光阴极材料概念

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2.2.2 实用光电阴极举例

2.2.2 实用光电阴极举例
到目前为止,美国已经成功地 将相关技术要用到微光像增强器中, 形成了以负电子亲和势光电阴极为 技术特征的第三代、第四代微光像 增强器。
实用的光电阴极
4. 负电子亲和势(NEA)光阴极——引领像管走向三代的标志
负电子亲和势光阴极性能: 光谱响应范围:蓝光~1200nm; 积分灵敏度:1450~4000μA/lm; 峰值响应:550nm附近 量子效率:>40%(1060nm处可达9%); 暗 电 流: 10-16~ 10-17 A/cm2。
R
330
40
65
S-20
Cs-Sb
石灰玻璃
T
420
150
64
S-21
Na-K-Cs-Sb
9741玻璃
T
440
30
23.5
S-23
Cs-Sb
熔凝石英
T
240

4
S-24
Rb-Te
7056玻璃
T
380
45
67
S-25
K-Na-Sb
石灰玻璃
T
420
200
43
Na-K-Cs-Sb
0.43
900
0.53

12.4
石灰玻璃
R
S-9 S-10 S-1l S-13
Cs-Sb Ag-Bi-O-Cs
Cs-Sb
7052玻璃 石灰玻璃 石灰玻璃 熔凝石英
T T T T
S-17
Cs-Sb
石灰玻璃
R
340
40
50
365
3
2.3
480
30
20.5
450
40
20
440
70

光电倍增管简介

光电倍增管简介

光电倍增管简介1. 光电倍增管的结构和工作原理由光阴极、次阴极(倍增电极)以及阳极三部分组成。

光阴极是由半导体光电材料锑铯做成;次阴极是在镍或铜-铍的衬底上涂上锑铯材料而形成的,次阴极多的可达30级;阳极是最后用来收集电子的,收集到的电子数是阴极发射电子数的105~106倍。

即光电倍增管的放大倍数可达几万倍到几百万倍。

光电倍增管的灵敏度就比普通光电管高几万倍到几百万倍。

因此在很微弱的光照时,它就能产生很大的光电流。

2. 光电倍增管的主要参数(1)倍增系数M 倍增系数M等于n个倍增电极的二次电子发射系数δ的乘积。

如果n个倍增电极的δ都相同,则M=1因此,阳极电流I 为i —光电阴极的光电流光电倍增管的电流放大倍数β为M与所加电压有关,M在105~108之间,稳定性为1%左右,加速电压稳定性要在0.1%以内。

如果有波动,倍增系数也要波动,因此M具有一定的统计涨落。

一般阳极和阴极之间的电压为1000~2500V,两个相邻的倍增电极的电位差为50~100V。

对所加电压越稳越好,这样可以减小统计涨落,从而减小测量误差。

光电倍增管的特性曲线(2)光电阴极灵敏度和光电倍增管总灵敏度一个光子在阴极上能够打出的平均电子数叫做光电倍增管的阴极灵敏度。

而一个光子在阳极上产生的平均电子数叫做光电倍增管的总灵敏度。

光电倍增管的最大灵敏度可达10A/lm,极间电压越高,灵敏度越高;但极间电压也不能太高,太高反而会使阳极电流不稳。

另外,由于光电倍增管的灵敏度很高,所以不能受强光照射,否则将会损坏。

(3)暗电流和本底脉冲一般在使用光电倍增管时,必须把管子放在暗室里避光使用,使其只对入射光起作用;但是由于环境温度、热辐射和其它因素的影响,即使没有光信号输入,加上电压后阳极仍有电流,这种电流称为暗电流,这是热发射所致或场致发射造成的,这种暗电流通常可以用补偿电路消除。

