光学薄膜监控技术原理
光学薄膜原理范文
光学薄膜原理范文光学薄膜是一种在材料表面上涂覆一层或多层具有特定厚度和折射率的薄膜，用于控制光的传播、反射和吸收。
光学薄膜的原理主要涉及光的干涉和反射现象。
下面将详细介绍光学薄膜的原理。
光学薄膜的原理基于光的特性，即光是电磁波。
当光线从一种介质进入另一种介质时，由于两种介质的折射率不同，光线会发生折射现象。
而当光线从介质表面反射回来时，也会发生反射现象。
光的折射和反射是光学薄膜原理的基础。
光学薄膜的设计目的是通过控制光的干涉和反射现象来实现特定的光学性能。
光学薄膜的设计需要根据应用需求来确定薄膜的厚度和折射率。
例如，在光学镜片中，通过在玻璃表面涂覆一层折射率较高的薄膜，可以增加镜片的反射率，从而增强光学系统的性能。
而在太阳能电池中，通过在硅基底上涂覆一层具有特定厚度和折射率的薄膜，可以提高光吸收效率。
在光学薄膜中，干涉是一种重要的现象。
干涉是指两束或多束光相互叠加而产生的干涉图样。
当光通过一个薄膜时，光的一部分被薄膜反射，一部分被薄膜透射。
这两部分光线之间的干涉现象决定了反射和透射光的强度以及波长的选择。
通过调整薄膜的厚度和折射率，可以实现对特定波长的增强或抑制。
光学薄膜的反射特性是其应用中最重要的方面之一、根据光学薄膜的设计，可以实现高反射或低反射特性。
高反射薄膜是指在特定波长范围内，薄膜对光的反射率达到接近100%的程度。
而低反射薄膜则是指在特定波长范围内，薄膜对光的反射率较低。
这种特性可以用于减少光学系统中的反射损失，提高光学系统的效率。
光学薄膜的设计和制备过程是通过控制薄膜的厚度和折射率来实现特定的光学性能的。
一种常用的方法是利用物理气相沉积或化学气相沉积技术，将材料以原子或分子的形式沉积在基底上形成薄膜。
通过控制沉积条件，如沉积速率和厚度，可以得到所需的薄膜结构。
总结起来，光学薄膜的原理主要涉及光的干涉和反射现象。
通过控制薄膜的厚度和折射率，可以实现对光的传播、反射和吸收的控制。
光学薄膜在光学领域有着广泛的应用，包括镜片、滤光器、太阳能电池等。
光学薄膜的原理和用途
光学薄膜的原理和用途光学薄膜（Optical thin film）是一种特殊的多层膜结构，由多种材料的交替堆积而成，用于控制光的传播和改变光的性质。
它的原理基于光的干涉、反射和透射等现象，通过调控不同介质之间的折射率、厚度和结构等参数，实现对光波的选择性传播和反射，从而实现光的分光、滤波和增透等功能。
光学薄膜广泛应用于光学器件、光学仪器和光学信息存储等领域。
以下将分别介绍光学薄膜的原理和用途。
1.光学薄膜的原理光学薄膜的原理基于光的干涉和反射现象。
当一束光波垂直入射到薄膜表面时，部分光波在不同介质之间的反射和透射过程中发生相位差，从而产生干涉现象。
通过调整薄膜的厚度和材料的折射率，可以控制光波在薄膜内部的反射、透射和干涉现象，实现对光的选择性传播和反射。
光学薄膜的基本结构是由多个不同折射率的材料交替构成的多层膜。
根据不同的应用需求，可以设计出不同的薄膜结构，如全反射薄膜、透射薄膜、反射薄膜等。
通过精确控制薄膜中每一层的材料和厚度，可以实现对光的频率、波长和相位等性质的调控。
2.光学薄膜的用途2.1光学器件光学薄膜在各种光学器件中发挥着重要作用。
例如，在光学镜片和镜面反射器等元件中，通过在玻璃或金属表面沉积光学薄膜，可以显著提高镜面的反射率和透过率，改善光学器件的光学性能。
同时，通过设计多层膜结构，可以实现对特定波长的透射和反射，实现光学滤波和分光仪的功能。
2.2光学仪器光学薄膜在各种光学仪器中也具有广泛应用。
例如，在显微镜和光学显微镜中，通过在镜片上沉积适当的薄膜，可以减少反射和散射的损失，提高成像质量和分辨率。
在光学仪表、激光仪器和光学通信等领域，光学薄膜也可以用于制作光学器件的保护层、反射镜和滤波器等，以实现对光波的控制和操纵。
