单电子隧道效应
物理-势垒和隧道效应

三.扫描隧道显微镜 (STM)
48个Fe原子形成“量子围栏”,围栏 中的电子形成驻波。 “量子围栏-扫描隧道显微术的又一杰作”
三.扫描隧道显微镜 (STM)
1986诺贝尔物理学奖宾 尼:设计出扫描式隧道 效应显微镜
1986 诺 贝 尔 物 理 学 奖 罗雷尔:设计出扫描式 隧道效应显微镜
三.扫描隧道显微镜 (STM)
Gamov首先用势垒穿透成功说明了原子核的α衰变。后来人 们用来成功解释了电子穿越金属表面,金属电子的冷发射; 氢核穿越Couloms势垒发生核聚变等。
§3.5 势垒和隧道效应
怎样理解粒子通过势垒区?
经典物理:从能量守恒的角度看是不可能的。
量子物理:粒子有波动性,遵从不确定原理, 粒子经过势垒区和能量守恒并不矛盾。
参考信号
隧道电流 不接触、不破坏样品
三.扫描隧道显微镜 (STM)
隧道电流i 与样品和针尖间距离d 的关系
i Ue A d A—常量
隧道电流 i
d —样品和针尖间的距离 U—加在样品和针尖间的微小电压
探针
U
—样品表面平均势垒高度
d
d
~
。 10A
Hale Waihona Puke 样品d 变~ 1 A。
i 变几十倍,非常灵敏。
隧道效应
E
Ⅰ区
0 Ⅱ区 a
Ⅲ区
x
隧道效应这种现象只在一定条件下才比较显著!
假设:k2a 1
shk2a
1 2
e k2a
§3.5 势垒和隧道效应
T 灵敏地依赖于粒子的质量m,势垒宽度a以及(U0-E)。
U 0 0.1eV
E 0.005eV 当U0-E=5eV,势垒的宽度约50nm 以上时,隧道效应在实际上已经没有 意义了。量子概念过渡到经典了。
单电子晶体管

一、单电子晶体管定义及构造 二、单电子晶体管工作原理 三、单电子晶体管特征 四、单电子晶体管进展概况 五、单电子晶体管的应用及展望
一、定义及构造
定义:单电子晶体管是 基于库仑堵塞效应和单 电子隧道效应的根本物 理原理的一种新型纳米 电子器件。 构造:一般它由以下5局 部组成,〔1〕库仑岛或 量子点;〔2〕隧道势垒; 〔3〕势垒区;〔4〕栅 氧化层;〔5〕源、漏、 极。如右图1所示。
图 3 单电子晶体管与通常晶体管比照图
四、单电子晶体管进展概况
1968 年,Zeller 和Giaever 争论了Al-Al2O3-Al 构 造的导电特性。结果显示,当电压较低时,电流较小 ,而电压超过某一临界电压Vs 时,电导趋向于饱和 。Vs 猛烈地依靠于Sn颗粒的大小。据此,他们指出 ,在低温时,对于单隧道结,只有当V>e/2C 时才有 电流,并将这一电压值称为库仑抑制势。1969 年, Lambe 和Jaklevic 的试验说明,金属颗粒中的平均 电荷数随附加电压的增加而增加。Shekhter据此分析 预言,此种构造中,I -V 曲线将随电压的变化作周 期性的振荡。此预言后来被试验所证明。这个结论激 发起人们的灵感,人们开头设想,可以通过周期性地 转变中间金属颗粒的电压来掌握单个电子的通过与截 断。单电子晶体管的概念就这样产生。
五、单电子晶体管的应用及展望
• 由于SET具有高频、高速、功耗小、集成度高和适用作多 值规律等特性,所以SET可广泛用于高速高密度IC、超高 灵敏度静电计、单光子器件、高灵敏度红外辐射探测器 、超高速微功耗特大规模量子功能器件、电路和系统、 量子功能计算机等。如日本电信 公司于1999年12月研 制成功承受多个单电子晶体管的电子计算机规律电路, 最初的电路是一个加法器。2023年4月又研制成功基于硅 衬底可高密度集成化的单电子晶体管和单电子元件。假 设把各种技术相结合,有望不久将实现高密度集成化单电 子规律电路。但是,目前大多数单电子晶体管和IC的工 作温度都较低,通常在液氮温度〔77K〕。目前,人们正 在探究室温工作的SET及其IC。
隧道效应及其应用

隧道效应及其应用隧道效应是指电荷穿过微小通道时,隧道效应波在均匀媒质中传播,并在微小距离内消失,也就是说,将一种粒子注入到一个势垒中时,隧道效应将允许这种粒子到过势垒。
在材料科学技术中,隧道效应有着广泛的应用。
例如,金属-绝缘体-金属隧道结是一种重要的电子器件。
它在纳米电子学、超导电子学、晶体管和以太网协议等多种领域得到广泛应用。
本文将探讨隧道效应的相关知识和其应用。
一、隧道效应的基础知识隧道效应是一种量子力学现象,是发生在纳米尺度下的粒子动力学现象。
在典型的隧道效应过程中,电子“透过”屏障,而非越过屏障。
隧道效应中的关键因素是隧道势垒的高度和宽度,这是隧道效应发生的必要条件。
