半导体激光器特性测量

半导体激光器特性测量
半导体激光器特性测量

半导体激光器特性测量实验

摘要:激光器的三个基本组成部分是:增益介质、谐振腔、激励能源。本实验通过测量半导体激光器的输出特性、偏振度和光谱特性,进一步了解半导体激光器的发光原理,并掌握半导体激光器性能的测试方法。

关键字:半导体激光器偏振度阈值光谱特性

一、引言

半导体激光器是用半导体材料作为工作物质的激光器,常用工作物质有砷化镓(GaAs)、硫化镉(CdS)、磷化铟(InP)、硫化锌(ZnS)等。激励方式有电注入、电子束激励和光泵浦三种形式。半导体激光器件,可分为同质结、单异质结、双异质结等几种。半导体激光器发射激光必须具备三个基本条件:(1)产生足够的粒子数反转分布;(2)合适的谐振腔起反馈作用,使受激辐射光子增生,从而产生激光震荡;(3)满足阀值条件,使光子的增益≥损耗。半导体激光器工作原理是用某种激励方式,将介质的某一对能级间形成粒子数反转分布,在自发辐射和受激辐射的作用下,将有某一频率的光波产生(用半导体晶体的解理面形成两个平行反射镜面作为反射镜,组成谐振腔),在腔内传播,并被增益介质逐渐增强、放大,输出激光。

二、实验仪器

半导体激光器装置、WGD-6型光学多道分析器、电脑、光功率指示仪等。

三、实验原理

3.1半导体激光器的基本结构

半导体激光器大多数用的是GaAs或Gal-xAlxAs材料,p-n结激光器的基本结构如图1所示,p-n结通常在n型衬底上生长p型层而形成。在p区和n区都要制作欧姆接触,使激励电流能够通过,这电流使结区附近的有源区内产生粒子数反转,还需要制成两个平行的端面其镜面作用,为形成激光模提供必须的光反馈。图1中的器件是分立的激光器结构,它可以与光纤传输连成线,如果设计成更完整的多层结构,可以提供更复杂的光反馈,更适合单片集成光电路。

3.2半导体激光器的阈值条件

当半导体激光器加正向偏置并导通时,器件不会立即呈现激光振荡。小电流时发射光大都是自发辐射,光谱线宽在数百埃米数量级。随着激励电流的增大,结区大量粒子数反转,发射更多的光子。当电流超过阈值时,会出现从非受激光射到受激发射的突变,实际上只能观察到超过阈值电流时激光的突然发生,只要观察在光功率对激励电流曲线上斜率的急速突变,如图2所示,这是由于激光作用过程的本身具有较高量子效率的缘故。从定量分析,激光的阈值对应于:由受激光射所增加的激光模光子数(每秒)正好等于有散射、吸收激光器的发射所损耗的光子数(每秒)。据此可将阈值电流作为各种材料和结构参数的函数导出一个表达式:

式中,η是内量子效率,λ是发射光的真空波长,n是折射率,△γ是自发辐射线宽,e是电子电荷,D是光发射层的厚度,α是行波的损耗系数,L是腔长,R为功率发射系数。

3.3横膜和偏振态

半导体激光器的共振腔具有介质波导的结构,所以在共振腔中传播光以模的形式存在,每个模都由固有的传播常数β和横向电场分布,这些模就构成了半导

体激光器中的横膜。横膜经端面出射后形成辐射场。辐射场的角度分布沿平行于结面方向和垂直于结面方向分别成为侧横场和正横场。

辐射场的角度分布和共振腔的几何尺寸密切相关,共振腔横向尺寸越小,辐射场发射角越大。由于共振腔平行于结平面方向的宽度大于垂直于结平面方向的厚度。所以侧横场小于正横场发射角,如图3所示;侧横场发射角可近似表示为:θ≈λ/d。所以正横场发射角较大,一般为30~40度。辐射场的发射角还和共振腔长度成反比,而半导体激光器共振腔一般只有几百微米,所以其远场发射角远远大于气体激光器和晶体激光器的远场发射角。

半导体激光器共振腔一般是晶体的解理面,对常用的GaAs异质结激光器,GaAs 晶面对TE模的反射率大于对TM模的反射率。因而TE模需要的阈值增益低,TE模首先产生受激光发射,反过来又抑制了TM模;另一方面形成半导体激光器共振腔的波导层一般都很薄,这一层越薄对偏振方向垂直与波导层的TM模吸收越大。这就使得TM模增益很大,更容易产生受激发射。因此半导体激光器输出的激光偏振度很高。

3.4纵模特性

激光二极管端面部分发射的光反馈导致建立单个或多个纵光学模。由于它类似与法布里――珞罗干涉仪的平行镜面,激光器的端面也常称为法布里――珞罗面。当平行面之间为半波长的整数倍时,在激光器内形成驻波。模数m可由波长的数值得出。

半导体激光器典型的光谱如图4所示;通常同时存在几个纵模,其波长接近自发辐射峰值波长。GaAS激光器的纵模间隔的典型值为dλ≈3A。为了实现单模工作,必须改进激光器的结构,抑制主模以外的所有其他模。

四、实验步骤

1.半导体激光器的输出特性

(1)开启激光功率计,将量程置于20mW档(量程选择开关置于弹出状态),预热。(2)开启激光电源的开关,然后开启激光电源上的电流开关(即“LD短路”开关,此开关位于激光电源的后面),通过电流调节旋钮来控制输出电流的大小,使半导体激光器输出激光。

注意:半导体激光器的p-n结非常薄,极易被击穿,所以在开、关半导体激光器的电源时,一定要防止浪涌电流的产生,否则将有可能损坏半导体激光器。

开启时,先开电源开关,再开电流开关。

关闭时,先将电流调节旋钮逆时针旋转到底,使输出电流最小(最小输出电流大于0mA,切勿用力调节旋钮),再关电流开关,最后关闭电源开关。

(3)调节激光器前面的准直透镜,使激光束经过准直后在工作范围内光斑的大小、形状变化不大。然后调节激光器支架上的仰俯螺钉,使激光束平行于光学

平台的台面。

(4)调节激光功率计的零点,将激光束垂直照射在功率计探测器光敏面的中心位置附近。缓慢增加激光器输入电流(0mA~90mA)。从功率计观察输出大小随电流变化的情况;

(5)记录数据。以电流值为横坐标、光功率值为纵坐标,在坐标纸上绘制出P—I关系曲线,并求出阈值电流。实验光路如图1。

图1半导体激光器的输出特性测试光路

2.半导体激光器的偏振度测量

测量半导体激光器的偏振度的装置如图2所示,偏振器是带有角度读数的旋转偏振片,读出偏振片处于不同角度时,对应的半导体激光器的输出值,将实验值列表,并计算出其偏振度。

图2测量半导体激光器的偏振度

3.半导体激光器的光谱特性测试

图3所示的是测量半导体激光器的光谱特性的光路装置。半导体激光器LD(650nm,<5mW的光信号通过透镜L(f=15,φ=14)耦合进WGD-6光学多道分析器的输入狭缝,让光学多道分析器与计算机相连,从光栅单色仪输出的光信号通过CCD接收放大输出到计算机,通过控制软件的设置绘出半导体激光器的谱线。

