利用微分代数方法计算实际电子透镜的高阶像差

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华中科技大学 《应用光学》课程——第九章 光学系统的像差

华中科技大学 《应用光学》课程——第九章 光学系统的像差
A′ A0′
L′
-δL′
l′
β— 近轴区垂轴倍率
2. 正弦条件(不晕成像):轴上点及近轴外点均理想成像
不晕成像条件: SC 0,L 0
1 n sinU 1
nsinU
nysinU nysinU (无球差也无正弦差)
y n sinU
y nsinU
a:物在无穷远:
nysinU ny sinU 物有限远的正弦条件
有负球差为“校正不足”, 有正球差为“校正过头”。
5. 光学系统的球差分布公式:

1 2
S
niZ
Z LsinU LsinU
单个折射面的球差表达式
L'
nu sinU nu sinU
L
1 2nu sinU
S
S
单个折射面的球差分布系数
整个系统的球差表达式
Lk
n1u1 sin U1 nk uk sinU k
不晕点
sinU ' sin I n' L sinU sin I ' n L'
不晕透镜(齐明透镜):满足不晕条件
例:设计一齐明透镜,第一面曲率半径r1=-95mm,物点 位于第一面曲率中心,第二面满足齐明条件。若该透镜厚 度d=5mm,折射率n=1.5,该透镜在空气中,求:
1)该透镜第二面的曲率半径;
-U1
A2’
A1
-r1
d
-L1
-L2
-L’2 齐明透镜
L n n r n
s in U 3
s in U1
s in U1 n
n1=1
n2=n
n3=1
-U3
A’2 -U1
A1
d

自动微分法求解粒子光学像差的精度分析

自动微分法求解粒子光学像差的精度分析
中用高斯轨迹取代实际轨迹引入的误差, 能够满足高性能粒子光学设计的实际需要。
关 键 词: 自 动微分;误差分析;有限元素法;样条函数
中图分类号: TN305 .7 文献标识码:A
1
引言
随着 ULS 规模的扩大和 MEMS 的兴起, I 电子 束光刻技术和离子束加工技术得到了很大的发
展川, 对带电粒子聚焦系统的性能提出了更高 所以
类推, 得出任意高阶微分。像差分析是电子光学数 值计算的重点, 可用传递映射的概念来描述 r。 二 m( r。占 其中, 是粒子轨迹的末坐标(包括位置 ,)。 ri 和斜率) , 是粒子的初始坐标, r。 舀是系统的参数, a l / a r 对应像差,m/ 汾 称之为灵敏度。除非极 n a 其简单的情况, 传递映射一般是无法写出其解析式 的。 通常将 m 沿一条“ 参考轨迹” 展开为泰勒级数。 线性项称之为(一阶) 高斯光学性质, 三次方项称为 三阶像差, 依次类推, 映射展开的阶数越高, 越精确, 但推导的复杂度也会急剧增大。 然而根据自 动微分
M 分 为 性 大 数 角 大 数,凡二/ 了 。别 线 放 倍 和 放 倍
ar。 ) 式中 , (3 各系数与传统计算的像差系 6 之间 数t ]
的对应关系 列于表 1。因为在传统像差计算中, 实际 轨迹是用高斯轨迹来近似的, 所以采用自 动微分技 术进行光学计算可以消除由高斯轨迹取代实际轨迹
所引起的偏差。
第4 期
2( 7 年 8 月 ) X
微细加工技术
MICR OFA BR ICAT I O N T EC H NO LOGY
南 .4
Aug二 X 7 2( )
文章编号: 10 3一 3(2( 7)体 0 3吞 0 82 1 ) X 以

