日立S-4700场发射扫描电镜介绍
日立S-4800冷场发射扫描电镜的BSE功能
实验 平 台 ，在科 学 研究 和人 才 培养 等方 面发 挥 着重 要作
用。
电＿ 了图像 分辨 率 为２ ｍ ｎ ，这 有利 于 高 分辨 分 析绝 缘 或 导 电性 差 的样 品 。因＃ ｓ ４ Ｏ 是研 究 纳 米材 料 等 的 有力 Ｌ一 ８ ０
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２０年 １期（ 第 ６ ） ０７ 第 ０ 总 ５期
中国 现代教有装 备
日立 Ｓ４ ０ 冷场发射扫描 电镜的 Ｂ Ｅ功能 －８ ０ Ｓ
李 永 良
北 京师范大 学 北 京 １ ０ ７ ０பைடு நூலகம்５
摘 要 ：ｓ ０是 目前场发射扫描 电子显微镜 中的高端产 品，其独特 的 电子光学设计使得该仪 器在 获得二 一４ ０ ８
次 电 子 （ ）图像 的 同 时 ， 还 能在 图像 中掺 入 不 同 比 例 的 背散 射 （ Ｅ ）信 号 ， 以 获 得 二 次 电子 和 背散 射 ｓＥ Ｂｓ
（ ＋ Ｅ）的复合 图像 ，背散 射信号的加入 ，既能减轻 图像的荷电效应 ，又能增加 图像 的成分信 息，对分析 ｓ Ｂｓ Ｅ
下 位 探测 器 ，上位 和 下 位探 测 器 上分 别 加 有＋１ ｋ Ｖ的 ０
作者 简介 ： 李永 良 ，男 ，硕 士 ，副研 究 员 。
电压 ， 以吸 引二 次 电子 ，高 分辨 的 图像 主 要 由上位 探 测
‰ 一 ｅ ２ 一 ｅ 融
３
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ｓ 模式和Ｓ ＋ Ｓ 模式示意 图，在物镜和上位探测器之 Ｅ ＥＢＥ 间放置一圆筒形 电极板 （ 如图所示 ）。在ｓ 模式下 ，电 Ｅ
极板 上加上 ＋ ０ 的电压 。 当高能入 射 电子入 射 到样 品表 ５Ｖ 面时 ， 由于入射 电子和 样 品的相 互作 用 ，从样 品表 面 产 生二 次 电子 和 背散射 电子信 号 （ 还有 其它 很 多信号 ，如 俄 歇 电子和 Ｘ 射 线等 ） ，由于 电极板 和上位 探 测器 的吸 一 引，二 次 电子和 背散 射 电子在 通过 物镜 向上 位探 测 器运 动 过 程 中受 磁 场 作 用 作 螺 旋运 动 ， 二 次 电 子 的 能 量 小
日立S4800扫描电镜中文使用手册
一、介绍Hitachi S-4800场发射扫描电镜采用了新型ExB式探测器和电子束减速功能,提高了图象质量(15 kV下分辨率1 nm)，尤其是将低加速电压下的图象质量提高到了新的水平(1 kV下1.4 nm)；新型的透镜系统，提高了高分辨模式、高速流模式、大工作距离模式、磁性样品模式等多种工作模式，使其能够精确和清楚地捕捉最短暂的瞬间。
二、操作说明1．开机（1）日常开机：打开Display的开关，PC自动开机进入用户界面并自动运行PC_SEM程序，以空口令登入。
（2）完全关闭电源后开机：接通配电盘电源→拔上MAIN Swith 开关→按一下Reset按钮，→将MAIN控制面板上EVAC POWER按至ON，SC EVAC指示灯处于常绿状态后，等半小时→按下Display开关至ON, PC 自动开机进入用户界面并自动运行PC_SEM程序，以空口令登入。
2．图像观察（1）装入样品制样→把样品托装入样品座，并用标尺确定高度、旋紧→按AIR按钮→将样品座插在样品交换杆上，并锁紧→将交换杆拉至尽头卡紧，关闭交换室→按下EVAC按钮→按下OPEN 按钮打开MV-1后，推进交换杆，旋转样品杆UNLOCK位置后拉出交换杆→按下CLOSE 按钮。
（2）图像观察及保存SC真空恢复正常后（显示为L E-3）→选择适当的加速电压（Vacc）→加高压→在低倍、TV模式下将图像调节清楚→聚焦、消象散→Slow3确认图像质量→点击Capture按钮拍照→点击右下方Save按钮→选择保存位置、使用者及样品信息，保存。
（3）结束观察点击OFF按钮关闭加速高压→将放大倍率还原设至×1.00K→按操作界面上home使样品台回到初始位置→依照装入样品的方式反序取出样品。
3．关机（1）日常关机退出PC_SEM程序→退出Windows XP系统→关闭DISPLAY（2）完全关机短时间关机：退出PC_SEM程序→退出Windows XP系统→关闭DISPLAY→关闭EVAC→等待约35分钟后Multi Indicator区域显示“POFF”→关闭MAIN SWITCH→关闭电源总开关。