隧道效应是由卡尔·波普尔(Karl Popper)首先提出的,通过用微波照射大约10mm范围内的铍结构,波普尔和一组研究人员成功地验证了隧道效应假说。
事实上,隧道效应已经成为科学研究的基础,作为微电子器件的设计和制造过程中重要的一环。
二、金属-绝缘体-金属隧道结的应用金属-绝缘体-金属(MIM)隧道结是一种电子器件,其制备工艺为将绝缘层夹在两层金属层之间。
这种器件的应用可追溯到20世纪70年代,当时Dr. James Francis Gibbons将其应用于元越隧道效应(ESD)测量。
十年后,MIM隧道结被首次用于超导磁通量量子位的变化探测器。
现在,MIM隧道结被广泛运用于各种电子器件,包括晶体管、存储器、逻辑门和模拟单元。
这些器件源自于MIM隧道结具有优秀的诸如电流电压特性和噪声特性的性质。
三、隧道效应在半导体行业的应用半导体行业中,隧道效应在器件的制造和测试过程中具有重要的作用。
隧道效应被用作某些器件的基础结构,这些器件包括MOSFET、BIT、TET和BJT等。
在制造这些器件时,隧道效应被用作材料特性的测定和校准。
此外,隧道效应还被用于各种类型的测量,包括光子计数、电子自旋共振(ESR)、电子电感(ELI)测量等。
隧道(Josephson)效应及其应用

隧道(Josephson)效应及其应用Josephson 效应josephson 效应 即 隧道效应 。
隧道效应由微观粒子波动性所确定的量子效应。
又称势垒贯穿。
考虑粒子运动遇到一个高于粒子能量的势垒,按照经典力学,粒子是不可能越过势垒的;按照量子力学可以解出除了在势垒处的反射外,还有透过势垒的波函数,这表明在势垒的另一边,粒子具有一定的概率,粒子贯穿势垒。
约瑟夫森效应属于遂穿效应,但有别于一般的隧道效应,它是库伯电子对通过由超导体间通过若连接形成约瑟夫森结的超流效应。
历史沿革1957年,江崎玲於奈在改良高频晶体管2T7的过程中发现,当增加PN 结两端的电压时,电流反而减少,他将这种现象解释为隧道效应。
1960年,美裔挪威籍科学家加埃沃通过实验证明了在超导体隧道结中存在单电子隧道效应。
1962年,英国剑桥大学实验物理学研究生约瑟夫森预言,当两个超导体之间设置一个绝缘薄层构成SIS 时,电子可以穿过绝缘体从一个超导体到达另一个超导体。
这一预言不久就为P.W.安德森和J.M.罗厄耳的实验观测所证实——电子对通过两块超导金属间的薄绝缘层(厚度约为10埃)时发生了隧道效应,于是称之为“约瑟夫森效应”。
隧道效应(势垒贯穿)设一个质量为m 的粒子,沿x 轴正方向运动,其势能为:这种势能分布称为一维势垒。
粒子在 x < 0 区域里,若其能量小于势垒高度,经典物理来看是不能越过势垒 达到 x > a 的区域。
在量子力学中,情况则不一样。
为讨论方便,我们把整个空间分成三个区域:在各个区域的波函数分别表示为Ψ1 Ψ2 Ψ3 。
=)(x U ,0,0U ax x ><和0ax ≤≤00U VOa IIIxIII)(),0(),0(a x a x x ≥I∏≤≤∏≤I ),()(212122x E dxx d m ϕϕ=- 0≤x三个区间的薛定谔方程简化为:方程的通解为:三式的右边第一项表示沿x 方向传播的平面波,第二项为沿x 负方向传播的平面波。
扫描隧道显微镜

纳米科学技术(简称Nano ST)是1990年才正式诞生的一门具有广阔前景的新技术,是在0.1~100nm尺度空间内研究电子、原子、分子特性和技术应用的高科技学科。
它的最终目标是人类按自己的意志直接操纵单个原子或分子,制造具有特定功能的产品。
纳米科学技术起源于1981年美国IBM公司、瑞士苏黎世研究实验室的宾尼格(G.Binnig)和罗赫尔(H.Rohrer)发明的扫描隧道显微镜(简称STM),在技术上实现了对单个原子的控制与操作。
为此,他们与显微镜发明人蜀斯卡分享了1986年诺贝尔物理学奖。
扫描隧道显微镜是根据量子力学中的隧道效应原理,通过探测固体表面原子中电子的隧道电流来分辨固体表面形貌的新型显微装置。
根据量子力学原理,由于电子的隧道效应,金属中的电子并不完全局限于金属表面之内,电子云密度并不是在表面边界处突变为零。
在金属表面以外,电子云密度呈指数衰减,衰减长度约为1nm。
用一个极细的、只有原子线度的金属针尖作为探针,将它与被研究物质(称为样品)的表面作为两个电极,当样品表面与针尖非常靠近(距离<1nm)时,两者的电子云略有重叠,如图1所示。
若在两极间加上电压U,在电场作用下,电子就会穿过两个电极之间的势垒,通过电子云的狭窄通道流动,从一极流向另一极,形成隧道电流I 。