利用微分代数方法计算实际电子透镜的高阶像差

利用微分代数方法计算实际电子透镜的高阶像差

432
真 空 科 学 与 技 术 学 报
第 25 卷
有解析解 ,其电磁场量的分布只能是通过数值计算 得到的 、 有一系列离散点上的场量构成的数组 。在 本文中 ,我们研究将本组的电子光学微分代数计算 方法和计算软件扩展到应用于以离散数组表达的电 磁场分布的工程实际问题 , 实现实际电子光学系统 的特性包括高阶像差的精确计算 。
f = f0 +
“无穷小” 量有一个重要的性质就是 “幂零” 性 , 对于 nDv 中的 “无穷小量” 求高于 n 次幂 , 其结果为零 , 公式表示为 :
( 0 , q2 , …, qN )
m
= ( 0 , 0 , …, 0) 当 m > n 时 ( 9)
数学基本函数 ( 例如三角函数 , 指数函数 , 对数 函数等) 都可以通过级数展开推广到微分代数中 , 而 且由于微分代数中的 “无穷小” 的幂零性 , 只需将级 数展开有限项即可 , 而不会有截断误差和舍入误差 。 例如 :
( 11)
( a1 + b1 , a2 + b2 , …, aN + bN )
( a1 , a2 , …, aN ) = ( t ・ t・ a1 , t ・ a2 , …, t ・ aN ) ( a1 , a2 , …, aN ) ・ ( b1 , b2 , …, bN ) = ( c1 , c2 , …, cN ) ( 3) t 为任意实数 , 系数 c I 为 : c I = FI ・
Keywords Different algebra ,Electron lenses ,High order aberrations 摘要 微分代数是计算机数值分析领域中的一个非常有效的新方法 ,它以非标准分析理论为基础 ,可以方便地实现任意 高阶微分的运算 。利用微分代数扩展数的映射关系 ,可以非常有效地处理一些困难的非线性动力学问题 [1 ] ,包括电子光学的 高阶像差问题 。但是 ,已有的研究限于电子光学系统的电磁场具有解析表达式的情形 。本文根据微分代数的基本原理 ,将其 用于实际电子光学聚焦系统高阶像差的数值模拟和计算 , 计算了电子透镜的五阶几何像差 。这些电子透镜的电场及磁场的 分布 ,是根据实用的 FEM 或 FDM 等数值方法的计算结果 ,以数组形式给出的 。因而这一计算方法可以应用于工程的设计计 算问题 。编写了相关的计算软件 ,该软件的界面可以方便地应用于实际的电子透镜系统的高阶像差计算 。对于一个电磁透 镜例的计算结果表明 ,这一计算方法具有足够高的精确度 , 其精度仅受限于机器精度和算法误差 , 完全可以满足工程计算的 需要 。

真空电子技术

真空电子技术

序化转变的最佳热处理温度在400—500℃,在这个热处理温度范围内,薄膜软硬磁耦合较好,矫顽力适当(306kA/m),晶粒尺寸约为10nm,适合于做高密度磁记录介质材料。

图5表0参10TM2732006060103纳米软、硬磁性晶粒间的交换耦合及其有效各向异性/韩广兵,高汝伟,冯维存,刘汉强,白岗(山东大学物理与微电子学院)//功能材料与器件学报.―2005,11(4).―401~405.以软磁性相α-Fe和硬磁性相Nd2Fe14B为例,研究了软、硬磁性晶粒间的交换耦合作用和有效各向异性常数〈K sh〉随晶粒尺寸的变化关系。

由于晶粒间的交换耦合作用,晶粒可分为晶粒内部无界面交换耦合作用影响和晶粒表面有界面交换耦合作用影响两部分,其各向异性常数为两部分的统计平均值。

计算结果表明:对固定的软磁性晶粒尺寸D s,〈K sh〉随硬磁性晶粒尺寸D h一致增加;对固定的D h,〈K sh〉随D s一致减小。

为使软、硬磁性晶粒间的有效各向异性常数K o ff。

保持较高的值,应控制硬磁性晶粒大于35nm,软磁性晶粒在10nm左右。

图4表0参12TM2772006060104 C o2+对C o x Fe3-x O4铁氧体结构与磁特性的影响/焦永芳,李锐,刘钧,方庆清(安徽大学物理与材料科学学院)//功能材料与器件学报.―2005,11(4).―481~484.采用化学共沉法制备了纳米尺度的钴铁氧体Co x Fe3-x O4(x=0.2~1.0)粉料,并在1260—1340℃温度下进行了退火处理,利用X射线衍射仪(XRD)、振动样品磁强计(VSM)对样品的结构和磁性进行了测量和分析。