图3半导体激光器的光谱特性光路装置

五、实验数据处理及分析

1.半导体激光器输出特性的测量:

(1)、第一次测量:I (mA )2456810121520P (uW)0.0300.2310.4470.668 1.103 1.614 2.34 3.50 5.51I (mA )253035404548505253P (uW)7.9611.0114.6019.1128.538.048.261.085.0

I (mA )55606570758085

90

P (uW)

121.8

376

716

1142

1546

1942

23902700

其绘制曲线图如下所示:

20

40

60

80

100

500

1000

1500

2000

2500

3000

P (u W )

I (mA)

功率

半导体激光器电流-功率输出特性曲线2

(2)、第二次测量I (mA )24681012152025P (uW)0.0470.2570.654 1.069 1.648 2.49 3.67 5.568.16I (mA )3035404548505253

55

P (uW)10.9714.5119.8929.339.046.862.085.0124.9

I (mA )60657075808590P (uW)

376

716

1141

1544

1943

23.8

27.1

其绘制曲线图如下所示:

20

40

60

80

100

500

1000

1500

2000

2500

3000

P (u W )

I (mA)

功率

半导体激光器电流-功率输出特性曲线1

分析:由图可知,该激光器的阈值大概在55mA 左右。当激光器的正向偏置有注入电流时就有光输出,一开始输出光效率很低(即曲线的斜率很小),这一阶段是自发辐射发光阶段。注入电流增加到阈值I th 后,发光效率开始增加,P -I 曲线开始向上弯曲成直线,表明受激辐射发光开始起作用并逐渐加大比重,载流子复合转化为受激光辐射,即粒子数反转达到光子的增益=损耗时,光子才能获得净增益并在腔内振荡激射。此后,光输出功率随电流线性上升。2.

半导体激光器输出激光偏振度的测量:

电流I/mA 光功率最大值

(uW )光功率最小值

(uW )偏振度

45 1.24

0.610.34054054150 1.700.690.42259414255 4.80 1.200.60000000065125.619.40.73241379380

296

47

0.725947522分析:光是电磁波,具有横向和纵向分量,经过不同角度的偏振器时,其合成量就会有所改变,其光功率就会有所不同。当输入电流小于55mA 时,其偏振度小于0.60,这是由于其电流未达到阈值电流,故不作参考;当I>55mA 时,偏振度均达到0.60以上,证明激光器偏振度很好,符合激光器单模的特性。

3.光谱特性

半导体激光器的光谱特性曲线

分析:当输入电流未达到阈值电流时,其光谱图的形状大致相同,成类高斯分布。输入电流越大,峰值越大,半高宽越小。这是由于输入电流未达到阈值电流时,光产生以自发辐射为主导,光谱能量分散,导致输出光的谱线范围较宽。

当输入电流达到阈值电流后,出射光强度和单色性发生突变,光功率值迅速增大,半高宽变小,其光谱图成类脉冲函数图像。因为输入电流达到阈值电流后,半导体激光器的光产生由自发辐射为主导转变为受激辐射主导。此时输出光能量高,单色性好,偏振度高。

在驱动电流为55mA、65mA、80mA时,当驱动电流逐渐增大时,光谱特性曲线的中心波长位置逐渐右移,中心波长依次增大(即红移现象),光谱波峰随着驱动电流的增大而增大。中心波长在650nm附近。可理解:随着驱动电流的增加,激光器有源区的粒子数反转增强,具有高Q值的模的功率增加,这些模的频率接近于增益谱特性的峰值附近,因而对应光谱的峰宽度减小。Q值上升,光功率集中到几个占优势的波模。当激发较强时,激光器工作于多模振荡模式,表现为空间上产生多纵模振荡。当频率为的纵模在腔内形成稳定驻波,在波腹光强最大,但增益系数(反转集居数)最小;在波节光强最小,但增益系数(反

转集居数)最大,这一现象即空间烧孔效应。当另外一个模式振荡与增益相拟合,则会出现较弱的振荡,多个纵模的空间竞争中,随驱动电流的变化,有利的模式被激励,则形成新的驻波,辐射功率集中到新的模式中,形成跳模现象。

思考题

1、半导体激光器的谐振腔尺寸与工作波长有何关系?

答:在谐振腔中,光波是在两平面反射镜之间往复传输的,只有平面镜间距离是半波长的整数倍时,才能形成稳定的驻波,光波才能得到彼此加强。即

n

m

L 2λ

,其中L 为腔长,λ为光波的波长,n 为增益介质的折射率,m=1,2,3……。

2、如果要研制一种波长为1.5um 的LD ,请从原理出发提出一些见解。1)在有源区,产生受激辐射的上下两能级间大致相差 h =hc/λ=1.325*10-19J

的能量。

2)为了避免多模振荡,需要加入如行波腔法等纵模选择方法。调整共振腔

的长度,须满足L=m λ/2n,式中n 为与波长λ相关的介质折射率,m 为正整数。

参考文献:

1、吴思诚,王祖铨,《近代物理实验》第三版,高等教育出版社

半导体激光器特性测量

半导体激光器特性测量实验 摘要:激光器的三个基本组成部分是:增益介质、谐振腔、激励能源。本实验通过测量半导体激光器的输出特性、偏振度和光谱特性,进一步了解半导体激光器的发光原理,并掌握半导体激光器性能的测试方法。 关键字:半导体激光器偏振度阈值光谱特性 一、引言 半导体激光器是用半导体材料作为工作物质的激光器,常用工作物质有砷化镓(GaAs)、硫化镉(CdS)、磷化铟(InP)、硫化锌(ZnS)等。激励方式有电注入、电子束激励和光泵浦三种形式。半导体激光器件,可分为同质结、单异质结、双异质结等几种。半导体激光器发射激光必须具备三个基本条件:(1)产生足够的粒子数反转分布;(2)合适的谐振腔起反馈作用,使受激辐射光子增生,从而产生激光震荡;(3)满足阀值条件,使光子的增益≥损耗。半导体激光器工作原理是用某种激励方式,将介质的某一对能级间形成粒子数反转分布,在自发辐射和受激辐射的作用下,将有某一频率的光波产生(用半导体晶体的解理面形成两个平行反射镜面作为反射镜,组成谐振腔),在腔内传播,并被增益介质逐渐增强、放大,输出激光。 二、实验仪器 半导体激光器装置、WGD-6型光学多道分析器、电脑、光功率指示仪等。 三、实验原理 3.1半导体激光器的基本结构 半导体激光器大多数用的是GaAs或Gal-xAlxAs材料,p-n结激光器的基本结构如图1所示,p-n结通常在n型衬底上生长p型层而形成。在p区和n区都要制作欧姆接触,使激励电流能够通过,这电流使结区附近的有源区内产生粒子数反转,还需要制成两个平行的端面其镜面作用,为形成激光模提供必须的光反馈。图1中的器件是分立的激光器结构,它可以与光纤传输连成线,如果设计成更完整的多层结构,可以提供更复杂的光反馈,更适合单片集成光电路。