隧道电流I 的大小与针尖和样品间的距离s 以及样品表面平均势垒的高度有关,其关系为,式中A为常量。
如果s以nm为单位,以eV为单位,则在真空条件下,A ≈1,。
由此叧见,隧道电浀I 对针尖与样品表面之间的距离s极串敏感,如果s减小0.1nm,隧遑电流就会增傠一个数量级。
当针尖ᜨ样品表面上方扫描时,即使其表靂只有厛子尺庢的起伏,也将通过其隧道电流显示出来。
借助于电孀仪器和计算机,在屏幑上即显示出栗品的表面形貌。
一般说来,扫描隧道显微镜由扫描隧道显微镜主体、控制电路、控制计算机(测量软件和数据处理软件)三大部分组成。
扫描隧道显微镜主体包括针尖的平面扫描机构、样品与针尖间距控制调节机构及系统与外界振动的隔离装置。
【历届诺贝尔奖得主(六)】1973年物理学奖得主

1973年12月10日第七十三届诺贝尔奖颁发。
物理学奖日本科学家江崎岭于奈因发现半导休中的隧道效应并发明隧道二极管、美国科学家贾埃沃因发现超导体隧道结单电子隧道效应、英国科学家约瑟夫森因创立超导电流通过的势垒的约瑟夫森效应而共同获得诺贝尔物理学奖。
江崎玲于奈1925年3月12日出生于日本大阪,1940年就读于京都第三高等学校,1947年毕业于东京大学。
后进入川西机械制作所工作,进行由真空管的阴极放出热电子的研究工作。
1956年,转入东京通信工业株式会社(现索尼)。
1973年因在半导体中发现电子的量子穿隧效应获得诺贝尔物理学奖。
基本信息江崎玲于奈1925年3月12日出生于日本大阪,1940年就读于京都第三高等学校,1944年进入东京帝国大学,是日本近代著名固体物理学家江,是建筑学家江崎壮一郎的长子。
20世纪50年代,根据理论分析,人们认为在PN结反向击穿的过程中应当能够观测到隧道效应,但实验上一直未能发现。
1957年,江崎玲于奈在研制新型高频晶体管时,意外地发现了高掺杂、窄PN结的正向伏安特性中存在着异常的负阻现象。
通过理论分析,他认为这种负阻特性是由于电子空穴直接穿透结区而形成的,从而为隧道效应提供了有力的证据。
在随后的研究中,他发明了由隧道结制成的隧道二级管。
隧道二极管的发明,开辟了一个新的研究领域——固体中的隧道效应。
研究历程1944年,江崎进入日本东京帝国大学专攻实验物理,1947年获得硕士学位(后来于1959由于研究隧道效应获得博士学位),随即服务于神户工业股份有限公司,开始了作为晶体管材料的锗和硅等半导体的研究,1956年成为东京通信工业股份有限公司(现在的索尼)的主任研究员,领高掺杂锗与硅的研究,这一研究的结果导致了隧道二极管的发明。
所谓“隧道现象”是指电子偶然地穿过其运动方向上的从经典理论观点看来是不可越的能量势垒(不太大)时,会在势垒的另一边发现电子运动的一种波动性的奇怪现象,这在本纪二十年代就已经发现了。
单电子器件

一 什么是单电子器件(SED )二 单电子器件的基本原理 库仑阻塞效应和单电子隧穿三 单电子晶体管(SET )及其工作原理(量子旋转门效应)四 单电子器件的应用一 引言对于目前的电子器件来说,器件的最小尺寸要大于电子的德布罗意波长,也就是说我们都是将电子看成是经典的粒子,我们不妨将这种器件称为经典器件。
但近些年来,随着微细加工技术的飞快发展和电子电路集成度的提高,都要求电子器件的尺寸越小越好。
但是器件尺寸的缩小并不是无限度的,就像CMOS 器件,它由于受固体结构特性的最小尺寸,电流、电压感应击穿,功率耗散,热噪声和海森堡测不准原理等因素的限制, 已经接近物理极限, 要想进一步发展大规模集成电路, 就需要更小的器件。
例如其沟道长度如果缩小到小于0.25微米,甚至几十纳米几纳米数量级时,因为量子隧穿,器件就会失效。
也就是说随着器件尺寸的缩小就必须要考虑器件的量子效应,所以量子器件成为了人们的研究热点。
今天我将给大家介绍一种量子器件--单电子器件。
二 什么是单电子器件?单电子器件是基于库仑阻塞效应和单电子隧道效应的基本物理原理来控制一个或少数几个电子的位置和移动的一种新型纳米电子器件。
(单电子效应:通过改变电压的方法来操纵电子一个一个的运动)三 单电子器件的基本理论(库伦阻塞效应和单电子隧穿现象)1.我们先从一个简单的模型来解释库仑阻塞和单电子隧穿现象库伦阻塞效应最早是在微小隧道结实验中发现的,如图1所示,一个理想的没有旁路电导的金属隧穿结。
它实际上就是一个平行板电容器,只不过电极板之间的间距只有十几个Å,结面积也很小所以隧穿结的电容也很小假设只有1×10-16F 的量级。
