薄膜技术发展历程
BOPP简介
BOPP简介：发展历程和前景：设备生产产家：DMT（法国）、日本、德国、意大利、……产品分类，用途，性能，……..主要工艺流程……..设备构造…….（操作有关联）摘要：BOPP薄膜自1962年工业化以来，目前全世界的生产企业超过200家，近500条生产线，2003年全世界双向拉伸聚丙烯（BOPP）膜需求量已达到430万吨，并预测到2010年全球BOPP膜年需求量将达到600万吨。
本文简述了国内外BOPP膜的发展历史、主要特点、类别用途、目前的生产技术和未来的发展方向以及BOPP膜的原料、生产设备和市场的新动向。
引言双向拉伸聚丙烯薄膜（BOPP ）具有质轻、无毒、无臭、防潮、机械强度高，尺寸稳定性好、印刷性能良好、透明性好等优点，广泛应用于食品、糖果、香烟、茶叶、果汁、牛奶、纺织品等的包装，有“包装皇后”的美称。
BOPP薄膜应用之广、污染之低以及对森林自然资源的保护，使其成为比纸张和聚氯乙烯（PVC ）更受人欢迎的包装材料；制造工艺简易可靠、价格合理又使它成为比双向拉伸聚酯（BOPET ）薄膜和双向拉伸尼龙（BOPA ）薄膜更为普遍使用的包装材料。
1.国内外BOPP薄膜发展史BOPP膜生产技术于1958年由意大利蒙物卡蒂公司首创。
1962年实现工业化在欧美及日本垄断生产，此后BOPP薄膜发展迅速，目前全世界的生产企业超过200家，近500条生产线。
我国从60年代初开始由北京化工研究院（后迁入现晨光化工研究院）、北京电器科学研究院（现桂林电器科学研究院）及沈阳化工研究院（后迁入现晨光三厂）等单位摸索自行设计试制双向拉伸的工艺和设备，并陆续建成投产了一些规模较小、设备简单的生产线，当时主要是用来生产电工绝缘及电介质的BOPET和BOPP膜，其中1975年正式生产了BOPP膜。
为了适应更多行业的广泛需求，我国从1980年开始引进欧日美发达国家的部分或全套规模较大、自动化程度较高的生产线。
到1985年全国只有佛山、广州、北京、燕山4条3000~6000吨低速进口包装薄膜生产线，年产能力只有1.8万吨；1988～1989年进入“成长期”，到1990年全国发展到17个BOPP工厂、21条低速生产线，年产能力达到8万吨，5年间增长4.4倍；1997～1998年我国BOPP进入第二个产能扩张高峰期，同时BOPP技术创新取得突破性进展，年产1.5万吨高速线广泛应用，到1998年全国共有43个BOPP工厂、60条生产线（其中1～1.5万吨高速线占15条），年产能力突破40万吨，8年间增长5倍，成为我国经济增长的“亮点”行业之一。
半导体薄膜
汇报人：XX
目录
• 半导体薄膜概述 • 半导体薄膜制备技术 • 半导体薄膜结构与性能 • 半导体薄膜应用实例 • 半导体薄膜材料发展趋势与挑战
01
半导体薄膜概述
定义与特点
定义
半导体薄膜是一种具有半导体性质的薄膜材料，其厚度通常在纳米至微米级别 。这种材料具有介于导体和绝缘体之间的电导率，因此被称为半导体。
。
缺陷对性能的影响
缺陷对半导体薄膜的性能有重要 影响，如影响载流子浓度、迁移
率、光学透过率等。
电子结构与能带
能带结构
01
半导体薄膜的能带结构决定了其电子状态和电子行为。通常包
括价带、导带和禁带三部分。
载流子类型
02
半导体薄膜中的载流子可以是电子或空穴，这取决于其掺杂类
型和浓度。
载流子浓度和迁移率
03
回收利用
建立完善的回收利用体系，对废旧半导体薄膜进行 回收和再利用，降低资源浪费和环境污染。
THANKS
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大面积均匀性控制技术挑战
薄膜沉积技术
