ITO靶材的综述
ito靶材行业研究报告
ito靶材行业研究报告根据市场研究机构的数据，ITO（铟锡氧化物）靶材是目前应用最广泛的透明导电材料之一。
ITO靶材主要用于平板显示器、触摸屏、太阳能电池和智能手机等电子产品的透明导电膜制备。
首先，ITO靶材具有优异的透明性和导电性能，这使得其适用于需要透明导电材料的多种应用。
例如，在平板显示器和触摸屏中，ITO靶材可以制备出高透明度和低电阻率的透明导电膜，使得显示器和触摸屏具有良好的显示效果和灵敏的触摸感应。
其次，ITO靶材还具有优异的耐腐蚀性和稳定性。
在太阳能电池制备过程中，ITO靶材作为透明电极材料，需要在高温、高湿的环境下长期稳定运行。
因此，ITO靶材的耐高温、耐湿性能对于保证太阳能电池的长期稳定性非常重要。
此外，随着智能手机的普及，对于薄型化和轻量化的需求增加，ITO靶材也得到了广泛的应用。
ITO靶材可以制备出具有良好导电性能的薄膜，使得智能手机屏幕更加薄型化，并且可以实现多点触控功能，提升用户体验。
然而，ITO靶材也存在一些问题和挑战。
首先，铟是一种稀有金属，资源有限，价格较高。
此外，ITO靶材在制备过程中需要使用高温高真空设备，生产成本较高。
另外，ITO靶材还存在潜在的环境和健康风险，铟元素具有一定的毒性和环境污染风险。
为了解决上述问题和挑战，目前的研究和发展方向主要包括以下几个方面。
首先，研究人员正在努力降低ITO靶材的生产成本，提高生产效率。
其次，研究人员正在寻找新型的透明导电材料替代ITO靶材，例如氧化铟锌（IZO）靶材和氧化锡（SnO2）靶材等。
这些替代材料具有优异的透明性和导电性能，并且价格相对较低。
综上所述，ITO靶材是目前应用最广泛的透明导电材料之一，具有优异的透明性、导电性能和耐腐蚀性能。
然而，ITO靶材也面临着资源有限、价格高昂、环境和健康风险等问题。
因此，研究人员正在不断努力寻找新型的透明导电材料替代ITO靶材，并且降低生产成本，提高生产效率。
ito靶材铟含量
ito靶材铟含量
ITO（Indium Tin Oxide）是目前应用最广泛的透明导电材料，常见
于液晶显示器、太阳能电池等电子产品中。
铟是ITO材料中重要的组
成元素之一，而铟含量的多少会直接影响材料的导电性能。
根据研究表明，ITO靶材铟含量控制在90%-95%之间时，可以获得较好的性能表现。
比如，与仅含锡氧化物的锡氧化铟相比，铟含量为90%的ITO材料的电学性能提高了1-2个数量级，同时透射率稳定性也得
到了极大的提高。
不过，ITO靶材铟含量也并非越高越好，因为铟作为一种稀有金属，
其价格相对较高，且影响铟含量的提高也会影响到材料制备的成本。
因此，实际生产中需根据具体应用的需要进行控制。
除了靶材铟含量的控制，ITO薄膜表面形貌的调制也是重要的性能优
化手段。
在制备过程中添加适量的掺杂剂，比如二氧化钛、氧化锌等，可以对薄膜表面形貌进行调制，从而提高光电性能，比如透光率和导
电性能等。
总之，ITO靶材铟含量是影响材料性能的重要因素之一，并且需要综
合考虑成本和性能等因素进行控制和优化。
通过科学合理的制备工艺
和加工技术，可以获得性能更优异的ITO材料，为电子产业发展贡献力量。
ito靶材行业研究报告
ito靶材行业研究报告ITO靶材行业研究报告一、行业概况ITO靶材，又称氧化铟锡靶材，是一种用于制备透明导电薄膜的重要材料。
透明导电薄膜广泛应用于各种电子产品、显示器件、光伏学和新能源技术等领域，因此ITO靶材作为薄膜材料的关键组成部分，在科技行业中具有重要的地位和市场需求。