当有电子隧穿过隧道结时会使结两端的电位差发生变化,从而使节的静电能也发生变化,给结附加的充电能Ce 2,如果此时的静电能远远大于低温下的热运动能量k B T( k B 玻耳兹曼常数0.38066×10-23,T 是绝对温度)。
JJF1023电学计量名词术语(修改稿9)

6.1.1 真空磁导率(permeability of vacuum) 6.1.2 介电系数,电容率(permittivity)0也称电常数(electric constant)。
6.1.3电动势(electromotive force)6.1.4接触电动势(contact electromotive force) 6.1.5感应电(动)势(induced electromotive force)6.1.6导体(conductor)6.1.7绝缘体(insulator)6.1.8半导体(semiconductor)6.1.9超导体(superconductor)6.1.10接触电位(差)(contact potential[difference])6.1.11热电效应(thermoelectric effect)6.1.12塞贝克效应(Seebeek effect)6.1.13珀耳帖效应(Polfier effect)6.1.14汤姆逊效应(Thomson effect)6.1.15约瑟夫森效应(Josephson effect)6.1.16量子化霍尔效应(quantum Hall effect) 6.1.17单电子隧道效应(single electron tunnel effect)6.1.18 功率天平(Watt balance)6.1.19交流电阻时间常数(time constant of ac resistor)6.1.20介电强度(dielectric strength)6.1.21绝缘电阻(insulation resistance)6.1.22 电流(electric current)6.1.23 电压(voltage)6.1.24 电阻(resistance)6.1.25 电导(conductance)6.1.26 阻抗(impedance)6.1.27 导纳(admittance)6.1.28 电容(capacitance)6.1.29 电感(inductance)6.1.30 电阻率(resistivity)6.1.31 电导率(conductivity)6.1.32 磁导率(permeability)6.1.33 静电场(electrostatic field)6.1.34 电场强度(electric field intensity)6.1.35 电位(electric potential)6.1.36 电荷(electric charge)6.1.37 库伦定律(Coulomb’s law)6.1.38 电位移(electric displacement)6.1.39 拉普拉斯方程(Laplace’s equation) 6.1.40 静电感应(electrostatic induction)6.1.41 恒定电场(steady electric field)6.1.42 欧姆定律(Ohm law)6.1.43 焦耳定律(Joule’s law)6.1.44 安培(ampere)6.1.45 伏特(volt)6.1.46 库仑(couomb)6.1.47 欧姆(ohm)6.1.48 西门子(siemens)6.1.49 法拉(farad)6.1.50 亨利(henry)6.1.51 瓦特(watt)6.1.52 电路(electric circuit)6.1.53 激励(excitation)6.1.54 响应(response)6.1.55 电路元件(electric circuit elements) 6.1.56 无源二端元件(passive two-terminal elements)6.1.57 电压源(voltage sources)6.1.58 电流源(current sources)6.1.59 受控源(controlled sources)6.1.60 开路(open circuit)6.1.61 短路(short circuit)6.1.62 理想变压器(ideal transformer)6.1.63 基尔霍夫定律(Kirchhoff’s law)6.1.64 直流(direct current)6.1.65 交流(alternating current)6.1.66 