酰氯进行傅克反应，得到的产物在酸性或碱性条件下水解得到单羧基、双羧基、三羧基取代的2，4，6‑三甲基苯，得到的由单羧基、双羧基、三羧基取代的2，4，6‑三甲基苯与三氯化磷、氯化亚砜或光气作用下生成酰氯，酰氯与乙氧基二苯基化磷或者二乙氧基苯基化磷得到大分子低迁移氧化膦UV‑LED光引发剂，本发明保护一类新型大分子氧化膦引发剂的新结构，通过创新方法获得多酰氯取代基，从而得到多官能大分子的氧化膦引发剂。
申请人：天津墨森科技有限公司
地址：300000 天津市滨海新区华苑产业区兰苑路2号(贰号)3号楼-1-802
国籍：CN
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利用干燥空气改善熔融KOH对单晶碳化硅的腐蚀
技术将腐蚀前后的位错与腐蚀坑一一对应,验证了该方法的可靠性。 该改进方案已成为 SiC 衬底材料缺陷
分析的标准方法。
由于 Na2 O2 在熔融 KOH 中会分解,为腐蚀剂提供充足的活性氧,从而提高腐蚀效果。 受此启发,本文引
生的氧化还原反应,使得 KOH 腐蚀 SiC 衬底的效果近似于用 KOH + Na2 O2 共熔体腐蚀得到的效果。 本研究有效改良
了传统 KOH 腐蚀方法,对于稳定 KOH 腐蚀条件,提高 SiC 位错腐蚀效果具有很好的实际应用价值。
关键词:碳化硅;腐蚀;位错;缺陷表征;鼓泡器;腐蚀速率
中图分类号:TM23
人 工 晶 体 学 报
第 52 卷 第 5 期
2023 年 5 月
JOURNAL
OF
SYNTHETIC
CRYSTALS
Vol. 52 No. 5
May,2023
利用干燥空气改善熔融 KOH 对单晶碳化硅的腐蚀
孙 帅1,2 ,宋华平2 ,杨军伟2 ,王文军2,3 ,屈红霞2 ,简基康1
etching process is often affected due to the hydrolysis of KOH. To ensure stability and reproducibility of the etching process,
frequent replacement of KOH is necessary, which leads to a large consumption of the etching materials. In this study, an
可聚合光引发剂、共引发剂的设计、合成与引发活性评价
可聚合光引发剂、共引发剂的设计、合成与引发活性评价紫外(UV)光固化技术：指在紫外或可见光照射下，通过光引发剂引发，使单体和低聚物交联固化的技术。
这种技术具有适用性广、节能、环保、清洁、高品质等特点，是一种“绿色技术”，广泛应用于涂料、油墨、胶黏剂、印刷、3D打印、电子通信及牙科等领域中。
光固化树脂50%-60%活性稀释剂30%-40%光引发剂3%-8%助剂 3%-8%光固化体系组成“5E ”优点：u E fficient （高效）u E nabling （适应性好）u E conomical （经济）u E nergy Saving （节能）u E nvironmental Friendly （环境友好）体积收缩固化深度受限氧阻聚迁移黄变u2005年，意大利、法国、西班牙和葡萄牙的雀巢婴儿配方奶召回事件引起全社会的强烈反响，罪魁祸首就是配方奶纸盒表面印刷油墨中的光引发剂2-异丙基硫杂蒽酮（2-ITX）和 N,N-二甲氨基苯甲酸异辛酯（EHDAB），其迁移量高达120～300μg /lu2009 年2 月，德国和比利时当局向欧盟委员会发出警告，称有些麦片可能被4-甲基二苯甲酮（4-MBP）污染，存在食品安全风险u2011年，德国宣布召回从比利时进口的冷冻细面条，主要原因是面条包装上印刷油墨所含有的二苯甲酮（BP）渗透到面条中，导致面条被污染，迁移量达 1747μg /kg简凯：2016年，光固化年会闫庆金、罗翠锐：2016年UV墨技术专题研讨会José Luis Aparicio，María Elizalde，Packag. Technol. Sci. 2015; 28: 181-203闫庆金：2016年UV 墨技术专题研讨会Johns, S. M. et al. Packag. Technol. Sci . 