多晶薄膜的微观表征研究
薄膜光学与制作_第08章 薄膜的表征方法
薄膜的表征方法
2. 化学态的分析
依据：化学位移和各种终态效应以及价电子能带结构等
XPS主要通过测定内壳层电子能级谱的化学位移可以推知 原子结合状态和电子分布状态
一定元素的电子结合能会随着原子的化学态发生变化－化 学位移。这一化学位移的信息是元素状态分析与相关结构 分析的主要依据
在XPS中，除光电子谱线外，还存在X射线产生的俄歇峰。 这是由于用能量100~3000eV的X射线激发，绝大部分元素 处有光电子发射外，还可发射俄歇电子
薄膜的表征方法
四、定量分析
在表面分析研究中，我们不仅需要定性地确定试样的元 素种类及其化学状态，而且希望能测得它们的含量，对 谱线强度作出定量解释，XPS定量分析的关键是要把所 观测到的信号强度转变成元素的含量，即将谱峰面积转 变成相应元素的含量
薄膜的表征方法
薄膜的表征方法
Intensity / cps
数s (3) 自由电子的动能Ek
则 h＝ Eb＋ Ek ＋ s
薄膜的表征方法
当样品置于仪器中的样品架上时，样品与仪器样品架材料 之间将产生接触电势差A- s (A ：分析器材料层逸出功) 进入分析器光电子动能为：
则 Ek ＝ h - Eb - A
薄膜的表征方法
各种原子、分子轨道的电子结合能是一定的，据此可鉴别各 种原子和分子，即可进行定性分析
at 200 V
薄膜的表征方法
4000 3000
Ti4+ 2p2/3
Intensity / cps
2000 1000
Ti3+ 2p2/3 Ti2+ 2p2/3
0
470 468 466 464 462 460 458 456 454 452
多晶体X射线衍射分析的应用之五薄膜表面结构分析
在2为20～80扫描内对基底表面进行－2扫描， 出现CeO2的(002)和(004)峰，说明试样表面为CeO2 (100) 晶面。
选取CeO2的(204)晶面，查的2＝79.08,与(100)晶面 的夹角＝26.57， ＝12.97。
将X射线衍射仪2轴的单独旋转，使探测器转动到 79.08 位置; 通过 轴的单独旋转使轴转到12.97 ；进行 扫描测试，其结果如图所示。
k
2 2
l
2 2
)
式中：h1k1l1为宏观表面的晶面参数；h2k2l2为被测晶 面的晶面参数。对与其它晶系可查相关资料。
这样，入射线与试样的夹角可表示为：
＝ －
即入射线与单晶(或外延膜)宏观表面间的夹角被确定。 扫描中在其试样自身平面内转动，而转动到被测晶面， 该晶面与宏观表面存在特定的角度关系，则晶面可以 唯一确定。
2、测试方法
欲对某一外延膜进行扫描。 (1) 确定角 a) 表面为特定晶面(h1k1l1)，被测晶面为(h2k2l2)，根据
晶面夹角公式可求出； b) 根据及晶胞参数求出d进而根据布拉格方程求出角； c) 再由公式＝ － ，即可求出角
(2) 测试
a) 通过X射线衍射仪2轴的单独旋转，将探测器转动到2 位置。
4) 所形成的薄膜层的晶体结构与距表面的距离变化的信 息——使用薄膜X射线衍射法，采用低掠入射角法，对 逐步改变X射线入射角时所得到的衍射图形进行定性分 析。
一、薄膜X射线的光学系统
薄膜X射线衍射法的原理是为低掠入射角法，即低 的入射角法。如图所示：
掠入射X射线光路图 (a) 聚焦X射线 (b) 平行束X射线
b) 通过 轴的单独旋转使试样表面与入射X射线成角， 即 轴转至角位置；
薄膜材料的表征方法
6.2 薄膜形貌的表征方法 电子束与固体样品作用时产生的信号
6.2 薄膜形貌的表征方法
➢ 二次电子：外层价电子激发SEM ➢ 背散射电子：被反弹回来的一部分入射电子 S
EM ➢ 透射电子TEM
➢ 俄歇电子：内层电子激发AES,表面层成分分析
6.2 薄膜形貌的表征方法
6.3 薄膜结构的表征方法
6.3.1 X射线衍射法 －－ 物相定性分析
材料的成份和组织结构是决定其性能的基本因素,化学分析能给 出材料的成份,金相分析能揭示材料的显微形貌,而X射线衍射分 析可得出材料中物相的结构及元素的存在状态.因此,三种方法不 可互相取代.