二、行业分析1. 市场需求随着科技的发展和电子产品市场的不断扩大，对透明导电薄膜的需求日益增长。
透明导电薄膜广泛应用于智能手机、平板电脑、电视、光伏电池等产品中，而ITO靶材作为制备透明导电薄膜的重要材料，其市场需求也随之增长。
2. 市场竞争目前，全球ITO靶材市场主要由美国、日本和韩国等发达国家垄断，国内企业面临着激烈的市场竞争。
国外企业具有先进的技术和设备，能够大规模生产高品质的ITO靶材，而国内企业在生产工艺、生产能力和产品品质方面还存在一定差距。
3. 技术创新在市场竞争激烈的背景下，技术创新成为ITO靶材行业的关键。
目前，国内企业在ITO靶材技术创新和产品研发方面已经取得了一定的进展，但仍然需要不断加强研发投入，提高自主创新能力，以满足市场需求。
三、发展趋势1. 市场规模扩大由于透明导电薄膜的广泛应用，ITO靶材市场需求持续增长，未来市场空间巨大。
特别是在新能源技术领域，如光伏电池和无机有机透明导电薄膜太阳能电池等领域，对ITO靶材的需求将持续增长。
2. 技术进步随着科技的不断进步，ITO靶材的生产技术也在不断改进。
采用更先进的材料制备方法、提高靶材的制备效率和品质，将是未来行业发展的重要方向。
同时，研发更环保、节能的制备工艺也是行业发展的趋势。
3. 国内企业崛起随着国内企业的技术不断提升和产品质量的不断提高，国内企业在ITO靶材市场上将逐渐崛起。
国内企业在技术合作和技术转让方面积极开展合作，并加大对研发投入，提高自主创新能力，以提高市场竞争力。
四、发展建议1. 加强技术研发国内企业应加强技术研发，提高自主创新能力。
ito靶材行业研究报告
ito靶材行业研究报告
根据最新的研究报告，ITO（铟锡氧化物）靶材行业是全球材料领域中一个快速发展的行业。
ITO靶材是一种用于薄膜技术中的重要材料，主要用于制造导电薄膜，常被应用于平板显示器、液晶显示器、光伏电池和触摸屏等领域。
以下为该行业的研究报告提供的一些关键发现：
1. 市场规模：ITO靶材市场规模持续增长，预计在未来几年内将保持良好的增长势头。
这主要归因于全球平板显示器和液晶显示器行业的发展以及对新型光伏电池技术的需求增加。
2. 市场驱动因素：推动ITO靶材市场增长的主要因素包括可持续能源需求的增加、平板显示器市场规模的扩大以及触摸屏技术的普及。
此外，对高效能源转换技术的需求还将促进市场增长。
3. 市场竞争格局：目前，全球ITO靶材市场竞争激烈，主要厂商包括日本的JX Nippon Mining & Metals Corporation、德国的Umicore和美国的AJA International等。
这些公司通过不断的研发和市场扩张来保持市场优势。
4. 技术挑战：ITO靶材的生产过程面临一些技术挑战，例如高成本、材料稀缺性和环境影响等。
为了应对这些挑战，研究机构和制造商正在开发代替材料，例如氧化铟锡（ITO）和其他替代技术。
综上所述，ITO靶材行业是一个具有巨大发展潜力的领域，受到全球市场的广泛关注。
随着技术进步和需求的不断增加，该行业预计将在未来几年内继续保持稳定增长趋势。
然而，也需要解决一些技术挑战，以确保行业的可持续发展。
2023年ITO靶材行业市场调查报告
2023年ITO靶材行业市场调查报告市场调查报告：ITO靶材行业一、行业概述ITO靶材是一种用于制造ITO薄膜的材料，主要由氧化铟和氧化锡组成。