如果光电倍增管与闪烁体放在一处,在完全蔽光情况下,出现的电流称为本底电流,其值大于暗电流。

光电子器件_第三章光电阴极与光电倍增管

光电子器件_第三章光电阴极与光电倍增管
第三章 光电阴极与光电倍增管
3.1、光电管及其基本特性
光窗
Uo
(a)结构
(b)测量电路
利用物质在光的照射下发射电子的外光电效应而制 成的光电器件,一般都是真空的或充气的光电器件, 如光电管和光电倍增管。
1. 结构与工作原理
光电管有真空光电管和充气 光电管或称电子光电管和离子光 电管两类。两者结构相似,如图。 它们由一个阴极和一个阳极构成, 并且密封在一只真空玻璃管内。 阴极装在玻璃管内壁上,其上涂 有光电发射材料。阳极通常用金 属丝弯曲成矩形或圆形,置于玻 璃管的中央。
光电 倍增 管的 光照 特性
6、光电倍增管工作原理
UOUT RL A K D D D3 D 4 1 IA 2 R1 R2 R3 R4 R5
光电倍增管及其基本特性
由阴极、次阴极(倍增电极)、阳极组成阴极由半导体光电材料锑铯做成, 次阴极是在镍或铜-铍的衬底上涂上锑铯材料形成。次阴极可达30级。通常为 12~14级。 使用时在各个倍增电极上均加上电压,阴极电位最低,以后依次升高, 阳极最高。相邻两个倍增电极之间有电位差,因此存在加速电场。
二、光电倍增管及其基本特性
当入射光很微弱时,普通光电管产生的光电流很小, 只有零点几μA,很不容易探测。这时常用光电倍增管对 电流进行放大,下图为其内部结构示意图。
1. 结构和工作原理
由光阴极、次阴极(倍增电极)以及阳极三部分组成。光阴极是由半 导体光电材料锑铯做成;次阴极是在镍或铜-铍的衬底上涂上锑铯 材料而形成的,次阴极多的可达30级;阳极是最后用来收集电子 的,收集到的电子数是阴极 光电阴极 阳极 发射电子数的105~106倍。即 光电倍增管的放大倍数可达 几万倍到几百万倍。光电倍 增管的灵敏度就比普通光电 管高几万倍到几百万倍。因 第一倍增极 第三倍增极 此在很微弱的光照时,它就 能产生很大的光电流。 入射光

p型半导体光阴极工作原理

p型半导体光阴极工作原理

p型半导体光阴极工作原理
p型半导体光阴极是一种能够通过光照射产生电子的器件。

它是由p型半导体材料制成的。

p型半导体光阴极工作的基本原理如下:
1. 入射光照射:当入射光照射到p型半导体光阴极时,光子能量会激发半导体内的价带电子到导带,形成电子空穴对。

2. 电子传输:激发的电子会在半导体中传输,寻找导电通道。

由于p型半导体的特性,电子会向p型半导体内部的掺杂杂质离子扩散。

3. 空穴传输:与此同时,发生空穴传输,空穴也会向p型半导体外部扩散。

4. 表面电子发射:当电子达到p型半导体的表面时,由于p型半导体的禁带较窄,电子会容易地跨越能垒离开半导体材料。

这个过程被称为“表面电子发射”。

5. 电子收集:经过表面电子发射后,电子可以被聚集起来,并通过适当的电子收集系统收集和利用。

综上所述,p型半导体光阴极的工作原理是利用光的能量激发半导体内的电子,使得电子通过传输和空穴扩散到达半导体的表面,从而实现从光能到电能的转化。

光电子器件 第3章_光电阴极和光电倍增管

光电子器件 第3章_光电阴极和光电倍增管
金属因其自由电子浓度大,光电子逸出深度很浅, 因此金属不是良好的光电发射体。
非简并半导体,自由电子很少, 电子散射可以忽略。
能量损失的主要原因: 晶格散射、 光电子与价键中电子的碰撞 这种碰撞电离产生了二次电
子空穴对。
desc
半导体
界面 真空
例:对于硅材料,当被激的光电子与晶格发生散射,相互
交换声子;每散射一次,平均损失能量为0.06eV, 相应平均自
编号规则:
根据国际电子工业协会的规定,把NEA光电阴极 出现以前的各种光电阴极,按其发现的先后顺序和所配 的窗材料的不同以S-数字形式编排,
常称为实用光电阴极。
1.银氧铯光电阴极
❖ 银氧铯(Ag-O-Cs) (S-1) 是最早出现的一种实用光电阴极,它对可见光和
近红外灵敏,早期在红外变像管中得到应用,在实 用光电阴极中可用于红外探测。
❖ 锑铯光电阴极制备工艺比较简单,仅由Cs和Sb两种 元素组成,结构简单。
3.多碱光电阴极
❖ 锑铯光电阴极是锑与一种碱金属的化合物,也可称 为单碱光电阴极。
❖ 锑与几种碱金属形成化合物,其中有 双碱(如Sb-K-Cs, Sb-Rb-Cs等), 三碱(如Sb-Na-K-Cs) 四碱(如Sb-K-Na-Rb-Cs)等,
光 热
因为在绝对零度时光电子处在最高能量即费米能
级,金属逸出功多数要大于3eV,所以金属的光谱
响应大多在紫外区。
因为本征半导体的费米能级是在禁带中间,如图3-3。

