Harrick等离子清洗机
等离子清洗机清洗原理

等离子清洗机清洗原理
等离子清洗机是一种利用等离子体技术进行清洗的设备。
清洗过程中,首先将待清洗的物体放置在清洗室内,然后通过产生高频电场和电离气体的作用,将气体转化为等离子体。
等离子体是由正离子和自由电子组成的高度电离化的气体。
在等离子体中,正离子和自由电子之间存在着电荷平衡,呈现出电中性状态。
同时,等离子体的高温、高能量特性也使其具有强大的清洗能力。
清洗过程中,等离子体会释放出大量的化学能量。
这些能量可以通过碰撞和相互作用,使污渍表面的物质分解和转化为其他物质。
同时,等离子体中的活性氧、活性氮等物质也会与污渍发生反应并被清除。
此外,等离子清洗机还可以利用等离子体的物理冲击效应,对待清洗物体进行表面清洗。
等离子体中带有的正离子会以高速撞击待清洗物体表面,将表面的污渍和有机物质冲刷掉。
综上所述,等离子清洗机清洗原理主要是通过产生等离子体以及等离子体的热效应、化学效应和物理效应,对待清洗物体进行全面清洗。
这种清洗方式具有很高的清洁效果和广泛的适用性,被广泛应用于电子、光学、航空航天等领域。
等离子清洗机操作规程

等离子清洗机操作规程一、操作前准备1. 检查清洗机的电源线是否正常连接,确保接地良好。
2. 检查清洗机的工作液位是否充足,必要时添加合适的清洗液。
3. 确认清洗机内部的夹具和工件固定装置是否完好,无松动或损坏。
4. 根据清洗物的性质和要求,选择合适的清洗液和清洗工艺参数。
二、操作步骤1. 打开清洗机的电源开关,确保清洗机的电源供应正常。
2. 打开清洗机的控制面板,设置清洗工艺参数,如清洗时间、温度、功率等。
3. 将待清洗的工件放置在清洗机的夹具或工件固定装置上,并确保固定牢固。
4. 关闭清洗机的门,确保密封良好,避免泄漏。
5. 按下清洗机的启动按钮,清洗机开始工作。
6. 在清洗过程中,根据需要监控清洗机的工艺参数,如温度、压力等,确保符合清洗要求。
7. 清洗结束后,关闭清洗机的电源开关,停止供电。
三、操作注意事项1. 操作人员应穿戴好个人防护装备,如手套、护目镜等,确保安全。
2. 操作人员应熟悉清洗机的工作原理和操作方法,遵守操作规程,严禁违规操作。
3. 在清洗机工作期间,严禁将手或其他物体伸入清洗机内部,以免发生意外。
4. 清洗机应定期进行维护保养,保持机器的良好状态。
5. 清洗机使用完毕后,应清理好工作区域,保持整洁。
四、故障处理1. 如遇清洗机故障或异常情况,应立即停止使用,并通知维修人员进行检修。
2. 在故障处理过程中,严禁擅自拆卸清洗机或进行修理,以免造成更大的损坏。
五、安全警示1. 清洗机工作时产生的高温、高压和电气等危险,操作人员应加强安全意识,严格遵守操作规程。
2. 在清洗机工作期间,严禁将易燃、易爆等危险物品放置在清洗机附近,以免引发火灾或爆炸事故。
3. 在清洗机工作期间,如发现异常情况或存在安全隐患,应立即停止使用,并及时报告相关负责人。
六、清洗机维护1. 清洗机应定期进行维护保养,包括清洗液更换、清洗机内部清理、设备检查等。
2. 清洗机维护过程中,应注意安全,确保清洗机断电和安全隔离,避免意外发生。
等离子清洗机清洗原理

