半导体物理_第六章_pn结

合集下载

半导体物理基础(6)PN结

半导体物理基础(6)PN结
外加电场与内建电场方向相反,削弱了内建电场,因而使势 垒两端的电势差由VD减小为(VD-Vf),相应地势垒区变薄。
XD
VD
(
q
2 r
0
)(
NA ND NAND
)
由于电场作用而使非平衡载流子进入半导体的过程称为-电注入
np0
nn0
Space charge region
Diffusion region
1. Alloyed Junctions (合金结)
合金温度
降温再结晶
2. Diffused Junctions (扩散结)
Conceptual example of the use of photolithography to form a pn junction diode.
3. Ion Implantation (离子注入)
p x pn0e k0T
I-V characteristic of a p-n junction
现假设:
1. 势垒区的自由载流子全部耗尽,并忽略势垒区中 载流子的产生和复合。
2. 小注入:注入的少数载流子浓度远小于半导体中 的多数载流子浓度。在注入时,扩散区的漂移电场 可忽略。
(1) 正向偏置 ( Forward bias)
刚接触,扩散》漂移
内建电场
漂移 扩散=漂移
(达到动态平衡)
漂移运动
P型半导体
---- - - ---- - - ---- - - ---- - -
内电场E N型半导体 + +++++ + +++++ + +++++ + +++++

半导体物理基础(6)PN结

半导体物理基础(6)PN结

n p
U max
N t Cni (e 2(e
qV k 0T
1)
qV 2 k 0T
1)
空间电荷区的产生电流
J G qGXD
N t C (np ni2 ) U Et Ei n p 2ni ch kT 0
qni X D 2
Et Ei
ni n, p
ni U 2
ni G 2
大注入 扩散区产生内建电场
注入p+-n结的n侧的空穴及其所造成的电子分布
p-n结的直流伏-安特性表明: 1. 具有单向导电性。 2. 具有可变电阻性。 p-n结的交流特性表明: p-n结还具有可变电容的性质 特别是在高频运用时,这个电容效应更为显著。
4. Epitaxial Growth (延生长) 外延(简称Epi)工艺是指在单晶衬底上生长
一层跟衬底具有相同晶格排列的单晶材料
方法: 分子束外延(MBE) 超高真空化学气相沉积(UHV/CVD)
常压及减压外延(ATM & RP Epi)
缓变结与突变结
(平衡状态下的结) 1 空间电荷区(Space charge region)的形成
J Jn J p
考虑-xp截面:
J J n ( xP ) J P ( xP )
忽略了势垒区载流子的产生和复合:
J J n ( xP ) J P ( xn )
Dp dpx J p ( x) qDp q px dx Lp
J p xn q
Dp Lp
2
1
3
其中 :
刚接触,扩散》漂移
内建电场
漂移
扩散=漂移
(达到动态平衡)

半导体物理 第六章 PN结

半导体物理 第六章  PN结
主要内容:
1、非平衡PN结能带图 2、PN结电流电压方程
1、非平衡PN结
(1)PN 结正偏、反偏
• 平衡PN结
P
N
• 正偏PN结
P
N
• 反偏PN结
P
N
哈尔滨工业大学微电子科学与技术系
(2)非平衡PN能带图
EC
E
n F
空穴 EFP
能量 EV
qVD q(VD-V)
E
p F
电子
EC
能量
EFn
EV
EC
空穴 EFP
扩散电容:
(2)突变结势垒电容
CTA2(NA r 0 N qD)A N V N (D DV)AX rD 0
XD
2r0(NAND)V (DV) qN AND
(3)线性缓变结势垒电容
CT
A3
qjr202 12(VDV)
r0A XD
XD
3
12r0(VD qj
V)
(4)扩散电容
CDa2q(np0Lnk 0Tpn0Lp)exk q p 0TV
x
x
qVD ECn EFn
电子 能量
EVn
哈尔滨工业大学微电子科学与技术系
• 本征费米能级 Ei 随位置 x 的变化
dEi qdV(x)
dx
dx
(3)平衡PN结的载流子分布
n ( xP) n n 0 exp
xp
qV
( x ) qV
k
xn
0
TN
D
ห้องสมุดไป่ตู้
pp0
p(x)
p n 0 expn(x )qV
§6.1 PN结及其能带图
P-N Junction and its energy band diagram

半导体物理学第6章(pn结)

半导体物理学第6章(pn结)

