超高分辨场发射透射电子显微镜配套附件
碳中和联合研究院扫描电镜和透射电镜采购项目质量技术参数要求
碳中和联合研究院扫描电镜和透射电镜采购项目质量技术参数要求泄露保护、辐射保护功能；（5）样品低损伤观察:低剂量电子束观察，软件界面上电子束剂量实时显示，具有预辐照功能；（6）需可适应在独立地线不小于40。
环境下正常工作。
10.能谱仪系统（I）硅漂移SDD电子制冷探测器，有效面积N80mπΛ晶体位置优化设计，大大提高能谱仪计数率；（2）元素分析范围：从Be4-Cf98;★（3）具有能谱面扫描功能；（4）能谱应用软件可以实现多线程设计，导航器界面，支持用户自定义模式及账户管理，支持分屏显示及远程控制，支持中、英文等多种操作界面；（5）定性分析：可自动标识谱峰，除惰性气体元素外，无禁止自动标定的元素；可进行谱重构，对重叠峰进行手动峰剥离；（6）其它功能：可将电镜图象传输到能谱仪的显示器上,并以该图为中心做微区分析，可显示电子作用区大小，可对点，矩形，任意不规则区域等进行分析；（7）具备全谱面分布/线扫描分析功能，一次采集，能存储每一扫描位置（x,y）的所有元素的信息，用户随后可以在离线状态下从图像上的任何位置重建谱图和面分布图。
11.包括但不限于以下（得满足主机连接需求）：（1）透射电镜主机（包含高反差和高分辨模式，可实现一键切换）；（2）电镜控制与显示系统一套；（3）一体化、高灵敏像素CMoS主相机；（4）一体化超高速CMOS荧光屏相机；（5）真空系统等其它相应配套附件；（6）能谱仪（含有能谱面扫描功能及相关套件）；（7）标准单倾样品杆；（8）冷却水系统；（9）空气压缩机；（10）UPS电源等。
注：本项目评分标准中将根据标注“★”符号的技术标准与参数配置、技术指标的偏离情况进行评审打分。
一文看懂各种型号的透射电子显微镜(图文详解)
电子显微神兵利器：各种型号的透射电子显微镜透射电子显微镜（Transmission Electron Microscopy,TEM）是通过穿透样品的电子束进行成像的放大设备。
电子束穿过样品以后，带有样品之中关于微结构及组成等方面的信息，将这些信息进行方法和处理，便可得到所需要的显微照片及多种图谱。
现在商业透射电镜最高的分辨率已经达到了0.8 Å，透射电镜作为一种极为重要的电子显微设备，在包括材料、生物、化学、物理等诸多领域发挥着不可替代的重要作用。
下面简单介绍一些不同品牌和型号的透射电镜。
世界上能生产透射电镜的厂家不多，主要是欧美日的大型电子公司，德国的蔡司（Zeiss），美国的FEI（电镜部门的前身是飞利浦的电子光学公司），日本的日本电子（JEOL）、日立（Hitachi）。
蔡司公司是德国老牌光学仪器公司，光学仪器，如光学显微镜、照相机、以及军事用途的光学瞄准器都是世界一流水平，二战时德国强大的坦克部队都是用的蔡司的瞄准系统，精确度相当的高！虽然蔡司涉足电子光学领域要晚于西门子和飞利浦（西门子和飞利浦分别于1939和1949年造出自己的第一台商业化透射电镜），但其强大的研发和生产能力使其很快在电子光学仪器领域占得了一席之地，下面介绍几款蔡司的产品。
Libra 120 (Libra是“天秤座”，蔡司的电镜型号无论透射扫描都是以星座的名字命名的)技术参数：LIBRA 120点分辨率：0.34nm能量分辨率：＜1.5eV加速电压：（20）40-120kv放大倍率：8-630，000x电子枪：LaB6或W照明系统：Koehler（库勒）（平行束照明系统）真空系统：完全无油系统操作界面：基于Windows XP WinTEM此款电镜分辨率较低，加速电压最高仅120KV，比主流的200KV低了不少，看似性能一般。