等离子清洗机清洗原理等离子清洗机是一种利用等离子体对材料表面进行清洗和处理的设备,其清洗原理主要包括等离子体产生、清洗过程和清洗效果三个方面。
首先,等离子清洗机的清洗原理涉及到等离子体的产生。
等离子体是一种高能量、高活性的气体,由于其具有较强的化学反应性和清洁能力,因此被广泛应用于材料表面的清洗和改性处理。
等离子体的产生主要通过放电等方式实现,当在真空或气体环境中加入高频电场或直流电场时,气体分子会受到电场的激发,从而产生等离子体。
等离子体的产生是等离子清洗机实现清洗的基础。
其次,等离子清洗机的清洗原理还包括清洗过程。
等离子清洗机利用等离子体对材料表面进行清洗时,主要通过等离子体的化学反应和物理作用来实现。
在等离子体的作用下,材料表面的有机污染物、氧化物和其他杂质会被分解、氧化或脱附,从而实现对材料表面的清洗和去除。
此外,等离子体还能够激发材料表面的化学反应,促进材料表面的活化和功能化处理。
因此,等离子清洗机的清洗过程是通过等离子体的化学和物理作用来实现对材料表面的清洗和处理。
最后,等离子清洗机的清洗原理还涉及到清洗效果。
由于等离子体具有高能量和高活性,因此等离子清洗机能够实现对材料表面的高效清洗和处理。
通过等离子清洗机的清洗,可以实现对材料表面的去污、去油、去氧化和去杂质等效果,从而提高材料表面的清洁度和粗糙度,增强材料表面的附着性和润湿性,改善材料表面的光洁度和电性能,满足不同材料的清洗和处理需求。
综上所述,等离子清洗机的清洗原理主要包括等离子体的产生、清洗过程和清洗效果三个方面。
通过等离子体的化学反应和物理作用,等离子清洗机能够实现对材料表面的高效清洗和处理,从而满足不同材料的清洗和处理需求。
等离子清洗机作为一种高效、环保的清洗设备,具有广阔的应用前景和市场需求。
等离子清洗机安全操作保养规定

等离子清洗机安全操作保养规定等离子清洗机广泛应用于半导体、LCD、光纤、 LED 、显示器等各种工业生产领域,作为对产品表面清洗的一种有效方法,其清洗效率和清洗效果也备受好评。
然而,等离子清洗机在使用过程中也存在一定的安全隐患,为了保障员工生命财产安全,本文将重点介绍等离子清洗机的安全操作和保养规定。
安全操作规定1. 操作前检查在使用等离子清洗机之前,应进行一次全面的检查,以确保机器运作正常,能够顺利地工作。
•检查机器内部是否有异物或污物留存,出现异物要及时清除。
•检查清洗室门是否密封,确保清洗过程中不会有气体或液体溢出。
•检查气路元器件是否正常,如泄露或磨损,要及时修理或更换。
2. 个人防护措施清洗过程中,必须戴手套、护目镜、防护面具等个人防护设备。
•手套:戴手套可以保持清洗工作的手部清洁,并且可以避免清洗液对皮肤的刺激。
•护目镜:在清洗过程中,可能会产生气体或液体喷溅,戴护目镜可以有效防止这种现象对眼睛的伤害。
•防护面具:等离子清洗机在工作过程中会产生臭氧和氢气,处于防护面具的空气环境下,可以减少在此条件下的呼吸障碍。
3. 运行时注意事项运行过程中,要保持清洗室内的环境干燥、安静,一旦发现有异常,要立即停机。
•清洗过程中不允许打开清洗室门,避免气体或液体泄漏。
•员工应该时刻关注等离子清洗机的运行状况,如果机器出现异常,立即停机。
•清洗结束后,应立即关闭气源和电源,防止安全事故的发生。
日常保养规定清洗机的日常保养可以有效地延长机器的寿命、提高清洗效果,保证清洗质量。
1. 清洗前清理每次清洗室换盘之前,都要对清洗室进行清洁和消毒。
•清理外部杂物:清洗机的外部也容易积尘,要定期进行清扫。
•定期消毒:清洗室中长时间使用会导致废气和气味的聚集,需要使用消毒液进行消毒,并确保使用后完全清洗,以免影响清洗效果。
2. 管道保养等离子清洗机的管道是清洗效果的关键所在,要定期对其进行维护。
•定期检查管道中是否有异物:异物的出现可能会阻塞管道,影响清洗效果和机器寿命。
等离子清洗机原理