物相分析不仅能分析化学组成,更重要的是能给出元素间化学结 合状态和物质聚集态结构.
质量的方法,甚至可以将薄膜厚度的测量精度提高至低于一个 原子层的高水平.
6.1.2 薄膜厚度的机械测量方法
6.1.2.2 石英晶体振荡器法 基于适应晶体片的固有振动频率随其质量的变化而变化的物
理现象. 使用石英晶体振荡器测量薄膜厚度需要注意两个问题:
一,石英晶体的温度变化会造成其固有频率的漂移； 二,应采用实验的方法事先对实际的沉积速度进行标定. 在大多数的情况下,这种方法主要是被用来测量沉积速度. 将其与电子技术相结合,不仅可实现沉积速度、厚度的检测,还 可反过来控制物质蒸发或溅射的速率,从而实现对于薄膜沉积 过程的自动控制.
垂直入射的单色光的反射率随着薄膜的光学厚度n1h的变化而发 生振荡.
当n1> n2n2＝1.5,相当于玻璃时,反射极大的位置： h = 2m+1λ/4n1
对于n1< n2,反射极大的条件变为： h = m+1λ/2n1
CdSyTe1-y多晶薄膜的制备及光谱表征
（ ＤＳ 研究 了 Ｃ ＳＴｅ 晶薄膜 的结构 、 分。实验结果表明 ： Ｅ ） ｄ￣ 多 ． 一 组 石英振荡法监控 的组分 与 Ｅ Ｓ谱结果较 为 Ｄ 致 ；当 ＜Ｏ ３时 ， ｄ ． ｃ Ｔｅ 晶薄膜为立方结构 ，当 ≥ｏ ３时，Ｃ Ｓ Ｔ 多 一 ． ｄ ｙ ｅ一 多晶薄膜为六方结 构 。 用 采 ＸＲ Ｄ线形分析法可计算 出 Ｃ Ｓ Ｔ 多 晶薄膜 晶粒大 小约 ２ ～５ ｍ。 后 ，用紫外一 见一 ｄ， ｅ ｏ ０ｎ 最 可 近红外谱 （ ｕ ＶｉＮＩ ） ｓ Ｒ ，测得 ３ ０ ／０ ｌ ｄ — ０ ￣２５０ｎ ｌ Ｔｅ ． 晶薄膜 的透过率 曲线 ， ＴＣ 一多 并结合 一阶 Ｓ ｌ ｉ 模 型的折射率色散 ｅｌ ｅ ｍｅ ｒ 关系 ， 表征 了 Ｃ Ｓ Ｔ ， ｄｙ ｅ 多晶薄膜 的光 学性质 ， 获得 了 Ｃ Ｓ Ｔｂ ｓ 晶薄膜 的光 学厚度 ～５ ５ｎ ｌ ｄ ｏｚ ＿ 多 ｚ 】 ３ ｌ ，光能 Ｔ 隙 Ｅ ～１ ４ Ｖ，以及吸收系数 （） 折射率 （） ． １ｅ Ａ、 等光学量 。 结果也表 明，采用真空共蒸发法可 以制备需 要 组分 的 ｃ Ｔｅ 多 晶薄膜 ，对 ｃ Ｔｅ 多 晶薄膜光学性质的表征方法可推广到其他 的半导体薄膜材料 。 ｄ ｄ 关键 词 Ｃ ＳＴｅ ｄ ｙ ｘ 薄膜 ； 一 共蒸发法 ； 光谱表征
过 高温互扩散形 成 ｃ Ｔ ， 组分 难 以控 制 ，因此 ， ｄ ｅ 其 一 一
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第 ０８８年 ３月 ２２ ， ３ 卷 第 期 ０
光
谱
学
与
光
谱
分
析
Ｓ ｅ ｔｏ ｃ ｐ ｎ ｐ ｃ ｒ ｌＡｎ ｌ ｓｓ ｐ ｃｒ ｓ ｏ ｙ ａ ｄ Ｓ ｅ ｔａ ａｙ ｉ
Ｖ １２ ， ． ，ｐ ９ —０ ｏ ． ８ Ｎｏ ３ ｐ ４ ９ ５ ２ Ｍａｃ ｒ ｈ，２ ０ ０８
薄膜的结构与缺陷
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薄膜表面结构与构成薄膜整体的内部结构相关， 因此应研究薄膜内部结构。
2、内部结构
由于薄膜表面结构和构成薄膜整体的微型体状密 切相关，大多数蒸发薄膜具有下述特点：
形成无定形薄膜的工艺条件：
降低吸附原子的表面扩散速率(通过降低基体温度Ts、引 入反应气体和搀杂方法实现)，使原子扩散速率降低到凝结 在本身射点及入射点附近。
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二．薄膜的晶体结构
◆ 薄膜的晶体结构是指薄膜中各晶粒的晶型状况。
