PCB电镀铜培训教程

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沉铜、电镀工序培训讲义

沉铜、电镀工序培训讲义

第28页
入职工艺知识培训讲义
3.1.3 沉铜特殊控制
去毛刺:磨痕测试
RD-CM-WI01S1A
操作方法:将一定大小及厚度的光铜板输送至特定磨辘下停止,不开摆动, 静止磨板一定时间后停止,出板后测量磨痕宽度。 目的:检验去毛刺机磨刷平整度及刷磨均匀性。 要求:磨痕宽度范围为:10-15mm
尺寸:18*24inch 厚度:1.0-1.6mm 材料:FR-4
Sn(OH)4
水洗
SnCl2
SnCl2 Sn(OH)4 SnCl2 SnCl Sn(OH)4 2 SnCl2
Pd
SnCl2 Sn(OH)4 SnCl2
Sn(OH)4
Sn(OH)4
Sn(OH)4
Sn(OH)4
活化
加速 PTH过程孔壁/板面微观状态变化
沉铜
第10页
入职工艺知识培训讲义
1.2 电镀铜原理与工艺流1.2.2 电镀铜的主要工艺流程:
图形电镀工艺:
除油→微蚀→预浸→镀铜→浸酸→镀锡
RD-CM-WI01S1A
层压
开料→内层光成像→蚀刻→层压→ 钻孔→沉铜→板镀→外层光成像→ 图形电镀→外层蚀刻→……
钻孔
沉铜+板镀
图形转移
图形电镀
蚀刻
阻焊
图形电镀通孔及盲孔切片示意图
第13页
Cu
Cu2+
Cu2+
Cu
酸度不足时: Cu+ +H2O→CuOH+ H2O 2CuOH →Cu2O↓ + H2O
阳极
阴极 Cu
阳极
第11页
入职工艺知识培训讲义
电镀铜分类(按功能)
RD-CM-WI01S1A

电镀培训教材

电镀培训教材
(3)2HCHO + NaOH HCOONa + CH3OH (4)Cu2O + H2O Cu + Cu2+ + 2OH-
(1)为主反应,(2)(3)(4)为副反应
板20有20限/1公0/司9 ME/R&D
2.2.10 化学沉铜工艺条件控制
1.工艺参数
Cu2+ : 1.8-2.2g/l
HCHO: 2.0-5.0g/l
2MnO42- + 1/2O2 + H2O MnO2 + 2OH- + 1/2O2
利用高锰酸钾再生器电解MnO42-、MnO2副产物再生 出MnO4- 重复利用。 再生电流:120-180A/组再生器
再生能力:250L/组再生器
板20有20限/1公0/司9 ME/R&D
2.2.3 中和(Neutralizer)
板20有20限/1公0/司9 ME/R&D
2.2.13 主要缺陷、成因及处理方

缺陷
可能原因
处理方法
膨胀缸药水浓度偏低
分析调整并按千尺添加
除胶不净
除胶缸药水浓度偏低 膨胀与除胶处理条件不匹配
分析调整并按千尺添加 调整膨胀与除胶处理条件
树脂收缩
膨胀剂处理效果差 膨胀与除胶渣条件不匹配
更换较强的膨胀剂 调整膨胀及除胶渣的操作条件
Cataposit 44 Catalyst (R&H)
3.操作条件
温度:43-47℃
处理时间:4-5mins
44强度:80-100% SnCl2 >5g/l Cu2+<2g/l
板20有20限/1公0/司9 ME/R&D