Ei Ev
Ec Ei
Silicon (n-type)
Ef
Ev
热平衡条件
内建电势
内建电势
PN结的内建电 势决定于掺杂 浓度ND、NA、 材料禁带宽度 以及工作温度
③接触电势差: ♦ pn结的势垒高度—eVD 接触电势差—VD ♦ 对非简并半导体,饱和电离近似,接触 电势为:
kT nn 0 kT N D N A VD ln ln 2 e np0 e ni


④ 内部电场——由空间电荷区(即PN结的交界面两侧 的带有相反极性的离子电荷)将形成由N区指向P区的电 场E,这一内部电场的作用是阻挡多子的扩散,加速少子 的漂移。
⑤ 耗尽层——在无外电场或外激发因素时,PN结处于 动态平衡没有电流,内部电场E为恒定值,这时空间电荷 区内没有载流子,故称为耗尽层。
准中性区载流子浓度
理想二极管方程
求解过程
准中性区少子扩
散方程 求Jp(xn) 求Jn(-xp) J= Jp(xn)+ Jn(-xp)
理想二极管方程(1)
新的坐标:
d pn pn 0 Dp 2 dx' p
2
-xp
xn
x
X’
边界条件:
0
pn ( x' ) 0 ni2 qVA / kT pn ( x' 0) e 1 ND
图629正向电流一开始就随正向电压的增加而迅速上升达到一个极大峰值电流i随后电压增加电流反而减少达到一个极小谷值电流i当电压大于谷值电压后电流又随电压而上升图6270点平衡pn结1点正向电流迅速上升2点电流达到峰值3点隧道电流减少出现负阻4点隧道电流等5点反向电流随反向电压的增加而迅速增适当波长的光照射到非均匀半导体上由于内建场的作用半导体内部可以产生电动势光生电压光生伏特效应是内建场引起的光电效应

微电子学 半导体物理学 第六章pn结

微电子学 半导体物理学 第六章pn结

(N
2 x 2 + N D xn ) A p
x D = xn + x p N A x p = N D xn
NA ND xn = xD x p = xD NA + ND NA + ND
1/ 2
1/ 2
2ε 0ε r 2ε ε N + N D 代入 VD 得 x D = 0 r A VD = qN VD N AN D q eff q2 N A (x + x p )2 (-xp<x<0) EC ( x ) = EC ( p ) − 2ε 0ε r q2 N D ( x − xn )2 − 2011 EC ( x ) = E复旦大学半导体物理 -qV D (0<x<xn) + C ( p) 2ε 0ε r
复旦大学半导体物理 - 2011
14
平衡时的费米能级
J n = J n扩 + J n漂 = 0
dn 0 J n = qn 0 µ n E + qDn dx
dn0 1 dEi 1 dE F = − n0 + n0 dx k BT dx k BT dx dV ( x ) 1 dEi E=− = dx q dx
NDNA越大,VD越大;Eg越大,ni越小,VD越大。 NA=1017cm-3, ND=1015cm-3, Si的VD=0.70V. 复旦大学半导体物理 - 2011
17
平衡时,
qVD = Ecp − Ecn = E g + ( EFn − Ec ) + ( Ev − EFp )
对于非简并半导体,势垒高度会大于禁带宽度Eg吗?
耗尽层近似
从N区到P区,随着电子势能的升高,电子浓度 迅速下降,由于Vd(~1V),在势垒区的大部 分范围内,电子极为稀少,可视为电子耗尽, N侧空间电荷区的电荷基本是由电离施主贡献 的。同理,P侧空间电荷区的电荷有电离受主 贡献。 认为,在空间电荷区载流子被耗尽了

半导体物理_第6章_pn结

半导体物理_第6章_pn结

+ + + + + + + + + + + +
+ + + + + +
n型半导体
空间电荷区, 也称耗尽层。
扩散运动
扩散的结果是使空间 电荷区逐渐加宽。
5
注意:
1、空间电荷区中没有载流子。 2、空间电荷区中内电场阻碍p区中的空穴、n 区中的电子(都是多子)向对方运动(扩 散运动)。
3 、 p 区中的电子和 n 区中的空穴(都是少 子),数量有限,因此由它们形成的电流 很小。

qVD k 0T
加正向偏置V后,结电压为(VD-Vf),
n p x p nn0e



q (V D V f ) k0T
qV f
n p0e
k0T
p n xn p p 0 e

q (VD V f ) k 0T
qV f
pn 0 e
k 0T
在xp处注入的非平衡电子浓度为:
2
d 2 pn p x Dp 0 2 dx p
x x p x A exp( ) B exp( ) Lp Lp
p x pno [exp( qV f k0T xn x ) Lp
) 1]exp(
Jp
Dp dpx qDp q px dx Lp
D1,D2是积分常数,由边界条件确定。设p型中性 区的电势为零,则在热平衡条件下边界条件为: 代入有:
V1(xp ) 0,V2 (xn ) VD
2 qN D xn D1 , D2 VD 2 r 0 2 r 0