如化学气相沉积、物理气相沉积等，需要优化工艺参数，提高薄膜 大面积均匀性。
表面处理技术
如机械抛光、化学抛光等，可以改善基底表面粗糙度，提高薄膜附 着力和均匀性。
薄膜转移技术
如卷对卷技术、激光转移技术等，可以实现大面积薄膜的快速、高效 转移。
提高稳定性及寿命问题探讨
现状
目前，半导体薄膜的制备技术已经非常成熟，包括物理气相沉积、化学气相沉积、溶胶-凝胶法、电化学沉积等 多种方法。同时，半导体薄膜的应用领域也在不断扩展，涉及到电子、光电、生物医学、环境科学等多个领域。
应用领域与前景
应用领域
光学薄膜的发展及应用前景
光学薄膜的发展及应用前景光学薄膜是一种通过沉积一层或多层材料形成的具有特定光学性质的薄膜，广泛应用于光学器件、太阳能电池、显示器、激光器等领域。
随着科学技术的发展和对光学性能要求的不断提高，光学薄膜的研究与应用呈现出迅猛发展的趋势。
本文将从光学薄膜的发展历程、主要应用领域以及未来的应用前景等方面进行探讨。
光学薄膜的发展历程可以追溯到20世纪初，当时人们开始使用化学气相沉积法来生长薄膜，开创了现代光学薄膜技术的先河。
20世纪50年代，光学薄膜技术得到了快速发展，特别是在太阳能电池、激光器和光学涂层等方面的应用有了重要突破。
随着薄膜材料和技术的不断进步，光学薄膜的性能和应用范围也得到了大幅提升。
光学薄膜在光学器件领域广泛应用，如反射镜、透镜、窗片等。
通过合理设计和优化光学薄膜的层序和材料组成，可以实现高透射、高反射、准相位匹配等特性。
这些特性成为眼镜、相机镜头、显微镜等光学器件中不可或缺的部分，有效提高了光学系统的性能和成像质量。
此外，光学薄膜在显示器领域也发挥着重要作用。
通过在显示器背光板、滤光片和触摸屏等部件上应用光学薄膜，可以增强显示器的颜色饱和度、对比度和亮度等方面的性能。
光学薄膜的应用可以提高显示器的显示效果，提供更好的视觉体验。
光学薄膜在激光器技术中也具有广泛的应用。
激光器的工作原理要求光在谐振腔中的来回传播尽可能多的次数，而光学薄膜通过提供高反射和高透射的特性，增强了激光器的能量转换效率和光束质量。
此外，光学薄膜还可用于激光器输出功率的控制，通过调节薄膜的反射率，实现激光器功率的输出控制。
此外，光学薄膜还具有广阔的太阳能应用前景。
光伏薄膜技术是研究如何将太阳能转化为电能的一项重要技术，它能够实现更高的太阳能电池转换效率。
通过在太阳能电池上应用光学薄膜，可以提高太阳能电池对太阳光的吸收和利用效率，从而提高电池的输出功率。
同时，光学薄膜还可以提高太阳能电池的耐候性和稳定性，延长电池的使用寿命。
DLC薄膜的发展历程
DLC薄膜的发展历程
薄膜技术的发展历程可以追溯到20世纪初。
然而，DLC （Diamond-like Carbon）薄膜作为一种特殊的薄膜材料，其发展历程相对较短。
1960年代初，DLC薄膜首次被报道，但由于技术限制和材料特性的不完善，该薄膜并未引起广泛关注。
1970年代中期，人们开始对DLC薄膜的特殊性质和应用潜力产生兴趣。
这一时期，研究者们主要使用离子束沉积（IBD）和化学气相沉积（CVD）等技术来制备DLC薄膜，发展了一些基本的制备方法和表征手段。
1980年代到1990年代初，DLC薄膜逐渐得到了更多的关注和深入研究。
研究人员通过改进制备方法、优化工艺参数和改良材料组分，实现了DLC薄膜的质量和性能的提升。
同时，DLC薄膜的应用范围也逐渐扩大，包括磁记录器、机械零件润滑、光学涂层等领域。
2000年代至今，DLC薄膜的研究和应用不断取得新突破。
新型的DLC制备方法和工艺不断涌现，如增强化学气相沉积（PECVD）、磁控溅射等。