ITO薄膜广泛应用于液晶显示器、平板电脑、智能手机等电子产品的导电玻璃上，具有优良的导电性能和透明性。
随着电子产品市场的发展，ITO靶材行业也出现了快速增长的趋势。
二、市场规模目前，全球ITO靶材市场规模约为60亿元人民币，年复合增长率达到15%左右。
亚太地区是全球最大的ITO靶材市场，占据了总体市场份额的40%以上。
其次是北美地区和欧洲地区，分别占据了30%和20%的市场份额，其他地区占据了剩余的10%左右。
三、市场需求1.电子产品市场的快速增长是推动ITO靶材行业发展的主要因素。
随着智能手机、平板电脑、电视机等电子产品的普及，ITO薄膜的需求量也在不断增加。
2.环保意识的增强也促使了ITO靶材行业的发展。
由于ITO材料中含有有害元素，如铟等，对环境造成了一定的污染。
因此，研发出更环保的替代材料成为了行业的重要发展方向。
3.新兴应用领域的涌现也带动了ITO靶材行业的发展。
例如，太阳能光伏、柔性显示等领域都对ITO薄膜有着不同程度的需求，为行业带来了新的增长机遇。
四、市场竞争格局1.目前，全球ITO靶材行业竞争激烈，市场竞争主要集中在亚洲地区。
日本、韩国、中国台湾地区等国家和地区是全球主要的ITO靶材生产和出口国家。
2.国内ITO靶材行业主要集中在江苏、浙江、广东等地。
企业主要包括韩国企业LG Chem和韩国SKC、日本企业Mitsui Mining & Smelting等国际知名企业，以及中国企业BOE、京东方、深天马等。
3.虽然国内企业在技术研发和生产能力上有所提升，但与国际领先企业相比，仍存在一定的差距。
因此，未来国内ITO靶材行业需要进一步加强技术创新和产品升级，提升竞争力。
五、发展趋势与前景1.新材料的研发和应用是ITO靶材行业的重要发展方向。
2024年ITO靶材市场环境分析
2024年ITO靶材市场环境分析ITO靶材概述ITO（Indium Tin Oxide）靶材是一种广泛用于平面显示器、触摸屏、光电导设备等领域的导电氧化铟锡薄膜材料。
由于其高透光率和优秀的导电性能，ITO靶材在电子行业中应用广泛。
市场规模及增长趋势根据市场调研，全球ITO靶材市场的规模逐年增长，预计2025年将达到XX亿美元。
主要推动市场增长的因素包括电子设备的持续需求增长和新兴应用领域的发展。
市场竞争格局全球ITO靶材市场存在多家主要供应商，包括美国的XX公司、日本的XX公司和中国的XX公司。
在市场竞争方面，供应商主要通过差异化产品、价值链整合和市场定位等策略来保持竞争优势。
市场驱动因素分析•电子设备需求增长：随着消费电子产品的普及和发展，对ITO靶材的需求也在相应增加。
手机、平板电脑、电视等产品都需要使用ITO靶材来实现触摸操作和显示功能。
•新兴应用领域的发展：除了传统的电子设备市场，ITO靶材在太阳能电池、智能交通系统、智能家居和医疗设备等新兴领域中也得到广泛应用，这些新兴应用领域的发展将进一步推动ITO靶材市场增长。
市场挑战因素分析•材料成本上升：ITO靶材的制造成本较高，其中铟元素的价格较昂贵。
铟的供应量有限，价格波动较大，这对ITO靶材的市场价格和供应链构成了一定的挑战。
•替代技术的崛起：随着技术进步，一些替代ITO靶材的材料和技术逐渐成熟，如氧化铟锌（IZO）薄膜和导电聚合物等，这些替代技术的崛起可能削弱ITO靶材的市场份额。
市场发展趋势分析•高透光率和柔性化要求：随着显示技术的不断发展，市场对ITO靶材的要求越来越高。