2.3光学信息存储光学薄膜还广泛应用于光学信息存储领域。
例如，光盘和DVD等光学存储介质中，通过在介质表面沉积光学薄膜，可以实现对激光光束的反射和散射，从而实现对信息的记录和读取。
光学薄膜的工作原理及光学性能分析
光学薄膜的工作原理及光学性能分析一、引言光学薄膜是一种非常重要的光学材料，具有广泛的应用领域，如光学器件、光伏电池、激光技术等。
本文将重点介绍光学薄膜的工作原理以及对其光学性能的分析。
二、光学薄膜的工作原理光学薄膜是由一层或多层透明材料组成的膜层结构，在光学上表现出特定的光学性质。
其工作原理主要涉及薄膜的干涉效应和反射、透射等光学过程。
1. 干涉效应光学薄膜的干涉效应是指光波在不同介质之间反射、透射时，发生相位差导致光波叠加出现干涉现象。
光学薄膜利用干涉效应控制特定波长的光的传播，实现光的反射增强或衰减。
2. 反射和透射光学薄膜的反射和透射性能取决于入射光波的波长和薄膜的光学参数。
当入射光波与薄膜的折射率不同，一部分光波将发生反射，其反射强度与入射波和薄膜参数有关。
另一部分光波将透过薄膜，其透射强度也与入射波和薄膜参数有关。
三、光学薄膜的光学性能分析光学薄膜的光学性能分析是指对其反射、透射、吸收等光学特性进行定量研究。
1. 反射率与透射率的测量反射率和透射率是评价光学薄膜性能的重要指标。
可以通过光谱测量，通过测量入射光、反射光和透射光的强度，计算得到反射率和透射率。
2. 全波段光学性能分析除了对特定波长的光学性能分析外，还需要对光学薄膜在全波段范围内的性能进行研究。
这可以通过利用光学薄膜在不同波长下的反射和透射特性，进行光学模拟和仿真计算得到。
3. 色散性能研究光学薄膜的色散性能是指其折射率随波长的变化关系。
色散性能对光学器件的性能和应用有重要影响。
可以通过光谱色散测量系统测量得到光学薄膜的色散曲线。
4. 热稳定性分析光学薄膜在高温环境下的性能稳定性也是重要的考量指标。
可以通过热循环测试和热稳定性测量仪等设备，对光学薄膜的热稳定性进行评估和分析。
四、光学薄膜的应用光学薄膜由于其独特的光学性质和广泛的应用领域，得到了广泛的应用。
1. 光学器件光学薄膜在光学器件中广泛应用，如反射镜、透镜、滤光片等。
薄膜厚度的监控
过正控制与膜层厚度误差
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改进的极值法装置
双光路膜厚监控仪 左图是一种使用双光路监控的极值法膜厚监控 仪。它与传统的极值法控制的不同之处在于经 调制的光束被一分为二：一束经由探测器接收 后输出作为参考信号，另一束光线经控制片反 射后再由另一个探测器接收，输出测量信号， 光度计显示测量信号与参考信号的差值。这样 光度计显示的只是测量信号中随膜层厚度变化 而变化的部分信号，扩大了变化部分的量程。 这种装置反射率的测量误差可降至0.1%，从而 提高膜厚监控精度。
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STC-200/SQ 膜厚控制器 用途：除精确的沉积速率和膜厚显示外，并可以回传信号到电子枪电源供应 器或蒸发源，实现闭回路的自动镀膜速率及膜厚控制 特点： 1、操作简单，可单键完成Sing-layer镀膜程序 2、配合外部界面与PLC/PC连线，可达到全自动Multi-layer镀膜程序 3、内设RS-232计算机接口，可以与电脑连线工作 4、配备Bipolar高清晰度信号输出端子，可连接记录仪使用 5、内建程序记录器，可提供前次操作数据，便于查询修正 6、全功能显示器，监控镀膜中各项数据变化，随时掌握沉积速率、厚度、输 出功率及时间变化，并有同步曲线图显示动态流程