Libra200技术参数：LIBRA 200 FE点分辨率：0.24nm能量分辨率：＜0.7eV加速电压：200kv放大倍率：8-1，000，000x电子枪：热场发射电子枪照明系统：Koehler（库勒）（平行束照明系统）真空系统：完全无油系统操作界面：基于Windows XP WinTEM此款电镜带能量过滤器，可以使用能量损失谱对样品的微区进行元素分析。
超高分辨率场发射扫描电子显微镜JSM-7800F介绍
加速电压 ：1.5kV 工作距离(WD)：2mm 过滤器电压：-1400V 探测器：UED
背散射电子为主
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SHL
②最适合于磁性材料和EBSD分析的电子光学设计
〈应用实例〉
1. 磁性材料分析：Fe3O4 纳米颗粒集合体 2. EBSD晶体取向分析：钕铁硼 3. EBSD晶体取向分析：碳钢
0.25 μm
应用实例3. 碳钢 EBSD 图像
1000倍IQ（图像质量）图像 1000倍 ND方向图像
也适合于磁性材料的高精度晶体取向分析
加速电压：20 kV WD：20mm 探针电流：8 nA 100 nm 步长 样品：碳钢（S25C）直径：32 mm 高度：20 mm 样品制备：金刚石砂轮研磨、胶体二氧化硅抛光
应用实例1. 碳上的镀金颗粒
极低加速电压图像 80 V JEOL Only
JSM-7800在80V的电压下也能观察高品质的图像 通过观察样品表面可以进行纳米结构的分析
8万倍
12万倍
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应用实例2.
石墨烯
极低加速电压图像 80 V
out-lens
稳定度・重现性 高加速 分辨率
观察 磁性 材料
EBSD EDS/WDS
低加速 分辨率
低倍率观察
低倍率观察
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超级混合式物镜(SHL)的功能评估
超级混合式物镜 semi-in-lens
显微镜与望远镜的种类、用途、分辨本领、放大率
《显微镜与望远镜》专业班级姓名学号日期显微镜显微镜是由一个透镜或几个透镜的组合构成的一种光学仪器，是人类进入原子时代的标志。
主要用于放大微小物体成为人的肉眼所能看到的仪器。
显微镜分光学显微镜和电子显微镜：光学显微镜是在1590年由荷兰的杨森父子所首创。
现在的光学显微镜可把物体放大1600倍，分辨的最小极限达0.1微米，国内显微镜机械筒长度一般是160mm。
电子显微镜是在1926年，被汉斯·布什发明出来的。
显微镜的分类：一、光学显微镜：是在1590年由荷兰的詹森父子所首创。
现在的光学显微镜可把物体放大1500倍，分辨的最小极限达0.2微米。
光学显微镜的种类很多，除一般的外，主要有暗视野显微镜一种具有暗视野聚光镜，从而使照明的光束不从中央部分射入，而从四周射向标本的显微镜.荧光显微镜以紫外线为光源，使被照射的物体发出荧光的显微镜。
结构为：目镜，镜筒，转换器，物镜，载物台，通光孔，遮光器，压片夹，反光镜，镜座，粗准焦螺旋，细准焦螺旋，镜臂，镜柱。
1、暗视野显微镜暗视野显微镜由于不将透明光射入直接观察系统，无物体时，视野暗黑，不可能观察到任何物体，当有物体时，以物体衍射回的光与散射光等在暗的背景中明亮可见。
在暗视野观察物体，照明光大部分被折回，由于物体(标本)所在的位置结构，厚度不同，光的散射性，折光等都有很大的变化。
2、相位差显微镜相位差显微镜的结构：相位差显微镜，是应用相位差法的显微镜。
因此，比通常的显微镜要增加下列附件：(1) 装有相位板(相位环形板)的物镜，相位差物镜。
(2) 附有相位环(环形缝板)的聚光镜，相位差聚光镜。
(3) 单色滤光镜-(绿)。
各种元件的性能说明(1) 相位板使直接光的相位移动90°，并且吸收减弱光的强度，在物镜后焦平面的适当位置装置相位板，相位板必须确保亮度，为使衍射光的影响少一些，相位板做成环形状。