未来，ITO靶材需要具备更高的透光率和更好的柔性化特性，以满足新兴产品对显示质量和设计灵活性的要求。
•产业链整合和技术创新：供应商将加强产业链整合，掌握核心技术和资源，以提高产品竞争力。
同时，技术创新也是市场发展的关键，供应商将不断推出新产品和技术解决方案，以满足客户的需求。
氧化铟锡靶
氧化铟锡靶
氧化铟锡靶材（ITO）是一种将氧化铟和锡层结合在一起的新型夹层结构高熔点合金材料。
它具有良好的耐腐蚀性、高熔点和久化抗摩擦性能。
由于其特性，氧化铟锡靶材被广泛应用于电子工业中，可以用于制造各种不同类型的电子元件，如电容器、电阻器等。
这些元件的低摩擦系数、良好的耐腐蚀性和强度使它们能够提高电子元件的可靠性和性能。
在氧化铟锡靶材的制造过程中，主要采用了真空热压法、热等静压法等成型方法。
这些工艺利用了热能和机械能对陶瓷材料进行致密化，从而得到高质量的靶材。
此外，溅射靶材是以高纯金属铟、锡为原料生产的，用于制作透明导电膜。
总的来说，氧化铟锡靶材是一种重要的电子材料，在电子工业中具有广泛的应用前景。
随着科技的不断发展，氧化铟锡靶材的制造工艺和应用领域也将不断拓展和完善。
2024年ITO靶材市场前景分析
2024年ITO靶材市场前景分析摘要本文对ITO（Indium Tin Oxide）靶材市场前景进行了分析。
首先介绍了ITO靶材的基本概念和应用领域。
然后，通过对市场需求、竞争状况、技术发展和政策环境的研究，对ITO靶材市场的前景进行了评估。
最后，提出了一些建议，以促进ITO靶材市场的发展和创新。
1. 引言ITO靶材是一种用于制造透明导电膜的关键材料，广泛应用于电子显示器、液晶显示器、光伏电池、智能手机等领域。
近年来，随着电子设备的快速发展和市场需求的增加，ITO靶材市场也呈现出快速增长的趋势。
2. ITO靶材的应用领域ITO靶材主要应用于以下领域：•电子显示器：包括液晶显示器、有机发光二极管（OLED）显示器等；•光伏电池：用于制造太阳能光伏电池的导电层；•智能手机：用于触摸屏的导电膜等。
3. 市场需求分析ITO靶材市场的需求主要来自于电子设备和光伏电池市场。
随着消费电子市场的扩大和新能源产业的发展，对ITO靶材的需求不断增加。
同时，新兴技术如柔性显示器和可穿戴设备也为ITO靶材市场带来了新的增长点。
4. 竞争状况分析目前，全球ITO靶材市场竞争激烈，主要供应商包括日本的蓝长、美国的JX Nippon Mining & Metals、韩国的ULVAC等公司。
这些公司竞争力强，技术实力雄厚。
此外，新兴市场也涌现出一些本土供应商。
5. 技术发展趋势随着技术的不断进步，ITO靶材逐渐面临一些挑战和机遇。
一方面，随着电子设备的迷你化和柔性化要求的增加，对ITO靶材的性能和稳定性提出了更高的要求；另一方面，新材料和新工艺的出现也给ITO靶材市场带来了新的发展机会。
6. 政策环境分析政策环境对ITO靶材市场的发展有重要影响。
一些国家和地区通过制定相关政策和标准，促进了ITO靶材市场的发展。
例如，中国政府出台了一系列支持新能源产业发展的政策，为ITO靶材市场提供了良好的发展环境。
7. 市场前景评估综合以上分析，ITO靶材市场有望继续保持快速增长的趋势。
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ITO靶材的研究现状与发展趋势引言近年来随着平面显示行业以及平板显示器尺寸大型化，性能优良化的高速发展，要求用于高端平面显示器的高密度靶材，具有生产低成本化、尺寸大形化、成分结构均匀化及高利用率的发展趋势。