同时，DLC薄膜在生物医学、传感器、微加工等领域也得到了广泛应用。
总的来说，DLC薄膜的发展历程经历了从开始的起步阶段到逐渐成熟的过程。
通过不断的技术改进和应用拓展，DLC薄膜正在成为一种具有广泛应用前景的新兴材料。
薄膜技术及应用
20世纪末至今
随着新材料和制备技术的 不断发展，新型薄膜材料 不断涌现，薄膜技术应用 领域不断扩大。
02
薄膜制备技术
物理气相沉积（PVD）
真空蒸发沉积
利用加热蒸发材料，使其 原子或分子从固态表面升 华进入气态，然后在基底 表面凝结形成薄膜。
导体薄膜
功能薄膜
用于制造集成电路、微电子器件和薄 膜晶体管等，具有高导电性能和稳定 性。
如光电转换薄膜、磁性薄膜、传感器 用敏感薄膜等，在电子器件中具有特 定功能。
绝缘薄膜
用作电子器件的介质层和绝缘材料， 具有低介电常数和损耗、高击穿场强 等特点。
光学领域
反射和滤光薄膜
用于控制光的反射、透射、干涉和偏振等特性， 在光学仪器、摄影、照明等领域有广泛应用。
多功能化薄膜
通过材料复合和结构设计，制备具有多功能特性的薄膜，如光学、热学、电学、磁学等多重性能的集 成。
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薄膜的分类
01
按材料分类
金属薄膜、制备方法分类
功能薄膜（如导电薄膜、光学薄 膜、磁性薄膜等）、结构薄膜等。
物理气相沉积、化学气相沉积、 溶胶-凝胶法等。
薄膜技术的发展历程
01
02
03
19世纪末
真空蒸发镀膜技术出现， 主要用于制造光学仪器和 装饰品。
20世纪中期
薄膜技术及应用
目录
• 薄膜技术简介 • 薄膜制备技术 • 薄膜的应用领域 • 薄膜的未来发展与挑战
01
薄膜技术简介
薄膜的定义与特性
定义
薄膜是一种厚度在微米到纳米级别的 材料，覆盖在基底上，具有特定的物 理、化学和机械性能。
薄膜技术发展历程
薄膜技术发展历程薄膜技术是指将材料制成薄膜状的工艺和技术。
它以其独特的特点和广泛的应用领域，在工业、电子、光学、医疗等领域发挥着重要作用。
随着科技的不断发展，薄膜技术也在不断演进和完善。
下面将介绍薄膜技术发展的历程。
1.薄膜技术的初期阶段可以追溯到20世纪40年代，当时主要应用于铝箔包装和银镜制造。
这时的薄膜技术主要是依靠机械拉伸和卷制工艺完成，技术水平相对较低。
2.20世纪50年代，随着塑料材料的提出和工艺的改进，薄膜技术得以进一步发展。
在这一阶段，薄膜材料制备开始使用挤出工艺、压延工艺和铸膜工艺，使得薄膜的生产速度和质量得到了提高。
3.20世纪60年代，薄膜技术开始引入真空薄膜沉积工艺。
真空薄膜沉积是一种将材料以原子或分子的形式沉积到基板上形成薄膜的技术。
这种技术可以通过物理和化学方法实现，如蒸发、溅射、离子束沉积等。
真空薄膜沉积技术的引入使得薄膜的厚度和复杂度得到了进一步提高，为后续的应用奠定了基础。
4.20世纪70年代，随着微电子技术和半导体工业的迅猛发展，薄膜技术得到了广泛的应用。
在这一阶段，薄膜技术开始应用于光刻、化学蚀刻、离子注入等微电子加工工艺中，用于制作电路板、光刻掩膜和光刻胶等部件。
这一时期也出现了一系列新的薄膜材料，如氧化铝、氮化硅等。
5.20世纪80年代，薄膜技术在光学领域得到了广泛的应用。
薄膜技术可以用于制作光学滤波器、反射镜、传感器等光学元件。
这一时期，薄膜技术的研究重点逐渐转向光学材料的研发和薄膜的光学性能的提高。
6.20世纪90年代至今，随着纳米科技的兴起和发展，薄膜技术进入了纳米尺度的制备阶段。
纳米薄膜技术主要应用于能源材料、生物医学、纳米电子等领域。
新的制备方法和设备的出现，如溅射、原子层沉积、自组装等，使得薄膜的厚度更加精细并且具备纳米级的结构。