SEMHitachiS4700UserManual：SEM日立s4700用户手册
SEM Hitachi S4700 User ManualGeneral checks1.Write “Date”, “User” and “Start time” on a user log2.Check vacuum (IP1: 1.0 x 10-8 Pa, IP2: 1.0 x 10-7 Pa, IP3: 1.0 x 10-6 Pa, S.C.(Pe): L x 10-3Pa, S.C.(Pi): L x 10-1 Pa, S.E.C.(Pi): 1.0 Pa)3.Turn on the PC display4.Double click the SEM observation software5.If “please flashing” come out in the scanning image window, flash the electron gunSample insertion6.Open nitrogen valves (the nitrogen bomb is located behind the SEM)7.Fill up balloon with nitrogen8.Push the “Air” button on front panel of the SEM to vent the specimen exchanging chamber(SEC)9.Close nitrogen valves10.Pull the door open (DO NOT OPEN the MV (manual valve of specimen chamber) bygrabbing the SEC, not the rod (do not touch inside of SEC and USE GLOVE)11.Push the specimen exchange rod slightly to unlock it (use glove)12.Unscrew the sample holder onto the end of the rod (use glove)13.Put sample on the sample holder (use glove)14.Check the sample height level (use glove)15.Screw the sample holder onto the end of the rod (use glove)16.Pull the rod back to the locked position (use glove)17.Bring the SEC unit to SEC-SC interface (use glove)18.Press the “EV AC” button to evacuate the SEC with HOLDING the SEC unit19.Wait until vacuum becoming lower than 2.0 Pa20.Open the MV and insert the sample holder by pushing the specimen exchange rod until itstopped completely21.Unscrew the sample holder22.Make sure the sample holder is completely released from the rod and mount on the receiver23.Pull the rod back to the locked position (carefully and slowly)24.Close the MVObservation25.Pull up the lever for gun valve on front panel to be “Auto”26.Turn on HV27.Optimize focus and stigma (~50K in magnification is good for optimization)28.Click alignment which is a fourth icon from left on top in the window29.Optimize beam alignments30.Observe your sample31.When you capture