PCB沉铜板电培训教材

PCB沉铜板电培训教材

高压后喷水洗前 超音波水洗
后面可加去脂或 微蚀处理
#320 Grits (1) 电压、电流 后面可加去脂或
(2) 板厚
微蚀处理
#600 Grits (1) 电压、电流 有刷磨而以氧化
~ #1200 (2) 板厚
处理的
Grits
PTH-镀通孔
7.2.2. 除胶渣 (Desmear)
A.目的: a. Desmear b. Create Micro-rough增加adhesion
1986年,美国有一家化学公司Hunt 宣布PTH不再需要 传统的贵金属及无电铜的金属化制程,可用碳粉的涂布 成为通电的媒介,商名为"Black hole"。之后陆续有其 它不同base产品上市, 国内使用者非常多. 除传统PTH外 , 直接电镀(direct plating)本章节也会述及.
PTH-镀通孔
PTH-镀通孔
C. Desmear的四种方法:
硫酸法(Sulferic Acid) 、电浆法(Plasma)、铬酸法(Cromic Acid)、 高锰酸钾法(Permanganate). a. 硫酸法必须保持高浓度,但硫酸本身为脱水剂很难保持高浓 度,且咬蚀出的孔面光滑无微孔,并不适用。
b. 电浆法效率慢且多为批次生产,而处理后大多仍必须配合其 它湿制程处理,因此除非生产特殊板大多不予采用。
•PTH-镀通孔
刷轮材质 Mesh数 控制方式
其他特殊设计
Deburr 去巴里
内层压 膜前处 理
外层压 膜前处 理
S/M前表 面处理
Bristle 鬃毛刷 Bristle Nylon
Bristle NylonNylon#180 or #240
#600 Grids

pcb图形电镀工艺教材

pcb图形电镀工艺教材

图形电镀工艺教材一. 图形电镀简介:在平板电镀后,板件经过干膜曝光显影后需要经过图形电镀。

图形电镀的目的在于加大线路和孔内铜厚(主要是孔铜厚度),确保其导电性能和其他物理性能。

根据不同客户不同板件的性能要求,一般孔壁铜厚在0.8mil-1.2mil之间(平板层+图电层),由板件特性决定其平板层和图电层的分配。

一般来说,平板电镀层仅保证可以保护稀薄的沉铜层即可,一般在0.3mil-0.4mil左右,特殊铜厚要求和线路分布不均除外,图形层则保证在0.4-0.6mil,在保证总铜厚的基础上,如果图形分布均匀,比较厚的图形层可以节省铜球耗用和蚀刻成本,提高蚀刻速度,降低蚀刻难度。

反之,如果线宽要求不严,而图形分布不均线路孤立,则可以提高平板层厚度,降低图形电镀层厚度。

图形电镀后是蚀刻流程。

二. 图形电镀基本流程:板件经过贴膜曝光显影后形成一定的线路,图形电镀就是针对干膜没有覆盖的铜面进行选择性加厚。

图形主要流程如下(水洗视条件不同,为一道至两道):进板—除油—水洗—微蚀—水洗—酸浸(硫酸)—电镀铜—水洗—酸浸(氟硼酸)—电镀(铅)锡—水洗—出板—退镀(蚀夹具)—水洗—进板1 .除油:电镀除油流程为酸性除油,主要是除去铜面表面的污物。

因板件经过干膜流程后,不可避免地会在板面带上手印、灰尘、油污等,为使板面洁净,保证平板铜层和图形铜层的层间结合力,必须在电镀前加上清洁板面的流程。

采用酸性环境除油效果比碱性除油差,但避免了碱性物质对有机干膜的攻击,主要成分为硫酸和供应商提供的电镀配套药水(安美特—FR,B图电\C图电\脉冲线;罗门哈斯—LP200,B(II)线;成分均为酸性表面活性剂)。

酸性除油剂的浓度测定是通过测定计算浓硫酸(98%)浓度来相对估算(无法直接测定,而配缸和消耗都是1:1比例),因此在换缸和补充的时候要保证两者要等量添加,以保证测定浓度和实际浓度的一致性。