◆ 晶体的主要特征是其中原子有规则的排列。 ◆ 由于晶体结构具有对称性，可以用三维空间中的三个矢 量a’、b’ 、c’ 以及对应的夹角α、β、γ来描述。
四、层错缺陷
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在真空蒸发薄膜中存在层错缺陷，由原子错排 产生，
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在完整的面心立方晶体中应以ABC顺序堆垛，每三层一个 反复，周而复始，ABCABC……（若在原子排列中缺少某 一层，如A层），则为ABC BC ABC，于是产生了层错。
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◆ 若薄膜的平均厚度为d，它按无规则变量的泊松 几率分布，由此可得到膜厚的平均偏离值 d d
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1—在N2气压为133.3Pa下淀积的；2—在高真空下淀积的 14
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◆ 薄膜的表面积随着其厚度的平方根值而增大。但由于
入射原子沉积到基体表面上之后，释放出能量就吸附在 基体表面上。然后依靠横向扩散能量在表面上作扩散， 占据表面上的一些空位，使薄膜表面上的谷被填平，峰 被削平，导致薄膜表面面积不断缩小，表面能逐步降低。
第八章-薄膜的结构与缺陷
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原因解释： 阴影效应 在沉积过程中，基片表面优先生长出许
多峰状微小晶粒，由于阴影效果，遮住了相邻的 晶粒使继续入射的原子达不到其表面，使薄膜表 面凹凸不平，内部出现大缺陷。
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若沉积薄膜时真空度较低，由于残余气压过高， 入射的气相原子和残余气体分子相碰撞，先在 气相中凝结成烟尘，然后再到达基体表面沉积 形成薄膜。由于这种薄膜由微粒松散堆积而成， 也是多孔性的。
看作区域1 在Ts/Tm 值为0时在非常光滑基体上形 成的极限形式。是区域1结构中晶粒尺寸小到难 以分辨时呈现的纤维结构。 当入射气相粒子流垂直入射沉积在较光滑、均匀 的基体表面上时，在吸附原子的表面扩散速率足 够大时，可形成接近区域1 的结构。
特点：晶粒间界致密，机械性能好。
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区域 2 在基体温度较大，或沉积吸附原子在基
扩散到表面上稳定的位置，排列到晶体格点中去。 外延温度不仅取决于基底与薄膜材料的组合还取决
于基底表面是否有污染，以及蒸镀速度。
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二．薄膜的晶体结构
◆ 薄膜的晶体结构是指薄膜中各晶粒的晶型状况。 ◆ 在大多数情况下，薄膜中晶粒的晶格结构与块 状晶体是相同的。（7个晶系14 种布拉非格子）
◆不同之处：
晶粒择优取向薄膜（包括锥形结构、纤维结构和柱 状结构）
在多晶薄膜中，常常出现一些块状材料中未曾发 现的介稳相结构。
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晶界：多晶薄膜中不同晶粒间的交界面，具有与晶 粒内部不同的特征。 晶界特点： ①由于晶界中晶格畸变较大，晶界上原子的平均能
量高于晶粒内部原子的平均能量，它们的差值称 为晶界能。 ②由于晶界中原子排列不规则，其中有较多的空位。 微量杂质原子常富集在晶界处，杂质原子沿晶界 扩散比穿过晶粒要容易。