SEM images, change scan speed to be “S2” and push “CAP” buttonSample withdrawal32.Turn off HV33.Push down the lever for gun valve on front panel to be “Close”34.Move the stage position to the sample exchange position (X, Y stage: 12.5, X-Y Rotation: 0deg, Tilt: 0 deg, Z position: 12.0)35.Open the MV (use glove)36.Insert the rod until it stopped completely37.Screw the rod into the sample holder38.Make sure it is completely screwed39.Pull the rod back to the locked position (carefully and slowly)40.Close the MV41.Open nitrogen valves42.Fill up the balloon with nitrogen43.Push the “Air” button to vent the SEC44.Close nitrogen valves45.Unlock the specimen exchange rod (use glove)46.Unscrew and pick up sample holder from the rod (use glove)47.Pick up your sample from the sample holder (use glove)Clean up48.Remove a top part of the sample holder (carbon tape would be bad for vacuum condition inspecimen exchange chamber)49.Screw the sample holder onto the end of the rod (use glove)50.Pull the rod back to the locked position (use glove)51.Bring the SEC unit to SEC-SC interface (use glove)52.Press the “EV AC” button to evacuate the SEC with HOLDING the SEC unit53.Close the SEM observation software54.Turn off the PC display (not PC power, but only display)55.Write “End time”, “V ext”and “OK (if you did not see any problem in your SEMobservation)” on the user log56.Clean up everything (tweezers, carbon tape, scissors and so on) on the desk。
4700 S电子束曝光机图形曝光模式及其应用
4700 S电子束曝光机图形曝光模式及其应用董磊【摘要】通过对MEBES 4700S电子束曝光机不同图形曝光模式特性的比较和分析，得到其在160MHz和320MHz曝光像素频率和不同设计栅格尺寸下的适用范围，以利用MEBES 4700S 生产具有期望精度值图形的掩模版，达到最佳的制版效果。
%Through the comparison and analysis for the features of pattern exposure modes of MEBES 4700S exposure device,the applicable range is obtained under 160MHz and 320MHz pixel-incrementing rates and different design grids consideration,in order to gain desirable pattern precision and the best effect of making photomask by means of MEBES 4700S.【期刊名称】《微处理机》【年(卷),期】2014(000)005【总页数】4页(P8-10,13)【关键词】MEBES 4700S;电子束曝光机;图形曝光模式【作者】董磊【作者单位】中国电子科技集团公司第四十七研究所，沈阳 110032【正文语种】中文【中图分类】TN305.6MEBES 4700S是一套由美国ETEC公司生产的，具有热场致发射（TFE）镜筒和320MHz曝光像素频率的高精度、高分辨率和高产量的电子束曝光系统。