2000; 13: 99-104José Luis Aparicio ，María Elizalde ，Packag. Technol. Sci. 2015; 28: 181-203罗翠锐：2016年UV 墨技术专题研讨会（Set off ）(Permeation)José Luis Aparicio，María Elizalde，Packag. Technol. Sci. 2015; 28: 181–203J.Brandschy, P. Merceay, M. Rütery, V. Tosa，O. Piringery，Food Additives and Contaminants, 2002, V ol. 19, Supplement 1, 29-41杨金梁，2018年第十九届中国辐射固化年会增大分子量低迁移光引发剂大分子光引发剂多官能度光引发剂可聚合光引发剂与大分子相连，分子链上一般含有多个引发剂结构单元，光照后局部自由基浓度较高光引发剂分子中含有可参与聚合的光化学活性基团，减少聚合后的残留，进一步降低引发剂的迁移量，提高引发剂活性光引发剂分子中含有多个可引发聚合的引发剂基团，提高引发剂活性，降低引发剂用量，减少引发剂的迁移量Photopolymerizable photoinitiatorsPolymeric macromolecular photoinitiatorsMultifunctional photoinitiators大分子光引发剂优点ü溶解性高，与树脂有良好的相容性ü迁移性低，挥发性弱，气味小ü不易因引发剂残基迁移引起的固化膜黄变ü反应活性高、可调可控R.Burrows et al. Surface Coatings International Part B: Coatings Transactions. 2004, 87(B2): 127-135Prog. Polym. Sci., 2019, 99, 101165大分子光引发剂的主要类型：高交联聚合物光引发剂u 引发剂分子在主链Mater. Chem. Phys., 2014, 143:1391-1395J.Appl. Polym. Sci. 2016, 133, 43910.低迁移光引发剂：大分子光引发剂u引发剂分子在主链TPGDANie et al., Polymer 55 (2014) 3656-3665u引发剂分子在主链低迁移光引发剂：大分子光引发剂u 引发剂分子在侧链J.Photochem. Photobio. A: Chem., 2014, 274, 43-49Macromol. Rapid Commun. 2015, 36, 923−928陈用烈，曾兆华，杨建文，辐射固化材料及其应用，化学工业出版社，2003, 141u 引发剂分子在侧链低迁移光引发剂：大分子光引发剂低迁移光引发剂：大分子光引发剂Stephen R Postle，IGM Resins Inc. ，2017年固化年会Polym. Bull. 2012, 68(3): 729-743.Polymer 50(16): 3917-3923.u高交联聚合物光引发剂Polymers, 2020, 12(12): 3005Chin. Chem. Lett .,2018, 29, 451–455Polymer Chemistry，2020，11(11): 1885-1893.多官能度光引发剂（MFPIs）一个光引发剂分子中含有两个或两个以上的光固化基团，以提高光引发活性和速度，降低引发剂的用量，减少引发剂的迁移。
简凯-低迁移性光引发剂的研究
Beijing University of Chemical Technology简凯北京化工大学光聚合技术研究中心Beijing University of Chemical Technology目录content光引发剂迁移问题低迁移光引发剂研究双官能度光引发剂的合成结论01020304Beijing University of Chemical Technology固化速度成本黄变倾向…2-ITX (2005)BP ( 2009) BP (2011)4-MBP (2009)光引发剂迁移01Ø 1.1 引发剂性能及迁移案例Beijing University of Chemical Technology欧盟印刷油墨协会（EuPIA，2013）光引发剂迁移限量(SML)[mg/kg] 2-ITX、4-ITX0.05EDAB0.05TPO0.0529590.053690.15 BP、2-MBP、 3-MBP、 4-MBP0.6对二甲氨基苯甲酸异辛酯 2.4819 3.3瑞士条例(01-04-2013)光引发剂迁移限量SML[mg/kg]Part 11730.01B 1840.01B DETX0.01B PBZ0.01B BDK0.01B 9070.01BØ 1.2 部分引发剂迁移限量标准Beijing University of Chemical TechnologyFoodInkSubstrate迁移挥发闫庆金、罗翠锐：2016年UV墨技术专题研讨会堆栈Ø 1.3 光引发剂迁移方式光引发剂蒸气压（Torr ，25℃）BP 8.23×10-4184 3.68×10-5BDK 1.06×10-5ITX 1.43×10-6TPO6.71×10-11Beijing