实验结果表明,当钴含量高(x≥0.7)时样品形成了单一的具有尖晶石结构的钴铁氧体,而钴含量x<0.7时样品生成了尖晶石结构的钴铁氧体相和仪α-Fe2O3相Co x Fe3-x O4的比饱和磁化强度σs随x的增加呈现出了先增后减的趋势,在x=0.8时出现峰值;x=0.5~0.8范围内,矫顽力H c随钴含量的增加有所下降,随后迅速增加,在x=1.0附近能同时得到较大的σs和H c值。

第六章 像差计算

第六章  像差计算

第六章像差计算6.1 光学系统的像差这里将提供像差的数值计算。

掌握各种像差的基本概念.特别是初级像差。

以及各种表面和薄透镜的三级像差贡献。

光学计算通常要求6位有效数字的精度,这取决于光学系统的复杂程度、仪器精度和应用的领域。

三角函数应在小数点后面取6位数,这相当于0.2弧秒。

这样的精度基本上满足了绝大多数使用要求。

当然,结构尺寸较大的衍射极限光学系统要求的精度比这还要向些。

光学计算所花费的时间明显地取决于设计者的技巧和所使用的计算设备的先进程度。

计算技术发展到今天,就是使用普通的个人计算机,光学计算所需的时间也已经很少了。

但要对一个复杂的系统进行优化设计,特别是全局优化设计时.还是要花费一定的时间的。

关于如何进行光学设计,一直有两种观点。

一种观点主张以像差理论为基础,根据对光学系统的质量要求,用像差表达式,特别是用三级像差表达式来求解光学系统的初始结构,然后计算光线并求出像差,对其结果进行分析。

如果不尽人意,那么就要在像差理论的指导下,利用校正像差的手段(弯曲半径,更换玻璃、改变光焦度分配等),进行像差平衡,直到获得满意的结果。

如果最后得不到满意的结果,那么就要重新利用像差理论求解初始结构,而后再重复上述的过程,直到取得满意的结果。

另一种观点是从现存的光学系统的结构中找寻适合于使用要求的结构,这可从专利或文献中查找,然后计算光线,分析像差,采用弯曲半径,增加或减少透镜个数等校正像差的手段,消除和平衡像差,直到获得满意的结果。

对于常规物镜,如Cooke三片,双高斯、匹兹瓦尔物镜等.常采用这种方法。

这种方法需要计算大量的光线(计算机发展到今天。

这已不成问题),同时需要光学设计者有较丰富的设计经历和经验.以便对设计结果进行评价。

通常我们可以把二者结合起来,以像差理论为指导,进行像差平衡。

特别是计算机发展到今天,光学计算已经不是干扰光学设计者的问题了。

对于常规镜头,通常不再需要像以前那样从求解初始结构开始,而是根据技术指标和使用要求、从光学系统数据库或专利目录中找出合适的结构,然后进行计算和分析。

6光线的光路计算及像

6光线的光路计算及像

球差是入射高度h1或孔径角U1的函数,球差随h1或U1的变化 规律,可以由h1或U1的幂级数表示。由于球差具有轴对称性, 当h1或U1变号时,球差δL′不变,级数展开时不存在h1或U1 奇次项;当h1或U1为零时,像方截距L′ = l ′,即δL′ = 0, 所 以展开式中没有常数项;球差是轴上点像差,与视场无关, 所以展开式中无y或ω项,所以球差可以表示为:
波动光学:波像差; 波动光学:波像差; 研究像差的目的: 研究像差的目的: 根据光学系统的作用和接收器的特性把影响像质的主要像差校正到 某一公差范围内,使接收器不能察觉,即认为像质是满意的。 某一公差范围内,使接收器不能察觉,即认为像质是满意的。
6.1.2 像差计算的谱线选择
单色像差: 对光能接收器最灵敏的谱线校正单色像差; 单色像差: 对光能接收器最灵敏的谱线校正单色像差; 色差: 对光能接收器所能接收的波段范围两边缘附近的谱线校正色差; 色差: 对光能接收器所能接收的波段范围两边缘附近的谱线校正色差; 匹配: 光源、光学系统材料、接收器的光谱特性; 匹配: 光源、光学系统材料、接收器的光谱特性; 目视光学系统(人眼观察用) 目视光学系统(人眼观察用) 单色像差: 光 接近(555) 单色像差:D光(589.3) e光(546.1) →接近 光 色差: 光 色差:F光(486.1) C光(656.3) 光 普通照相系统(照相底片) 单色像差: 光 普通照相系统(照相底片) 单色像差:F光 色差: 光 色差:D光,G’光(434.1) 光 近红外、 近红外、近紫外光学系统 激光系统: 只校准单色像差(用照明光源),不校准色差, ),不校准色差 激光系统: 只校准单色像差(用照明光源),不校准色差,因单色 光照明。 光照明。
6.1.3 像差成因