它可以用于微电子领域的掩模版制造和硅片直写。
由于MEBES 4700S具有多种不同的图形曝光模式，在利用其制作掩模版的时候，需要根据每一种图形曝光模式的特点灵活选用其中的一种或几种组合来达到最佳的制版效果。
通过对不同图形曝光模式特性的比较和分析得到了其在不同设计栅格尺寸和曝光像素频率下的适用范围，在实际生产中，以此作为指导可以更好地发挥每种图形曝光模式的优势，生产具有期望精度值图形的掩模版。
扫描电镜的结构及原理
扫描电镜的结构及原理一、简介1特点：扫描电子显微镜主要特点是电子束在样品上进行逐点扫描，获得三维立体图像，图像观察视野大、景深长、富有立体感。
在观察样品表面形貌的同时，进行晶体学分析及成分分析。
常规的扫描电镜分辨本领通常为7～10nm,加速电压在1～50 kV范围。
生物样品一般用10～20kV,成像放大率几十倍至几十万倍。
2用途：扫描电镜可对样品进行综合分析，已成为重要分析工具，纤维、纸张、钢铁质量等，观察矿石结构、检测催化剂微观结构、观看癌细胞与正常细胞差异等。
3日本日立公司产品S-5200型为超高分辨率（ultra-highresolution）扫描电镜，加速电压为1kV时，分辨率可达1.8nm,加速电压为30kV时，分辨率高达0.5nm。
此外，还具有独特的电子信号探测系统，不但能观察样品三维形态结构甚至能看到样品的原子或分子结构，在使用性能方面已超越任何一种常规扫描电镜。
二、扫描电镜的结构扫描电镜的组成 :（1）、电子光学系统：组成：①电子枪与透镜系统；②电子探针扫描偏转系统作用：产生直径为几十埃的扫描电子束，即电子探针，使样品表面作光栅状扫描。
①电子枪组成：阴极、阳极、栅极。
直径约为0.1mm钨丝制成，加热后发射的电子在栅极和阳极作用下，在阳极孔附近形成交叉点光斑，其直径约几十微米。
扫描电镜没有成像电镜，成像原理与透射电镜截然不同。
所有透镜皆为缩小透镜，起缩小光斑的作用。
缩小透几十镜将电子枪发射的直径约为30μm电子束缩小成几十埃，由两个聚光镜和一个末透镜完成三个透镜的总缩小率为2000～3000倍。
两个聚光镜分别是第一聚光镜和第二聚光镜，可将在阳极孔附近形成的交叉点缩小。
聚光镜可动光阑位于第二聚光镜和物镜之间，用于控制选区衍射时电子书的发散角。
提高角分辨率。
被聚光镜缩小的光斑再由物镜进一步缩小，使光斑直径为几十埃。
然后汇聚在样品上。
物镜有两个极靴，分别为上级靴和下级靴。
上下级靴的形状不对称，极靴孔径也不同，以适应不同需要。
S-4800日立扫描电子显微镜(SEM)简易操作指南(通用版) (1)
S-4800日立扫描电子显微镜（SEM）简易操作指南一、开机前准备1.1制备样品（带口罩与手套进行）SEM样品制备相对简单，原则上只要能放入样品室的样品，都可进行观察。
但需注意以下事项：a)样品在物理上和化学上必须要保持稳定，在真空中和电子束轰击下不挥发或变形，没有腐蚀性和放射性。
（通常是干燥固体。
）b)由于光源是电子，样品必须导电，非导电样品可喷镀金膜。
金膜在一定程度上会影响样品原有形貌。
（若样品本身导电，衬底不导电，如蓝宝石上的ZnO，只需用导电胶把样品表面连到样品台。
）c)由于物镜有强磁性，带有磁性的样品制样必须非常小心，防止在强磁场中样品被吸入物镜或分散在样品室中。
通常磁性样品必须退磁，且工作距离（WD）须大于8mm。
具体操作过程：(1) 按待测样品数量选择样品台，（支持直径d=5mm,15mm,1 inch,2 inch等规格，若要观测截面可选择带角度的样品台）。
(2) 剪一小段导电胶，粘到样品台上。
若样品为粉末，则把粉末撒到导电胶上，用吸耳球或高压氮气吹扫掉导电胶上未粘紧的粉末；若是块状样品，则把样品牢牢粘到导电胶上，用手轻轻推，样品不会左右晃动。
（为观测时方便定位，将样品排列成行（或列），并在行下方（或列左侧）标上数字编号。
）(3) 样品粘贴完成后，用吸耳球或高压氮气吹扫掉样品台上的粉末、灰尘、水珠、唾沫等（会影响照片质量，甚至使真空度下降而无法加高压，推荐认真执行。