University of Chemical Technology扩散系数(D)与相对分子质量(Mr)的关系：J. Brandsch, P. Mercea, M. Rüter, et al. Food Additives and Contaminants, 2002, 19(Suppl.): 29-41.D*P ：迁移物在基材中的最大扩散系数；A P ：与基材相关的扩散参数Ø 1.4 迁移模型的建立T 一定时，A P 为常数D*P = F(Mr)Beijing University of Chemical TechnologyMr>600，D*可忽略Mr<300，D*明显增大Mr>300，D*明显下降，如TPO ，369Mr<200，D*达到最大值，如BPD*MrBeijing University of Chemical TechnologyMr(PI)<500低迁移光引发剂02残留光引发剂光解碎片(~250)气味,毒性大分子量光引发剂高活性高溶解性低挥发性无黄变u 2.1 大分子量光引发剂的提出Beijing University of Chemical Technologyü 多官能度 光引发剂光活性基团含量高光解产物的挥发性低迁移性降低ü 将小分子量光引发剂作为端基或侧基引入聚合物中p光活性基团含量相对较低影响体系固化速度u2.2 大分子量光引发剂的研究方向R. Burrows, R. S. Davidson, D. R. Illsley. Surface Coatings International Part B: Coatings Transactions. 2004, 87(B2): 127-135.Beijing University of Chemical TechnologyY. Z. Xie, H. Huang. J. Appl. Polym. Sci. 2016, 133, 43910.K. M. Wang, Y . H. Lu, P. H. Chen, et al. Materials Chemistry and Physics, 2014, 143: 1391-1395.多官能度大分子量光引发剂举例端基侧基Ö. Karahan, N. Arsu, D. Avci, Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry, 2014, 274, 43-49.Beijing University of Chemical Technology 部分已商业化的大分子量光引发剂金养智. 光固化材料性能及应用手册. 2010. 145-147.Beijing University of Chemical Technology双官能度光引发剂合成03光引发剂λmax (nm)εmax (L·mol -1·cm -1)MBP258.216920MBPAcPA 256.242720[MBP]=5×10-5 mol· L -1; [MBPAcPA]=2.5×10-5 mol· L -1p 3.1 双官能度夺氢型光引发剂I = 50 mW ·cm -210 min 后:紫外光降解 4.92×10-7 mol·L -1·min -12.03×10-7 mol·L -1·min -132.84%6.82%Beijing University of Chemical Technology迁移性能测试(⑴)0.2 mol% MBPAcPA (⑵)0.4 mol% MBP/0.4 mol% EDAB 单体：TPGDA ；I = 40 mW ·cm-2光引发性能测试(⑴)0.4 mol% BP/0.4 mol% EDAB(⑵)0.2 mol% MBPAcPA (⑶)0.2 mol% MBPAcPA/0.4 mol% EDAB单体：EOEOEA ；I = 50 mW ·cm -2Beijing University of Chemical Technology p 3.2 双官能度裂解型光引发剂光引发剂λmax (nm)εmax (L·mol -1·cm -1)1173245.8126561173AcPA 243.625000[1173]=5×10-5 mol· L -1; [1173AcPA]=2.5×10-5 mol· L -1紫外光降解I = 50 mW ·cm -2光照120 s ：2.69×10-7 mol·L -1·s -10.90×10-7 mol·L -1·s -166.53%43.29%Beijing University of Chemical Technology迁移性能测试(⑴)0.4 mol% 1173(⑵)0.2 mol% 1173AcPA单体：TPGDA ；I = 40 mW ·cm -2光引发性能测试(⑴)0.4 mol% 1173(⑵)0.2 mol% 1173AcPA单体：EOEOEA ；I = 50 mW ·cm -2Beijing University of Chemical Technology未来光引发剂的研究方向04高吸光性、高引发活性无黄变低迁移性无颜色、抗氧化性…Beijing University of Chemical Technology Thank you for your attention！。