值得一提的是，随着薄膜技术的发展，相关的研究和应用也在不断涌现。
例如，薄膜太阳能电池、薄膜膜结构、纳米薄膜材料等新兴领域逐渐成为研究的热点。
农膜棚膜行业发展资料
农膜棚膜行业发展资料随着现代农业的发展，农膜棚膜行业也得到了迅猛的发展。
农膜棚膜是农业生产中的重要设施之一，它是一种塑料薄膜，通过覆盖在农田或蔬菜园地上，可以起到保温、保湿、防风、防虫、保护作物生长等多种作用。
农膜棚膜行业在提高农业生产效率、保障作物质量以及减少农药使用方面发挥着重要的作用。
一、农膜棚膜的概述农膜棚膜是农业生产中使用的塑料薄膜，一般使用聚乙烯或聚氯乙烯等塑料材料制成。
根据不同的需要，农膜棚膜有透明、半透明和黑色等不同的颜色。
透明和半透明的农膜棚膜可以透光，保持温度，有利于作物生长。
黑色农膜棚膜则可以防止杂草生长，提供遮光等作用。
农膜棚膜的使用可以延长作物生长季节，增加农作物的产量和质量，保护作物免受天气恶劣的影响。
二、农膜棚膜的发展历程农膜棚膜的发展历程可以追溯到上世纪50年代，当时的农业生产中使用的是纱网覆盖或玻璃温室。
随着塑料技术的进步，塑料薄膜逐渐在农业生产中应用。
最早的农膜棚膜是由PE材料制成的黑色或绿色膜，用于覆盖在农田上，用以控制杂草生长和保护作物。
后来，人们发现可以通过调整农膜棚膜的颜色和厚度，实现对温度、湿度和光照的控制，从而提高作物的生长效果。
现代农膜棚膜已经成为农业生产中不可或缺的一部分，被广泛应用于种植、蔬菜栽培和病虫害防治等领域。
三、农膜棚膜的应用优势农膜棚膜的应用优势主要体现在以下几个方面：1. 增加农作物产量和质量：农膜棚膜可以提供优越的生长环境，延长作物生长周期，增加产量和农作物的品质。
通过调节农膜棚膜的透光性、保温性和透湿性，可以使作物生长更加适宜，提高产量和质量。
2. 减少农药使用：农膜棚膜可以起到防虫和防病的作用，减少了对化学农药的依赖。
通过合理的使用农膜棚膜，可以减少害虫和病菌的侵害，保护作物的生长。
3. 节约用水：农膜棚膜可以减少土壤水分的蒸发，提高土壤的湿度保持能力。
在地下铺设透水管道，可以进行精确的水肥一体化供应，节约用水资源。
4. 抗风抗霜能力强：农膜棚膜可以起到防风保温的作用，减少大风和低温天气对作物的影响。
薄膜发展现状及未来趋势分析
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备等，对薄膜的需求将持续增长。
新能源领域
02
薄膜在太阳能电池、燃料电池等新能源领域的应用前景广阔，
未来市场需求旺盛。
生物医疗领域
03
薄膜在生物传感器、药物缓释等医疗领域的应用逐渐增多，市
场需求将持续扩大。
薄膜产业发展趋势与挑战
产业整合与合作
面对激烈的市场竞争，薄膜企业将通 过产业整合与合作，提升整体竞争力 和创新能力。
应用领域
下游环节涉及薄膜的应用领域，如电子、光伏、 包装、建筑等。
薄膜市场竞争格局分析
国际竞争
全球薄膜市场上存在众多国际知名品牌和企业，他们通过技术创 新、产品质量和品牌影响力等方面展开竞争。
国内竞争
中国薄膜市场上也有众多本土企业，他们在国内外市场上与国际企 业展开竞争，不断提升自身实力和市场地位。
薄膜发展现状及未来 趋势分析
汇报人：文小库 2023-11-21
目录
• 薄膜概述 • 薄膜技术发展现状 • 薄膜市场现状及分析 • 薄膜的未来发展趋势
01
薄膜概述
薄膜的定义和分类
定义
薄膜是一种具有厚度在纳米至微米尺度的二维材料。
分类
按照材料性质，薄膜可分为金属薄膜、半导体薄膜、绝缘薄膜等；按照制备方 法，可分为物理气相沉积薄膜、化学气相沉积薄膜、溶胶凝胶薄膜等。