薄膜材料的表征方法-16-2012
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6、扫描隧道显微镜（Scanning Tunneling Microscope-STM）
场发射扫描电子显微镜 Field Emission SEM (FESEM) 分辨率可达1-2 nm
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PbTiO3 Nanowires
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3、透射电子显微镜
（Transmission Electronic Microscope）
特点：电子束一般不再采取扫 描方式对样品的一定区域进行 扫描，而是固定地照射在样品 中很小的一个区域上；透射电 子显微镜的工作方式是使被加 速的电子束穿过厚度很薄的样 品，并在这一过程中与样品中 的原子点阵发生相互作用，从 而产生各种形式的有关薄膜结 构和成分的信息。 工作模式：影像模式和衍射模 式（两种工作模式之间的转换主要
(2m 1) d 4n1
对于n1<n2的情况，反射极大的条件变为
(m 1) d 2n1
为了能够利用上述关系实现对于薄膜厚度的测量，需 要设计出强振荡关系的具体测量方法。
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（1）利用单色光入射，但 通过改变入射角度（及反射 角度）的方法来满足干涉条 件的方法被称为变角度干涉 法（VAMFO），其测量装 臵原理图如图。 （2）使用非单色光入射薄 膜表面，在固定光的入射角 度的情况下，用光谱仪分析 光的干涉波长，这一方法被 称为等角反射干涉法 （CARIS）。 注意：以上测量薄膜厚度的方法仅涉及到薄膜厚度引起的光 程差变化以及其导致的光的干涉效应。 10
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2）称重法
如果薄膜的面积A、密度ρ和质量m可以被精确测定的话， 由公式
m d A
就可以计算出薄膜的厚度d。 缺点：它的精度依赖于薄膜的密度ρ以及面积A的测量精度。
多晶硅薄膜材料的热导特性分析与优化策略研究
多晶硅薄膜材料的热导特性分析与优化策略研究多晶硅薄膜材料在光伏领域具有广泛的应用前景，然而其热导特性对其性能和稳定性有着重要影响。
因此，对多晶硅薄膜材料的热导特性进行深入分析和优化研究具有重要意义。
本文将从多晶硅薄膜材料的热导机制入手，探讨其影响因素，分析其热导特性，并提出相应的优化策略。
一、多晶硅薄膜材料的热导机制多晶硅薄膜材料的热导机制主要包括晶格热导和界面热导两部分。
晶格热导是指晶格振动传递热量的过程，而界面热导是指晶界和晶粒之间传递热量的过程。
多晶硅薄膜材料的热导机制对其热导特性有着重要影响，因此需要深入研究。
二、多晶硅薄膜材料热导特性的影响因素多晶硅薄膜材料的热导特性受多种因素影响，包括晶粒大小、晶界密度、晶格缺陷等。
晶粒大小对热导特性有着重要影响，晶界密度和晶格缺陷也会影响热导性能。
因此，需要对这些影响因素进行深入分析。
三、多晶硅薄膜材料热导特性的分析方法多晶硅薄膜材料的热导特性可以通过实验方法和理论模拟方法进行分析。
实验方法包括热导率测试和热导率显微镜观察等，理论模拟方法包括分子动力学模拟和有限元分析等。
通过这些方法可以深入分析多晶硅薄膜材料的热导特性。
四、多晶硅薄膜材料热导特性的优化策略针对多晶硅薄膜材料的热导特性，可以采取一系列优化策略，包括晶粒控制、晶界工程、缺陷修复等。