正弦电流(sinusoidal current)6.1.67 频率(frequency)6.1.68 赫兹(hertz)6.1.69 相位(phase)6.1.70 相量(phasor)6.1.71相量图(phasor diagram)6.1.72 谐振(resonance)6.1.73 铁磁谐振电路(ferro- resonance circuit)6.1.74 三相电路(three-phase circuit)6.1.75 三相电源(three-phase sources)6.1.76 三相负载(three-phase loads)6.1.77 相电压(phase voltages)6.1.78 线电压(line voltages)6.1.79 相电流(phase currents)6.1.80 线电流(line currents)6.1.81 对称三相电路(symmetricalthree-phase circuit)6.1.82 非对称三相电路(unsymmetrical three-phase circuit)6.1.83 三相电路功率(power of three-phase circuit)6.1.84 非正弦周期电流电路(non-sinusoidal periodic current circuits)6.1.85 基波电流(fundamental current)6.1.86 谐波电流(harmonic current)6.1.87 频谱(frequency spectrum)6.1.88 瞬时值(instantaneous value)6.1.89 平均值(average value)6.1.90有效值(effective value)6.1.91 峰值(peak [value])6.1.92波形因数(wave factor)6.1.93 总谐波畸变率(total harmonic distortion)6.1.94 平均功率(average power)6.1.95视在功率(apparent power)6.1.96无功功率(reactive power)6.1.97 复功率(complex power)6.1.98 谐波功率(harmonic power)6.1.99 畸变功率(distortion power)6.1.100 伏安(volt ampere)6.1.101 乏(var)6.1.102 瓦特小时(watt hour)6.1.103 串联(series connection)6.1.104 并联(parallel connection)6.1.105 星形阻抗与三角形阻抗的变换(transformation between star-connected and delta connected impedances)6.1.106电源的等效变换(equivalent transformation between sources)6.1.107回路法(loop analysis)6.1.108节点法(node analysis)6.1.109叠加定理(superposition theorem)6.1.110替代定理(substitution theorem)6.1.111 互易定理(reciprocity theorem)6.1.112戴维南定理(Thevenin theorem)6.1.113诺顿定理(Norton theorem)6.1.114 二端口(2-port)6.1.115 特性阻抗(characteristic impedance) 6.1.116 输入阻抗(input impedance)6.1.117 输出阻抗(output impedance) 6.1.118 传播常数(propagation constant)6.1.119 品质因数(quality factor )6.1.120 阻抗匹配(impedance matching)6.1.121 网络函数(network functions)6.1.123 分布参数电路(distributed parameter circuit)6.1.124 一阶电路(first order circuit)6.1.125 二阶电路(second order circuit)6.1.126 高阶电路(high order circuit)6.1.127 非线性电路(nonlinear electric circuit)6.1.128 端子(terminal)6.1.129 