因为ITO靶材性能是决定TCO产品质量，生产效率，成品率的关键。
TCO 生产厂商要求生产过程中能够稳定连续地生产出电阻和透过率均匀不波动的导电玻璃，这要求ITO靶性能既优良又稳定。
高端TFT- LCD用ITO靶材均来自日本的东曹、日立、住友、日本能源、三井，韩国三星康宁，美国优美克，德国的贺力士等公司。
日本在高端ITO靶材生产技术方面一直处于领先地位，几乎垄断了大部分TFT液晶市场。
然而，由于国内没有完全打破高密度ITO 靶材生产的技术瓶颈，靶材的产品质量无法满足高端平板显示器的要求，同时我国作为LCD 以及其它需要高密度ITO靶材的平面显示器材的消费大国，国内的平面显示器材所需的高密度ITO靶材几乎全部从国外进口，仅有小批量用于低端液晶产品的生产，难以与国外竞争。
因此，对ITO靶材制备工艺的研究具有十分重要的意义。
ITO靶材简介透明导电薄膜的种类很多，主要有ITO，TCO，AZO等，其中ITO的性能最佳，ITO 具有高的透光率，低电阻率。
目前ITO的制备方法主要是磁控溅射，要获得高质量的ITO 薄膜，制备高密度、高纯度和高均匀性的ITO靶材是关键。
ITO溅射靶的理论密度为7115g/cm3。
优质的成品ITO溅射靶应具有≥99%的相对密度。
这样的靶材才具有较低电阻率、较高导热率及较高的机械强度。
高密度靶可以在温度较低条件下在玻璃基片上溅射，获得较低电阻率和较高透光率的导电薄膜。
甚至可以在有机材料上溅射ITO导电膜。
目前ITO靶材的制备方法主要有热压法、冷等静压-烧结法、热等静压法。
其中热等静压法制备的ITO靶材的质量最高，其相对密度能达到99%以上，但是需要昂贵的设备，制备成本较高，周期较长。
采用冷等静压-烧结法，烧结温度高，保温时间长，制备工艺复杂。
放电等离子烧结(SPS)是在脉冲电流作用下，粉末颗粒间放电，产生瞬间高温进行烧结。
SPS 技术具有快速、低温、高效率等优点。
能在很低的烧结温度下，保温很短的时间制备高密度的材料。
日本新金属学会在二十世纪九十年代初期就把ITO靶材列为高科技金属材料的第一位。
我国在“九五”期间也曾将它作为国家“九五”攻关重点项目进行立项研究，尝试了热压、烧结以及热等静压几种制备方法，但是未能形成大规模的工业化生产。
国外生产的ITO靶材早已投放市场，主要产家有德国Leybold（莱博德）公司、日本Tosoh（东曹）公司、日本Energy（能源公司）、日本Samito（住友）公司以及韩国Samsung（三星）公司。
热等静压法热等静压烧结即可看作是加压下的烧结，同时也可以认为是高温下的压制。
将用于成形的粉料装在塑性包套内，置于高压容器中，容器中的粉料在各个方向大小一致的均匀的压力作用下，获得的坯体均匀性好且密度较高。
从1972年以来，钢铁研究总院对热等静压设备进行了一系列的改进，掌握了高温高压技术，在设备的安全性，稳定性，可靠性上得到美国ASEM标准，并将其更多的运用在新材料的制备上。
由于在高温下热等静压设备需要用气体作为压力介质进行加压烧结，所以靶材不易被还原，同时必须防止气体进入紊坯内，以确保材料致密化的进行。
热等静压烧结可以在相对较低的温度下达到完全致密化，并可得到均匀的各向同性的微观组织结构，还可以加工制备一些其它形状的靶材。
目前国际市场上热等静压法制备的高密度靶材主要是由德国Leybold公司提供。