通过这些优化策略可以提高多晶硅薄膜材料的热导性能，从而提高其在光伏领域的应用性能。
五、结论多晶硅薄膜材料的热导特性对其性能和稳定性有着重要影响，因此需要深入研究和优化。
本文从热导机制、影响因素、分析方法和优化策略等方面对多晶硅薄膜材料的热导特性进行了系统分析和探讨，为进一步提高多晶硅薄膜材料的性能和应用提供了重要参考。
六、展望未来，可以进一步深入研究多晶硅薄膜材料的热导特性，探索新的优化策略，提高其在光伏领域的应用性能。
同时，可以结合其他材料和技术，进一步提高多晶硅薄膜材料的性能和稳定性，推动其在光伏领域的广泛应用。
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材料分析测试方法课程设计任务书课程设计题目：TiO2多晶薄膜微观表征研究课程设计内容：通过查阅资料了解TiO2多晶薄膜应用及其晶体结构知识，设计方案制备TiO2多晶薄膜并运用材料分析课程所学的材料分析实验工具知识，进行材料的微观结构分析，成分分析，加深对各实验仪器原理及材料学中结构决定性能的理解。
课程设计要求：1.针对材料分析测试课题，选择适合的测试方法、实验仪器、实验参数和试样制备方法等，设计出一套切实可行的实验方案和实验步骤，并说明选择依据和测试注意事项，运用所学的知识对实验方案进行深入分析讨论。
2.结合实验室条件，制备满足分析测试要求的样品，并上机进行实验测定，分析处理实验数据，对实验结果进行分析讨论。
3.完成四千字以上课程设计论文一篇，论文包括前言、实验方法、实验结果、结论、参考文献等项内容。
4.设计要求图文规范，严格按照学校要求的课程设计论文格式打印。
学生（签名）2013 年1 月8 日材料分析测试方法课程设计评语指导教师（签名）年月日目录材料分析测试方法错误！未定义书签。
课程设计（论文）错误！未定义书签。
⏹第一章前言0⏹1.1纳米TiO2的基本结构0⏹1.2纳米TiO2的表面性质1⏹1.3 纳米TiO2的应用2⏹第二章实验方案6⏹2.1 TiO2的制备方法6⏹2.2实验设备7⏹2.3 实验方法与步骤8⏹第三章实验结果分析9⏹3.1 AFM图的分析9⏹3.2 XRD图谱分析[11]10⏹3.3 XPS图谱分析12⏹第四章结论14⏹参考文献14前言⏹第一章自从1972年发现TiO2电极在紫外光照下能降解水产氢以来，TiO2成为研究的热点。
发现电极在紫外光照下能降解水产氢以来，成为研究的热点。
具有高光催化活性、无毒、物理和化学稳定性好等特点，在光还原降解水和光催化氧化降解有机污染物等领域有广泛的研究。
同时，具有高折射率、高介电常数和可见光透光率好等特性，越来越受到光学和电子学研究者的青睐。
近年来，研究者发现在紫外光照下，具有超亲水，甚至同时具备超亲水和超亲油的特性，这些性质在表面自清洁和表面防雾等方面有重要的应用。
纳米TiO2的基本结构⏹ 1.1二氧化钛是金属钛的一种氧化物，其分子式是TiO2。
根据其晶型。
可分为板钛矿型、锐钛矿型和金红石型三种。
其中锐钛矿型TiO2属于四方晶系，其晶格参a=37．85nm，Co=95．14 nm。
图1-1为两种晶型单元结构图[1] ，锐钛矿型TiO2的单元结构中钛原子处于钛氧八面体的中心，其周围的六个氧原子都位于八面体的棱角处，有四个共棱边，也就是说，锐钛矿型的单一晶格有四个TiO2分子[2]。
锐钛型TiO2的八面体呈明显的斜方晶型畸变，Ti—O键距离均很小且不等长，分别为1.937A和1.964A，这种不平衡使TiO2分子极性很强，强极性使TiO2表面易吸附水分子使水分子极化而形成表面羧基[3]。
图1-1 TiO2两种晶型单元结构图图1-2这种表面羟基的特殊结构使其表面改性成为可能，它可作为广义碱与改性剂结合，从而完成对TiO2的表面改性[4]。