）1.2查看真空度打开前面板盖，点击MODE按钮直至IP1指示灯闪，在登记表记下MULT INDICATOR数码显示管的读数，同理读取IP2，IP3并记录。
确认IP1<2E-7，IP2<2E-6，IP3<5E-5。
（通常情况都是IP1显示0E-8，IP2显示0E-8，IP3显示0E-8或aE-7,1<a<9。
）如图1所示：图1 按MODE读取IP1-IP3二、开机操作2.1开机a)开启冷却循环水电源，循环水温度显示应在15-20℃，水位应浸没金属线圈。
扫描电子显微镜之冷场发射、热场发射、肖特基
扫描电子显微镜之冷场发射、热场发射、肖特基作者：驰奔COXEM(酷塞目)有限公司Beijing Office(转载请注明出处)目前市场上可以提供的商品化大分类，一般而言是以发射方式区分为：场发射和热发射。
场发射电子枪的高性能结合，使得场发射扫描电镜相对普通热发射扫描电镜的性能有了质的飞跃。
热发射概念比较简单，是以钨灯丝扫描电镜为主，最常见，也有采用六硼化镧电子枪的扫描电镜。
场发射概念相对比较混乱，市场经常出现的名称为：冷场发射扫描电镜：就两家日本电子和日本日立，是日本的特色，也是日本人的性格体现，尖（不要理解成奸）的要命！因为不太好用，所以较量重点在于看谁能够为用户主动排忧解难。
超高分辨热场发射扫描电镜：为了和冷场较真，又兼顾热场优越性.很多人认为这是真正可以叫做热场发射的扫描电镜; 但也有业内著名人士云，现在根本没有真正的热场, 理由是肖特基发射电子源，配合双模式物镜（一种模式为半内透镜，一种为无场模式），当采用无场模式时，分辨率马上落到底。
热场发射扫描电镜：前面没有形容词，就是某业内人士所云的并非真正热场发射扫描电镜，但名称可以借一下超高分辨的概念。
肖特基Schottky热发射扫描电镜：一般制造商都不肯这么叫，其实这反映其实质肖特基热场发射扫描电镜：实质同上，但借助热场概念。
混乱的原因，是统治话语权的人有意或者无意的一种引导,本文不存在商业引导，驰奔认为几十年前真正的科学家就已经搞清楚了，而且早已厘清了事实。
在很多资料中都可以查到下面的这个图。
这才是最正确的回答。
但是大多数需要扫描电镜的人并非都熟悉量子物理，稍有必要做一些解释。
发射体前电子的势能曲线V（z），外加电场-e I E I z，电子的势能曲线。
实际增加外电场的主要途径是减小阴极的曲率半径，为100微米，六硼化镧阴极约为5微米，肖特基热发射阴极（单晶六硼化镧或者ZrO/W)为小于1微米，冷场发射阴极小于100nm，热场发射阴极在100nm到1μm之间。
场发射扫描电镜技术参数
场发射扫描电镜技术参数场发射扫描电镜技术参数一、系统基本信息：1.1系统名称：场发射扫描电镜。
1.2系统数量：1套。
1.3系统组成：主机，Schottky型场发射电子源，无交叉光路Gemini镜筒,圆形一体化样品室，5轴全自动马达驱动样品台，环形Inlens二次电子探测器，样品室二次电子探测器，背散射电子探测器，CCD摄像机，计算机系统，操作软件，真空系统，循环水冷却系统、空气压缩机、能谱仪，原装进口离子溅射仪，备用热场发射灯丝1根，导电胶带2卷。
二、用途：该设备主要用于金属材料、非金属材料、纳米材料的检测，可以对样品进行直接的超高分辨微观形貌观察和微区元素分析。
三、技术要求：1工作条件：1.1电源电压：220V±10V,单相50Hz，工作温度：18°C-25°C，磁场：≤3mGauss，湿度：≤60%RH，接地：独立的接地线。
1.2仪器运行的持久性：长时间连续工作。
2性能指标：★2.1分辨率：***************@1kV★2.2加速电压：0.02-30kV★2.3加速电压调整步长：每档10V连续可调2.4探针电流：12pA-20nA2.5稳定性：优于0.2%/h2.6放大倍数范围： 10-1,000,000×3电子光学系统：3.1电子发射源：Schottky型场发射（热场发射）电子源。
★3.2 Gemini镜筒：无交叉光路设计，电子束仅在样品表面进行一次汇聚，彻底消除电子束交叉三次发生能量扩散大的问题。
★3.3电子束加速器：无需切换模式即可实现低电压模式下电子束在镜筒内维持较高能量到达样品表面，可低至20V。
能适应的表面凹凸不平样品不导电样品、成分复杂样品、需要倾斜观测的样品。
★3.4透镜系统：电磁透镜/静电透镜式复合物镜。
在任何电压条件下样品表面不形成磁场，在极短工作距离下对磁性样品的高分辨成像。
3.5聚焦：工作距离：范围可由1mm至50mm。