端变量(terminal variable)6.1.130 两端(2T) (2-terminal)6.1.131 三端(3T) (3-terminal)6.1.132 四端(4T) (4-terminal)6.1.133五端(5T) (5-terminal)6.1.134四端对(4TP)(4-terminal pair)6.1.135磁场(magnetic field)6.1.136 磁感应强度(magnetic induction)6.1.137磁通量(magnetic flux)6.1.138 磁导率(permeability)6.1.139 相对磁导率(Reletive permeability) 6.1.140磁矩(Magnetic(area) moment)6.1.141 磁化强度(Magnetization)6.1.142 磁极化强度(magnetic polarization) 6.1.143 磁场强度(magnetic intensity)6.1.144磁偶极矩(magnetic dipole moment)6.1.145 磁通势(magnetomotive force)6.1.146 磁阻(reluctance)6.1.147 磁导(permeance)6.1.148 磁化率(magnetic susceptibility)6.1.149 磁共振(magnetic resonance)6.1.150核磁共振(nuclear magnetic resonance)6.1.151霍尔效应(hall effect)6.1.152 波尔磁子(Bohr magneton)6.1.153 质子旋磁比(Proton gyro magnetic ratio)6.1.154 磁通量子(F1ux quantum (F1uxon))6.2 电学计量6.2.1.1直流电压基准(Primary Standard of DC V oltage)6.2.1.2直流电动势基准(Primary Standard of DC Electromotive Force)6.2.1.3直流电阻基准(Primary Standard of DC Resistance)6.2.1.4电容基准(Primary Standard of Capacitance)6.2.1.5电容器损耗因数基准(Primary Standard of Dissipation Factor)6.2.1.6电感基准(Primary Standard of Inductance)6.2.1.7交流电流基准(Primary Standard of AC Current)6.2.1.8交流电压基准(Primary Standard of AC V oltage)6.2.1.9交流功率基准(Primary Standard of AC Power)6.2.1.10工频电能基准(Primary Standard of AC Energy at Industrial Frequency)6.2.1.11磁感应强度基准(Primary Standard of Magnetic Flux Density)6.2.1.12数字阻抗电桥标准(Standard for LCR meter)6.2.1.13数字多用表检定装置(Standard of Multimeter)6.2.1.14超导强磁场标准(Standard of Supper Conducting High Magnetic Field)6.2.1.15非铁磁金属电导率标准(Standard of Conductivity for Nonferrous Metals)6.2.1.16模/数、数/模转换测量标准(Standard of ADC and DAC)6.2.1.17标准电池(standard cell)6.2.1.18固态电压标准(solid state voltage standard)6.2.1.19标准电阻(standard resistor)6.2.1.20计算电容(cross capacitor)6.2.1.21感应分压器(inductive voltage divider)6.2.1.22分流器(shunt)6.2.1.23直流电流比较仪(direct current comparator)6.2.1.25多功能校准源(multifunction calibrator)6.2.1.26数字阻抗电桥(LCR meter)6.2.1.27 电压表(voltmeter)6.2.1.28 