半导体激光器的发展与运用

半导体激光器的发展与运用 0 引言激光器的结构从同质结发展成单异质结、双异质结、量子 阱 (单、多量子阱)等多种形式, 制作方法从扩散法发展到液相外延(LP日、气相外延(VPE)、分子束外延(MBE)、金属有机化合物气相淀积(MOCVD)、化学束外延(CBE 以及它们的各种结合型等多种工艺[5].半导体激光器的应用范围十分广泛,而且由于它的体积小,结构简单,输入能量低,寿命长,易于调制和价格低等优点, 使它已经成为当今光电子科学的核心技术,受到了世界各国的高度 重视。 1 半导体激光器的历史 半导体激光器又称激光二极管(LD)。随着半导体物理的发展,人们早在20 世纪50 年代就设想发明半导体激光器。 20 世纪60 年代初期的半导体激光器是同质结型激光器, 是一种只能以脉冲形式工作的半导体激光器。在1962 年7 月召开的固体器件研究国际会议上,美国麻省理工学院林肯实验室的两名学者克耶斯(KeyeS和奎斯特(Quist、报告了砷化镓材料的光发射现象。 半导体激光器发展的第二阶段是异质结构半导体激光器,它是由两种不同带隙的半导体材料薄层,如GaAs,GaAIAs所组成的激光器。单异质结注人型激光器(SHLD,它是利用异质结提供的势垒把注入电子限制在GaAsP 一N 结的P 区之内,以此来降低阀值电流密度的激光

器。 1970 年,人们又发明了激光波长为9 000? 在室温下连续工作的双异质结GaAs-GaAlAs(砷化稼一稼铝砷)激光器. 在半导体激光器件中,目前比较成熟、性能较好、应用较广的是具有双异质结构的电注人式GaAs 二极管激光器. 从20 世纪70 年代末开始, 半导体激光器明显向着两个方向发展,一类是以传递信息为目的的信息型激光器;另一类是以提高光功率为目的的功率型激光器。在泵浦固体激光器等应用的推动下, 高功率半导体激光器(连续输出功率在100W 以上,脉冲输出功率在5W 以上, 均可称之谓高功率半导体激光器)在20 世纪90 年代取得了突破性进展,其标志是半导体激光器的输出功率显著增加,国外千瓦级的高功率半导体激光器已经商品化,国内样品器件输出 已达到600W另外,还有高功率无铝激光器、红外半导体激光器和量子级联激光器等等。其中,可调谐半导体激光器是通过外加的电场、磁场、温度、压力、掺杂盆等改变激光的波长,可以很方便地对输出 光束进行调制。 20 世纪90 年代末,面发射激光器和垂直腔面发射激光器得到了迅速的发展。 目前,垂直腔面发射激光器已用于千兆位以太网的高速网络,为了满足21 世纪信息传输宽带化、信息处理高速化、信息存储大容量以及军用装备小型、高精度化等需要,半导体激光器的发展趋势主要是向高速宽带LD大功率LD短波长LD盆子线和量子点激光器、中红外LD

半导体激光器常用参数的测定

半导体激光器常用参数的测定 一 实验目的:掌握半导体激光器常用的电学参数及其测试方法 一 实验基本原理 1、 普通光源的发光——受激吸收和自发辐射 普通常见光源的发光(如电灯、火焰、太阳等地发光)是由于物质在受到外来能量(如光能、电能、热能等)作用时,原子中的电子就会吸收外来能量而从低能级跃迁到高能级,即原子被激发。激发的过程是一个“受激吸收”过程。处在高能级(E2)的电子寿命很短(一般为10-8~10-9秒),在没有外界作用下会自发地向低能级(E1)跃迁,跃迁时将产生光(电磁波)辐射。辐射光子能量为 12E E h -=ν 这种辐射称为自发辐射。原子的自发辐射过程完全是一种随机过程,各发光原子的发光过程各自独立,互不关联,即所辐射的光在发射方向上是无规则的射向四面八方,另外未位相、偏振状态也各不相同。由于激发能级有一个宽度,所以发射光的频率也不是单一的,而有一个范围。在通常热平衡条件下,处于高能级E2上的原子数密度N2,远比处于低能级的原子数密度低,这是因为处于能级E 的原子数密度N 的大小时随能级E 的增加而指数减小,即N ∝exp(-E/kT),这是著名的波耳兹曼分布规律。于是在上、下两个能级上的原子数密度比为 ]/)(ex p[/1212kT E E N N --∝ 式中k 为波耳兹曼常量,T 为绝对温度。因为E2>E1,所以N2《N1。例如,已知氢原子基态能量为E1=-13.6eV ,第一激发态能量为E2=-3.4eV ,在20℃时,kT≈0.025eV,则 0)400ex p(/12≈-∝N N 可见,在20℃时,全部氢原子几乎都处于基态,要使原子发光,必须外界提供能量使原子到达激发态,所以普通广义的发光是包含了受激吸收和自发辐射两个过程。一般说来,这种光源所辐射光的能量是不强的,加上向四面八方发射,更使能量分散了。 2、 受激辐射和光的放大 由量子理论知识知道,一个能级对应电子的一个能量状态。电子能量由主量子数n(n=1,2,…)决定。但是实际描写原子中电子运动状态,除能量外,还有轨道角动量L 和自旋角动量s ,它们都是量子化的,由相应的量子数来描述。对轨道角动量,波尔曾给出了量子化公式Ln =nh ,但这不严格,因这个式子还是在把电子运动看作轨道运动基础上得到的。严格的能量量子化以及角动量量子化都应该有量子力学理论来推导。 量子理论告诉我们,电子从高能态向低能态跃迁时只能发生在l (角动量量子数)量子数相差±1的两个状态之间,这就是一种选择规则。如果选择规则不满足,则跃迁的几率很小,甚至接近零。在原子中可能存在这样一些能级,一旦电子被激发到这种能级上时,由于不满足跃迁的选择规则,可使它在这种能级上的寿命很长,不易发生自发跃迁到低能级上。这种能级称为亚稳态能级。但是,在外加光的诱发和刺激下可以使其迅速跃迁到低能级,并放出光子。这种过程是被“激”出来的,故称受激辐射。受激辐射的概念世爱因斯坦于1917年在推导普朗克的黑体辐射公式时,第一个提出来的。他从理论上预言了原子发生受激辐射的可能性,这是激光的基础。 受激辐射的过程大致如下:原子开始处于高能级E2,当一个外来光子所带的能量hυ正好为某一对能级之差E2-E1,则这原子可以在此外来光子的诱发下从高能级E2向低能级E1跃迁。这种受激辐射的光子有显著的特点,就是原子可发出与诱发光子全同的光子,不仅频