(2) 相位环(环状光圈)是根据每种物镜的倍率，而有大小不同，可用转盘器更换。
双球差校正分析型场发射透射电镜技术参数
双球差校正分析型场发射透射电镜技术参数1.设备名称：双球差校正分析型场发射透射电子显微镜2.数量：1套3.设备用途说明：用于材料科学进行快速、精确的形貌观察和微区的晶体结构和定量表征，选择特定设计的样品台进行原位动态实验。
用于金属、半导体、电介质、多层膜结构、稀土材料等材料的形貌、晶格、缺陷或界面原子结构的表征；提供材料的化学成分信息、轻重原子分布、电子结构、缺陷及成键信息、静电和磁场信息等；可以对材料进行原位分析、三维重构分析等。
本系统主要有电子光学系统、高压系统、真空系统等部分组成。
4.主要工作环境4.1电源电压：220V（±5%）50HZ，单相或380V（±10%）4.1.1电源及频率稳定性：≤±5%4.1.2地线：≤5欧姆以下独立地线4.2工作环境温度：10︒C-25︒C4.3环境相对湿度：≤80％（@20℃）4.4压力变化：≤1Pa4.4空气流动：≤100mm/秒4.5噪音：≤50-60dB4.6振动：≤0.2-0.4um4.7磁场：直流电流磁场波动：小于0.05T；交流电流磁场波动：小于0.05T4.8仪器运行的持久性：仪器可连续使用4.9仪器的工作状态：较强的防震抗磁能力，工作稳定4.10仪器设备的安全性：符合放射线防护安全标准和电器安全标准5．技术要求及参数5.1电子枪和加速电压*5.1.1电子枪：冷场发射电子枪或者带单色器的X-FEG电子枪，电子枪质保8年，如果单支电子枪质保寿命不足，应额外提供满足8年使用的电子枪。
5.1.2加速电压：30或40--300kV，双球差校正器和整个电镜主机系统均在30或40KV、60或80kV、120KV、200kV、300kV加速电压下完成合轴；加速电压在全程范围内可自由切换，一键完成，无需重新合轴。
*5.1.3高压稳定性：≤0.8⨯10-6/min（峰峰值）*5.1.4物镜电流稳定度：≤0.5⨯10-6/min(峰峰值)5.1.5束流：≥2.0nA@0.136nm，束流稳定性：≤2%@10小时*5.1.6能量发散度：≤0.30eV@300KV，且亮度≥1.0*109A/cm2/Sr@300KV5.2分辨率5.2.1TEM点分辨率(杨氏条纹)：≤0.07nm（300kV）；≤0.09nm（200kV）；≤0.13nm（80kV）；5.2.2TEM晶格或信息分辨率：≤0.060nm5.2.3STEM分辨率(FFT spot)：≤0.065nm(300KV)；≤0.095nm（200kV）；≤0.12nm(80KV)；5.3全自动光阑系统，须马达驱动，包括自动化一级、二级聚光镜光阑，物镜光阑，选区光阑*5.4双球差校正器：标准配置（球差校正器为核心设备，如只提供单球差或者无球差，将直接导致废标）5.4.1球差系数调节范围：-0.1到1.2mm*5.4.2每个矫正透镜（物镜和聚光镜）均采用≥6极子设计，最低优化校正到≥4阶像差系数以上；5.4.3球差矫正器矫正透镜采用长、短焦距或者等焦距设计，光路采用轨道扩张型设计，能最大程度的抑制色差的增加。
场发射扫描电子显微镜参数
场发射扫描电子显微镜参数：1．工作条件:1.1电源: 230V (-6%/+10%) / 50Hz (±1%)1.2 主机功耗：< 3.0 kV A1.3运行环境温度: 17-23 C1.4运行环境：相对湿度< 80% (无冷凝)1.5残余交流磁场<100nT (非同步频率)；<300nT (同步频率)1.6噪音：< 60 dBC1.7干燥无油压缩空气4-6 bar1.8仪器运行的持久性：可连续运行2．设备用途：2.1高分辨扫描电子显微分析系统主要用于纳米材料的超高分辨微观形貌观察和微区分析。