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石英晶体监控有三个非常实际的优点：1是装置简单，没有通光孔的窗 口，没有光学系统安排等麻烦；2是信号容易判读，随着膜厚的增加， 频率线性地下降，与薄膜是否透明无关；3是它还可以记录沉积速率， 这些特点使它很适合于自动控制；对于小于8分之一光学波长厚度也具 有较高的控制精度。
该方法的缺点是：晶体直接测量薄膜的质量而不是光学厚度，对于监控 密度和折射率显著依赖于沉积条件的薄膜材料，要得到良好的重复性比 较困难。另外它也不同于光学极值法和波长调制法，具有厚度自动补偿 机理。 值得注意的是在实际使用中，针对薄膜密度与块材密度的不同或不知膜 层的密度，对石英晶体膜厚测量仪的测量的膜厚要进行校正。校正的方 法是先镀一层厚度较厚的薄膜，通过一定的方法（请问可以用那些方法 可以测量薄膜的厚度？）测出该膜层的厚度，然后与晶体振荡器测量的 值进行比较修正。
光学膜厚监控技术
波长在 Ａ 。 和 之 间的光波在反射光方向上的强度则介于
二
两者之间 。这样 ， 基片镀膜 以后 ， 各个波 长 的反 射光强度 就会 随着膜层厚度的变化 而变化 ， 即带有 不 同的干涉色 ， 不 同的膜
厚 有 不 同的 颜 色 ， 因此 可 以根 据 薄 膜 干涉 色 的变 化来 监 控 介 质 膜层的厚度 。
及 射 尤 １ 反 身丁
随着 激 光 技 术 、 光通讯 波分复用 技术 、 新 型 微 结 构 功 能 薄
膜等科技 的发展 ， 光学薄膜技术 已经渗透 到各 个交叉 的科技 领 域 。特别是近年来 ， 高精度 、 高 质量 的的光学 镜头 、 光学 仪器 、 数码产 品等 的广泛应用和大量需求 ， 使得光学 产品对光学零 部 件镀膜 的光学特性和精度的要求越来越高 。研究发 现 ， 在影 响 光学薄膜器件特性 的众多因素中 ， 膜层 的折射 率和光学厚度 是 两个最重要 的因素 。但对正在淀积的膜层 的折射率 ， 目前还 没 有找 到有效 的监测手段 来进行 （ 对膜层 的折射 率进行 测量 一 般要在生产完成后 ） ， 较 易测 量 的薄膜光学厚 度 的控 制便成 为 了薄膜制备成败的关键 ， 因此薄膜膜厚监控 引起 了人们越来越
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技 术研 发
Ｔ Ｅ Ｃ Ｈ Ｎ ０ Ｌ ｏ Ｇ Ｙ Ａ Ｎ ＤⅣ Ｒ Ｋ Ｅ Ｔ
０ 的整数倍时 ， 薄膜 的 Ｔ或 Ｒ出现极值 。利用 这种特性 ， 可以
化， 来判断膜层的厚度 。其原理可通 过双光 束分振 幅干 涉来 说 明， 如图１ （ ａ ） 所示 ， 入射光在膜层的两个分 界面上分成 两束 相 干的反射光 （ 图中已略去多次反射光束 ） 。
光学薄膜的原理及应用
光学薄膜的原理及应用光学薄膜是一种专门用于控制光波传播和反射的薄膜成分和结构，它具有薄、透明和多层次的特点。
光学薄膜最初用于光学仪器中的镀膜，随着科学技术的发展，现已广泛应用于各个领域，如光学器件、光纤通信、太阳能电池等。
本文将介绍光学薄膜的原理以及其在不同领域的应用。
光学薄膜的原理主要包括干涉和多层膜的叠加。
干涉是指当光波在界面上反射和透射时，由于光的相位差而产生的干涉现象。
多层膜则是指将多个薄膜成分按一定顺序垂直叠加，形成了多层结构的光学膜。
通过控制每一层的厚度和折射率，可以使得入射光在多层膜中发生多次反射和透射，并使得特定的光波相长相消，实现对光的控制和调节。
光学薄膜在实际应用中有着广泛的应用，下面将介绍几个重要的应用领域。
1.光学镀膜：光学薄膜最早应用于镀膜领域，用于提高光学仪器的透过率和反射率。
光学镀膜可以根据需求进行设计，可实现对特定波长的选择性透射和反射，从而用于制作滤光片、分光器、反射镜等光学元件。