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亮度
对比度
放大倍数调整
多功能钮 粗聚焦 细聚焦
• 点击
日常对中调整
• 出现
电子束对中 光阑对中
消像散对中
电子束对中
扫描模式和自动调整
扫描/ 停止
TT聚对VV模档焦于式用、易的于消放捕寻像电捉找散样扫（。视，品描较场以图慢2档、及像）小图焦自面效区像、动无果域的消自聚细不扫精像动焦节好描细散亮对或。用聚。度于样于/样品对品充比表电度调整
Save Image对话框
如何获得一张好的照片？
电镜的合轴
• 电子束对 中。
• 物镜光阑对 中。
• 每次改变加 速电压或操 作模式 ， 都要重新进 行电子束对 中。
加速电压的选择
• 加速电压高，图像分辨率高，信噪比高， 但会使图像边缘效应增强，并产生充电现 象。此外，因电子束穿透能力强，可使内 部结构干扰表面形貌。
聚焦、消像散
• 图像聚焦和消像散是图像质量重要保证， 可自动或手动进行。
• 一般情况下，在高于所需放大倍数一、二 档的条件下进行聚焦或消像散，然后回到 所需放大倍数下照像，可得到比较理想的 照片。
• 聚焦和消像散应交替进行，以得到满意的 图像。
扫描电镜的象散和消象散
有象散
无象散
开放使用扫描电镜的操作范围规定
• 电子束斑的大小取决于第一聚光镜的励磁 电流，电流数值越小，电子束斑直径越 大。
电子束在样品中 的散射。
分辨率取决于 电子束的散射范 围。
二次电子：几 nm；
背散射电子和 X射线：由几百nm 至几um。
工作距离的选择
• 工作距离（WD）是指物镜下表面与样品表 面的距离，WD短可以得到较高的分辨率， WD长可以得到大的倾斜角度和大的景深。
• 根据样品的情况选择不同的加速电压。 • 密度低、导电性不好的样品，宜选用较低
的加速电压。 • 一般情况下，选用20kV加速电压。
同一部位不同加速电压下的扫描电镜图片。
加速电压10kV
加速电压4kV
电子束斑大小的选择
• 电子束斑大（也即探针电流大），景深 大，信号强，图像噪音小，但分辨率较 低，样品表面易充电。
电镜状态的检查
• EVAC POWER开关置于—（ON） 。 • DP/TMP、WATER和AIR PRES绿灯亮。 • OBJ.APT开关置于HEAT位置。
• IP1、IP2、IP3 的绿M 灯亮。
• GUN VALVE开关处于CLOSE并且AUTO灯 闪。
• 如果是铁磁性块状样品，必须尽可能减小 样品尺寸（不大于3×3mm2)，且用导电胶牢 固地固定在样品台上。
• 样品要清洗干净，表面不能有污染。 • 表面导电性不好的样品要镀金膜。
粉未试样
• 用溶剂或水将粉末超声分散后滴在盖玻片 上，然后将盖玻片固定在样品台上。
• 也可用碳导电胶带固定粉末。 • 样品粘好后，用吸耳球用力将未固定牢固
一、扫描电镜的基本结构和工作原理： 1、电子光学部分介绍及工作原理：
电子枪 聚光镜 物镜
样品室
冷场发射电子枪
2、真空系统介绍
电镜样品的处理和制备
• 样品要干燥、洁净，没有挥发性和腐蚀性 物质。
• 不要用裸手去接触样品和样品台，含有溶 剂的样品要充分去除溶剂。
• 样品导电性良好。 • 样品在电子束照射下稳定。 • 样品要牢固地固定在样品台上。
放置样品
•确认预抽室阀门在C（关）的位置，按下AIR开关。
•在预抽室达到大气压力后（约10秒钟）打开预抽 室。
轻推样品更换 杆，将杆旋进 样品台的螺孔 中，不要过于 用力旋紧。
•向后拉样品更换杆并确认锁住，关闭 样品交换室。
•按下EVAC开关，预抽室抽真空。 •待真空度达到1×100Pa后， •方可打开预抽室阀门 （OPEN位置）。
的粉末吹走，以免污染电镜。 • 镀金膜。
其它
• 薄膜样品应将待观察面向上粘在样品台 上，观察面不能沾染灰尘或有其它污染。
• 有微孔的薄膜不要用导电胶固定。 • 要观察表面结构的纤维样品，必须两端都
固定在样品台上。 • 要进行能谱分析的样品，不能镀金膜，对
于不导电的样品，为使其导电，应镀碳 膜。
S-4700的操作及注意事项
•保持水平方向把样品送入样品室，插入燕尾槽（注 意！一定要确保插紧，避免样品台掉入样品室内）。 •逆时针旋松交换杆，使其完全脱离样品台，拉出并锁 住。关闭预抽室阀门（CLOSE位置）。
样品
样品台
燕尾槽
样品室内部
取出样品
• 检查五个样品调节轴的位置，确认都在规 定的位置上。
• 打开预抽室阀门。 • 将样品杆解锁，向样品室内慢慢推入，对
1、持“实习上机证”者： 所有操作必须在电镜室老师监管下进行，在