半导体激光器的研究进展

半导体激光器的研究进展 摘要:本文主要述写了半导体激光器的发展历史和发展现状。以及对单晶光纤激光器进行了重点描述,因其在激光医疗、激光成像、光电对抗以及人眼安全测照等领域具有重大的应用价值,近年来成为新型固体激光源研究的热点。 一、引言。 激光是20 世纪以来继原子能、电子计算机、半导体之后人类的又一重大发明。半导体激光科学与技术以半导体激光器件为核心,涵盖研究光的受激辐射放大的规律、产生方法、器件技术、调控手段和应用技术,所需知识综合了几何光学、物理光学、半导体电子学、热力学等学科。 半导体激光历经五十余年发展,作为一个世界前沿的研究方向,伴随着国际科技进步突飞猛进的发展,也受益于各类关联技术、材料与工艺等的突破性进步。半导体激光的进步在国际范围内受到了高度的关注和重视,不仅在基础科学领域不断研究深化,科学技术水平不断提升,而且在应用领域上不断拓展和创新,应用技术和装备层出不穷,应用水平同样取得较大幅度的提升,在世界各国的国民经济发展中,特别是信息、工业、医疗和国防等领域得到了重要应用。 本文对半导体激光器的发展历史和现状进行了综述,同时因单晶光纤激光器在激光医疗、激光成像、光电对抗以及人眼安全测照等领域具有重大的应用价值,本文也将对其做重点描述。 二、大功率半导体激光器的发展历程。 1962 年,美国科学家宣布成功研制出了第一代半导体激光器———GaAs同质结构注入型半导体激光器。由于该结构的激光器受激发射的阈值电流密度非常高,需要5 × 104~1 ×105 A /cm2,因此它只能在液氮制冷下才能以低频脉冲状态工作。从此开始,半导体激光器的研制与开发利用成为人们关注的焦点。1963 年,美国的Kroemer和前苏联科学院的Alferov 提出把一个窄带隙的半导体材料夹在两个宽带隙半导体之间,构成异质结构,以期在窄带隙半导体中产生高效率的辐射复合。随着异质结材料的生长工艺,如气相外延( VPE) 、液相外延( LPE) 等的发展,1967年,IMB 公司的Woodall 成功地利用LPE 在GaAs上生长了AlGaAs。在1968—1970 年期间,美国贝尔实验室的Panish,Hayashi 和Sμmski成功研究了AlGaAs /GaAs单异质结激光器,室温阈值电流密度为8.6 × 103 A /cm2,比同质结激光器降低了一个数量级。

44瓦超高功率808nm半导体激光器设计和制作

44瓦超高功率808 nm半导体激光器设计与制作 仇伯仓,胡海,何晋国 深圳清华大学研究院 深圳瑞波光电子有限公司 1. 引言 半导体激光器采用III-V化合物为其有源介质,通常通过电注入,在有源区通过电子与空穴复合将注入的电能量转换为光子能量。与固态或气体激光相比,半导体激光具有十分显著的特点:1)能量转换效率高,比如典型的808 nm高功率激光的最高电光转换效率可以高达65%以上 [1],与之成为鲜明对照的是,CO2气体激光的能量转换效率仅有10%,而采用传统灯光泵浦的固态激光的能量转换效率更低, 只有1%左右;2)体积小。一个出射功率超过10 W 的半导体激光芯片尺寸大约为0.3 mm3, 而一台固态激光更有可能占据实验室的整整一张工作台;3)可靠性高,平均寿命估计可以长达数十万小时[2];4)价格低廉。半导体激光也同样遵从集成电路工业中的摩尔定律,即性能指标随时间以指数上升的趋势改善,而价格则随时间以指数形式下降。正是因为半导体激光的上述优点,使其愈来愈广泛地应用到国计民生的各个方面,诸如工业应用、信息技术、激光显示、激光医疗以及科学研究与国防应用。随着激光芯片性能的不断提高与其价格的持续下降,以808 nm 以及9xx nm为代表的高功率激光器件已经成为激光加工系统的最核心的关键部件。高功率激光芯片有若干重要技术指标,包括能量转换效率以及器件运行可靠性等。器件的能量转换效率主要取决于芯片的外延结构与器件结构设计,而运行可靠性主要与芯片的腔面处理工艺有关。本文首先简要综述高功率激光的设计思想以及腔面处理方法,随后展示深圳清华大学研究院和深圳瑞波光电子有限公司在研发808nm高功率单管激光芯片方面所取得的主要进展。 2.高功率激光结构设计 图1. 半导体激光外延结构示意图

半导体激光器pi特性测试实验

太原理工大学现代科技学院 课程实验报告 专业班级 学号 姓名 指导教师

实验名称 半导体激光器P-I 特性测试实验 同组人 专业班级 学号 姓名 成绩 一、 实验目的 1. 学习半导体激光器发光原理和光纤通信中激光光源工作原理 2. 了解半导体激光器平均输出光功率与注入驱动电流的关系 3. 掌握半导体激光器P (平均发送光功率)-I (注入电流)曲线的测试方法 二、 实验仪器 1. ZY12OFCom13BG 型光纤通信原理实验箱 1台 2. 光功率计 1台 3. FC/PC-FC/PC 单模光跳线 1根 4. 万用表 1台 5. 连接导线 20根 三、 实验原理 半导体激光二极管(LD )或简称半导体激光器,它通过受激辐射发光,(处于高能级E 2的电子在光场的感应下发射一个和感应光子一模一样的光子,而跃迁到低能级E 1,这个过程称为光的受激辐射。所谓一模一样,是指发射光子和感应光子不仅频率相同,而且相位、偏振方向和传播方向都相同,它和感应光子是相干的。)是一种阈值器件。由于受激辐射与自发辐射的本质不同,导致了半导体激光器不仅能产生高功率(≥10mW )辐射,而且输出光发散角窄(垂直发散角为30~50°,水平发散角为0~30°),与单模光纤的耦合效率高(约30%~50%),辐射光谱线窄(Δλ=0.1~1.0nm ),适用于高比特工作,载流子复合寿命短,能进行高速信号(>20GHz )直接调制,非常适合于作高速长距离光纤通信系统的光源。 P-I 特性是选择半导体激光器的重要依据。在选择时,应选阈值电流I th 尽可能小,I th 对应P 值小,而且没有扭折点的半导体激光器,这样的激光器工作电流小,工作稳定性高,消光比(测试方法见实验四)大, ……………………………………装………………………………………订…………………………………………线………………………………………

半导体激光器的发展与应用

题目:半导体激光器的发展与应用学院:理 专业:光 姓名:刘

半导体激光器的发展与应用 摘要:激光技术自1960年面世以来便得到了飞速发展,作为激光技术中最关键的器件激光器的种类层出不穷,这其中发展最为迅速,应用作为广泛的便是半导体激光器。半导体激光器的独特性能及优点,使其获得了广泛应用。本文就简要回顾半导体激光器的发展历程,着重介绍半导体激光器在日常生活与军用等各个领域中的应用。 关键词:激光技术、半导体激光器、军事应用、医学应用