电流表(amperometer)6.2.1.29 电阻表(ohnneter)6.2.1.30 功率表(Watt meter)6.2.1.31 电能表(kWh meter)6.2.2电学计量常用测量方法6.2.2.1 直接测量(法)(direct (method of) measurement)6.2.2.3组合测量(法)(combination (method of) measurement)6.2.2.4 比较测量(法)(comparison (method of) measurement)6.2.2.5 零值测量(法)(null (method of) measurement)6.2.2.6 差值测量(法)(differential (method of) measurement)6.2.2.7 替代测量(法)(substitution (method of) measurement)6.2.2.8 不完全替代法(semi-substitution method of measurement)6.2.2.9 内插测量(法)(interpolation (method of) measurement)6.2.2.10 互补测量(法)(complementary (method of) measurement)6.2.2.11 差拍测量(法)(beat (method of) measurement)6.2.2.12 谐振测量(法)(resonance (method of) measurement)6.2.2.13 模数转换(analogue to digital conversion)6.2.2.14 数模转换(digital to analogue conversion)6.2.2.15 静电屏蔽(electrostatic screen)6.2.2.16 磁屏蔽(magnetic screen)6.2.2.17 泄漏电流(leakage current)6.2.2.18 电位屏蔽(potential screen)6.2.2.19 等电位屏蔽(equip—potential screen)6.2.2.20 无定向结构(astatic construction)6.2.2.21交流-直流转换(AC-DC conversion) 6.2.2.22交流-直流转换器<AC-DC converter) 6.2.2.23交流-直流比较仪(AC-DC comparator)6.2.2.24热电变换器(thermal converter)6.2.2.25 共模电压(common mode voltage)6.2.2.26 串模电压(series mode voltage)6.2.2.27 共模抑制比(common mode rejection ratio ———CMRR)6.2.2.28 串模抑制比(series mode rejection ratio——SMRR)6.2.2.29 非对称输入(asymmetrical input) 6.2.2.30 非对称输出(asymmetrical output) 6.2.2.31 对称输入(symmetrical input)6.2.2.32 对称输出(symmetrical output)6.2.2.33 差分输入电路(differential input circuit)6.2.2.34 接地输入电路(earthed input circuit 或grounded input)6.2.2.35 接地输出电路(earthed output circuit或grounded output)6.2.2.36 浮置输入电路(floating input circuit)6.2.2.37 浮置输出电路(floating output circuit)6.2.3.1 模拟(测量)仪表(analogue (measuring) instrument)模拟指示仪表(analogue indicating instrument)6.2.3.2 数字(测量)仪表(digital (measuring) instrument)6.2.3.3 热电系仪表(electrothermal instrument)6.2.3.4 双金属系仪表(bimetallic instrument)6.2.3.5 热偶式仪表(thermocouple instrument)6.2.3.6 整流式仪表(rectifier instrument)6.2.3.7 振簧系仪表(vibrating