纳米TiO2的表面性质1.21.2.1表面超亲水性目前的研究认为，在光照条件下，TiO2表面的超亲水性起因于其表面结构的变化；在紫外光照射下，TiO2价带电子被激发到导带，电子和空穴向TiO2表面迁移，在表面生成电子空穴对，电子与Ti 反应，空穴则与表面桥氧离子反应，分别形成正三价的钛离子和氧空位。
此时，空气中的水解离作吸附在氧空位中，成为化学吸附水(表面羟基)，化学吸附水可进一步吸附空气中的水分，形成物理吸附层。
1.2.2 表面羟基相对于其它颜料的金属氧化物，TiO2中Ti一O键的极性较大，表面吸附的水因极化发生解离，容易形成羟基。
这种表面羟基可提高TiO2作为吸附剂及各种载体的性能，为表面改性提供方便。
1.2.3表面馥碱性二氧化钛(俗称钛白)用于涂料时，其表面酸碱性与涂料介质密切相关。
在改性时常加入Al 、Si 等氧化物，或Si的氧化物单独存在时无明显的酸碱性，但与TiO2复合，则呈现强酸性，可以制备固体超酸。
因此，加入其它金属氧化物改性时，可以形成新的酸碱点。
MoO3一TiO2表面有较强的酸性，而ZnO2 一TiO2表现出明显的碱性。
纳米TiO2的应用1.3纳米二氧氧化钛是一种重要的无机材料，被广泛应用于涂料、化妆品、抗菌剂、污水处理等方面。
下面介绍纳米二氧化钛的几种主要用途。
1.3.1 光化学作用TiO2被认为是最有效且对环境友好的光催化剂，其光催化机理是很容易理解的，当吸收光子的能量高于TiO2的带隙时，电子可以从半导体的夹带激发引导形成电子空穴对，反应物水溶液中的水分子吸附在纳米粒子表面，然后其表面的空穴与溶解在粒子表面的水和氧化物，产生氢氧自由基，氢氧自由基有极强的氧化能力，能氧化分解水中的大部分有机物和无机物，并使之转变为二氧化碳或其他无毒无机物。
由于TiO2具有超亲水性和光催化性，使涂有TiO2薄膜的玻璃同时也具有自清洁和防雾的功能，TiO2光催化剂也可以用来杀菌和杀死癌细胞。
1.3.2 污水处理利用TiO2的管催化机理，TiO2纳米材料已经广泛地用于光降解各种污染物，利用各种形式TiO2为催化剂的光催化反应体系，在工业污水、染料废水、农药废水、氰化物、制药废水、含油废水、有机磷化物等废水处理中，都能有效地进行光催化反应使其转变为水、二氧化碳、磷酸根离子、硝酸根离子、卤离子等无机小分子，达到完全无机化的目的，TiO2光催化降解中有机物可以充分利用太阳能，这对于节约能源、保护环境、维持生态平衡、实现可持续发展具有重大意义。
光催化降解技术具有常温常压下就可进行，能彻底破坏有机物，没有二次污染且费用不太高等优点。
1.3.3 气体净化随着工业的发展和人民生活水平的不断提高，环境污染问题已日趋严重，有害气体净化同样受到人们的重视。
近年来逐渐发展起来的纳米TiO2光催化降解技术为这一问题的解决提供了良好的途径。
环境有害气体可分为两个方面：室内有害气体和大气污染气体。
室内有害气体主要有装饰材料等放出的甲醛及生活环境中产生的甲硫酵、硫化氢、氨气等，这些气体在百万分之几时就能使人产生不适感。
TiO2通过光催化作用可将吸附于其表面的这些物质分解氧化，从而使空气中这些物质的浓度降低，减轻或消除环境不适感。
大气污染气体主要指由汽车尾气与工业废气等带来的氮氧化物和硫氧化物，利用纳米TiO2的光催化作用可将这些气体氧化，形成蒸气压低的硝酸或硫酸．这些硝酸或硫酸可在降雨过程中除去，而达到降低大气污染的目的。
1.3.4 抗菌除臭抗菌是指TiO2在光照下对环境中微生物的抑制或杀灭作用。
在人们的居住环境中存在着各种有害微生物，对人类生活产生不良影响。
家居环境中的一些潮湿的场合如厨房、卫生问等，微生物容易繁殖，导致空气菌浓和物品表面菌浓增大，对人的健康产生威胁。
利用纳米TiO2的光催化性可充分抑制或杀灭环境中的有害微生物，使环境微生物对人的危害降低。