其他领域
薄膜还在环保、航空航天、军 事等领域有着广泛的应用前景
。
02
薄膜技术发展现状
薄膜技术发展历程
初始阶段
薄膜技术起源于20世纪初 ，初期主要应用于军事和 航空领域。
发展阶段
随着科技的进步和工业的 需求，薄膜技术逐渐应用 于电子、光学、太阳能等 领域。
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薄膜技术发展历程(一)：镀膜发展史化学镀膜最早用于在光学元件表面制备保护膜。
随后，1817年，Fraunhofe在德国用浓硫酸或硝酸侵蚀玻璃，偶然第一次获得减反射膜，1835年以前有人用化学湿选法淀积了银镜膜它们是最先在世界上制备的光学薄膜。
后来，人们在化学溶液和蒸气中镀制各种光学薄膜。
50年代，除大快窗玻璃增透膜的一些应用外，化学溶液镀膜法逐步被真空镀膜取代。
真空蒸发和溅射这两种真空物理镀膜工艺，是迄今在工业撒谎能够制备光学薄膜的两种最主要的工艺。
它们大规模地应用，实际上是在1930年出现了油扩散泵---机械泵抽气系统之后。
1935年，有人研制出真空蒸发淀积的单层减反射膜。
但它的最先应用是1945年以后镀制在眼镜片上。
1938年，美国和欧洲研制出双层减反射膜，但到1949年才制造出优质的产品。
1965年，研制出宽带三层减反射系统。
在反射膜方面，美国通用电气公司1937年制造出第一盏镀铝灯。
德国同年制成第一面医学上用的抗磨蚀硬铑膜。
在滤光片方面，德国1939年试验淀积出金属—介质薄膜Fabry---Perot型干涉滤光片。
在溅射镀膜领域，大约于1858年，英国和德国的研究者先后于实验室中发现了溅射现象。
该技术经历了缓慢的发展过程。
1955年，Wehner提出高频溅射技术后，溅射镀膜发展迅速，成为了一种重要的光学薄膜工艺。
现有两极溅射、三极溅射、反应溅射、磁控溅射和双离子溅射等淀积工艺。
自50年代以来，光学薄膜主要在镀膜工艺和计算机辅助设计两个方面发展迅速。
在镀膜方面，研究和应用了一系列离子基新技术。
1953年，德国的Auwarter申请了用反应蒸发镀光学薄膜的专利，并提出用离子化的气体增加化学反应性的建议。
1964年，Mattox在前人研究工作的基础上推出离子镀系统。
那时的离子系统在10Pa压力和2KV的放电电压下工作，用于在金属上镀耐磨和装饰等用途的镀层，不适合镀光学薄膜。
后来，研究采用了高频离子镀在玻璃等绝缘材料上淀积光学薄膜。
70年代以来，研究和应用了离子辅助淀积、反应离子镀和等离子化学气相等一系列新技术。
它们由于使用了带能离子，而提供了充分的活化能，增加了表面的反应速度。
提高了吸附原子的迁移性，避免形成柱状显微结构，从而不同程度地改善了光学薄膜的性能，是光学薄膜制造工艺的研究和发展方向。
实际上，真空镀膜的发展历程要远远复杂的多。
我们来看一个这个有两百年历史的科技历程：19世纪真空镀膜已有200年的历史。
在19世纪可以说一直是处于探索和预研阶段。
探索者的艰辛在此期间得到充分体现。
1805年, 开始研究接触角与表面能的关系(Young)。
1817年, 透镜上形成减反射膜(Fraunhofer)。
1839年, 开始研究电弧蒸发(Hare)。
1852年, 开始研究真空溅射镀膜(Grove;Pulker)。
1857年, 在氮气中蒸发金属丝形成薄膜(Faraday;Conn)。
1874年, 报道制成等离子体聚合物(Dewilde;Thenard)。
1877年,薄膜的真空溅射沉积研究成功(Wright)。
1880年, 碳氢化合物气相热解(Sawyer;Mann)。