操作中不得自行改变工作距离、更换样品，在移 动样品时，不得进行样品倾斜调整，不得改变操 作模式。 2、持“开放上机证”者：
可独立操作，但在操作中工作距离不可小于 6mm。
持以上操作证者都必须有高度的责任心，爱 护仪器，不得尝试进行计算机软件方面的修改和 能谱分析，
扫描电镜的维护
• 听从电镜室老师的指导和安排，不得进行规定范 围之外的仪器操作。发生故障要及时向电镜室老 师汇报，不要自行处理故障。
• 进入电镜室要换鞋，确保不将尘土带进电镜室。 • 更换样品要戴手套，不得用裸手去接触电镜中处
于真空内的部分。 • 保持电镜周边环境的整洁，不准将水杯、食物及
其它无关用品带入仪器室。 • 操作电镜要集中精力，操作时手要轻，不得过度
• 进行能谱分析时必须用固定的WD：12mm。
• 一般情况下工作距离应在6mm至15mm之间。
放大倍率越高越好吗？
扫描电镜放大倍数
M
=
CRT边长 电子束在试样上的扫描
宽度
若SEM分辨能力为10nm，人眼分辨能力为 0.2mm，则
M 有效
=
0.2(mm ) 10 (nm )
= 2 × 10 4
超过仪器分辨率有效放大倍数的放大是 空放大，只能得到模糊像。
用力，以免造器件成损坏。操作后，要将仪器恢 复为操作前的状态，所有使用过的物品要摆放整 齐。 • 自觉遵守电镜室的一切规章制度。
捕捉图像
扫描1扫档描档量可的小获图区得像域较。扫高自5描质0动00消倍自像以动散上聚建使焦议用在。 （较快）
自动消像散
储存图像
• 图像采集后自动进入Capture Image窗口，储存图像点击窗口 下部的保存图标。
• 进入Save Image对话框。 • 注意：每批储存Capture Image
窗口中的图像，只取一个文件 名，储存程序可自动编号，因 此，不同的样品最好分批储 存。
加高压
• 将GUN VALVE开关置于AUTO（结束工作后置 于CLOSE）。
• Flashing（去除吸附在灯丝上的气体分子，每天一 次，当发射电流不稳时，可再次Flashing ）。 方法：1、打开HV Control对话框； 2、点击Flashing； 3、点击Execute。
设置加速电压和发射电流
聚合物、生物试样
• 所有样品必须充分干燥，不能含有溶剂、 水份和油。
• 乳液样品用超声分散后滴在盖玻片上，然 后将盖玻片固定在样品台上。
• 块状样品应使观察面向上，注意表面不能 有污染，用导电胶在样品台上粘牢。
• 不导电的样品都要镀金。以改善导电性和 二次电子的产率。
金属试样
• 样品不能带有磁性。磁性粉末样品不允许 进入样品室。
样品的放置和更换
• 必须戴干净手套更换样品。 • 必须使用高度规调整好样品的高度。 • 导电胶的溶剂必须完全挥发掉才可以将
样品放入样品室。 • 用导电胶带容易引起样品漂移，并带有
挥发性物质，应尽可能用最少量以减少 对镜筒的污染。
测量样品高度的高度规
注意！样品顶面超过规的标定高度底线不能大于0.5mm, 否则在小工作距离和高倾斜角时易碰物镜。
准样品台上的螺丝孔旋入，不可过紧。
• 拉出样品台，并锁紧。 • 关闭预抽室阀门。 • 按下AIR开关。 • 待预抽室达到大气压后，打开预抽室旋下
样品。
S-4700显示单元
高压状态
放大倍数
高压状态显示条
加高压（未加高压时显示ON） 加速电压值 发射电流值 取出电压值
关高压
点击可打开HV Control对话框
• 点击Vacc或Set Ie to，从下拉条中选 择需要的值。
• 点击ON加高压 。 此后，右上角高压 状态条中的ON变为 SET，当Ie值降低 时可点击SET使Ie 值回到设定值。
• 点击
电镜状态调整
• 出现Column Setup
操作模式 工作距离选择 探针电流选择
探测器选择
认识控制盘
样品微移
S-4700冷场发射扫描电镜
S-4700场发射扫描电镜的技术指标
• 电子枪：冷场发射型 • 分辨率：15KV：≤1.5nm（WD：12mm），
1kV：≤2.1nm • 加速电压：0.5～30kV • LOW MAG模式：×30～2,000 • HIGH MAG模式：×250～500,000 • 仪器价值：240万元
调节样品台位置的五个轴
高度调节（Z轴）
样品室 旋转调节（R） 倾斜调节（T） 纵向调节（Y轴）
横向调节（X轴）
更换样品时五个轴的位置
X
12.5mm
Y
12.5mm
Z
12.0mm
R
0°
T
0°
样品预抽室
预抽室阀门 顺时针为关 逆时针为开
预抽室
样品更换杆
注意！不要用手握杆来 打开预抽室，以免损坏 或弯曲。