三级像差理论与计算

6 Third-Order Aberration Theory and Calculation•初级像差、高级像差•两条近轴光线•轴上点近轴光线(第一近轴光线)•近轴主光线(第二近轴光线)一、光线追迹公式•初始数据确定•折射•转面(过渡)•终结公式•傍轴光线、子午光线•空间光线(球面、非球面)•细光束(科丁顿方程)傍轴光线•初始数据确定•给定y和u,或•折射•转面(过渡)•终结公式•非球面•二次圆锥曲面二、像差计算公式/l•已知:入瞳(尺寸、位置)Array球差••彗差•正弦差(OSC)•在光轴附近的区域•正弦差——小视场宽光束的不对称性(彗差)的量度•畸变•位置色差•d光(0.5876μm)•C光(0.6563μm)F光(0.4861μm)•二级光谱•色球差•Rayleigh criterion•An image will be “sensibly”perfect if there exists not more than one-quarter wavelength difference in optical path over the wave front with reference to a sphere centered at the selected image point.•波面和参考球面之最大差别不超过λ/4时,此波面可看作是无缺陷的。

三、三级像差——面分布•轴上点近轴光线(第一近轴光线)•近轴主光线(第二近轴光线)•对每一个面:•横向像差与轴向像差的转换•赛得(Seidel)系数•三级像差的面分布•非球面的三级像差•等效曲率•等效四阶变形系数•等效球面的贡献(C)e•等效四阶变形系数的贡献(K)四、三级像差分布——薄透镜、光阑移动•光阑移动方程(y≠0)p•光阑与薄透镜重合(y=0 )p•轴向像差•三级像差表达式。

电显讲义


y
场曲像散形成的弧矢弯曲面S, 高斯像平面上由场曲像 子午弯曲面T,平均弯曲面D 散形成的散射图
电子透镜的像差
7. 彗差
电子 透镜
由于场对电子的会聚作用与径向距离并不是理想的线性成正比,从物点发出 的锥形电子束中孔径角不同的电子,通过透镜场对应于不同的焦距,从而形成半 径不等的散射圆斑,其全部散射圆斑的叠加形成彗差
离轴较远 电子轨迹
2R P0 物 光阑 近轴电 子轨迹
Δz
高斯 像面
0
i
P1 2r
P2
z
2rmin
2rS
球差形成的 最小弥散圆
球差(球面像差)
(1)横向球差
离轴较远 电子轨迹 近轴电 子轨迹
Δz
电子 透镜
高斯 像面
球差使得物平面上的一个物点, 在高斯像面上的原理想像点形成了 2R 一个半径为△rS的弥散圆
七、电子透镜的像差
1.像差分类
几何像差 球差 像散 畸变 彗差 场曲
电子 透镜
像差 色差
七、电子透镜的像差
2. 几何像差的来源
电子 透镜
由于实际轨迹不可能完全理想地满足傍轴条件,因此实际形成的像 总是和理想高斯像有一定的差别,这种差别称为几何像差
几何像差主要是由于非旁轴电子参于成像和透镜场的非完全轴对称 而引起的像差。实际上,由于参与成像的所有旁轴电子中,各个电子在 场中的离轴距离总存在着一定的差别,也会产生一定的像差
y Δf x 2α0
0
透镜 2αi
Δf/2 z
za
电子透镜的轴上像散
zb1

zb2
电子透镜的像差
Δf
像散
Δf/2
散射圆斑半径:

第三章 像差

C光:656.3nm(红) D光:589.3nm(黄) F光:486.1nm(青)
′ ′ ′ ∆LFC = LF − LC
二级光谱
F光与C光在0.707带校正色差; 二级光谱:在0.707带上,与D光的轴向距 离 二级光谱校正很困难,一般系统不要求 校正; 高倍显微物镜、天文望远镜、平行光管 应该校正二级光谱。
像差基本概念之三
完善成象的条件是苛刻的。在实际工程中,满足等光程、 满足完善成象条件是很困难的。数学推导得出光学透镜表面是一 个4次曲线方程,将该曲线绕光轴旋转得到卵形曲面。它的加工是 十分困难的。 在非完善成象的情况下,成象光束不再是同心光束,得到 的象点为一个弥散斑。
像差基本概念之四
实际的光学系统的透镜大多是由球面构成 非球面光学加工的复杂性和高难度,相对来说, 球面的加工则容易得多,所以,一般光学系统都用球 面来代替非球面,只有在特殊要求的情况下,才采用 非球面。 采用非球面的情况: ⑴ 航天领域 ⑵ 高科技领域 ⑶ 能够采用模压镜片的场合(批量生产)
δy′ = y′ − y′ z z
q′ =
δy′
y′
畸变的形式
a,平面物体 正畸变, b,正畸变,枕形畸变 负畸变, c,负畸变,桶形畸变
畸变的影响
畸变不影响系统的成像清晰度 畸变影响成像点的位置 对测量系统需要严格控制畸变,如航空 摄影机、航空胶片放大机、图像判读仪 等 畸变的事后数据处理
畸变的校正
1.
2. 3.
同时满足光阑位置的正弦条件和角 倍率的正切条件,但这是不可能的; 倍率的正切条件,但这是不可能的; β= -1 的对称系统; 的对称系统; 计算机校正
对畸变要求高的光学系统
投影物镜: (幻灯机、投影仪、放映机、判读仪、 工具显微镜等) 航空摄影物镜(作测量用) 大视场摄影物镜(大象差系统)

什么是电子光学中的像差

什么是电子光学中的像差?請問﹐什么是電鏡的像差﹐由什么構成的﹐由什么造成的﹐如何消減?這個問題像是很枯燥﹐其實不然﹗這是我的老師問我的第一個問題﹐當時我想COPY電鏡書籍就是了嗎﹐我錯了﹗最近讀到FEI公司湯棟博士的一篇關於這個話題的文章﹐精彩至極。

請大家捧場﹐我也會受益匪淺呦1.它来源于电镜的电磁透镜的缺陷;分为球面像差、色差、轴上像差、衍射像差跟影像畸变等等。

(您誤會了﹐我問的是像差(ABERATION)﹐不是像散(ASTIGMISIAM)。

)像散是像差之一吧?(球差和色差像是最主要的﹐他們是怎麼產生的呢﹐那個對電鏡影響更大呢﹐)嗯,是几何像差之一。

(應該不是﹗象您所講﹐像差是電磁透鏡的先天不足﹐只能消減﹐不能消除﹐而像散是後天不足﹐是可以消除的。

)几何像差里面只有球差是不可消除的吧?(我覺得不是﹗色差可以用單色器矯正發射源﹐但一下到鏡筒裡就又不一樣了。

)可是几何像差里面不包含色差吧?“(應該不包含﹐電子被加速電壓下到鏡筒裡﹐隨著距離的增大﹐每個電子所受到的高壓又有變化﹐導致波長的不同﹐所以色差又會變壞﹐所以說高壓越高﹐色差影響就越小﹐這也是為什么在TEM上消減像差較SEM容易的多的原因。

)电子束在通过电磁透镜的情况不尽一样,被偏折的情况也就一样,到达观测点时便可能出现焦点不一的模糊现象,这就是像差。

”这是在网上找的一个光学像差的概念根据自己的理解修改的,请指教!(這應該就是球差了﹐那么色差呢﹐如何消減呢)(很到位啊,焦点不一可以因为透镜的折射能力不一或者因为光源的波长不一导致。

)色差是因为电压不能一尽相同而使电子束中电子的波长不尽一致,而电磁透镜对不同波长电子的偏折程度不同而造成的。

用稳压装置来使电压稳定,尽量产生单色电子束;在一定情况下缩小SPOTSIZE应该也可以一定程度的减小球差,但如果SPOTSIZE太小或观察样品太小,很可能会引起另外的像差:衍射像差。