独特的双物镜设计以及低电压成像技术，对导电性不好的样品等适用性更强。
具有低真空功能，对不导电样品进行更全面的分析。
3．技术规格3.1 电子光学系统3.1.1 分辨率：二次电子（SE）像*3.1.1.1高真空模式：15 kV时优于1.0 nm；1 kV时优于1.4 nm（非减速模式）*3.1.1.2 低真空模式：30kV时优于1.5nm*3.1.2背散射（BSE）像：100V时优于3.5 nm3.1.3 放大倍率范围：1 ～1,000,000倍(根据加速电压和工作距离的改变，放大倍数自动校准)3.1.4 着陆电压：50V 至30 kV3.1.5 电子枪：高稳定度Schottky肖特基场发射电子枪*3.1.6电子束流：0.6pA ～200 nA，连续可调，既保证对高分子纳米材料高分辨成像所需的低速流，也要保证EDS和EBSD分析所需的高束流高效率。
3.1.7 束流稳定性：每10小时< 0.4%*3.1.8 具有双物镜系统（电磁透镜和静电透镜），保证对纳米材料、不导电有机无机材料、合金、磁性材料的全方位分析*3.1.9 物镜光阑：物镜光栏应能自加热自清洁；无需拆卸镜筒即可更换物镜光阑。
至少6孔光阑设计3.1.10 电子束位移范围：不小于±110um3.2 样品室和样品台3.2.1 样品室尺寸：不小于360mm×360mm*3.2.2 抽屉式大开门结构，样品台安装在仓门上，全方位观察，方便取放样品，防止碰撞3.2.3样品台：五轴运动全对中样品台，有效移动范围：X /Y ≧110mm，Z ≧25mm，T = -10°to +70°，R= 360°连续旋转3.2.4样品台最大承重量不小于2.0 kg3.2.5最大样品高度不小于65mm，分析工作距离不小于5mm3.2.6重复精度：2um (X/Y 方向)，步进进度优于100nm3.2.7至少15个探测器/附件接口（所有端口程序均免费开放，可安装能谱、波谱、EBSD、CL、STEM探头、红外探头、拉曼等），方便后期升级*3.3 探测器：3.3.1 电子探头：样品室二次电子检测器极靴内二次电子探测器极靴内背散射电子探测器低真空二次电子探测器3.3.2 样品室镜头安装背散射电子探测器3.3.3 样品室IR-CCD相机3.3.4样品室光学显微镜导航相机探头3.4 真空系统*3.4.1完全无油真空系统（标配高真空模式和低真空模式，要求有验收指标）3.4.2 一个220L/S的涡旋干泵和一个分子泵3.4.3 两个离子泵*3.4.4 穿过透镜的压差真空系统（列出原理），保证真空条件下避免对系统的污染。
透射电子显微镜基本结构及功能
透射电子显微镜部分结构及功能在光学显微镜下无法看清小于0.2µm的细微结构，这些结构称为亚显微结构（s ubmicroscopic structures）或超微结构（ultramicroscopic structures；ultrastructu res）。
要想看清这些结构，就必须选择波长更短的光源，以提高显微镜的分辨率。
1 932年Ruska发明了以电子束为光源的透射电子显微镜（transmission electron mi croscope，TEM），电子束的波长要比可见光和紫外光短得多，并且电子束的波长与发射电子束的电压平方根成反比，也就是说电压越高波长越短。
目前TEM的分辨力可达0.2nm。
电子显微镜与光学显微镜的成像原理基本一样，所不同的是前者用电子束作光源，用电磁场作透镜。
另外，由于电子束的穿透力很弱，因此用于电镜的标本须制成厚度约50nm左右的超薄切片。
这种切片需要用超薄切片机（ultramicrotome）制作。
电子显微镜的放大倍数最高可达近百万倍、由电子照明系统、电磁透镜成像系统、真空系统、记录系统、电源系统等5部分构成，如果细分的话：主体部分是电子透镜和显像记录系统，由置于真空中的电子枪、聚光镜、物样室、物镜、衍射镜、中间镜、投影镜、荧光屏和照相机。