reed instrument)6.2.3.8 多用表、万用表(multimeter)6.2.3.9(测量)电桥((measuring) bridge)6.2.3.10(测量)电位差计((measuring) potentiometer)6.2.3.11 分压器(voltage divider)6.2.3.12 比较仪(comparator)6.2.3.13 指针式仪表(pointer instrument)6.2.3.14 光标式仪表(instrument with optical index)6.2.3.15 动标度仪表(moving-scale instrument)6.2.3.16 影条式仪表(shadow column instrument)6.2.3.17 静电系仪表(electrostatic instrument)6.2.3.18 磁电系仪表((permanent magnet) moving-coil instrument)6.2.3.19 动磁系仪表(moving magnet instrument)6.2.3.20 电磁系仪表(moving-iron instrument)6.2.3.21 电动系仪表(electrodynamic instrument)6.2.3.22 铁磁电动系仪表(ferrodynamic instrument)6.2.3.23 感应系仪表(induction instrument)。
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下面简单介绍几个概念:
单电子隧道由下面几项构成:
金属+一层氧化膜+金属; N:正常的金属;I:一层氧化膜S:超导金 属
费米能级: 正常态时,电子占有的最高能级。 能隙:能量的间隙。能隙存在于 费米能级
的两侧。用 表示,2 =3.5KTc
一般量子力学的势垒穿透问题:
下面用一图来形象的说明。假象在金属与金属之间有 一堵墙,当一电子以速度V接近墙时,它的动能只能转 化为势能U1,而墙的势能为U,U1〈U,所以电子穿不 过墙,而在量子力学中,电子具有波离二象性,当电 子接近墙时,振幅衰减,当穿过势垒以后,振幅仍存 在,穿透系数T=穿后功率/穿前功率
2 /e
U
(2) T!=0 此时电压与电流的 特征曲线: N-I-N i S-I-S
2 /e
U
4:S1---I---S2隧道结 (两侧金属的能隙不同)。 电压与电流的特征曲线: T!=0 N-I-N T=0:N-I-N i S1-I-S2 ( 1+ 2)/e U S1-I-S2 (2- 1) /e ( 1+ 2)/e
U
2:S—I—N隧道结
(1):T=0时 A:U=0 Ef 当电压为0时,右边的费 米能级与左边的一样高,电 子不可能从右到左,所以不 存在电流。 B:0〈U〈 /e Ef Ef 此时电子仍无法移动, 所以电流为0
C:U>= /e: Ef
Ef 此时右边的费米能级降低到 左边能隙的下面,左边的电子将 向右移动,所以形成电流。
U
氧化膜的厚度要有一定的限度;
U1 E V X
半导体模型表示法:在费米能级附近电子的 态密度N,Ns(E)=Nn(0) E/(E*E- * ) 当T=0时: 费米能级Ef 画横线表示充满电子。 当T!=0时: T =0 温度升高,一部分电子 跑到费米能级以上。
下面开始定性的介绍几种隧道结;
1:N—I—N隧道结: N-I-N i 电流电压特性曲线。
它的电压与电流特征曲线: i N-IN
S-I-N
/e
U
3: S---I---S隧道结 (1) T=0 A:U=0 Ef 电压为0,费 米能级等高,电流 为0
Ef
B:0〈U〈2 /e Ef 电子正对着能隙,不 Ef 能移动,电流为0
C: U>=2 /e Ef Ef 此时电流为0
它的电压与电流特征曲线: i N-I-N S-I-S
它的电压与电流特性曲线: i N-I-N S-I-N
/e
U
(2):T!=0 A: U=0: Ef Ef 电压为0,左右电子 不能互动,电流为0
B:0〈U〈 /e
Ef
Ef 右边的电子不可 能移到左边的能隙之 中,所以电流仍为0
C: U>=
/e
Ef
Ef 此时右边的费米能级降到 左边能隙以下,所以发生电子的 移动,产生电流。
用半导体模型解释电子的隧道效应有一定的露馅,如在 超导态下,电子是以电子对的形式存在的,电子对不同 于正常的电子,而当电子对被破坏后,跃迁的电子又不 同于正常的电子,所以在此只能给大家一个定性的认识。
谢谢观赏,再见