(精彩﹗消減色差可以在發射源採用穩壓單色器﹐儘量提高加速電壓﹐還有儘量採用高質量的發射源﹐即使是鎢燈絲的﹐質量也有很大差別﹐不是聳人聽聞。

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真 空 科 学 与 技 术 学 报
第 25 卷
有解析解 ,其电磁场量的分布只能是通过数值计算 得到的 、 有一系列离散点上的场量构成的数组 。在 本文中 ,我们研究将本组的电子光学微分代数计算 方法和计算软件扩展到应用于以离散数组表达的电 磁场分布的工程实际问题 , 实现实际电子光学系统 的特性包括高阶像差的精确计算 。
Kang Y ongfeng ,Tang Tianton School of Electronic and Information Engineering , Xi ’ an Jiaotong University , Xi ’ an , 710049 , China)
第 25 卷 第6期 真 空 科 学 与 技 术 学 报 2005 年 11 、 12 月 JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY( CHINA) 431
利用微分代数方法计算实际电子透镜的高阶像差

aJ ・ bK , I = 1 , 2 , …, N FJ ・ Fk
( 4)
I
偏微算子 9j 也能在 nDv 中定义 : 9j ( a1 , a2 , …aN ) = ( d1 , d2 , …dN ) ( j = 1 , 2 , …, v)
( 5)
其中
d I ( I = 1 , 2 , …, N ) =
rd in engineering calculation and design of the realistic lenses. Our simulated results of the 3 and 5th order aberration show a rather high accura2
cy ,which is only limited by mechanical precision and arithmetic errors ,and which is good enough for engineering purposes.
0 ≤J , K ≤N M ・ M = M
J K
其中 rf 是粒子轨迹的末坐标 ( 包括位置和斜率 ) , ri 9R 是粒子的初始坐标 ,δ 代表系统的参量 。 δ 称之 9 为系统的灵敏度 。一般来说 , 传递映射无法写出解 析形式 , 通常将 R 沿着一条参考轨迹展开为泰勒级 数 , 线性项称之为一阶高斯光学性质 , 三次方项称之 为三阶像差 , 依此类推 。随着映射展开的阶数越高 , 映射求解越精确 , 求解的复杂度也急剧增大 , 甚至到 了难以使用的程度 。而根据微分代数的原理可知 , 它可以不推导像差的具体表达形式 , 而只要计算一 条 “参考轨迹” , 就可以自动得出系统的高斯光学性 质和各阶像差系数的大小 , 其复杂程度完全与计算 阶数无关 , 并且没有截断误差 , 计算精度仅受限于机
=
( a1 > 0)
log ( a1 ) +
i =1

( - 1)
i +1
1
i
i
0,
( 10)
2 微分代数方法在实际电子光学系统特性
以及高阶像差分析中的应用
任何一个带电粒子光学系统的聚焦和成像系统 等性质均可用一个传递映射来描述 ,表示为 : ) rf = R ( ri ,δ
( 9b) ( 7) 9 ( a・ b) = ( 9a) ・ b + a・ 任意实数 r 在 nDv 结构中表示为 ( r , 0 , …, 0 ) , 在微 分代数中存在一系列第一个分量为 0 , 而以后各分
量不全为 0 的 DA 矢量 ( 0 , q2 , …, qN ) , 它们满足 : ( 0 , 0 , …, 0) < ( 0 , q2 , …, qN ) < ( r , 0 , …, 0) 当 r > 0 时 ( 8) 因此 ( 0 , q2 , …, qN ) 在 0 和任意实数之间 , 也就是说 ,
( 11)
( a1 + b1 , a2 + b2 , …, aN + bN )
( a1 , a2 , …, aN ) = ( t ・ t・ a1 , t ・ a2 , …, t ・ aN ) ( a1 , a2 , …, aN ) ・ ( b1 , b2 , …, bN ) = ( c1 , c2 , …, cN ) ( 3) t 为任意实数 , 系数 c I 为 : c I = FI ・
( a1 , a2 , …, aN ) + ( b1 , b2 , …, bN ) =
a2 a3 aN , , …, a1 a1 a1
i +1
=
i
log ( a1 ) +
i =1