电子显微镜是使用电子来展示物件的内部或表面的显微镜。
高速的电子的波长比可见光的波长短（波粒二象性），而显微镜的分辨率受其使用的波长的限制，因此电子显微镜的分辨率（约0.1纳米）远高于光学显微镜的分辨率（约200纳米）。
透射式显微镜的结构与原理透射式电子显微镜(TEM)与投射式光学显微镜的原理很相近，它们的光源、透镜虽不相同，但照放大和成像的方式却完全一致。
在实际情况下无论是光镜还是电镜，其内部结构都要比图示复杂得多，图中的聚光镜（condonser lens）、物镜（object lens）和投影镜（projection lens）为光路中的主要透镜，实际制作中它们往往各是一组（多块透镜构成），在设计电镜时为达到所需的放大率、减少畸变和降低像差，又常在投影镜之上增加一至两级中间镜（i ntemediate lens）。
场发射扫描电镜技术标书
场发射扫描电镜技术标书附件：场发射扫描电镜技术标书一、设备用途扫描电镜是一种多功能的仪器，广泛地用于材料的微观组织观察、微区成分分析、材料的断口分析、材料的晶粒度分析、夹杂物分析及织构表征等，可对导电及不导电的固体材料进行表面形貌的观察及成分分析。
场发射电镜能够实现更高分辨率的形貌观察，可实现对超细晶材料尤其是纳米材料的表征。
基于相关附件，也可以对材料在温度及应力作用下的动态变化进行原位观察。
仪器包括电子光学系统、真空系统、样品室和样品台、探测器及成像系统、图像处理系统、应用软件及数据处理软件、X射线能谱分析仪（EDS）、背散射电子衍射分析仪（EBSD）、原位加热台。
二、技术参数1．运行环境1.1工作温度：可以在15~25环境温度工作1.2 相对湿度：湿度小于60%RH时正常工作1.3工作电压：在220V(±10%)、50Hz电压下，仪器可连续使用次电子探测器1个，高灵敏度低电压固体背散射探测器1个4.3相机：样品室红外高清CCD相机4.4检测器分辨率*4.4.1二次电子分辨率：30kV时小于1.0nm或20kV时小于1.3nm，1kV时优于3.0 nm*4.4.2背散射电子分辨率：30kV时小于2.5nm，1kV时优于3.0nm5．样品室和样品台5.1样品台：自动马达驱动5轴以上(X、Y、Z 、T 、R)*5.2移动范围：X≥100mm、Y≥ 100mm、Z≥50mm、T=-5~70°、R=360°连续旋转5.3移动精度：优于2μm5.4样品室尺寸：内径不小于300mm，高度不小于200mm，可容纳样品直径不小于200mm5.5样品室有EDS、EBSD接口*5.6可加配加热台和原位拉伸台，加热台运行时应保证成像系统和EBSD能够同步运行6．图像处理系统6.1存储分辨率：不低于30002000像素6.2活动窗口：多个活动窗口，可同时显示背散射及二次电子图像6.3图像格式：TIFF、BMP、JPEG等多种图像格式6.4图像帧数：不小于256帧，可降噪处理6.5能够进行数字动画记录6.6具有图像注释、测量等图像处理功能7．控制和数据处理系统7.1基于以太网架构的数据传输系统7.2软件平台适用于windows操作系统7.3显示器：24”LED显示器8．X射线能谱分析仪（EDS）8.1能量探测器：电制冷硅漂移探测器（SDD）*8.2有效采集面积：SDD晶体有效活区面积不小于30mm2，窗口有效面积不小于20mm2，可实现低电压或者小束流条件下的高质量、高效率分析*8.3探测器定位：探测器由马达控制精确定位，软件可控，能够实时监测和控制采集计数率，保证不同样品的数据重复性和测试条件重复性的目的*8.4能量分辨率：Mn Kα优于127eV，C Ka优于50eV，F