引言 激光技术最早于1960年面世,是一种因刺激产生辐射而强化的光。激光被广泛应用是因为它具有单色性好、方向性强、亮度高等特性。激光技术的原理是:当光或电流的能量撞击某些晶体或原子等易受激发的物质,使其原子的电子达到受激发的高能量状态,当这些电子要回复到平静的低能量状态时,原子就会射出光子,以放出多余的能量;而接着,这些被放出的光子又会撞击其它原子,激发更多的原子产生光子,引发一连串的“连锁反应”,并且都朝同一个方前进,形成强烈而且集中朝向某个方向的光。这种光就叫做激光。激光几乎是一种单色光波,频率范围极窄,又可在一个狭小的方向内集中高能量,因此利用聚焦后的激光束可以对各种材料进行打孔。激光因为拥有这种特性,所以拥有广泛的应用。 激光技术的核心是激光器,世界上第一台激光器是1960年由T.H.梅曼等人制成的第红宝石激光器,激光器的种类很多,可按工作物质、激励方式、运转方式、工作波长等不同方法分类。但各种激光器的基本工作原理均相同,产生激光的必不可少的条件是粒子数反转和增益大过损耗,所以装置中必不可少的组成部分有激励(或抽运)源、具有亚稳态能级的工作介质两个部分。 半导体物理学的迅速发展及随之而来的晶体管的发明,使科学家们早在50年代就设想发明半导体激光器。在1962年7月美国麻省理工学院林肯实验室的两名学者克耶斯(Keyes)和奎斯特(Quist)报告了砷化镓材料的光发射现象,通用电气研究实验室工程师哈尔(Hall)与其他研究人员一道研制出世界上第一台半导体激光器。 半导体激光器是用半导体材料作为工作物质的一类激光器,由于物质结构上的差异,产生激光的具体过程比较特殊。常用材料有砷化镓(GaAs)、硫化镉(CdS)、磷化铟(InP)、硫化锌(ZnS)等。激励方式有电注入、电子束激励和光泵浦三种形式。自1962年世界上第一只半导体激光器是问世以来,经过几十年来的研究,半导体激光器得到了惊人的发展,它的波长从红外、红光到蓝绿光,被盖范围逐渐扩大,各项性能参数也有了很大的提高!半导体激光器具有体积小、效率高等优点,因此可广泛应用于激光通信、印刷制版、光信息处理等方面。

半导体激光器的发展及其应用

浅谈半导体激光器及其应用 摘要:近十几年来半导体激光器发展迅速,已成为世界上发展最快的一门激光技术。由于半导体激光器的一些特点,使得它目前在各个领域中应用非常广泛,受到世界各国的高度重视。本文简述了半导体激光器的概念及其工作原理和发展历史,介绍了半导体激光器的重要特征,列出了半导体激光器当前的各种应用,对半导体激光器的发展趋势进行了预测。 关键词:半导体激光器、激光媒质、载流子、单异质结、pn结。 自1962年世界上第一台半导体激光器发明问世以来,半导体激光器发生了巨大的变化,极大地推动了其他科学技术的发展,被认为是二十世纪人类最伟大的发明之一。近十几年来,半导体激光器的发展更为迅速,已成为世界上发展最快的一门激光技术。半导体激光器的应用范围覆盖了整个光电子学领域,已成为当今光电子科学的核心技术。由于半导体激光器的体积小、结构简单、输入能量低、寿命较长、易于调制以及价格较低廉等优点,使得它目前在光电子领域中应用非常广泛,已受到世界各国的高度重视。 一、半导体激光器 半导体激光器是以直接带隙半导体材料构成的Pn 结或Pin 结为工作物质的一种小型化激光器。半导体激光工作物质有几十种,目前已制成激光器的半导体材料有砷化镓、砷化铟、锑化铟、硫化镉、碲化镉、硒化铅、碲化铅、铝镓砷、铟磷砷等。半导体激光器的激励方式主要有三种,即电注入式、光泵式和高能电子束激励式。绝大多数半导体激光器的激励方式是电注入,即给Pn 结加正向电压,以使在结平面区域产生受激发射,也就是说是个正向偏置的二极管。因此半导体激光器又称为半导体激光二极管。对半导体来说,由于电子是在各能带之间进行跃迁,而不是在分立的能级之间跃迁,所以跃迁能量不是个确定值, 这使得半导体激光器的输出波长展布在一个很宽的范围上。它们所发出的波长在0.3~34μm之间。其波长范围决定于所用材料的能带间隙,最常见的是AlGaAs双异质结激光器,其输出波长为750~890nm。 半导体激光器制作技术经历了由扩散法到液相外延法(LPE), 气相外延法(VPE),分子束外延法(MBE),MOCVD 方法(金属有机化合物汽相淀积),化学束外延(CBE)以及它们的各种结合型等多种工艺。半导体激光器最大的缺点是:激光性能受温度影响大,光束的发散角较大(一般在几度到20度之间),所以在方向性、单色性和相干性等方面较差。但随着科学技术的迅速发展, 半导体激光器的研究正向纵深方向推进,半导体激光器的性能在不断地提高。以半导体激光器为核心的半导体光电子技术在21 世纪的信息社会中将取得更大的进展, 发挥更大的作用。 二、半导体激光器的工作原理 半导体激光器是一种相干辐射光源,要使它能产生激光,必须具备三个基本条件: 1、增益条件:建立起激射媒质(有源区)内载流子的反转分布,在半导体中代表电子能量的是由一系列接近于连续的能级所组成的能带,因此在半导体中要实现粒子数反转,必须在两个能带区域之间,处在高能态导带底的电子数比处在低能态价带顶的空穴数大很多,这靠给同质结或异质结加正向偏压,向有源层内注入必要的载流子来实现, 将电子从能量较低的价带激发到能量较高的导带中去。当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时,便产生受激发射作用。 2、要实际获得相干受激辐射,必须使受激辐射在光学谐振腔内得到多次反馈而形成激光振荡,激光器的谐振腔是由半导体晶体的自然解理面作为反射镜形成的,通常在不出光的那一端镀上高反多层介质膜,而出光面镀上减反膜。对F—p 腔(法布里—珀罗腔)半导体激光器可以很方便地利用晶体的与p-n结平面相垂直的自然解理面构成F-p腔。 3、为了形成稳定振荡,激光媒质必须能提供足够大的增益,以弥补谐振腔引起的光损耗及从腔

半导体激光器的设计

半导体激光器设计 半导体激光器产生激光的机理,即必须建立特定激光能态间的粒 子数反转,并有光学谐振腔。由于半导体材料物质结构的特异性和 其中电子运动的特殊性,一方面产生激光的具体过程有许多特殊之处,另一方面所产生的激光光束也有独特的优势,使其在社会各方面广 泛应用。从同质结到异质结,从信息型到功率型,激光的优越性也愈 发明显,光谱范围宽, 相干性增强,使半导体激光器开启了激光应用 发展的新纪元。 1半导体激光器的工作原理 激光产生原理 半导体激光器是一种相干辐射光源,要使它能产生激光,必须具 备三个基本条件: (1)增益条件:建立起激射媒质(有源区)内载流子的反转分布,在 半导体中代表电子能量的是由一系列接近于连续的能级所组成的能带,因此在半导体中要实现粒子数反转,必须在两个能带区域之间,处 在高能态导带底的电子数比处在低能态价带顶的空穴数大很多,这靠 给同质结或异质结加正向偏压,向有源层内注入必要的载流子来实现。将电子从能量较低的价带激发到能量较高的导带中去。当处于粒子 数反转状态的大量电子与空穴复合时,便产生受激发射作用。 (2)要实际获得相干受激辐射,必须使受激辐射在光学谐振腔内 得到多次反馈而形成激光振荡,激光器的谐振腔是由半导体晶体的自