1887年, 薄膜的真空蒸发(坩埚) (Nahrwold;Pohl;Pringsheim)。
1896年, 开始研制形成减反射膜的化学工艺。
1897年, 研究成功四氯化钨的氢还原法(CVD); 膜厚的光学干涉测量法(Wiener)。
20世纪的前50年1904年, 圆筒上溅射镀银获得专利(Edison)。
1907年, 开始研究真空反应蒸发技术(Soddy)。
1913年, 吸附等温线的研究(Langmuir,Knudsen,Knacke等)。
1917年, 玻璃棒上溅射沉积薄膜电阻。
1920年, 溅射理论的研究(Guntherschulzer)。
1928年, 钨丝的真空蒸发(Ritsehl,Cartwright等) 。
1930年, 真空气相蒸发形成超微粒子(Pfund)。
1934年, 半透明玻璃纸上金的卷绕镀(Kurz,Whiley); 薄膜沉积用的玻璃的等离子体清洗(Bauer,Strong)。
1935年, 金属纸电容器用的Cd:Mg和Zn的真空蒸发卷绕镀膜研究成功(Bausch,Mansbridge); 帕洛马100英寸望远镜镜面镀铝(Strong);光学透镜上镀制单层减反射膜(Strong,Smakula); 金属膜生长形态的研究(Andrade,Matindale)。
1937年, 使用铅反射器的密封光束头研制成功(Wright); 真空卷绕蒸发镀膜研制成功(Whiley); 磁控增强溅射镀膜研制成功(Penning)。
1938年, 离子轰击表面后蒸发取得专利(Berghaus)。
1939年, 双层减反射膜镀制成功(Cartwright,Turner)。
1941年, 真空镀铝网制成雷达用的金属箔。
1942年, 三层减反射膜的镀制(Geffcken); 同位素分离用的金属离子源研制成功。
1944年, 玻璃的电子清洗研制成功(Rice,Dimmick)。
1945年, 多层光学滤波器研制成功(Banning,Hoffman)。
1946年, 用X射线法吸收法测量薄膜的厚度(Friedman,Birks); 英国Goodfellow公司成立。
1947年,200英寸望远镜镜面镀铝成功。
1948年，美国国家光学实验室（OCLI）建立；沉积粒子的真空快速蒸发（Harris，Siegel）；用光透过率来控制薄膜的厚度（Dufour）。
1949年，非金属膜生长形态的研究（Schulz）。
1950年，溅射理论开始建立（Wehner）；半导体工业开始起步；各种微电子工业开始起步；冷光镜研制成功（Turner，Hoffman，Schroder）；塑料装饰膜开始出现（holland等）。
20世纪的后50年这是薄膜技术获得腾飞的50年。
真空获得、真空测量取得的进展是薄膜技术迅速实现产业化的决定性的因素。
1952年，表面自动洁净的溅射清洗方法研制成功；开始研究新的反应蒸发方法（Auwarter，Brinsmaid）；开始研究耐腐蚀的等离子体聚合物膜。
1953年，美国真空学会成立；以卷绕镀膜的方法制成抗反射的薄膜材料（3M公司）。
1954年，开始研制新型真空蒸发式卷绕镀膜机（Leybold公司）。
1955，薄膜沉积的电子束蒸发技术开始成熟（Ruhle）；开始提出介质的射频溅射方法（Wehner）。
1956年，美国第一台表面镀有金属膜的汽车问世（Ford 汽车公司）。
