2016年北京自主招生化学模拟试题：硅酸盐

2016年北京自主招生化学模拟试题:硅酸盐【试题内容来自于相关网站和学校提供】1：有一粗铝，含铁和硅两种杂质，取等质量的样品分别投入足量的稀盐酸和足量的稀氢氧化钠溶液中，放出等量的H2，则该粗铝中铁和硅的关系正确的是( )A、物质的量之比为1:1B、物质的量之比为1:2C、质量比为4:1D、质量比为2:12：《青花瓷》中所描绘的“瓶身描绘的牡丹一如你初妆”、“色白花青的锦鲤跃然于碗底”等图案让人赏心悦目，但古瓷中所用颜料成分一直是个谜，近年来科学家才得出大多为硅酸盐，如蓝紫色的硅酸铜钡（，铜为+2价），下列关于硅酸铜钡的说法不正确的是（）A、可用氧化物形式表示为B、性质稳定，不易脱色C、易溶解于强酸和强碱D、x等于63：有关普通玻璃的叙述中，错误的是（）A、玻璃是混合物，主要成分是SiO2及硅酸盐B、钢化玻璃与普通玻璃在组成成分差异很大C、玻璃不是晶体，称作玻璃态物质D、玻璃没有一定的熔点，在某温度范围内软化4：对于反应:3C+SiO2SiC+2CO↑，下列说法正确的是（）A.C作还原剂，SiO2作氧化剂B.每消耗3.6 g C，可得到4.48 L COC.氧化剂与还原剂的物质的量之比为1:2D.非金属性:C<Si5：（双选）新型无机非金属材料碳化钛（TiC）、碳化硼（B4C3）、氮化硅（Si3N4）等称为非氧化物陶瓷，合成这些物质需在高温下进行，在合成工艺中必须注意（）A、通入充足的氧气B、避免与氧气接触C、可在氩气气氛中合成D、通入少量氧气6：图中A，B，C；D分别代表有关反应中的一种化合物，其中物质A是一种高熔点化合物，不溶于硫酸、硝酸，却溶于氢氟酸。

请填写以下空白。

(1)A、B、C、D的化学式分别是、、、。

(2)A→B的化学方程式是。

(3)C→D的离子方程式是。

7：三硅酸镁被用来治疗胃溃疡，是因为该物质不溶于水，服用后能中和胃酸，作用持久。

把三硅酸镁改写成氧化物的形式为，写出它中和酸()的化学方程式。

8：已知钾云母的化学式为K2H4Al6Si6O24。

改用氧化物的形式可表示为______________。

9：（2012·重庆高考）（节选）碳还原制，其粗产品中杂质为和，先将20.0 g 粗产品加入到过量的溶液中充分反应，收集到0.1 mol ，过滤得到固体11.4 g，滤液稀释到1L。

(1)生成氢气的离子方程式为_ _。

(2)硅酸盐的物质的量浓度为_ _。

10：获取知识和信息是现代人不可缺少的素质，信息产业的飞速发展离不开材料科学的推动，信息产业的核心材料是高纯度的硅。

下面是高纯度单晶硅的生产方法之一：近代用得较多的另一种方法之二是：用金属硅化物()与盐酸作用制得硅烷( )；再热分解硅烷可得高纯硅。

单晶硅可用作制作大规模集成电路、整流器等，硅纯度越高，大规模集成电路的性能越好。

(1)从方法一生产单晶硅的过程看，由碳还原得到的硅为何还要进一步处理？。

(2)写出方法二中，生产高纯硅的两个化学方程式：①。

②。

11：在下列物质的转化关系中，A是一种固体单质，且常作半导体材料，E是一种白色沉淀，F是最轻的气体单质。

据此填写：(1)B的化学式是_____，目前在现代通讯方面B已被用_____作的主要原料。

(2)B和a溶液反应的离子方程式是_____。

(3)A和a溶液反应的离子方程式是_____。

(4)C和过量盐酸反应的离子方程式是_____。

12：A元素的单质是重要的半导体材料，含A元素的化合物C可用于制造高性能的现代通讯材料——光导纤维，C与烧碱反应生成含A元素的化合物D。

（1）A的原子结构示意图为________。

（2）易与C发生化学反应的酸是________，发生反应的化学方程式是_________________________________。

（3）C与纯碱混合高温熔融时，发生化学反应生成D，同时还生成氧化物B；将全部的B与全部的D在足量的水中混合，又发生化学反应生成含A的化合物E。

写出生成D和E的化学方程式________________________________________________________________________。

（4）100 g C与石灰石的混合物充分反应后，生成的气体在标准状况下的体积为11。

2 L，100 g混合物中石灰石的质量分数是____________。

13：0.80g 样品受热脱水过程的热重曲线（样品质量随温度变化的曲线）如下图所示。

试确定200℃时固体物质的化学式（要求写出推断过程）14：Ⅰ.电子工业常用30%的溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜箔，制造印刷电路板。

用溶液做腐蚀液与Cu反应生成和。

（1）写出该反应的化学方程式：________________________________________________________________________。

（2）检验溶液中存在的试剂是____________，证明存在的现象是________________________________________________________________________。

Ⅱ.印刷电路的废腐蚀液含有大量、、，任意排放会造成环境污染及资源的浪费。

通过下列流程可从该废液中回收铜，并将铁的化合物全部转化为溶液，作为腐蚀液原料循环使用。

（3）步骤①中发生反应的离子方程式为_________________________________________________。

（4）滤渣的主要成分是__________________________________________________________（填化学式）。

（5）为了除去滤渣中的杂质得到铜，需加入的试剂A是_____________________________（填化学式）。

（6）步骤③通入的气体B是________（填化学式），写出该反应的化学方程式：________________________________________________________________________。