然解理面作为反射镜形成的,通常在不出光的那一端镀上高反多层介质膜,而出光面镀上减反膜.对F—p腔 (法布里一珀罗腔)半导体激 光器可以很方便地利用晶体的与P—n结平面相垂直的自然解理面 一[110]面构成F—P腔。 (3)为了形成稳定振荡,激光媒质必须能提供足够大的增益,以弥补谐振腔引起的光损耗及从腔面的激光输出等引起的损耗,不断增加腔内的光场.这就必须要有足够强的电流注入,即有足够的粒子数反转,粒子数反转程度越高,得到的增益就越大,即要求必须满足一定的电流阀值条件.当激光器达到阀值时,具有特定波长的光就能在腔内谐振并被放大,最后形成激光而连续地输出. 可见在半导体激光器中,电子和空穴的偶极子跃迁是基本的光发射和光放大过程。 1.2 双异质结基本结构 将有源层夹在同时具有宽带隙和低折射率的两种半导体材料之间,以便在垂直于结平面的方向(横向)上有效地限制载流子和光子。用此结构于1970年实现了GaAlAs/GaAs激射波长为0.89 μm 的半导体激光器在室温下能连续工作。 图表示出双异质结激光器的结构示意图和相应的能带图在正向 偏压下

半导体激光器P-I特性测试

实验一 半导体激光器P-I 特性测试实验 一、 实验目的 1. 学习半导体激光器发光原理和光纤通信中激光光源工作原理 2. 了解半导体激光器平均输出光功率与注入驱动电流的关系 3. 掌握半导体激光器P (平均发送光功率)-I (注入电流)曲线的测试方法 二、 实验仪器 1. ZY12OFCom13BG 型光纤通信原理实验箱 1台 2. 光功率计 1台 3. FC/PC-FC/PC 单模光跳线 1根 4. 万用表 1台 5. 连接导线 20根 三、 实验原理 半导体激光二极管(LD )或简称半导体激光器,它通过受激辐射发光,(处于高 能级E 2的电子在光场的感应下发射一个和感应光子一模一样的光子,而跃迁到低能级E 1,这个过程称为光的受激辐射,所谓一模一样,是指发射光子和感应光子不仅频率相同,而且相位、偏振方向和传播方向都相同,它和感应光子是相干的。)是一种阈值器件。由于受激辐射与自发辐射的本质不同,导致了半导体激光器不仅能产生高功率(≥10mW )辐射,而且输出光发散角窄(垂直发散角为30~50°,水平发散角为0~30°),与单模光纤的耦合效率高(约30%~50%),辐射光谱线窄(Δλ=0.1~1.0nm ),适用于高比特工作,载流子复合寿命短,能进行高速信号(>20GHz )直接调制,非常适合于作高速长距离光纤通信系统的光源。 对于线性度良好的半导体激光器,其输出功率可以表示为 P e =)(2th D I I q -ηω (1-1) 其中int int a a a mir mir D +=ηη,这里的量子效率η int ,表征注入电子通过受激辐射转化为光 子的比例。在高于阈值区域,大多数半导体激光器的ηint 接近于1。 1-1式表明,激光输出功率决定于内量子效率和光腔损耗,并随着电流而增大, 当注入电流I>I th 时,输出功率与I 成线性关系。其增大的速率即P-I 曲线的斜率,称为斜率效率 D e q dI dP ηω2 = (1-2) P-I 特性是选择半导体激光器的重要依据。在选择时,应选阈值电流I th 尽可能小, I th 对应P 值小,而且没有扭折点的半导体激光器,这样的激光器工作电流小,工作稳定性高,消光比(测试方法见实验四)大,而且不易产生光信号失真。并且要求P-I 曲线的斜率适当。斜率太小,则要求驱动信号太大,给驱动电路带来麻烦;斜率太大,则会出现光反射噪声及使自动光功率控制环路调整困难。半导体激光器具有高功率密度和极高量子效率的特点,微小的电流变化会导致光功率输出变化,是光纤通信中最重要的一种光源,半导体激光器可以看作为一种光学振荡器,要形成光的振荡,就必须要有光放大机制,也即激活介质处于粒子数反转分布,而且产生的增益足以抵消所

课程设计半导体激光器

郑州轻工业学院 课程设计任务书 题目半导体激光器原理及应用 专业、班级学号姓名 主要内容、基本要求、主要参考资料等: 完成期限: 指导教师签名: 课程负责人签名: 年月日

郑州轻工业学院半导体激光器课程设计 郑州轻工业学院 课程设计说明书题目:半导体激光器原理及应用 姓名:王森 院(系):技术物理系 专业班级:电子科学与技术09-1 学号:540911010132 指导教师:运高谦 成绩: 时间:年月日至年月日 I

郑州轻工业学院半导体激光器课程设计 摘要 本文主要讲的是半导体激光器的发展历史、工作原理及应用。半导体激光器产生激光的机理,即必须建立特定激光能态间的粒子数反转,并有合适的光学谐振腔。由于半导体材料物质结构的特异性和其中电子运动的特殊性,首先产生激光的具体过程有许多特殊之处,其次所产生的激光光束也有独特的优势,使其在社会各方面广泛应用。从同质结到异质结,从信息型到功率型,激光的优越性也愈发明显,光谱范围变宽,相干性增强,可以说是半导体激光器开启了激光应用发展的新纪元。 关键词激光技术;半导体激光器;受激辐射;光场 II

郑州轻工业学院半导体激光器课程设计 Abstract This article is mainly about the history of the development of semiconductor lasers, working principle and applications. Semiconductor lasers produce laser mechanism, which must be established between the specific laser energy state population inversion, and a suitable optical resonator. As the physical structure of the semiconductor material in which electron motion specificity and particularity, while the specific process of producing laser has many special features, the other produced by the laser beam has a unique advantage to make it widely used in all sectors of society . From homo-junction to the heterojunction, the power from the information type to type, is also becoming increasingly apparent superiority of the laser, spectral range, coherence enhanced semiconductor lasers opened a new era in the development of laser applications. Keywords: Laser technique;Semiconductor lasers;Stimulated emission;Optical field III

半导体激光器设计

半导体激光器设计 摘要:半导体激光器产生激光的机理,即必须建立特定激光能态间的粒子数反转,并有光学谐振腔。由于半导体材料物质结构的特异性和其中电子运动的特殊性,一方面产生激光的具体过程有许多特殊之处,另一方面所产生的激光光束也有独特的优势,使其在社会各方面广泛应用。从同质结到异质结,从信息型到功率型,激光的优越性也愈发明显,光谱范围宽,相干性增强,使半导体激光器开启了激光应用发展的新纪元。 关键词:受激辐射;光场;同质结;异质结;大功率半导体激光器 、八— 0刖言 半导体激光器是指以半导体材料为工作物质的激光器,又称半导体激光二极管(LD), 是20世纪60年代发展起来的一种激光器。半导体激光器的工作物质有几十种,例如砷化傢(GaAs),硫化镉(CdS)等,激励方式主要有电注入式,光泵式和高能电子束激励式三种。半导体激光器从最初的低温(77K)下运转发展到室温下连续工作;从同质结发展成单异质结双异质结,量子阱(单,多量子阱)等多种形式。半导体激光器因其波长的扩展,高功率激光阵列的出现以及可兼容的光纤导光和激光能量参数微机控制的出现而迅速发展.半导体激 光器的体积小,重量轻,成本低,波长可选择,其应用遍布临床,加工制造,军事,其中尤以大功率半导体激光器方面取得的进展最为突出。 1半导体激光器的工作原理 1.1激光产生原理 半导体激光器是一种相干辐射光源,要使它能产生激光,必须具备三个基本条件:(1)增益条件:建立起激射媒质(有源区)内载流子的反转分布,在半导体中代表电子能量的是由一系列接近于连续的能级所组成的能带,因此在半导体中要实现粒子数反转,必须在两个能带区域之间,处在高能态导带底的电子数比处在低能态价带顶的空穴数大很多,这靠给同质结或异质结加正向偏压,向有源层内注入必要的载流子来实现。将电子从能量较低的价带激发到能量较高的导带中去。当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时,便产生受激