n
( - 1)
1
i
0,
a2 a3 aN , , …, a1 a1 a1 a2 a3 aN , , …, a1 a1 a1
Keywords Different algebra ,Electron lenses ,High order aberrations 摘要 微分代数是计算机数值分析领域中的一个非常有效的新方法 ,它以非标准分析理论为基础 ,可以方便地实现任意 高阶微分的运算 。利用微分代数扩展数的映射关系 ,可以非常有效地处理一些困难的非线性动力学问题 [1 ] ,包括电子光学的 高阶像差问题 。但是 ,已有的研究限于电子光学系统的电磁场具有解析表达式的情形 。本文根据微分代数的基本原理 ,将其 用于实际电子光学聚焦系统高阶像差的数值模拟和计算 , 计算了电子透镜的五阶几何像差 。这些电子透镜的电场及磁场的 分布 ,是根据实用的 FEM 或 FDM 等数值方法的计算结果 ,以数组形式给出的 。因而这一计算方法可以应用于工程的设计计 算问题 。编写了相关的计算软件 ,该软件的界面可以方便地应用于实际的电子透镜系统的高阶像差计算 。对于一个电磁透 镜例的计算结果表明 ,这一计算方法具有足够高的精确度 , 其精度仅受限于机器精度和算法误差 , 完全可以满足工程计算的 需要 。
Abstract Differential algebra has been successfully modified and applied to numerical calculation and simulation of high order aberra 2
tions of a set of electron lenses with the electric and/ or magnetic field distributions ,which are given as discrete numerical arrays ,highly close to realistic and well recognized in finite element method( FEM) and finite differential method ( FDM) . The software package developed works well
( 0 , q2 , …, qN ) 是 “无穷小量” 或称之为 “微分” 量。
1 微分代数原理
微分代数是以非标准分析和简正技术理论为基 础的 ,非标准分析的独特性之一就是在分析理论中 引入了无穷小量和无穷大量 。 对于有 v 个变量 x1 , x 2 , …, xv 的任意一个光滑 函数 f ( x1 , x 2 , …, xv ) , 其 0~ n 阶导数在微分代数中 可用 nDv 结构来表示 , 这些导数以特定的顺序排列 , 记为 DA 矢量 a = ( a1 , a2 , …, aN ) 。根据级数理论 , 一个函数在某点附近可级数展开为 :
0 若 M I 为 n 次单项式
aj 若 M I 为低于 n 次单项式 ( 6)
可以证明 , 9j 运算满足微分算子的乘法规则 :
第6期
康永锋等 : 利用微分代数方法计算实际电子透镜的高阶像差
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器精度 。因此用微分代数方法来求解传递函数 , 进 而求解高斯性质和像差 , 将是一个非常好的方法 。 通过传递映射的概念 , 我们把表征粒子的坐标 x , y 和其斜率 x′ , y′ 四个变量令为微分代数量 。本 文中 , 我们构造微分代数变量结构 nD4 。在该结构 中 , 求解研究的带电粒子光学系统的传递映射 , 这样 就可以得到初始位置 ( x 0 , y 0 , x′ 0 , y′ 0 ) 和所考虑的高 斯平面所在位置 ( xf , yf , x′ f , y′ f ) 之间的传递关系 , 这 样结果就可以表示为 :
收稿日期 :2005207215 基金项目 : 教育部博士点基金资助项目 (No. 20020698020) 3 联系人 : 博士生 ,E2mail :yfkang @mail . xjtu. edu. cn , Tel :13193393687
赖所研究的像差阶数的高低 , 并且数值计算结果没 有截断误差 ,计算精度仅受限与机器精度 。因此使 用微分代数方法来计算电子光学的高阶像差 , 是一 个很好的解决方案 。 过去的研究已经实现了电子光学系统特性包括 高阶像差的微分代数计算 [2~4 ] 。由于在微分代数运 算中 ,电磁场参量本身也是一种微分代数扩展数 ,为 了简化有关微分代数算法 ,在上述工作中 ,研究的电 子光学系统不得不限于其电场和磁场能够使用解析 表达式的问题 。 但是 ,在实际的工程问题中 ,电磁场一般不可能
康永锋 3 唐天同 郭小立 任 岩
( 西安交通大学电子与信息工程学院 西安 710049)
Application of Differential Algebra to Calculation of High Order Aberration of Realistic Electron Lenses
f = f0 +
“无穷小” 量有一个重要的性质就是 “幂零” 性 , 对于 nDv 中的 “无穷小量” 求高于 n 次幂 , 其结果为零 , 公式表示为 :
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