等离子清洗机原理等离子清洗机是一种利用等离子体效应进行表面清洗和处理的设备。
等离子清洗机的原理是利用高频电场或射频电场产生等离子体,通过等离子体的化学反应和物理作用,对表面进行清洗和改性处理。
等离子清洗机主要包括等离子体发生器、反应室、真空系统、控制系统等部分。
下面将具体介绍等离子清洗机的原理及其工作过程。
首先,等离子清洗机的工作原理是利用高频电场或射频电场产生等离子体。
在反应室中加入适当的气体,通过高频电场或射频电场的作用,气体分子被激发产生等离子体。
等离子体是一种由正负电荷的离子和自由电子组成的气体状态,具有较高的能量和活性。
这种等离子体可以在较低的温度下产生,并且可以对表面进行高效清洗和处理。
其次,等离子清洗机利用等离子体的化学反应和物理作用对表面进行清洗和改性处理。
等离子体具有较高的能量,可以激发表面分子的化学反应,使其与污染物或氧化层发生化学反应,从而达到清洗和去除污染物的目的。
同时,等离子体还可以改变表面的化学成分和结构,实现表面的功能性改性,如增加表面的亲水性、增强附着力等。
此外,等离子清洗机主要包括等离子体发生器、反应室、真空系统、控制系统等部分。
等离子体发生器是产生高频电场或射频电场的装置,可以激发气体分子产生等离子体。
反应室是等离子体与工件表面进行反应的空间,可以根据工件的尺寸和形状进行设计。
真空系统是维持反应室内的真空度,保证等离子体的产生和反应过程在较低的气压环境下进行。
控制系统则是对整个清洗机的运行参数进行控制和调节,保证清洗和处理的效果和稳定性。
综上所述,等离子清洗机利用等离子体的化学反应和物理作用对表面进行清洗和改性处理,具有高效、环保、节能等优点。
通过合理设计和控制,可以实现对不同材料和形状的工件进行清洗和处理,广泛应用于电子、航空航天、汽车、医疗器械等领域。
随着科学技术的不断发展,等离子清洗机在表面处理领域将发挥越来越重要的作用。
Harrick等离子清洗机操作规程

Harrick等离子清洗机操作规程
Harrick等离子清洗机使用说明
一、设置
1.连接真空泵电源到插座。
2.连接等离子清洗机电源到插座。
二、排除空气
3.将样品放入舱室内。
4.检查针阀和三通阀是关闭的。
(处于垂直位置,如下图)
5.按住清洗舱舱门。
6.打开真空泵开关。
大概几分钟后,舱室处于负压状态,真空状态会让舱门自
动关闭。
7.打开气体钢瓶上的阀门,将压力调节在5~10PSI。
二、通入气体
8.打开通向工艺气体的三通阀(针阀为水平位置,如下图)
9.轻轻地打开针阀让气体通入30-60秒。
三、产生等离子体
10.打开清洗机前面板的电源开关。
11.将射频发生器功率开关调至合适的功率。
12.通过舱门的玻璃窗观察舱内,当产生辉光放电现象时,证明等离子体已激发。
13.调节针阀直到等离子体明显最大,这大概相当于最佳等离子生成的条件
14.样品处理一定时间,处理结束后,将RF电源旋至OFF。
15.关闭清洗机开关。
16.关闭气体钢瓶阀门。
17.用1-3分钟的真空泵抽出残余的工艺气体从舱室。
18.关闭针形阀。
19.关闭真空泵。
20.按住等离子清洗机舱门门并慢慢将三通阀打开至排气状态(水平指向排气,
如下图)。
21.当舱室排气时,继续按住舱门。
当达到常压后,离开舱门。
22.关闭三通阀。
23.取出样品。
真空等离子体清洗机安全操作及保养规程