半导体激光器实验

实验19 半导体激光器实验 一、目的 1.理解半导体激光器的工作原理; 2.通过测量半导体激光器工作时的功率、电压、电流,利用这些参数画出P-I 、I-V 曲线,让学生了解半导体的工作特性曲线; 3.学会通过曲线计算半导体激光器的阈值,串联电阻,以及功率效率,外量子效应和外微分效应,并对三者进行比较; 4.内置四套方波信号或者外加信号直接调制激光器,通过调整不同的静态工作点,和输入信号强度大小不同,观察到截至区,线性区,限流区的信号不同响应(信号畸变,线性无畸变),了解调制工作原理。 二、原理 半导体激光器是用半导体材料作为工作物质的一类激光器,由于物质结构上的差异,产生激光的具体过程比较特殊。常用材料有砷化镓(GaAs )、硫化镉(CdS )、磷化铟(InP)、硫化锌(ZnS)等。激励方式有电注入、电子束激励和光泵浦三种形式。 半导体激光器件,可分为同质结、单异质结、双异质结等几种。同质结激光器和单异质结激光器室温时多为脉冲器件,而双异质结激光器室温时可实现连续工作。 半导体激光器具有体积小、效率高等优点,广泛应用于激光通信、印刷制版、光信息处理等方面。 1.半导体激光器的结构与工作原理 现以砷化镓(GaAs )激光器为例,介绍注入式同质结激光器的工作原理。半导体的能带结构。半导体材料多是晶体结构。当大量原子规则而紧密地结合成晶体时,晶体中那些价电子都处在晶体能带上。价电子所处的能带称价带(对应较低能量)。与价带最近的高能带称导带,能带之间的空域称为禁带。当加外电场时,价带中电子跃迁到导带中去,在导带中可以自由运动而起导电作用。同时,价带中失掉一个电子,则相当于出现一个带正电的空穴,这种空穴在外电场的作用下,也能起导电作用。因此,价带中空穴和导带中的电子都有导电作用,统称为载流子。掺杂半导体与p-n 结。没有杂质的纯净半导体,称为本征半导体。如果在本征半导体中掺入杂质原子,则在导带之下和价带之上形成了杂质能级,分别称为施主能级和受主能级 有施主能级的半导体称为n 型半导体;有受主能级的半导体称这p 型半导体。在常温下,热能使n 型半导体的大部分施主原子被离化,其中电子被激发到导带上,成为自由电子。而p 型半导体的大部分受主原子则俘获了价带中的电子,在价带中形成空穴。因此,n 型半导体主要由导带中的电子导电;p 型半导体主要由价带中的空穴导电。 半导体激光器中所用半导体材料,掺杂浓度较大,n 型杂质原子数一般为2~5×1018cm -1;p 型为1~3×1019cm -1。 在一块半导体材料中,从p 型区到n 型区突然变化的区域称为p-n 结。其交界面处将形成一空间电荷区。n 型半导体带中电子要向p 区扩散,而p 型半导体价带中的空穴要向n 区扩散。这样一来,结构附近的n 型区由于是施主而带正电,结区附近的p 型区由于是受主而带负电。在交界面处形成一个由n 区指向p 区的电场,称为自建电场。此电场会阻止电子和空穴的继续扩散(见图19.1)。 p-n 结电注入激发机理。若在形成了p-n 结的半导体材料上加上正向偏压,p 区接正极, 图19.1 自建电场的示意图

半导体激光器的应用与分类

半导体激光器的应用与分类 半导体光发射器是电流注入型半导体PN结光发射器件,具有体积小、重量轻、直接调制、宽带宽,转换效率高、高可靠和易于集成等特点,被广泛应用。按照其发光特性,可分为激光二极管(又称半导体激光器或二极管激光器,Laser Diode,LD),通常光谱宽度不]于5nm(采取专门措施可不大于0.1nm);发光二极管(Light Emitting Diode,LED),光谱宽度一般不小于50nm;超辐射发光二极管(Superluminescent Dmde,SLD),光谱宽度不大于5nm(采取专门措施可不大于0.1nm);发光二极管(Light Emiltting,LED),光谱宽度一般不小于50nm;超辐射发光二极管(Superluminescent SLD),光谱宽度为30~50nm,本节重点介绍几种半导体激光器,钽电容简要介绍超辐射发光二极管。 半导体激光器的分类有多种方法。按波长分:中远红外激光器、近红外激光器、可见光激光器、紫外激光器等;按结构分:双异质结激光器、大光腔激光器、分布反馈激光器、垂直腔面发射激光器;按应用领域分:光通信激光器、光存储激光器、大功率泵浦激光器、引信用脉冲激光器等;按管心组合方式分:单管、阵列(线阵、面阵);按注入电流工作方式分:脉冲、连续、准连续等。 LD主要技术摄技术指标有光功率、中心波长、光谱宽度、阈值电流、工作电流、工作电压、斜率效率和电光转换效率等。 半导体激光器的光功率是指在规定驱动电流条件下输出的光功率,该指标直接与工作电流对应,这体现了半导体激光器的电流驱动特性。如果是连续驱动条件,T491T336M004AT则输出功率就是连续光功率,如果是脉冲驱动条件,输出的光功率可用峰值功率或平均功率来衡量。hymsm%ddz 半导体激光器的中心波长是指激光器所发光谱曲线的中心点所对应的波长,通常用该指标来标称激光器的发光波长。光谱宽度是标志个导体激光器光谱纯度的一个指标,通常用光谱曲线半高度对应的光谱全宽来表示。 半导体激光器的光场是发散的而且是不对称的。在垂直PN结平面方向(快轴方向),发散角较大,通常在20°~45°之间;在平行PN结平面方向(慢轴方向),发散角较小,通常在6°~12°之间。由此可以看出,半导体二极管激光器的光场在空间分布呈椭圆形。

半导体激光器主要性能参数定义

半导体激光器 1.P-I 特性及阈值电流 P-I特性揭示了LD输出光功率与注入电流之间的变化规律,因此是LD最重要的特性之一。 典型的激光器P-I曲线 由P-I曲线可知,LD是阈值型器件,随注入电流的不同而经历了几个典型阶段。 ?当注入电流较小时,有源区里不能实现粒子数反转,自发辐射占主导地位,LD发射普通的荧光,光谱很宽,其工作状态类似于一般的发光二极管。 ?随着注入电流的加大,有源区里实现了粒子数反转,受激辐射开始占主导地位,但当注入电流仍小于阈值电流时,谐振腔里的增益还不足以克服损耗,不能在腔内建立起一定模式的振荡,LD发射的仅仅是较强的荧光, 称为“超辐射”状态。