半导体物理第六章习题答案

半导体物理第六章习题答案

第6章 p-n 结1、一个Ge 突变结的p 区n 区掺杂浓度分别为N A =1017cm -3和N D =5´1015cm -3,求该pn 结室温下的自建电势。

解:pn 结的自建电势结的自建电势 2(ln)D A D iN N kT V qn=已知室温下,0.026kT =eV ,Ge 的本征载流子密度1332.410 cm i n -=´代入后算得:1517132510100.026ln0.36(2.410)D V V ´´=´=´4.4.证明反向饱和电流公式(证明反向饱和电流公式(证明反向饱和电流公式(6-356-356-35)可改写为)可改写为)可改写为2211()(1)i s n n p p b k T J b q L L s s s =++ 式中npb m m =,n s 和p s 分别为n 型和p 型半导体电导率,i s 为本征半导体电导率。

证明:将爱因斯坦关系式p p kT D qm =和nnkT D q m =代入式(式(6-356-356-35))得 0000()p n p n S p n n pn p n p p nn p J kT n kT p kT L L L L m m m m m m =+=+因为002i p p n n p=,002i n nn p n =,上式可进一步改写为,上式可进一步改写为00221111()()S n p i n p i n p p p n n n p p nJ kT n qkT n L p L n L L m m m m m m s s =+=+ 又因为又因为()i i n p n q s m m =+22222222()(1)i i n p i p n q n q b s m m m =+=+即22222222()(1)i i i n p p n q q b s s m m m ==++ 将此结果代入原式即得证将此结果代入原式即得证2222221111()()(1)(1)n p i i Sp np pn np pnqkT b kT J q b LL q b L L m m s s mssss=+=××+++ 注:严格说,迁移率与杂质浓度有关,因而同种载流子的迁移率在掺杂浓度不同的p 区和n区中并不完全相同,因而所证关系只能说是一种近似。

半导体物理第六章PN结

半导体物理第六章PN结

二、PN结的反向电流
加反向偏压时,外加电场与内 建电场方向相同,增强了势垒区的 电场强度,势垒区加宽、增高,漂 移运动超过了扩散运动。n区中的空 穴(p区中的电子)一旦到达势垒区 边界处,就立即被电场扫向p区(n 区),构成了pn结的反向电流,方 向由n区到p区。
一、PN结的正向电流
多子电流与少子电流的转换
注入的非平衡少子在扩散过程中与多子相遇
中性区 势垒区 扩散区 扩散区 中性区 + p n
而不断复合,经过一个扩散长度后,复合基 本完毕,载流子浓度接近平衡数值。非平衡 少子边扩散边复合的区域称为扩散区,载流 子浓度接近平衡值的区域称为中性区 半导体中的电流主要由多子运载,然而pn结 正向电流是由电注入的非平衡少子引起的。 �非平衡少子被多子复合并非电流的中断, 因为与少子复合的多子是从n区的右边过来的 电子,所以它们的复合正好实现了少子电流 到多子电流的转换,如图c所示。
qV ) k0T
� pn结的正向电流随正向偏压呈指数规律增长。
一、PN结的正向电流
正偏压作用下的能带图
1、由于正偏压的作用,势垒高度下降, pn结不再处于平衡状态,在势垒区和扩散区,电子 准费米能级和空穴准费米能级不一致,而在中性区二者则趋于重合。 �说明通过势垒边界分别注入到两侧的非平衡载流子扩散一段距离后才复合完毕。而中性区 载流子的分布接近热平衡分布,故在中性区,两个准费米能级趋于汇合成统一的费米能级。
qα j x d 2V ( x ) ρ ( x) = − = − dx 2 ε sε 0 ε sε 0
xD 对上式积分,并利用边界条件 ε ⎛ ± ⎜ ⎝ 2
⎞ ⎟ = 0 , 得: ⎠
ε ( x) =
qα j
2ε sε 0x − Nhomakorabea2
  1. 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
  2. 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
  3. 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。