真空等离子体清洗机安全操作及保养规程1. 引言真空等离子体清洗机是一种常见的清洗设备,广泛应用于电子、光电子和材料科学等领域。
为了保证操作人员的安全以及设备的正常运行,我们有必要了解真空等离子体清洗机的安全操作和保养规程。
2. 安全操作规程2.1 环境安全•确保操作环境无明火或易燃物品存在,保持通风良好。
•避免操作环境过潮湿,防止设备受潮损坏。
2.2 电源安全•在操作前,检查电源插头和电源线是否完好,避免使用破损的电源线。
•操作人员应穿戴绝缘手套和鞋套,确保与设备的安全隔离。
•禁止接近设备的任何高压部位,避免触电事故的发生。
2.3 操作人员安全•操作人员应经过相关培训,并了解设备的操作原理和相关安全知识。
•在操作中,严格按照设备的操作手册进行操作,不得随意更改设备的工作参数。
•禁止将任何物品放置在设备的操作台上,以免引起设备故障或操作人员受伤。
2.4 真空安全•在操作前,检查真空泵和真空系统的密封性,确保无泄露。
•在打开真空系统前,确保设备的内部压力已经恢复到大气压,避免突然释放的高压对操作人员造成伤害。
•操作人员在操作过程中应佩戴防护眼镜和手套,避免因溅射、飞溅等意外事故导致伤害。
3. 保养规程3.1 清洁与维护•定期对设备进行清洁,避免灰尘和污垢的积累影响设备的正常使用。
•清洗时,使用软布擦拭设备表面,避免使用刷子等硬物刮擦,以免刮伤设备表面。
•定期检查设备上的螺丝和紧固件是否松动,及时进行紧固。
3.2 系统维护•定期检查设备的真空泵和真空系统,确保其正常工作,并及时更换损坏的部件。
•检查设备的滤芯、O型密封圈等易损件,发现有损坏或老化的部件及时更换。
•定期进行设备的功能测试,以确保各项功能正常。
3.3 安全防护•定期检查设备的安全防护装置是否正常工作,如安全开关、气缸等。
•避免在设备运行时打开设备的罩盖或操作门,以免操作人员受伤。
•在设备运行过程中,禁止任何人员接近设备并观察,以免发生意外。
等离子水洗尾气处理设备

等离子水洗尾气处理设备
等离子水洗尾气处理设备通常用于处理半导体、平板显示、LED等行业产生的特殊有害气体。
等离子水洗式尾气处理设备的工作原理是利用高温等离子作为热源,可以有效处理如NF3、SF6、CF4、C4F6及TMA等特殊气体。
这种设备结合了等离子体技术与水洗技术,通过高温等离子体的氧化、还原、裂解作用,将有害气体转化为无害或易于处理的物质,然后通过水洗步骤进一步清除残余污染物。
具体到某一款设备,例如NSCP600,它是一款Plasma等离子燃烧水洗尾气处理设备,具有以下特点:
1.高温处理能力:使用高温等离子火炬,中心温度可达3000ºC,
可以分解处理各种难以处理的气体。
2.多进口设计:设备有四至六个工艺尾气进口,能够处理多种不
同的废气流。
3.电极寿命长:设备设计考虑到维护方便性,电极使用寿命超过
6个月,并且可以快速拆卸更换。
4.合规性:符合SEMI-S2行业标准,确保了在半导体行业中的适
用性和安全性。
5.处理效果优秀:对于PFC(全氟化合物)类气体具有优秀的处
理效果。
此外,在选择等离子水洗尾气处理设备时,还需要考虑实际应用场景、处理能力、系统兼容性以及成本效益等因素。
这类设备通常由专业的环保设备制造商(比如NST、苏州新耀环保)提供,并可根据客户需求进行定制化设计和制造。
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产品背景 二次污染。
等离子清洗器外接一台真空泵,工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面,短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉,同时污染物被真空泵抽走,其清洗程度达到分子级。
等离子清洗器除了具有超清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能,等离子体作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性。
对某些有特殊用途的材料,在超清洗过程中等离子清洗器的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性,并可消毒和杀菌。
等离子清洗器广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。
的非等离子清洗器是一种小型化、破坏性的超清洗设备。
等离子清洗器采用气体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的
我 们
HPC-3HPC-FMG-2HPC-6
应用:
* 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。
* 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
* 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。
* 清洗ATR 元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。
* 清洗半导体元件、印刷线路板。
* 清洗生物芯片、微流控芯片。
* 清洗沉积凝胶的基片。
* 高分子材料表面修饰。
* 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。
* 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
特征:
* 紧凑的台式设备、没有RF 放射、符合CE 安全标准。
* 功率为低、中、高三档可调。
* 两种型号:
清洗舱:长 6.5 英寸,直径3英寸;舱盖可拆卸。
整机尺寸:8.5 英寸H×10英寸W×8英寸D
清洗舱:长 6.5 英寸,直径6英寸;舱盖具备铰链和磁力锁,并有一个可视窗口。
整机尺寸:11英寸H×18英寸W×9英寸D
* 选配件
石英等离子清洗舱。
quartz Plasma Cleaner chamber
气体计量混合器 flow mixer Plasma Flo TM
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