? 只有当注入电流达到阈值以后,才能发射谱线尖锐、模式明确的激光,光 谱突然变窄并出现单峰(或多峰)。 2.激光器线宽 半导体的激光器的线宽是多少?有的用nm 表示,有的用Hz 表示,计算公式是什么?经常会提到激光器的线宽<0.0001 nm 换算成“Hz”是多少赫兹啊? 线宽即为激光某一单独模式的光谱宽度,一般表达形式:nm ,Hz ,cm-1。该参数与激光本身的波长由关系。 例:比如波长为1064nm, 线宽0.1nm ,则换算为Hz 单位: GHz v 5.261065.21.01064101031029 8=?=???=? 3. 边模抑制比(SSR ) 边模抑制比是指在发射光谱中,在规定的输出功率和规定的调制(或 CW )时最高光谱峰值强度与次高光谱峰值强度之比。

边模抑制比示意图 4.振荡腔 HR AR 谐振腔的作用是选择频率一定、方向一致的光作最优先的放大,而把其他频率和方向的光加以抑制。凡不沿谐振腔轴线运动的光子均很快逸出腔外; 沿轴线运动的光子将在腔内继续前进,并经两反射镜的反射不断往返运行产生振荡,运行时不断与受激粒子相遇而产生受激辐射,沿轴线运行的光子将不断增殖,在腔内形成传播方向一致、频率和相位相同的强光束,这就是激光。为把激光引出腔外,可把一面反射镜做成部分透射的,透射部分成为可利用的激光,反射部分留在腔内继续增殖光子。 光学谐振腔的作用有:①提供反馈能量,②选择光波的方向和频率。谐振腔内可能存在的频率和方向称为本征模。两反射镜的曲率半径和间距(腔长)决定了谐振腔对本征模的限制情况。不同类型的谐振腔有不同的模式结构和限模特性。 5.三种类型的QCL 按振荡腔设计的差异,QCL可以分为三大类:

半导体激光器

半导体激光器 半导体激光器 半导体激光器是用半导体材料作为工作物质的一类激光器,由于物质结构上的差异,产生激光的具体过程比较特殊。常用材料有砷化镓(GaAs)、硫化镉(CdS)、磷化铟(InP)、硫化锌(ZnS)等。激励方式有电注入、电子束激励和光泵浦三种形式。半导体激光器件,可分为同质结、单异质结、双异质结等几种。同质结激光器和单异质结激光器室温时多为脉冲器件,而双异质结激光器室温时可实现连续工作。 半导体激光器的分类 (1)异质结构激光器(2)条形结构激光器(3)AIGaAs/GaAs激光器(4)InGaAsP/InP激光器(5)可见光激光器(6)远红外激光器(7)动态单模激光器(8)分布反馈激光器(9)量子阱激光器(10)表面发射激光器(11)微腔激光器 半导体激光器 半导体激光(Semiconductor laser)在1962年被成功激发,在1970年实现室温下连续输出。后来经过改良,开发出双异质接合型激光及条纹型构造的激光二极管(Laser diode)等,广泛使用于光纤通信、光盘、激光打印机、激光扫描器、激光指示器(激光笔),是目前生产量最大的激光器。激光二极体的优点是效率高、体积小、重量轻且价格低。尤其是多重量子井型的效率有20~40%,P-N型也达到数%~25%,总而言之能量效率高是其最大特色。另外,它的连续输出波长涵盖了红外线到可见光范围,而光脉冲输出达50W(带宽100ns)等级的产品也已商业化,作为激光雷达或激发光源可说是非常容易使用的激光的例子。 仪器简介

Q-Line纤绿半导体激光器 半导体激光器是以一定的半导体材料做工作物质而产生受激发射作用的器件.其工作原理是,通过一定的激励方式,在半导体物质的能带(导带与价带)之间,或者半导体物质的能带与杂质(受主或施主)能级之间,实现非平衡载流子的粒子数反转,当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时,便产生受激发射作用.半导体激光器的激励方式主要有三种,即电注入式,光泵式和高能电子束激励式.电注入式半导体激光器,一般是由GaAS(砷化镓),InAS(砷化铟),Insb(锑化铟)等材料制成的半导体面结型二极管,沿正向偏压注入电流进行激励,在结平面区域产生受激发射.光泵式半导体激光器,一般用N型或P型半导体单晶(如GaAS,InAs,InSb等)做工作物质,以其他激光器发出的激光作光泵激励.高能电子束激励式半导体激光器,一般也是用N型或者P型半导体单晶(如PbS,CdS,ZhO等)做工作物质,通过由外部注入高能电子束进行激励.在半导体激光器件中,目前性能较好,应用较广的是具有双异质结构的电注入式GaAs二极管激光器. 工作原理及特点 半导体激光器工作原理是激励方式,利用半导体物质(即利用电子)在能带间跃迁发光,用半导体晶体的解理面形成两个平行反射镜面作为反射镜,组成谐振腔,使光振荡、反馈、产生光的辐射放大,输出激光。半导体激光器优点是体积小,重量轻,运转可靠,耗电少,效率高等。 封装技术 技术介绍 半导体激光器封装技术大都是在分立器件封装技术基础上发展与演变而来的,但却有很大的特殊性。一般情况下,分立器件的管芯被密封在封装体内,封装的作用主要是保护管芯和完成电气互连。而半导体激光器封装则是完成输出电信号,保护管芯正常工作,输出:可见光的功能,既有电参数,又有光参数的设计及技术要求,无法简单地将分立器件的封装用于半导体激光器。 发光部分 半导体激光器的核心发光部分是由p型和n型半导体构成的pn结管芯,当注入pn结的少数载流子与多数载流子复合时,就会发出可见光,紫外光或近红外光。但pn结区发出的光子是非定向的,即向各个方向发射有相同的几率,因此,并不是管芯产生的所有光都可以释放出来,这主要取决于半导体材料质量、管芯结构及几何形状、封装内部结构与包封材料,应用要求提高半导体激光器的内、外部量子效率。常规Φ5mm型半导体激光器封装是将边长0.25mm的正方形管芯粘结或烧结在引线架上,管芯的正极通过球形接触点与金丝,键合

半导体激光器的应用与前景

关于半导体激光器 作者 摘要:目前半导体激光器发展非常快。随着技术的成熟,半导体激光器的应用也越来越广泛。本文主要分析半导体激光器的国内外发展现状,总结其原理、应用。评估半导体激光在未来的发展。 关键词:半导体激光器原理与应用未来前景Abstract:Nonadays,the semiconductor laser develop very fast.with the technology becomed more and more adultness, the semiconductor laser was application in kinds of filed.This essay analysis the semiconductor laser statu of develop in home and foreige,at the same time ,summarizing its principle and applicat- Ion.estimating the semiconductor laser develop in future.

Keywords:the semiconductor laser principle and application the prospest 国内外发展状况: 相对于固体激光器和气体激光器来说,半导体 激光器真可谓是姗姗来迟,但是它具有效率高、体 积小、寿命长、成本低、等优点,目前在激光器领 域中已占据一半以上的市场份额,而且还在不断扩 大,大有取代传统激光器的趋势[1]。 半导体激光是目前各种激光中发展最快的,它 占有激光市场的最大份额。半导体激光器又称为二 极管激光器(LD),随着生长技术的进步、器件量 产化能力的提高、性能的改善及成本的下降 , LD 陆续扩展到许多其它应用领域,包括 CDROM 驱动、激光打印、可擦除光存储驱动、条码扫描、 文娱表演、光纤通信 ,以及航空和军事应用如军训 模拟装置、测距机、照明器、CI等。由于LD的

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