2.光纤通信：光纤是一种用于传输光信号的光学器件，光学薄膜在光纤通信中起到关键作用。
光学薄膜可以用于光纤端面的反射镀膜，以提高光纤的耦合效率。
此外，光学薄膜还可以应用于光纤光栅、光纤滤波器等光学器件的制作。
3.太阳能电池：光学薄膜在太阳能电池中的应用也非常重要。
通过在太阳能电池表面镀膜，可以实现对太阳光的反射和透射控制，提高太阳能电池的光吸收效率。
此外，光学薄膜还可以用于制作透明电极和反射镜，用于提高光电转换效率和光热利用效率。
4.光学涂层：光学薄膜还可以应用于光学涂层领域。
通过在材料表面镀膜，可以实现对材料的防反射、抗刮擦、防腐蚀等特性改善。
此外，光学薄膜的选择性吸收性质还可以应用于光热转换材料的制备。
5.光学传感：光学薄膜可以用于制备各种传感器，如光学气体传感器、光学温度传感器等。
通过对光学薄膜的设计和调整，可以实现对特定物理量的敏感和测量，用于环境监测、生物医学等领域。
总结起来，光学薄膜是一种重要的光学器件，在不同领域有着广泛的应用。
光学薄膜原理范文
光学薄膜原理范文光学薄膜是一种能够控制光的传播和相互作用的材料。
它由多个独立的薄膜层堆叠而成，每一层都具有特定的光学性质，通过组合这些层可以实现对光波的反射、透射和吸收等控制。
光学薄膜在光学乃至电子学领域具有重要的应用，例如光学透镜、滤波器、反射镜等。
光学薄膜的原理可以用来解释其光学性质。
当光线照射到薄膜表面上时，一部分光会被反射，一部分光会被透射，而另一部分光会被薄膜层吸收。
反射的光线会通过干涉效应产生干涉现象，干涉的结果决定了反射光的特性。
透射的光线也会发生干涉，但由于透射光是由介质到另一个介质的传播，因此透射光的干涉效应相对较弱。
光学薄膜的核心原理是通过不同材料的折射率差异以及层厚的选择，实现特定的光学效果。
当光线从一个介质射入另一个折射率较高的介质时，会发生折射现象。
在折射过程中，入射光的波长发生变化，产生所谓的相位差。
通过适当选择薄膜的厚度和材料的折射率，可以控制入射光的相位差，进而控制反射和透射的光。
最常见的光学薄膜设计是通过光学膜层的堆叠来实现的，每一层都具有特定的折射率。
在多层膜中，光波在不同的膜层之间反复反射，产生干涉效应。
通过适当选择膜层的折射率和厚度，可以实现对光的任意反射和透射的控制。
例如，通过选择一系列厚度小于波长的膜层并调整其折射率，可以实现宽带反射或选择性反射。
相比之下，通过选择一系列厚度大于波长的膜层，可以实现光的透射和吸收。
除了膜层的堆叠，还可以利用分级膜结构的设计来实现更加复杂的光学效果。
分级膜结构可以通过将单一膜层分成多个子层，并根据每个子层的厚度和折射率进行设计。
分级膜允许更好地控制干涉和透射效果，从而实现更高级别的光学性质。
光学薄膜的研究和应用是一个相对复杂的领域，需要考虑材料的选择、制备方法、薄膜结构设计以及实际制造过程中的工艺要求等多个方面。
然而，光学薄膜的原理和设计原则为我们提供了实现对光传播和相互作用的控制的新思路和方法。
通过对光学薄膜原理的深入研究，我们可以更好地理解光的本质，并将其应用于新材料和新技术的开发中。
光学薄膜技术的研究与应用
光学薄膜技术的研究与应用光学薄膜技术是指利用高分子材料制作膜，内含一种或多种其他物质的技术，仅有几个纳米（nm）到几百纳米厚度的薄膜为主。
随着科学技术的不断提升，光学薄膜技术在工业、医学、环保、能源等领域中的应用越来越广泛。
本文将从薄膜技术原理、应用、革新方面阐述光学薄膜技术的优越性，以及对社会发展的重要作用。
一、薄膜技术原理1.1 薄膜的优势与传统材料相比，薄膜拥有许多独特的优点。
首先，薄膜具有高纯度、均匀性和稳定性，这使得其在制造过程中受到的影响会更小，可以获得更好的性能。
其次，薄膜可以极大地提高材料的表面积，这使得其更适合用于各种重要的应用领域。