15：向30 mL硫酸铜溶液中加入铝粉3.24 g（过量），待充分反应后，再向其中加入一定浓度的烧碱溶液至白色难溶物恰好消失，消耗烧碱溶液210 mL，同时收集到气体672 mL(标准状况)，试计算：(1)与硫酸铜溶液反应后剩余铝粉的质量；(2)烧碱溶液的物质的量浓度；(3)原硫酸铜溶液的物质的量浓度。

答案部分1、C一定量的Al与酸反应或与碱反应放出的H2量相等，据题意可知粗铝中的Fe与酸反应放出的H2和硅与碱反应放出的H2量相等，据反应：Fe＋2HCl＝FeCl2＋H2↑，Si＋2NaOH＋H2O＝Na2SiO3＋2H2↑可知，Fe与Si的物质的量之比为2:1时产生的H2量相等，而当Fe与Si的物质的量之比为2:1时，其质量比为4:t。

2、C硅酸铜钡性质稳定，难溶于强酸和强碱。

C 项错误。

3、BA 、玻璃含有硅酸钙、硅酸钠、二氧化硅，是混合物，故A 正确；B 、钢化玻璃的制作方法是：将普通玻璃高温变软后急速冷却，可制得钢化玻璃，钢化玻璃的成分和普通玻璃一样，故B 错误；C 、玻璃不是晶体，没有固定的熔沸点，在一定温度加热软化，称作玻璃态物质，故C 正确；D 、玻璃不属于晶体，没有一定的熔点，在某温度范围内软化，故D 正确。

故选：B 。

4、CA.该反应明显是一个氧化还原反应，其中，C 既作氧化剂也作还原剂，氧化剂与还原剂的物质的量之比为1:2，A 错；B. 由于没有指明气体所处的状态，B 错；C.正确；D. 碳的原子半径比硅小，故碳的非金属性比硅强。

故选：C 。

5、B,C合成这些非氧化物陶瓷的化学反应环境中不能有O 2，否则这些化合物会被氧化。

BC 正确。

6、(1)SiO 2；CO ；CO 2；H 2SiO 3(2)(3)SiO 32-+CO 2+H 2O=H 2SiO 3↓+CO 32-本题主要考查SiO2的特性。

其突破口应从“A是一种高熔点的化合物，不溶于硫酸、硝酸，却溶于氢氟酸”推断出A为SiO2，然后依次可推断出B为CO，C为CO2，D为H2SiO3。

7、11.用氧化物的形式表示硅酸盐的时候，应注意书写原则；第二问若直接写三硅酸镁与盐酸反应，许多同学会感到无从下手，所以应从氧化物形式书写着手。

碱性氧化物()能与盐酸反应，而不能与盐酸反应可当成杂质，最后写出正确的方程式。

本题主要考查硅酸盐的书写方式和性质，其氧化物形式的书写关键在于化合价，该物质中为+2价，为+4价，其氧化物化学式为，与盐酸反应的方程式（只有能反应）为：。

8、K2O·3Al2O3·6SiO2·2H2O硅酸盐化学式用氧化物的组成形式来表示的一般方法是：①按顺序写氧化物：活泼金属氧化物不活泼金属氧化物非金属氧化物SiO2H2O。

②氧化物数目用阿拉伯数字在其前面表示。

-19、0.17 mol·L(1)非金属单质只有硅可与溶液反应放出，其化学方程式为，将其改写成离子方程式即可。

(2)由此方程式可知，则，则，，10、(1)由C 还原得到的单质中，杂质含量过高，将它用、处理得到低沸点的，便于蒸馏提纯，然后再还原得到高纯硅(2)①②(1)根据方法一的生产流程，可得如下反应式：，所得的粗硅中含有大量的其他杂质（如、等），没有实际应用价值，将粗硅用、处理转化为沸点低的，反应方程式，低沸点的通过蒸馏极易将其分离提纯，然后将纯的在高温下用还原即可得到纯度高的i 蒸气，，再用气相沉积法即可制得高纯度的硅，从而得到单晶硅。

( 2)与盐酸作用制得，根据原子守恒可知另一种生成物为，其反应方程式为：；再将进行热分解即可得到高纯硅和，其反应方程式为：。

11、(1)SiO 2；制光导纤维；(2)SiO 2＋2OH －＝SiO 32－＋H 2O(3)Si ＋2OH －＋H 2O=SiO 32－＋2H 2↑(4)SiO 32－＋2H＋=H 2SiO 3↓A 为固体单质且为半导体材料，则A 为Si ，B 为SiO 2，由于E 中含Si 元素且是加入盐酸后产生的沉淀，则E 为H 2SiO 3，从而推出a 为NaOH ，C 为Na 2SiO 3，D 为H 2O ，而F 为H 2。

12、（1）（2）氢氟酸 SiO 2＋4HF ＝SiF 4↑＋2H 2O （3）Na 2CO 3＋SiO 2Na 2SiO 3＋CO 2↑，Na 2SiO 3＋CO 2＋H 2O===Na 2CO 3＋H 2SiO 3↓ （4）50%（1）A 元素单质可作半导体材料，含A 元素的某化合物是制造光导纤维的原料，可知A 为硅。

（2）C 为SiO 2，能与SiO2反应的酸只有氢氟酸。