Ka优于60eV8.5元素分析范围：至少为Be4~U92*8.6峰背比：优于20000:18.7谱峰稳定性：分辨率变化在1eV以内，48小时内峰位漂移小于1.5eV8.8计数率：输出最大计数率大于800,000CPS，可处理最大计数率大于1,500,000CPS8.9具有轻元素定量分析和修正功能，可对Be、B、C、N等进行浓度定量检测以及修正8.10采集界面：采用32位和64位双系统，采集界面方便简单，智能化设定参数，兼容原有EBSD数据，能实现能谱的采集与定量分析、线扫描及全息面扫描，包含常规面分布、定量面分布和快速面分布、快速智能面分布等*8.11定性分析：具备点、线、面扫描分析功能，可自动和手动进行全谱元素谱峰识别，并具有检验重叠峰剥离准确性以及合峰效应的有效方法，能够分析夹杂和偏析等微量元素和微量相8.12定量分析：采用最先进的修正技术和虚拟标样数据库，系统能够自动有效修正元素之间的相互吸收，可对抛光表面或粗糙表面进行点、线和面的分析，谱峰稳定，数据重现性好，不需要多元素校准峰位。
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附件：超高分辨场发射透射电子显微镜配套附件*本包透射电子显微镜配套附件包括CCD成像附件、铍双倾（杆）台、普通单倾（杆）台、能谱仪、波谱仪及相应的附属部件。
为保证所有配套附件能用于同一台电子显微镜上，要求必须由电子显微镜厂商打包投标。
1. 工作条件1.1 电力供应：220V（10%），50Hz，1φ; 380V（10%），50Hz，3φ1.2 工作温度：15℃-25℃1.3 工作湿度：< 60%1.4 安装在200KV的透射电子显微镜或场发射扫描电子显微镜2．主要功能本包招标的超高分辨场发射透射电子显微镜的所有配套附件，包括透射电镜CCD相机、铍双倾台、普通单倾台、能谱仪、波谱仪及相应的附属部件，必须能安装在200KV超高分辨场发射透射电子显微镜上并进行联机使用。
3. 技术要求及配置3.1透射电镜CCD相机3.1.1 主要功能透射电镜专用CCD相机是用于拍摄透射电镜显微图像和电子衍射的数字化图像记录设备，其拍摄的图像应拥有高质量的分辨率，并应具备数字化图像处理的功能；且能同时满足材料科学和生物、医学科学研究的要求。
*3.1.2 耦合方式：1:1光纤耦合，HCR技术（高衬度分辨率）；*31.3 CCD感应器：像素≥2K×2K（400 万像素以上），单像素≤14μm，CCD 实际接受面积≥28.7mm×28.7mm，底部安装*3.1.5 相机保护：CCD 机头可自动伸缩，具有可扩充电子能量损失谱仪的接口3.1.6 闪烁体：标准多晶磷3.1.7 读取噪音：≤5 counts3.1.8 读取方式：多通道同时输出（≥4通道）3.1.9 操作电压：最高可达200kV读出速度：全分辨率模式≥0.8 帧/秒，4×binning下≥5 fpsBinning功能：1，2，3，4，6，8×动态范围：≥16bit冷却方式：半导体制冷，冷却温度为＜-20℃抗炫功能：有Digital streaming video 功能：有* 具备拍摄显微图像和电子衍射的功能* 拍摄衍射花样的接受角：单色度正负5电子伏时大于100mrad，单色度正负10电子伏时大于150mrad图像采集、处理软件：Digital Micrograph软件包和DIFPac软件包，除基本*.jpg，*.tiff，*bmp等存储格式外，还具有*.dm3 专用存储格式3.2 透射电镜用铍双倾样品杆3.2.1 特点：铍材质，用于做EDS分析时，消除常规样品杆Cu形成的EDS 谱中的Cu背底。
*，最大程度的防止样品漂移3.2.3 倾转角度：≥ ± 35°，≥ ± 30°3.2.4 装样个数：1个*3.2.5 从更换样品到可观察时间小于2分钟*3.2.6 必须是样品杆尾部部位显示倾转角度3.3 透射电镜用普通单倾样品杆30°*3.3.3 从更换样品到可观察时间小于2分钟3.4 透射电镜用能谱仪3.4.1 主要功能X射线能谱仪（EDS）配备在透射电子显微镜上，在观察材料微区结构的同时，能够对材料微区所含成分进行定点、线及面分布的分析，并配备有相关的定性、定量分析软件。