1957年,真空镀镉方法被航空工业所接受; 研究光学膜的反应蒸镀方法(Brismaid,Auwarter等); 美国真空镀膜学会成立.1958年, 薄膜的外延生长技术研制成功(Gunther); 美国航空航天局(NASA) 成立.1959年, 磁带镀膜设备研制成功(Temescal公司).1960年, 聚合物表面等离子体活性沉积方法出现(Sharp,Schorhorm); 电推进器用离子源研制成功(Kauffman); 石英晶体膜厚测量仪研制成功.1961年, 低辐射率玻璃研制成功(Leybold公司); 开始研究元素的溅射产额(Laegried,Yamamura等).1962年, 开始研究用于化学分析的溅射方法; 碳(Massey) 和金属(Lucas) 的电弧气相沉积; 研究作为清洗用的介质的射频溅射方法(Stuart,Anderson等);Leybold公司的产品进入美国市场; 开始考虑元素的蒸气压(Hoenig).1963年, 开始研制部分暴露大气的连续镀膜设备(Charschan,Savach等); 离子镀膜工艺研制成功(Mattox).1964年, 光生伏打薄膜的PECVD(等离子体增强化学气相沉积) 方法研制成功(Bradley等).1965年, 偏压溅射沉积方法研制成功(Maissel等); 薄膜的激光气相沉积方法研制成功(Smith,Turner); 绝缘材料的射频溅射沉积方法研制成功(Davidse,Anderson等); 脉冲激光沉积方法研制成功(Smith等); 醋酸纤维膜所用的多层真空金属网带膜研制成功(Galileo).1966年，核反应堆中的离子镀铝(Mattox等); 作为润滑剂用的软金属的离子镀膜研制成功(Spalvins); 附着性能好的阳光反射膜(3M公司).1967年, 刀具上溅射镀铬成功(Lane);真空离子镀膜方法取得专利(Mattox); 三极溅射方法研制成功(Baun,Wan等); 高真空条件下，引爆膜的沉积(Mattox).1968年, 旋转箱中，小型部件的离子镀膜(Mattox,Klein), 这个方法后来在航天工业中叫做离子气相沉积.1969年, 磁控溅射在半球形部件内部进行，多种滋控溅射源取得专利(Mullay);Leybold公司的新型溅射镀膜机问世；蒸发薄膜形态图出版发行。
20世纪70年代各种真空镀膜技术的应用全面实现产业化。
薄膜技术的发展进入黄金时期。
1970年，真空蒸发的空心阴极电子源研制成功（ULVAC公司）；高沉积速率多层光学镀膜机研制成功（OCLI）；空心阴极离子镀膜设备在日本出现（ULVAC公司）。
1971年，用离子轰击的方法在玻璃上镀膜的公司在不少国家大量涌现；硬碳膜研制成功（Aisenberg等）；锥形部件内的磁控溅射方法取得专利（Clarke）；任意位置的阳极电弧蒸发源出现（Snaper，Sablev）；蒸发过程中，活性气体的等离子体激活（Heitman，Auwarter等）；镀铝的香烟包装纸研制成功（Galileo）；使用电子束蒸发源的离子镀膜设备出现（Chamber 公司）。
1972年，粒子束团沉积方法研制成功（Tagaki）；采用离子枪的高真空溅射镀膜设备出现（Weissmantel）；薄膜形态的同步轰击效应的研究（mattox等）；细网上镀膜的设备获得广泛应用。
1973年，电镀行业采用新型质优价廉的离子镀膜设备（Bell公司）；等离子体增强化学气相沉积（PECVD）方法在平形板反应堆中应用（Reinberg）。
1974年，超紫外—臭氧清洗技术出现（Sowell，Cuthrell等）；离子轰击膜中压缩应力的研究(Sowell,Cuthrell等); 平面磁控镀膜技术取得专利(Chapin).1975年，反应离子镀膜技术研制成功(Murayama等); 柱状阴极磁控溅射技术取得专利(Penfold等); Ⅲ—Ⅴ族半导体材料的分子束外延（MBE）研制成功（Cho，Arthur）；交替式离子镀膜技术研制成功（Schiller）；汽车车架上镀铬出现（Chevrolet）。