Jn dEF dx n n
qDp dEF J p p0 kT dx
电流密度与费米能级的关系 对于平衡的pn结,Jn, Jp均为零,因此,
Jp dEF dx p p
EF=常数
qDp dEF J p p0 kT dx
当电流密度一定时,载流子浓度大的地方, EF随 位置变化小,而载流子浓度小的地方, EF随位置 变化较大。
非平衡载流子的电注入:正向偏压使非平衡载流子进入半导 体的过程。
注入到p区的电子断与空穴复合,电子流不断转化 为空穴流,直到全部复合为止。
扩散电流〉漂移电流
根据电流连续性原理,通过pp’(或nn’)任何一个界 面的总电流是相等的。只是电子电流和空穴电流 的比例不同。 总电流=扩散电流+漂移电流
反向偏移下,非平衡状态 外加反向电场与内建势场方向一致。
1. pp’处注入的非平衡少数载流子浓度:
EFn Ei n p ni exp( ) k0T EFn EFP n p p p ni exp( ) k0T
2
p p ni exp(
Ei EFp k0T
)
在pp’边界处, x=-xp, qV=Efn-Efp,
qV n p ( x p ) p p ( x p ) ni exp( ) k0T
电子电势能-q V(x)由n到p不断升高 P区能带整体相对n区上移。n区能带整体相对p区下移。 直到具有统一费米能级 pn结费米能级处处相等标志pn结达到动态平衡,无扩散、 漂移电流流过。
动态平衡时
本征费米能级Ei的变化与-qV(x)一致
k0T n Dn q
k0T n Dn q
同理,空穴电流密度为:
qV x p ( ) 0 2. 加反向偏压下,如果qV>>k0T, e k0T
对n区: 在x=xn处
xn x pn ( x) pn ( x) pn 0 pn0 exp( ) Lp
pn ( x) pn0
即p( x) 0
xn x pn ( x) pn ( x) pn 0 pn0 exp( ) Lp
边界条件:x, pn()=pn0, X=xn,
qV pn ( xn ) pn 0 exp( ) k0T
xn qV A pn 0 [exp( ) 1] exp( ), k0T Lp B0
外加正向偏 压下,非平 衡少数载流 x p x 子在两边扩 qV 同理: n ( x) n n [exp( ) 1] exp( ) 散区的分布 p p0 p0 k0T Ln
能带特征: EFn、EFp也发生了偏离,但 EFP位置高于 EFn ;
6.2.2 理想pn结模型及其电流、电压方程
理想pn结模型: (1)小注入; (2)突变耗尽层条件-外加电压和接触电势差都降落 在耗尽层,耗尽层外是电中性的,注入的少数载流 子做纯扩散运动; (3)通过耗尽层的电子、空穴电流为常数,忽略耗尽 层中载流子的产生及复合作用; (4) 玻耳兹曼边界条件:在耗尽层两端,载流子分 布满足玻耳兹曼统计分布。
势垒高度
在一定温度下,掺杂浓度越高,VD越大; ni越小, VD越大
6.1.5 pn结载流子分布
平衡时pn结,取p区电势为零, 势垒区一点x的电势V(x), x点的电势能为E(x)=-qV(x) 对非简并材料, x点的电子浓度 n(x),应用第三章计算平衡时导 带载流子浓度计算方法
因为E(x)=-qV(x)
2
2
pp’边界注入的非平衡少数载流子浓度为
np (x p ) np (x p ) np0 n p 0 [exp(
qV ) 1] k0T
非平衡少数载流子浓度是电压的函数。
同理,nn’边界注入的非平衡少数载流子浓度为
qV qV qVD pn ( xn ) pn 0 exp( ) p p 0 exp( ) k0T k0T
p型杂质浓度NA,
n型杂质浓度ND,
特点:交界面浓度发生突变。
在n型单晶硅片上扩散受主杂质,形成pn结。 杂质浓度从p到n 逐渐变化,称为缓变结。
j为杂质浓度梯度。
6.1.2 空间电荷区
pn结附近电离的受主、施主所带 电荷称为空间电荷(不可移动), 所在的区域为空间电荷区。
产生漂移电流
热平衡的pn结
x x p

qDn np 0 Ln
qV [exp( ) 1] k0T
理想pn 结,忽略势垒区内的复合-产生作用, 通过pp’界面的空穴电流密度为Jp(-xp)=通过nn’’界面 的空穴电流密度为Jp(xn);
小注入时,耗尽层外的扩散区不存在电场, 在X=Xn处,空穴扩散电流密度为
dp ( x) J p ( xn ) qD p n dx
x xn