2. 微蚀:除油的微蚀流程主要作用为去除表面和孔内的氧化层,并将铜层咬蚀出微观上粗糙的界面,以进一步提高图形电镀层和平板层的结合力。

PCB工艺基础8-电镀基础原理和概念培训

PCB工艺基础8-电镀基础原理和概念培训
标准氢电极‖待测电极 该电池的电池电动势即为待测电极的电极电势。
一 电镀原理
例如:φ0(Cu2+/Cu) 称为标准电极电势。按电极电势的规定, 待测电极位于电池的右边,进行还原反应,其电极反应: 氧化态+Ze → 还原态 其电极电势为
上式称为电极能斯特方程 电极电势代数值越小,电对的还原态物质还原能力越强, 氧化态物质氧化能力越弱;电极电势代数值越大,电对的 还原态物质还原能力越弱,氧化态物质氧化能力越强。代 数值是反映物质得失电子倾向的大小, 如Zn比H2更容易 失去电子,它与物质的数量无关。
一 电镀原理
1.6 电极反应的机理 电极反应发生在电极与溶液的界面处,所以电极反应与多 相反应一样,是一个连续过程,通常包括以下步骤:
(1)离子或其它物质从溶液体相向电极表面迁移(液相传 质);
(2)离子吸附在电极表面; (3)离子放电(得到或失去电子)生成产物; (4)产物自电极表面解吸; (5)产物自电极表面液层向溶液体相迁移。 (6)反应物或产物在电极表面附近发生化学反应; (7)产物形成新相(气泡、沉淀等)以及金属离子放电后
二 镀液
(3)基体金属的表面状态 基体金属的表面状态对金属在阴极表面的分布有着重大
的影响。金属在不洁净的阴极表面上很难沉积出均匀的镀层 ,甚至不能沉积。由于氢在粗糙表面上的过电位小于光滑表 面,所以在粗糙表面上氢容易析出,镀层就难以沉积。 (4)几何因素
电镀槽的几何形状,阴阳级的形状和尺寸,两个电极在电 镀槽中的排布形式等几何因素直接影响着镀层的分布。 所 有这些与电解液分散能力和覆盖能力有关的因素,彼此不是 孤立的,而是有着内在的联系。在实际操作实践中要根据具 体情况找出主要影响因素。
迁移到晶格点阵上成为稳定态等。 上述各步中最慢的一步决定整个反应的速度。了解电极反 应的机理,有利于电极反应的控制。