高分子光引发剂研究进展
高分子光引发剂研究进展谢刚;张春辉;焦晨婕;钟荣【摘要】基于大分子光引发剂具有低迁移、耐黄变等优点,本文介绍了自由基、阳离子及其他大分子光引发剂的研究状况,简要叙述了一些大分子光引发剂的制备、引发的效果以及引发机理,并对以后光引发剂的发展趋势进行了展望.【期刊名称】《江西化工》【年(卷),期】2018(000)002【总页数】8页(P9-16)【关键词】高分子光引发剂;可聚合;研究进展【作者】谢刚;张春辉;焦晨婕;钟荣【作者单位】南昌航空大学环境与化学工程学院材料化学系,江西南昌330063;南昌航空大学环境与化学工程学院材料化学系,江西南昌330063;南昌航空大学环境与化学工程学院材料化学系,江西南昌330063;南昌航空大学环境与化学工程学院材料化学系,江西南昌330063【正文语种】中文1 前言光固化技术是20世纪60年代问世的新型绿色技术，是指在光(紫外或可见光)的作用下，液态低聚物(包括单体)经过交联聚合而形成固态产物的过程[1]。
在2004年5月召开的北美辐射固化国际会议上，光固化技术被归纳为具有“5E”特点：高效(Efficient)、适应性广(Enabling)、经济(Economical)、节能(Energy saving)和环境友好(Environmental friendly)[2]。
1946年美国Inmont公司申请了第一个紫外固化油墨的专利，1968年德国Bayer公司成功开发光固化木器涂料，此后光固化技术广泛应用于涂料[2]、油墨[3]、胶粘剂[4]、生物材料[5]、纳米材料[6]等领域。
等领域。
任何一个光固化配方都主要包括包括：(1)低聚物(或称树脂)，赋予材料以基本的物理化学性能；(2)活性稀释剂(或称单体)，主要用于调节体系的粘度，但对固化速率和材料性能也有影响；(3)光引发剂，它吸收紫外光或可见光辐射能，使低聚物及稀释剂迅速由液态转变成固态物质的化合物。
UV固化光引发剂按分子量分类，可分为小分子光引发剂、大分子光引发剂(MPI)。
2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮光引发剂机理
2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮光引发剂机理文章标题：探寻2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮光引发剂的机理与应用一、什么是2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮光引发剂？2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮，简称HMBA，是一种常用的光引发剂，它的分子结构中包含了羟基和甲基基团，同时还有苯环和丙酮基团。
这种化合物在聚合物材料的光固化过程中起着重要的作用，具有较高的光敏性和反应活性。
通过深入理解HMBA的光引发机理和应用，可以更好地指导工业生产和科研实践。
二、HMBA的光引发机理1. 光激发过程HMBA的光引发机理首先涉及到光激发过程。
当HMBA暴露在紫外光或可见光下时，其分子将吸收光子能量，激发到激发态，这一过程可以用以下方程表示：HMBA + hν → HMBA*（激发态）2. 光致解离过程在激发态下，HMBA分子发生光致解离反应，产生自由基，此过程可用以下方程描述：HMBA* → 自由基3. 自由基引发聚合反应生成的自由基能够引发单体的聚合反应，导致材料固化。
这一步骤对于控制光固化过程和最终产物的性能具有重要影响。
三、HMBA光引发剂的应用1. 工业生产HMBA光引发剂广泛应用于光固化胶粘剂、光刻胶、光固化油墨等领域，其快速固化、高效率和环保的特性受到了工业界的青睐。
2. 科研实践HMBA作为一种光引发剂，对于研究光化学反应、聚合物材料的性能等方面具有重要意义。
科研人员可以利用其特殊的光引发机理，开展相关研究，推动材料科学领域的发展。
四、个人观点和理解HMBA作为光引发剂，在聚合物材料的光固化中起着关键作用。
深入了解其光引发机理和应用，有助于更好地设计光固化体系、提高工业生产效率，同时也为科研实践提供了有力支持。
我个人认为，HMBA的研究和应用潜力巨大，值得进一步深入探讨。