他们采用气氛烧结法成形方式:模压或等静压以及两者兼用的成形方法。
日本东曹公司采用热等静压方法，此方法制得的ITO靶材的致密度为90％～100％，大多数形成了95％～99％的极高密度的烧结体。
中南工业大学粉末冶金国家重点实验室张树高等利用热等静压技术制备ITO靶材。
但靶材尺寸受设备压力和压缸限制，无法制备大尺寸靶材；设备昂贵，投资成本高；生产效率低，生产成本高，产品竞争力不强。
毕竟在高温氧气氛条件下操作是非常危险的。
限制了热等静压工艺的发展。
真空热压法模压或等静压以及两者兼用的成形方法热压法是利用热能与机械能将靶材致密化的工艺，由于加热过程和加压过程同时进行，有助于粉末颗粒在烧结过程中的扩散接触和流动等传质过程，缩短了烧结周期，并且降低了烧结温度，有效抑制了靶材晶粒尺寸的长大热压法，可大幅度提高靶材的密度。
由于烧结过程中热应力的存在，较大尺寸的靶材坯体易发生开裂，故对热压机压力和温度场的均匀性和稳定性要求极高；由于模具损耗大，且在高温下与靶材容易发生还原反应，所以对模具材料要求较高；靶材微观组织结构均一性差，热压法生产的ITO靶材由于缺氧率高，氧含量分布不均匀，从而影响了生产ITO薄膜的均匀性，且不能生产大尺寸的靶。
日本索尼公司的专利介绍了热压法制备高密度靶材的工艺，其利用模压和等静压复合成形方法获得初坯，将初坯置于烧结炉中，烧结温度为1050℃，压力为110kg/cm2，保温30min，靶材相对密度为98.5%。
美国学者B．I．Gehman在ITO粉中添加微量元素(如A1、Si、Mg 等)，在Ar气中，用石墨模具进行热压，得到一组不同密度的靶材，最高相对密度为96.0％，最低为85.6％。
湖南稀土金属材料研究院采用真空熔铸结合压力加工手段，制备稀土金属及合金溅射靶材，工艺合理，产品质量符合溅射靶材的特性要求，国内外用户反映良好。
目前国内ITO靶材生产厂家普遍采用热压法生产ITO靶材，由于无法克服此方法制备ITO靶材产生的缺陷，生产的ITO靶材尺寸小，晶粒大小不均匀，只能用于建筑玻璃镀膜低端的产品镀膜和冰柜玻璃镀膜等低附加值领域，而且不适于工业化连续生产，成本高。
常压烧结法常压烧结法是采用预压方式(或粉浆浇铸方式)制备高密度的靶材素坯，在一定气氛和温度下对靶材素坯进行烧结，通过对烧结温度和烧结气氛控制，使靶材素坯晶粒的生长得到有效控制，达到靶材的高致密化及晶粒分布的均匀性。
常压烧结法得到的靶材尺寸不受设备限制，生产效率高、设备投入少、生产成本低，产品密度高、缺氧率低，尺寸大，靶材性能优良，适合高端显示器用镀膜靶材性能要求。
但是还有许多技术难点没有被攻克：粉体的纯度、粒度及粉体氧含量的控制；粉末黏结剂的选择及添加、高密度素坯的成型等；烧结气氛及温度的控制；烧结过程中靶材内部缺陷及变形、裂纹等缺陷的控制。
这些技术导致了该法与其它方法相比是最难烧结的方法，要获得致密的烧结体，往往要提高原料粉末的烧结活性或添加烧结助剂。
而活性剂以及烧结助剂很难再从烧结体中去除。
目前日本在常压烧结方面具有很大的技术领先优势，他们采用常压烧结方式制备的ITO 靶已达到第八代，ITO靶材的密度99.5%以上，靶材最大尺寸可达到2200×2500mm以上。
日本新日矿集团的专利中，采用烧结法工艺制备ITO靶材，素坯使用冷等静压工艺，制备ITO靶材。
国内在采用常压烧结法制备靶材尺寸小。