PCB电镀铜培训资料

PCB电镀铜培训资料

PCB电镀铜培训资料1.PCB电镀铜的定义和作用:PCB电镀铜是将铜层沉积在基板表面,用于增加导电性和保护基板。

它能提供稳定的电气性能和连接,并防止氧化和腐蚀。

2.PCB电镀铜的种类:常见的电镀铜包括镀铜、镀不锈钢、镀铬、化学铜、电镀银等。

3.PCB电镀铜的工艺流程:a.脱脂:使用化学溶剂去除基板表面的油污和污垢。

b.除锈:使用酸性溶液去除基板表面的氧化层和金属杂质。

c.洗涤:使用水或有机溶剂彻底清洗基板表面。

d.激活:使用化学溶液去除基板表面的氧化物,并增加表面活性。

e.化学镀铜:将铜沉积在基板表面,使用电解液进行化学反应。

f.涂脂:涂上保护膜,防止电镀过程中的氧化和腐蚀。

g.拉丝:使用刷子或机械工具去除电镀过程中产生的杂质和不均匀沉积。

h.滤镀:过滤电镀液,去除其中的杂质和废旧物质。

i.除锈:再次使用酸性溶液去除表面的氧化层和金属杂质。

j.电解镀铜:使用电流进行电解反应,使得铜均匀地沉积在基板表面。

k.汤洗:使用热水或有机溶剂清除电解液残留。

l.干燥:将基板置于烘干设备中,使其完全干燥。

4.PCB电镀铜的常见问题及解决方法:a.气泡:将温度调高,检查和清洁设备,减少板塞、沉积物和硬件的接触。

b.残渣:增加电镀液的流动速度,使用滤纸或滤网过滤电镀液。

c.颗粒:控制电镀液的溶液和搅拌速度,使用滤网过滤电镀液。

d.氧化:减少空气接触,确保设备密封良好,增加电镀液的活性。

e.不均匀沉积:检查设备,确保均匀的电流分布,进行拉丝处理,使用均匀的电镀液。

5.PCB电镀铜的优势和应用领域:a.优势:提供良好的导电性和连接,具有良好的耐腐蚀性,能防止氧化和腐蚀,使电路板更稳定可靠。

b.应用领域:PCB电镀铜广泛应用于通信设备、工业控制系统、电子产品、医疗器械等领域。

6.PCB电镀铜的环境保护和安全注意事项:a.环境保护:电镀液和废水应遵守环保标准,进行合理利用和处理。

b.安全注意事项:操作时要佩戴防护装备,保持设备干燥和密封良好,注意操作规范,避免产生有害物质。

线路板电镀远程教育-PPT课件

线路板电镀远程教育-PPT课件

设备/流程操作介绍
电镀铜机理
镀铜溶液的主要成分是硫酸铜和硫酸,在直流电压的作 用下,在阴/阳极上发生如下反应: 阴极: Cu2+获得电子被还原成金属铜,在直流情况下电流效率 可达98%以上. Cu2++2e → Cu
某些情况下镀液中存在少量 Cu+,将发生如下反Cu++e
Cu 还可能出现Cu2+的不完全还原: Cu2++e → Cu+
设备/流程操作介绍
三﹑酸洗
目的:去除板面氧化物,活 化板面,且保证铜槽浓度 平衡. 操作:室温下之10% H2SO4洗. 酸洗槽
设备/流程操作介绍
四﹑镀铜
电镀原理: 通过整流机将交流电变成直流电,电解液受外加电压影 响下铜离子从阳极逐步向阴极转移的过程
镀铜槽
设备/流程操作介绍
1.法拉第定律.
第一定律-----电镀时,阴极上所沉积(deposit)的金属与所通过 的电量成正比.
竞华远程教育课程
PCB流程—图形电镀篇
课程大纲
1.图形电镀制作流程概述 2.主物料/治工具简介
3.设备/流程操作介绍 4.环境/安全介绍
5.思考题
图形电镀制作流程概述
图形电镀目的: 此制程为负片制程,在D/F后线路及所需部分电镀加厚铜层,以符合 线路通需要,保证整体电器性能规范.
流程:
上料 除油 水洗*2 微蚀 水洗*2
设备/流程操作介绍
一﹑除油脱脂
目的:除板面有机油污,手 印,氧化物等有机性污染, 提高板面亲水性. 温度:一般温度36-40OC
浓度:3%-10%(不同品种不 同浓度之有机界面活性 剂),除油后水洗须加强, 保证后槽不受污染

PCB电镀培训

PCB电镀培训


維護:每周保養時做好清潔工作,每班使用測震議測量震幅大 小,控制在200HZ。

震動過小將會造成一定比率孔內無銅報廢,錫缸將會更為
嚴重。 震動過大將會造成夾子松動而掉板,同時也會造成其它輔 助設備的松動(如V座等)。
17process training

2016/4/30
輔助設備的作用及維護


異常問題的預防及處理
溶锡
表面現象﹕獨立PAD和獨立線路 溶锡 原因﹕局部電流密度過大 對策﹕ 與客戶確認空曠區可否添加抢电 PAD。 降低鍍錫電流密度,加大電鍍時 間加大pad
2016/4/30
21process training
異常問題的預防及處理