总结：通过对2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮光引发剂的机理和应用进行全面的探讨，我们不仅可以更好地理解光引发剂在聚合物材料中的作用机制，还可以为相关产业的发展和科学研究提供有力支撑。
凯库勒烯芳香性及光诱导电荷转移物理机制研究
凯库勒烯芳香性及光诱导电荷转移物理机制研究
冯伟键;邹怡;王金刚
【期刊名称】《石油化工高等学校学报》
【年(卷),期】2024(37)2
【摘要】芳香性是芳香族化合物的重要化学性质之一,明确环状共轭体系的芳香性对了解体系的化学反应性能和稳定性至关重要。
通过量子化学计算和波函数分析对凯库勒烯(Kekulene)的芳香性、单光子吸收(OPA)和双光子吸收(TPA)光谱及电子转移特性进行了详细的研究;通过多中心键级和AV1245指数对分子中不同苯环的芳香性进行了定量分析;通过电子定域化函数(ELF)、定域化轨道定位函数(LOL)、磁感生电流和等化学屏蔽表面(ICSS)等多种方法,对Kekulene的芳香性进行了研究;通过电荷差分密度(CDD)对OPA和TPA跃迁过程的电子转移进行了可视化分析。
结果表明,1、2环的芳香性明显强于3、4环;ELF和LOL的π电子可以在1环两侧高度离域并形成回路;OPA光谱具有较高跃迁偶极矩的激发态,更易成为TPA过程中的中间态。
研究结果可为不同体系的芳香性提供有效的理论方法和应用途径。
【总页数】7页(P24-30)
【作者】冯伟键;邹怡;王金刚
【作者单位】辽宁石油化工大学理学院
【正文语种】中文
【中图分类】TQ012
【相关文献】
1.激发态光物理的拓扑控制：对（N，N＇－二正癸基）氨基苯甲腈的簇集与光诱导分子内电荷转移
2.球壳烯与侧链含有给电子基团聚合物在光诱导下的电荷转移现象
3.芳香性研究的最新进展:M bius芳烃和富勒烯基芳香性全反式[18]轮烯
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光引发剂BAPO的合成研究
Ｐ一 ０基 团邻 位 的 ２个苯 环 氢 的 化 学位 移 ；７ ５ ８ ． ４— ７ ５ ｐ 处 为 Ｐ— Ｏ基 团直 接 相 连 的 苯 环且 处 于 ． １ｐ ｍ
第３ ０卷 第 ５期
山
西
化
工
Ｖｏ． ０ Ｎｏ ５ １３ ． Ｏｃ．２ ｌ ｔ Ｏ０
２１ ０ ０年 １ Ｏ月
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量 利用率 高 、 适用 热 敏基 材 、 污 染 、 膜 质量 高 等 无 涂 优点 ， 是新 一 代绿 色 化 工 产 品。紫 外 光 固化技 术 所 需要 的光 引发 剂对 光 固化涂料 成本 以及光 固化 速率
的影 响至关 重要 ， 紫外 光 固化涂 料 的发 展在 一 定 意
基二氯化膦为起始原料 ， 在萘催化下与单质钠反应 形成 膦钠 盐 中间体 ， 再与酰 氯反 应 ， 后经 氧化 一釜 最 合 成 了 Ｂ Ｐ 双 酰基 氧化 膦 ） Ａ Ｏ（ 。本 方 法 工 艺 简单 、 原 料 易得 ， 合 于工业 化生产 。 适
２１ ００年 １ Ｏ月
吴来喜等 ， 光引发剂 Ｂ Ｐ Ａ Ｏ的合成研究
・１ ３・
护下 室温 搅 拌 反 应 ， 液 颜 色 由无 色 变 为 墨 绿 色 。 溶
中 间体易 发 生 副 反 应 ， 致 产 率 降 低 ； 加 温 度 过 导 滴
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Beijing University of Chemical Technology
简凯
北京化工大学
光聚合技术研究中心
Beijing University of Chemical Technology
目录content
光引发剂迁移问题
低迁移光引发剂研究
双官能度光引发剂的合成
结论
01
02
03
04
Beijing University of Chemical Technology
固化速度
成本
黄变倾向
…
2-ITX (2005)
BP ( 2009) BP (2011)
4-MBP (2009)
光引发剂迁移
01
Ø 1.1 引发剂性能及迁移案例
Beijing University of Chemical Technology
欧盟印刷油墨协会（EuPIA，2013）
光引发剂迁移限量(SML)
[mg/kg] 2-ITX、4-ITX0.05
EDAB0.05
TPO0.05
29590.05
3690.15 BP、2-MBP、 3-MBP、 4-MBP0.6
对二甲氨基苯甲酸异辛酯 2.4
819 3.3
瑞士条例(01-04-2013)