放电等离子烧结法制备ITO靶材放电等离子烧结(SPS)是在脉冲电流作用下，通过样品及间隙的部分电流激活晶粒表面，在孔隙间局部放电，产生等离子体，粉末颗粒表面被活化、发热；同时，通过模具的部分电流加热模具，使模具开始对试样传热，试样温度升高，开始收缩，产生一定密度，并随着温度的升高而增大，直至达到烧结温度后收缩结束，致密度达到最大。
放电等离子烧结(SPS)技术具有在较低温度下实现快速烧结致密材料的特点，与传统烧结方法相比，在降低烧结温度提高致密度的同时，强度和韧性均有所提高。
用SPS来制备高致密度、细晶粒陶瓷，不仅降低了烧结温度和提高了致密度，更主要的是极大地缩短了烧结时间，这对于工业生产来说，在节约能源、提高生产效率方面都有极为重要的意义。
1998年瑞典购进SPS烧结系统，对碳化物、氧化物、生物陶瓷等材料进行了较多的研究工作。
我国从2000年起，武汉理工大学、北京工业大学、清华大学、北京科技大学、中科院上海硅酸盐所等单位也相继引进了日本制造的SPS设备，开展了用SPS技术制备新材料的研究工作，主要用来烧结纳米材料和陶瓷材料。
但是目前关于SPS的烧结机理还存在争议，尤其是烧结的中间过程和现象还有待于深入研究。
武汉理工大学复合新技术国家重点实验室采用单相的ITO复合粉末经放电灯离子烧结法（SPS）快速制备了ITO靶材。
微波烧结制备ITO靶材的工艺微波烧结是利用微波所具有的特殊波段与材料的基本细微结构耦合而产生热量，材料在电磁场中的介质损耗使材料整体加热至烧结温度而实现致密化的方法。
微波烧结具有烧结周期短、能量消耗低以及环境友好等特点，对降低生产成本和能源消耗、以及发展绿色工业意义重大，将其引入到粉末冶金材料的制备前景广阔，潜力巨大，已引起国内外科研工作者和工业界的广泛兴趣，微波烧结技术在硬质合金、陶瓷材料等的制备方面已得到广泛研究和应用。
Bates等报道ITO靶材在空气中烧结相的对密度仅为62%～65%，在纯氧条件下烧结的相对密度有较大提高。
然而，目前微波烧结法制备ITO靶材国内外还鲜有报道，中南大学粉末冶金国家重点实验室与中色东方集团有限公司合作，采用微波烧结法制备ITO靶材，探索烧结温度、烧结时间、压制压力等对ITO靶材相对密度的影响，以期为微波烧结制备ITO靶材的产业化提供一定的实验参数和理论基础。
粉浆浇注成形气氛烧结法粉浆浇注成形技术和气氛烧结技术配合使用制备高密度靶材的工艺是浆料的固相成分由平均粒度小于1μm的混合粉体组成，添加等粘合剂调制浆料，通过浇注成形可得到坯体，先在一定的温度下进行脱粘合剂处理，然后在一定压力纯氧气氛中和一定温度下烧结，制备出高密度ITO靶材。
粉浆浇注成形技术和气氛烧结技术配合使用是兴起的一种靶材制备方法。
粉浆浇注成形技术具有成形所需设备简单、生产成本低、可连续化作业等优势，但粉浆浇注成形过程对粉末性能、浆料性能、模具结构、干燥条件等因素的要求极为苛刻，因为这些因素的改变都会影响到靶材的质量靶材的发展方向是高密度，高均匀性和大尺寸，要做到这些，粉浆浇注成形技术和气氛烧结技术配合使用的方法具有非常明显的优势。
但是日本能源公司专利介绍了这样的高密度靶材，在溅射镀膜过程中可以减少结瘤现象和微电弧的出现。
目前日本在粉浆浇注成形和常压烧结的技术和设备制造方面具有很大的领先优势，制备的高密度靶已达到第八代，靶材尺寸可达到2200mm×2500mm以上，靶材的相对密度高达到99.5%以上，这也是国内目前所努力的方向，西南交通大学采用磁力搅拌悬浮熔炼和粉末烧结技术制备稀土过渡族金属合金靶，一些企业也正在进行这方面的试验，但还没有企业投入实际生产发展趋势。