鍍錫不良
1、光劑不足: 每班檢查自動添加,確保藥水添加 正常,及時按照化驗室分析結果調 整藥水濃度。
各缸药水及药水的作用


蝕刻原理
首先是線路間的銅與蝕刻液的銅銨鹽反應生成亞銅銨鹽。 亞銅銨鹽是一種污泥狀的沉澱物,若未迅速除掉時會在板面形 成蝕銅的阻障層,因而造成板面及孔壁的污染。 所以必須輔助以氨水、氯離子及空氣中大量的氧使其繼續氧化 成可溶性的銅銨鹽。 可溶性的銅銨鹽又成為第一步中蝕銅的氧化劑,所以此反應是 是一個周而復始循環的過程
流程及原理
流 程 酸 性 清 潔 微 蝕
酸 浸
鍍 銅
鍍 錫
板 子 烘 干
掛 架 剝 錫
掛 架 剝 銅
掛 架 烘 干
功 用
清潔 板面
2016/4/30
保持 良好的 除去 板面氧 潤孔慣 化物及維 孔能 力 持良好的 界面性 能
鍍 二次 銅
鍍上 一層保 護膜防止 蝕刻時線 路銅被 蝕刻掉
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阳极膜形成后能抑制的继续产生 阳极膜具有金属导电性 磷铜较纯铜阳极化小(12 P0.04-0.065%磷铜的阳极化 比无氧铜低5080)不会导致阳极钝化。 阳极膜会使微小晶粒从阳极脱落的现象大大减少 阳极膜在一定程度上阻止了铜阳极的过快溶解
电镀铜阳极表面积估算方法
圆形钛篮阳极表面积估算方法:
/2
F =3.14
操作条件对酸性镀铜效果的影响
电流密度 提高电流密度,可以提高镀层沉积速率,
但应注意其镀层厚度分布变差。 搅拌
阴极移动:阴极移动是通过阴极杆的往 复运动来实现工件的移动。移动方向与阳极成一 定角度。阴极移动振幅 50-75,移动频率10- 15次/分
操作条件对酸性镀铜效果的影响
空气搅拌 无油压缩空气流量0.3-0.8m3 / 2打气管距
钛篮直径 钛篮长度
方形钛篮铜阳极表面积估算方法
— 1.33
钛篮长度 钛篮宽度
系数
f与铜球直径有关:
直径=12
2.2
直径=15 2.0 直径=25 1.7
直径=28 1.6 直径=38 1.2
系数
磷铜阳极材料要求规格
主成份
– : 99.9%
–P : 0.04-0.065%
杂质
– : 0.003
–S : 0.003
电镀铜镀层厚度估算方法
电镀铜镀层厚度估算方法() = 0.0087*电镀阴极电流密度() X 电镀时间(分
钟) 1 = 25.4 µm
电镀铜板面镀层厚度分布评估方法
Coefficient of Variance:
(CoV ) 100 %
平均值
1 n
n i 1
Xi
for i = 1,2, ….., n (n= no. of points)
足够的导电性/厚度及防止导电电路出现热和 机械缺陷. 。
电镀示意图
ne-
+
直流 整流器
ne-
-
阳极
电镀上铜层
离子交换
阴极 (受镀物件)
Cu Cu2+ + 2e- Cu2+ + 2e- Cu
镀槽
- 电镀液组成(H2O+CuSO4.5H2O+H2SO4+Cl +添加剂)
硫酸盐酸性镀铜的机理
电极反应 阴极: 2+ +2 副反应 2+ + +
:浓度太低,溶液导电性差,镀
太高,降低 2+
散能力差。浓度
效率反而降低,并
的迁移率,电流
率不利。
对铜 镀层的延伸
:浓度太低,镀层出现台阶
操作条件对酸性镀铜效果的影响
温度 温度升高,电极反应速度加快,允许电
流密度提高,镀层沉积速度加快,但加速添加剂 分解会增加添加剂消耗,镀层结晶粗糙,亮度降 低。
温度降低,允许电流密度降低。高电流 区容易烧焦。防止镀液升温过高方法:镀液负荷 不大于0.2,选择导电性能优良的挂具,减少电能 损耗。配合冷水机,控制镀液温度。
标准偏差
1 n 1
in i 1
电镀铜培训教材
铜的特性
铜,元素符号,原子量63.5,密度8.94 克/
立方厘米2+的电化当量1.186克/安时。 铜具有良好的导电性和良好的机械性
能. 铜容易活化,能够与其它金属镀层形
成良 好的金属金属间键合,从而获得镀 层间的良好结合力。
电镀铜工艺的功能
电镀铜工艺 通过电解方法沉积金属铜,以提供
+ 阳极: -2e 2+