1.2 光学薄膜技术原理光学薄膜技术是一种通过控制材料的物理和化学性质，制备一层具有特殊光学性质的薄膜，以调整和控制光传播的过程的技术。
其原理是利用高分子材料制作膜，并在其内部嵌入一种或多种其他物质。
这种特殊结构使薄膜产生不同的光学效应，比如颜色、反光、吸光和透光等，这正是其应用于光学领域的重要原因。
二、光学薄膜技术的应用2.1 光学仪器光学薄膜技术在制造光学仪器方面发挥着重要作用。
光学薄膜可以用于镀膜光镜、滤光镜、分束镜和薄膜反射器等方面，能够提高光器件的重要性能。
例如，利用薄膜技术制造玻璃镜片，可以使光子在镜片表面反射多次，提高反射率，使得镜片切实地进行反射成像，有效地避免光线偏斜和反射影响，从而提高了光学仪器的性能。
2.2 红外应用光学薄膜技术还常常应用于红外技术中，以实现各种领域的红外探测和成像。
多片式棱镜式红外探测和成像系统，其依赖于反射、透射和散射等各种光学效应，而光学薄膜正是实现这些效应的关键技术。
利用薄膜技术制造表面粗糙收光器官，可以使得红外光子在这些收光器官上进行反射，从而实现更加准确的红外探测和成像。
2.3 环保领域光学薄膜技术在环保领域的应用也很广泛。
例如，在太阳能光伏电池中，隔离膜材料的使用，能化学循环的能量回收，能够多次利用，大大提高了材料的使用效率。
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误差传递和累积
膜层 1 2 3 4 5
设计厚度 83.7nm 119.6nm 29.9nm 159.4nm 65.9nm
含误差厚度 88.7nm 122.6nm 36.7nm 153.4nm 61.9nm
误差 5nm 3nm 7nm -6nm -4nm
误差百分比 6% 2.5%
镀制单层的MgF2，对绿光减反射，反射光是紫红色。
光学薄膜监控技术原理
★ 光学方法 光吸收法
测量薄膜透射光强度。
II0(1R)2exp(t)
式中， I 0 为入射光强度， I 透射光强度， t 膜厚， 吸收
系数， R 薄膜与空气界面的反射率。
方法简单 适合于连续薄膜
光学薄膜监控技术原理
光干涉法(光电极值法）
光学薄膜监控技术原理
形状厚度dT是接近与直观形式的厚度。 质量厚度dM反映了薄膜中质量的多少。 物性厚度dP实际使用较少。
光学薄膜监控技术原理
★目视法 目视法：目视观察薄膜干涉色的变化来控制介质膜的厚度。 基板镀膜后，入射光在薄膜的两个分界面分成两束反射光，这 两束反射光是相干的，各个波长的反射光强度就不相等，带有 不同的干涉色彩，不同的膜厚对于不同的颜色。
值； 3. 透过或反射光强度为薄膜厚度的函数。
光学薄膜监控技术原理
例题：设计淀积2m厚的SiO薄膜，已知SiO的折射率为2.0， 监控片的折射率为1.5，单色光波长为1m，假设薄膜吸收为 零，如何监控？
根据干涉原理：
m 4 nfd
m4nfd42216
1
监测到第8个最大值即可。
光学薄膜监控技术原理
极值法
在基片上镀制单一层膜时，薄膜的透射光或反 射光强度随着薄膜厚度的变化曲线呈余弦状。
极值法：监控淀积过程中出现极值点的次数来 控制四分之一波长整数倍膜层厚度
光学薄膜监控技术原理
极值法控制技巧
直接控制 ：全部膜层直接由被镀样品进行控制
1. 第一，相邻膜层之间能自动进行膜厚误差的补偿； 2. 第二，避免了因凝集特性变化所引起的误差。因而
单波长监控系统
光学薄膜监控技术原理
单波长监控系统-硬件特点
高分辨率单色仪
焦距150mm，光栅1200线。波长范围350nm900nm。线色散5.4nm/mm，狭缝10μm-3mm可调
高灵敏度探测器
CR114光电倍增管 ：185-870nm宽谱响应
锁相放大器，从强干扰中提取弱信号
光学薄膜监控技术原理
光学薄膜监控技术原理