光引发剂迁移限量SML
[mg/kg]Part 11730.01B 1840.01B DETX0.01B PBZ0.01B BDK0.01B 9070.01B
Ø 1.2 部分引发剂迁移限量标准
Beijing University of Chemical Technology
Food
Ink
Substrate
迁移
挥发
闫庆金、罗翠锐：2016年UV墨技术专题研讨会
堆栈
Ø 1.3 光引发剂迁移方式
光引发剂蒸气压（Torr ，25℃）
BP 8.23×10-4184 3.68×10-5BDK 1.06×10-5ITX 1.43×10-6TPO
6.71×10-11
Beijing University of Chemical Technology
扩散系数(D)与相对分子质量(Mr)的关系：
J. Brandsch, P. Mercea, M. Rüter, et al. Food Additives and Contaminants, 2002, 19(Suppl.): 29-41.
D*P ：迁移物在基材中的最大扩散系数；A P ：与基材相关的扩散参数
Ø 1.4 迁移模型的建立
T 一定时，A P 为常数
D*P = F(Mr)
Beijing University of Chemical Technology
Mr>600，D*可忽略
Mr<300，D*明显增大Mr>300，D*明显下降，如TPO ，369
Mr<200，D*达到最大值，如BP
D*
Mr
Beijing University of Chemical Technology
Mr(PI)<500低迁移光引发剂
02
残留光引发剂
光解碎片
(~250)
气味,毒性
大分子量光引发剂
高活性
高溶解性
低挥发性
无黄变
u 2.1 大分子量光引发剂的提出
Beijing University of Chemical Technology
ü 多官能度 光引发剂
光活性基团含量高光解产物的挥发性低迁移性降低
ü 将小分子量光引发剂作为端基或侧基引入聚合物中
p光活性基团含量相对较低影响体系固化速度
u2.2 大分子量光引发剂的研究方向
R. Burrows, R. S. Davidson, D. R. Illsley. Surface Coatings International Part B: Coatings Transactions. 2004, 87(B2): 127-135.
Beijing University of Chemical Technology
Y
. Z. Xie, H. Huang. J. Appl. Polym. Sci. 2016, 133, 43910.
K. M. Wang, Y . H. Lu, P. H. Chen, et al. Materials Chemistry and Physics, 2014, 143: 1391-1395.
多官能度大分子量光引发剂举例
端基
侧基
Ö. Karahan, N. Arsu, D. Avci, Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry, 2014, 274, 43-49.
Beijing University of Chemical Technology 部分已商业化的大分子量光引发剂金养智
. 光固化材料性能及应用手册. 2010. 145-147.
Beijing University of Chemical Technology
双官能度光引发剂合成03光引发剂λmax (nm)εmax (L·mol -1·cm -1)MBP
258.216920MBPAcPA 256.242720[MBP]=5×10-5 mol· L -1; [MBPAcPA]=2.5×10-5 mol· L -1
p 3.1 双官能度夺氢型光引发剂I = 50 mW ·
cm -210 min 后:
紫外光降解 4.92×10-7 mol·L -1·min -1
2.03×10-7 mol·L -1·min -1
32.84%
6.82%
Beijing University of Chemical Technology
迁移性能测试(⑴)0.2 mol% MBPAcPA (⑵)0.4 mol% MBP/0.4 mol% EDAB 单体：TPGDA ；I = 40 mW ·cm
-2
光引发性能测试
(⑴)0.4 mol% BP/0.4 mol% EDAB
(⑵)0.2 mol% MBPAcPA (⑶)0.2 mol% MBPAcPA/0.4 mol% EDAB
单体：EOEOEA ；I = 50 mW ·cm -2
Beijing University of Chemical Technology p 3.2 双官能度裂解型光引发剂光引发剂λmax (nm)εmax (L·mol -1·cm -1)1173245.8126561173AcPA 243.625000
[1173]=5×10-5 mol· L -1; [1173AcPA]=2.5×10-5 mol· L -1紫外光降解I = 50 mW ·cm -2光照120 s ：2.69×10-7 mol·L -1·s -10.90×10-7 mol·L -1·s -1
66.53%43.29%
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迁移性能测试(⑴)0.4 mol% 1173(⑵)0.2 mol% 1173AcPA
单体：TPGDA ；I = 40 mW ·cm -2
光引发性能测试
(⑴)0.4 mol% 1173(⑵)0.2 mol% 1173AcPA
单体：EOEOEA ；I = 50 mW ·cm -2
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未来光引发剂的研究方向
04高吸光性、高引发活性
无黄变
低迁移性
无颜色、抗氧化性…
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