-e 2 + 1/2O2 + 2 22+ + H2O 副反应
2 + 2 H2O 2 + 2 2O + H2O 2 - 2+ +
酸性镀铜液各成分及特性简介
酸性镀铜液成分 硫酸铜(4.5H2O) 硫酸 (H24) 氯离子() 电镀添加剂
酸性镀铜液各成分功能
4.5H2O :主要作用是提供电镀所需2+
槽底3-8,气孔直径2 孔间距80-130。孔中心线 与垂直方向成45°角。 过滤
滤芯、1-5μm过滤精度、流量2-6次循环/ 小时 阳极
磷铜阳极、含磷0.04-0.065%
磷铜阳极的特色
通电后磷铜表面形成一层黑色(或棕黑)的薄膜黑 色(或棕黑色)薄膜为3P又称磷铜阳极膜 磷铜阳极膜的作用
阳极膜本身对(→2+)反应有催化、加速 作用,从而减少的积累。
b
b
cb
cb
b
b
b
c c bb
b
bb
c
c bb
cc bbc c
b
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光亮剂/载体/整平剂的混合
光亮l b剂c/c载c体b/c整c平 b l剂l 的混合 lbcccbccbll c
cc
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b
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镀铜添加剂的作用
载体抑制沉积而光亮剂加速沉积 整平剂抑制凸出区域的沉积 整平剂扩展了光亮剂的控制范围
及提高导电能力。
H24 :
主要作用是提高镀液导电性能,
均性。
提高通孔电镀的
: 解,协助
主要作用是帮助阳极溶
结晶。
改善铜的析出,
添加剂: 性能,
主要作用是改善均镀和深镀
酸性镀铜液中各成分含量对电镀效果的影响
4.5H2O :浓度太低,高电流区镀层易烧焦;
分散能力会降低。
浓度太高,镀液
H24 液分
– : 0.002
– : 0.002
– : 0.002
– : 0.001
影响阳极溶解的因素
阳极面积(即阳极电流密度控制在0.51.5之间)阳
极袋(聚丙烯) 阳极及阳极袋的清洗方法和频率
添加剂对电镀铜工艺的影响
载体 吸附到所有受镀表面, 增加表面 阻抗,从而改
变分 布不良情况. 抑制沉积速率 整平剂 -
选择性地吸附到受镀表面抑制沉积速率 光亮剂 -
选择性地吸附到受镀表面,降低表面阻抗,从而 恶 化分布不良情况. 提高沉积速率 氯离子 -
增强添加剂的吸附,各添加剂相互制约地起作
电镀层的光亮度 载体 (c) /光亮剂 (b)的机理
cbcbcbcb cccccccbcb
cc cc cccbcbcccbcb
光亮剂和载体
b c c光c 亮c 剂 c b和c 载c 体 c c b c c c c c b c c c cc
cc
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b
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cc
b
b
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b
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过量光亮剂
b c过b量 c b光c亮b剂 c b c b b c b c b c b c b c bb
bc
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cccccbcbcbcbcbcbcccccbcb
bb
bb bb bb bbbb bb bb
载体(c)快速地吸附到所有受镀表面并均一地抑制电沉积 光亮剂(b)吸附于低电流密度区并提高沉积速率. 载体(c)和光亮剂(b)的交互作用导致产生均匀的表面光亮度
电镀的整平性能 光亮剂(b),载体(c),整平剂(l)的机理
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