qDp pn0 Lp
qV [exp( ) 1] k0T
同理,在X=-Xp处,电子扩散电流密度为
J n ( x p ) qDp
dnp ( x) dx
qV pn ( xn ) pn ( xn ) pn0 p p 0 [exp( ) 1] k0T
非平衡少数载流子浓度是电压的函数。
稳态时,非平衡少数载流子的连续性方程
d E x pn pn 0 d pn d 2 p Dp p Ex n pn 0 2 dx dx dx p
2
由于p p ( x p ) p p 0 , p p 0 n p 0 ni
2
ni ni qV qV n p ( x p ) exp( ) exp( ) p p ( x p ) k0T p p0 k0T
qV n p 0 exp( ) k0T
qV qVD nn 0 exp( ) k0T
正向偏移下,非平衡状态
N区电子扩散 向P区; P 区空穴扩散 向N区
PP’处电子浓度〉P区空穴浓度, 形成向P区的电子扩散流。
非平衡少子(电子或空穴)在扩散过程中, 不断与多子复合,直到复合完毕,这段 扩散过程称为扩散长度。 一定正向偏压下,单位时间从n区扩散到pp’边界的电子浓度时一 定的,并在p区形成稳定分布(空穴一样)。
第六章 PN结

本章主要内容 6.1
pn结及其能带图;
6.2 pn结电流、电压特性;
6.3 pn结电容;
6.4 pn结击穿特性; 6.5 pn隧道特性;
pn相关器件认识
主要面向计算机主板、硬盘驱动器、手机充电器、 紧急照明以及笔记本电脑等应用。
蓝紫光半导体
太阳能电池
LED射灯
LED天花灯
LED花园灯
qVD p( x p ) p p 0 pn 0 exp( ) k0T
qVD p n 0 p p 0 exp( ) k0T
同一种载流子在势垒区两边的浓度关系服从波尔兹曼分布函数的关系。
6.2 pn结电流电压特性
6.2.2 非平衡状态下的pn结
1. 外加电压下,pn结势垒的变化及载流子的运动 势垒区:载流子浓度很小,电阻很大; 势垒外:载流子浓度很大,电阻很小; 外加正向偏压主要降在势垒区;外加正向电场与 内建电场方向相反。 产生现象:势垒区电场减小,使势垒区空间电荷减小; 载流子扩散流〉漂移流, 净扩散流〉0 ; 宽度减小; 势垒高度降低,高度从qVD降到q(VD-V)
LED LED球泡灯 球泡灯
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
LED地灯
LED手电筒 LED手电筒
6.1 pn结及其能带图 6.1.1 pn结的形成及其杂质分布
一块p型半导体和一块n型半导体结合在一起,在其交接面处 形成pn结。
pn结是各种半导体器件, 如结型晶体管、集成电路的心脏。
高温熔融的铝冷却后,n型硅片上 形成高浓度的p型薄层。
6.1.4 pn结接触电势差
VD称为pn结的接触电势差或内建 电势差. qVD为pn结的势垒高度. 平衡时pn结的费米能级处处 相等. qVD=EFn-EFp nn0、np0分别为平衡时n、p区 的电子浓度
EFn Ei nn 0 ni exp( ) k0T
np0
EFp Ei ni exp( ) k0T
6.1.3 pn结能带图
电子从费米能级高的n区流向费米能级低的p区,空穴从p流到n区。 EFn不断下移,EFp不断上移,直到EFn=EFp 最后,pn具有统一费米能级EF, pn结处于平衡状态。
能带发生整体相对移动与pn结空 间电荷区中存在内建电场有关。
随内建电场(np)不断增大, V(x)不断降低,
EF Ecn nn 0 N c exp( ), Ecn qVD k0T Ecn Ex nx nn 0 exp( ) k0T
qV ( x) qVD nn 0 exp( ) k0T
当 X=Xn时,V(x)=VD,
n(x)=nn0
当 X=-Xp时,V(x)=0, n(-xp)=nn0
n( x p ) n p 0
qVD nn 0 exp( ) k0T
n(-xp)p区的少数载流子浓度。
X点空穴浓度为,
qVD qV ( x) px pn 0 exp( ) k0T
pn0是平衡时n区的少子浓度
当 X=Xn时,V(x)=VD,
p(xn)=pn0
当 X=-Xp时,V(x)=0, p(-xp)=pp0
在n区内部:x>>Lp处
xn x exp( )0 Lp
则pn ( x) pn0
x x qV pn ( x) pn 0 pn0 [exp( ) 1] exp( n ) k0T Lp
2.外加偏压下电流密度的关系
xp x qV n p ( x) n p 0 n p 0 [exp( ) 1] exp( ) k0T Ln
扩散区比势垒区大,准费米能级的变化主要发生 在扩散区,在势垒区中的变化忽略不计。
相关文档
最新文档