空气中的恶臭气体主要有含硫化物(如S、硫醇、硫醚等)、含氮化合物(如胺类、酰胺等)、卤素及其衍生物(如C 12、卤代烃等)。
近年来采用二氧化钛光催化剂和其他吸附剂组成的混合物除臭已得到实际应用。
气体吸附剂吸附的这些臭气经扩散与二氧化钛接触，二氧化钛将气体氧化分解后既不降低吸附剂的吸附活性，又解决二氧化钛对臭气吸附性较差的缺点，大大提高了臭气的光降解效率[5]。
1.3.5在涂料行业的应用将纳米TiO2与闪光铝粉或云母钦珠光颜料拼配使用制成的涂料具有随角异色效应，作为金属闪光面漆涂装在小汽车上，将产生富丽雅致的效果。
这是纳米TiO2最重要，最有前途的应用领域之一。
美、日等国的福特、克劳斯勒、丰田、马自达等汽车公司上世纪80年代开始应用于轿车工业，到上世纪90年代，世界上已有11种含纳米TiO2的金属闪光面漆被用于轿车工业。
今后还会有更大的发展[5]。
经研究发现[6]，金红石型纳米二氧化钛用于金属闪光面漆时，既能产生随角异色效应，也能提高漆膜的柔韧性和附着力等力学性能；金红石型纳米二氧化钛用于含环氧基丙烯酸型汽车粉末涂料，具有增强、增韧效果，使漆膜光泽和力学性能提高很多，达到汽车涂料国标要求，获得应用普通钛白所得不到的性能；锐钛型纳米二氧化钛用于丙烯酸型抗菌内墙涂料，具有很强的杀菌效果，而且力学性能优异，具有广阔的发展前景。
1.3.6在化妆品方面的应用纳米TiO2具有很强的散射和吸收紫外线的能力。
尤其是对人体有害的中长波紫外线UVA、UvB(320～400 nm，290～320 nm)的吸收能力很强，效果比有机紫外吸收剂强得多，并且可透过可见光、无毒无味、无刺激性而广泛用于化妆品。
纳米TiO2紫外屏蔽能力与粒径大小有关，粒径越小，紫外线透过率越小，抗紫外能力越强．对于化妆品中的TiO2含量而言，粒径越小，可见光透过率越大．可使皮肤白度显得自然。
平均粒径为10nm的TiO2分散在水中，几乎是无色透明的。
但添加的颗粒粒径不是越小越好，否则汗汁会将毛孔堵死，不利于身体健康。
而粒径太大，紫外吸收又会偏离这一波段。
因此最好在纳米TiO2颗粒表面包覆一层对人体无害的高聚物。
粒子浓度对光散射有较大的影响，伴随粒子浓度增大，粒子的光散射效率下降，适当提高TiO2的用量，可使化妆品的防晒系数增大，最理想的用量为5％-20％[7] 。
除以上应用之外，纳米二氧化钛还可被应用在光学增益体系中，制成一种具有极高发光纯度等奇特光学现象被称为“激光涂料”的新型发光材料；纳米二氧化钛还具有湿敏、气敏功能，如它对一氧化碳，氢气极为敏感，可用于传感器的制造。
最新的研究表明，用钠离子掺杂的纳米二氧化钛分别对双马来酰亚胺、马来酰亚胺的液相聚合反应具有明显的催化作用，而且反应后剩余在聚合物中的纳米二氧化钛对聚合产物多项力学性能的改善还可起到较为理想的促进作用。
实验方案⏹第二章⏹ 2.1 TiO2的制备方法纳米TiO2薄膜即具有固定催化剂的优点，又由于尺寸细化而具有纳米材料的量子尺寸效应、小尺寸效应、表面与界面效应、量子域效应等特征而可能提高活性，因而具有理论研究和实践应用价值。
现阶段国内外研究者主要通过液相沉积法、溶胶-凝胶法和磁控溅射法等进行研究。
2.1.1 液相沉积法1988年由Nagayama首次报道了在湿化学中发展起来的液相沉积法LPD(Liquid Phase Deposition)。
应用此法只需要在适当的反应液中侵入基片，在基片上就会沉积出氧化物或氧化物均一致密薄膜。
液相沉积法是氟钛酸铵和硼酸为前躯体，将他们配成不同浓度的水溶液，并温和搅拌均匀，配成浓度不同的反应液。
将事先分别在丙酮、乙醇、去离子水中超声清洗过的导电ITD玻璃基片放置在反应液中，保持环境温度25摄氏度的条件下沉积50h，即可得到纳米TiO2薄膜[8]。