(线扫描及面扫描分析需配备STEM扫描透射附件方可实现)(Li) 晶体探头，超薄窗口，晶体面积30mm2。
配标准7.5升杜瓦瓶，带自动液氮水平监视、报警系统3.4.4 探头分辨率：MnKα: 优于129eV ( 计数率为20000cps 时)3.4.5 探头自动伸缩保护3.4.6 出射角和立体角：适合于所选透射电镜3.4.7 零峰实时修正谱峰，系统安装调试成功后，无需用户进行人工校准3.4.8 软件界面：导航器界面，操作简便易学3.4.9 软件语言：中英文界面可以自由切换，可进行峰形优化、多谱比较、谱相减、谱重构、重叠峰剥离、元素侦察等功能，无需人工设定和干预单键即可生成Word, Excel, HTML等多种输出格式* 能谱仪配置必须能和透射内置式能量过滤器配合使用.3.5波谱仪（1）与能谱仪形成一体化系统，用于材料的高精度的成分分析。
*（2）无需改动电镜样品仓原设计；*（3）不影响场发射电镜离子泵工作。
（4）主要包括：自动聚焦的波谱仪、数据采集单元、波谱分析与谱图处理工具包、样品台自动控制软件、电子束控制系统包、一体化镜筒参数控制软件、用于WDS定量分析的皮安表等。
，X-射线计数强度对样品表面高度变化±1mm不敏感，无需调整聚焦，不会碰到电镜背散射电子探头，能与之同时工作。
KeV至10.84 KeV3.5.6 X射线探测器：流气正比计数器和密封正比计数器3.5.7 样品电流测量计用于测量样品吸收电流（范围从0.01nA到1000nA）* 100PPMB 20PPMC 14PPMN 130PPMO 60PPM*3.5.9 元素检测信噪比P/B：Be 150：1B 60：1C 80：1N 36：1O 80：1* 能安装在各种电镜上包括TEM、FESEM和ESEM系统上* 5个检测晶体软件（1）元素扫描: 对用户指定的元素进行扫描，判定其是否存在；所有元素的KLM线系均能标定，包括高次线及卫星峰；（2）测量扫描: 测量谱峰及背景强度，以数字或图形方式显示;可以定义元素分析的顺序; 可对每个元素预设采集时间或计数来终止数据采集；（3）定量分析: 未知元素和标样的谱峰及背景计数以cps/nA存储，抵消束流变化对结果的影响，因此无需频繁测量标样；（4）和能谱一样，采用XPP基体修正技术，可以联合给出定量结果；（5）可以得到归一化和非归一化结果；（6）标准化分析: 在定量分析时可以对波谱进行标准化, 用户能建立自己的标样库；（7）与能谱联用功能；（8）在能谱的操作界面中就可以轻松设定波谱的参数；（9）谱的扫描: 在能谱谱图上用鼠标拖动, 就可选择用波谱进行扫描的区域；（10）波谱设定：在能谱操作界面下即可使用波谱, 实现波谱的点,线,面分析。
（11）用于WDS定量分析的皮安表* 为配合WDS的方便使用投标电镜厂商必须推荐大的样品室(大于320mm)的场发射电镜系统计算机系统2套高端计算机工作站－Pentium 4 3.0GHz或以上CPU；DDRII 2G以上内存；SATA-II 250G以上硬盘；独立显卡；DVD刻录机；22” LCD显示器, Windows XP 操作系统，操作方式：键盘、鼠标。
HP彩色激光打印机，HP黑白激光打印机。
4.售后服务4.1 仪器到达用户所在地后，在接到用户通知后两周内进行现场免费安装调试，直至通过验收。
依照合同核对规格和数量，仪器安装完成后，性能试验必须达到仪器出厂验收标准和合同技术要求。
4.2 设备安装后，在用户现场对用户进行免费培训，培训内容包括仪器的操作和仪器基本维护等，使用户达到独立操作水平。