单层膜的厚度误差分析
光学薄膜监控技术原理
AB监控法
所谓AB监控法，就是设计一个监控装置， 采用AB两块监控片交替使用，把一个由 高低折射率组成的膜系的膜层顺序打乱， 低折射率材料膜层镀在A监控片上，高折 射率材料膜层镀在B监控片上。
光学薄膜监控技术
光学薄膜监控技术原理
薄膜厚度是薄膜最重要的参数之一，它影响着薄膜的各 种性质及其应用。
薄膜淀积速率是制膜工艺中的一个重要参数，它直接影 响薄膜的结构的特性。
重点：薄膜厚度的测量和监控。
光学薄膜监控技术原理
监控基本概述
光学薄膜的沉积监控技术是光学薄膜制备的关键技术之一 对薄膜的监控主要是对膜层厚度的监控 薄膜厚度有三种概念，即几何厚度、光学厚度和质量厚度。 几何厚度表示膜层的物理厚度； 光学厚度是物理厚度与膜层材料折射率的乘积，即nd； 质量厚度定义为单位面积上的膜质量
主要用于截止滤光片的制造
光学薄膜监控技术原理
单波长监控系统
单光路系统：不能排除光源波动和电路系统暗噪
声、漂移影响 ，称为“光量测量”。相对测量精度可
以达到0.01% 。
双光路系统：通过对参考光和暗信号的测量，消
除光源和电路暗噪声、漂移影响 ，为“光度测量”。 绝对测量精度可以达到0.001%
光学薄膜监控技术原理
使窄带滤光片获得较高的波长定位精度。
过正控制：镀制过程中故意产生一个一致性的 过正量，以减少判断厚度的随机误差（极值监 控时常用的控制手段）。
光学薄膜监控技术原理
极值法控制技巧
定值法控制 ：在干涉截止滤光片中有特殊应 用。由于定值法的停点一般选择在远离极值 点，所以其控制精度是非常高的。
若ΔT=1%，则高折射率层的膜厚相对精度P=1.35%， 低折射率层P=3.9%
光学薄膜监控技术原理
★ 膜厚的分类 厚度：是指两个完全平整的平行平面之间的距离。 理想薄膜厚度：基片表面到薄膜表面之间的距离。 由于薄膜具有显微结构，要严格定义和精确测量薄膜
厚度，实际上比较困难的。 薄膜厚度的定义是与测量方法和目的相关的。
光学薄膜监控技术原理
光学薄膜监控技术原理
S S 衬底的平均表面 S T 薄膜形状表面 S M 质量等价表面 S P 物性等价表面
单波长监控系统-软件处理
材料色散和折射率测量
n（λ）=A0+A1/λ+A2/λ2
数据处理：剔除粗大误差
光学薄膜监控技术原理
双光路系统
采 用 13HZ 斩 波 器 对 参 照 光 、 信号光、暗底三相分频
用直流放大器取代锁相放大 器，锁相放大器有信号延迟的 缺点
光学薄膜监控技术原理
双光路优点
参考光测量消除光源发光功率波动的影响 暗信号测量消除杂散光以及电路系统暗电流的影响
23.4% -3.76% -6.1%
nm
绝 对 误 差 （ ）
1.4H 1.2L 0.5H 1.6L 1.1H (膜层)
光学薄膜监控技术原理
停点选择对控制精度的影响
以G/H/A膜系为例，nH=2.35,λ0=550nm
λc=550nm;当光度值变化0.01%，厚度的相对误 差为1% 。
λc=500nm; 当光度值变化0.01%，厚度的相对误 差为0.1%
光学薄膜需要监控的是光学厚度，而不是几何厚度。
E t t0 t1 1 e 2 i1 t0 t1 1 r 1 2 r 1 2 e 0 i3 1 t0 t1 1 r 1 2 2r 1 2 2 e 0 i5 1
Et 1t1r01t01r21e2eii121
t t01t12
r r10r12
n0 0
r10
nf
f r20
ns
s
t10 d t12
Tn n 0 2E t2n n 0 21 r2 2 t2 rco 21s n n 0 21 r2 2 r tc 技术表原示理 。
1. 当 n 0 、 n f 、 n s 确定后，反射率只与薄膜厚度有关； 2. 薄膜厚度连续变化时，透射率或反射率出现周期性极