4.3卖方提供壹年的免费保修.保修期内各项性能指标以供货方提供的仪器指标为准。
保修期自仪器验收签字之日起计算。
4.4 维修响应时间：保修期内，应在接到客户关于设备发生故障的通知后12小时内应答，并在48小时内到达现场。
卖方对仪器终身维修，并提供相应的零部件，在保修期外软硬件出现问题，应在接到用户通知后两个工作日内到达用户现场解决问题。
4.5 软、硬件升级：仪器具有较强的升级能力，软件终身免费升级。
4.6 技术培训：提供两人一周的国内免费提升培训；培训内容包括仪器的技术原理、仪器操作、数据处理、仪器基本维护等；使受训人员掌握仪器的基本原理、结构和使用，达到独立操作和对方法条件进行摸索开发的水平，能够对仪器进行日常维护。
所有的培训费用由供应商提供。
4.7 厂家长期提供技术支持，并免费提供所有公开发表的应用文献和最新仪器有关资料、通讯和用户论文和软件升级服务等。
4.8 免费提供仪器使用手册、培训教材、应用文章等。
5. 技术文件设备出厂检验报告（合格证），产品说明书，操作指南（鉴定合同后半年内提供），操作规程（说明书、光盘）和注意事项。
6．定货数量需要数量1套7. 到货目的地四川省绵阳市西南科技大学10. 标准出口包装。
11. 交货期信用证开出后5个月内。
配套设施—超高分辨场发射透射电子显微镜制样设备1. 工作环境1.1 工作温度：0～40o C。
1.2 工作相对湿度：<80%。
1.3 电源：100～240V 50～60Hz。
2. 主要用途综合样品制备系统具备铣削、切割、钻孔、精磨、抛光等功能，可对光学显微镜、扫描电镜、透射电镜所需样品进行精确制备。
3.综合样品制备系统技术参数与配置3.1 技术参数3.1.1 功能：铣、切割、精磨、抛光等功能均在同一机器上实现3.1.2 转速：300～20, 000转/分钟程序可调, 10μm, 1μm, 0.5μm 4档3.1.4 步进速度：0.025—0.5mm/秒可调3.1.5 润滑剂流量：2—20毫升/秒3.1.6 夹具夹持角度：2mm位移调整与360度旋转可调，并且旋转90度时带定位器3.1.7 观察系统：带有立体显微镜作为实时观察工具3.1.8 照明系统：LED长寿命环型均匀照明系统3.2 系统配套3.2.1 主机系统包括：自动磨抛控制系统；自动铣削系统并带有安全开关；自动废屑收集控制系统；润滑系统可根据实际操作情况，自行调整；LCD显示系统，显示当前工作状态；设置时间工序功能6.3X~40X平行光立体显微镜一套含LED长寿命环型冷光源1套1个1个1个1个1把1把1片1个各200片各120片1个各200片80张10个1个4. 售后服务4.1该设备为原装进口，以上指标必须完全符合并提供相关原件彩页资料。
为保证售后服务，投标人必须提供生产厂家针对该项目的授权书原件，且生产厂家在成都有维修站。
4.2仪器设备须经中国政府批准在中国境内销售，并在中国有关监督管理部门办理注册登记。
仪器设备须适合中国国家标准或国际通用标准。
4.3 投标人应免费送货上门。
仪器到达用户所在地后，在接到用户通知后两周内中标人负责派有经验的技术人员到现场依照合同核对货物的质量、规格、数量等；如发现货物的规格或数量或两者都与合同不符，采购方有权向中标人提出索赔。
现场免费安装调试，直至通过验收。
仪器安装完成后，性能试验必须达到仪器出厂验收标准和合同技术要求。
中标人在安装、调试等全过程中接受采购方的监督。
4.4 在现场安装调试期间，如果系统出现不正常情况（如设备损坏、故障、达不到技术规范或设备说明书的指标），中标人应免费在不延误工期的情况下从速替换。
在系统试运行期间，如果发现由于中标人的责任造成系统的功能和性能不符合技术规范书的要求，或由于设备故障的发生导致设备停止运转，中标人应承诺在48小时内及时修复，并承担所有费用，同时应顺延试运行期。