E0
EF
1 2
Eg
EA


1 2
Eg
❖ 所以对于半导体,其光电逸出功和热电子发射逸出 功是不同的。对于杂质发射体,其光电子发射中心 是在杂质能级上。

光电的名词解释

光电的名词解释

光电的名词解释光电是指光和电之间的相互作用及其相关的技术领域。

它以光为能量源,利用光电效应和其他光电物理现象实现能量转换、信号传输和信息处理等功能。

光电技术广泛应用于光电传感、光电器件、光电材料和光电系统等领域。

一、光电效应光电效应是指当光照射到物质表面时,物质中的电子被光激发而跃迁到导电状态或导电能级的现象。

它是光电技术的基础和核心。

光电效应包括外光电效应、内光电效应和热电效应等。

外光电效应是指光照射到金属或半导体表面时,物质中的自由电子被光子激发,从而跃迁到导电带或导电状态。

这种效应产生的电流被称为光电流,是光电器件的基本原理。

内光电效应是指光照射到半导体内部时,光子激发了半导体内的电子-空穴对,使其发生移动。

这种效应被广泛应用于光伏发电、光电导和光电探测等领域。

热电效应是指光照射到物质表面时,使得物质发生温度变化,从而导致物质内部电荷分布不均匀。

这种效应为热释电器件和热成像技术的基础。

二、光电器件光电器件是基于光电效应原理制造的用于光电转换的装置。

常见的光电器件包括光敏电阻、光电二极管、光电三极管、光电晶体管、光电场效应管和光电导等。

光敏电阻是一种电阻值随光照强度变化的器件,常用于光控开关、光敏电路和自动光亮度调节等应用。

光电二极管是一种能够将光信号转化为电信号的器件。

其工作原理是光照射到二极管P-N结上时,电子被光激发到导电带,形成电流。

光电三极管是集光电二极管和普通三极管功能于一体的器件。

它具有光电二极管的光探测功能和普通三极管的放大功能。

光电晶体管是能够放大光信号的器件,适用于光电放大电路和光电探测器等领域。

光电场效应管是以光电效应为基础,采用场效应管结构制造而成的光电器件,适用于高速光电转换和光电开关等应用。

光电导是利用光电效应将光信号转换为电信号,并通过导线传输的装置。

它适用于长距离信号传输和高速通信等领域。

三、光电材料光电材料是指能够发生光电效应的物质。

光电材料的特性和性能直接影响着光电器件的性能。

真空光电器件

真空光电器件

成阳极光电流Ip,在负载
RL上产生信号电压U0。
了解:PMT旳特征参数:暗电流、噪声、线性、稳定性、 滞
了解后:效PM应T、旳时特间征特参征数、:磁敏场捷特度征、; 电流放大倍数、伏安特 征;
了解:PMT旳供电和信号输出电路;
了解:微通道管旳构造,工作原理;微通道板旳构造、工作 原理以及MCPPMT旳构造、工作原理和优缺陷;
1. 敏捷度 2.量子效率 3.光谱响应曲线 4.热电子发射
1.敏捷度 敏捷度
光照敏捷度 色光敏捷度 光谱敏捷度
(1)光照敏捷度 色温2856K旳钨丝灯
在一定旳白光照射下,Q光B电:中阴国极青旳色光或电兰流色与入射旳白
光光通量之比,也称白光敏捷度或玻积璃分(德敏国捷:B度G。)
(2) 色光敏捷度
HB:中国红色玻璃
CU
k d
阴极发射旳光电子数 Ne(λ)与入射旳光子数 Np(λ)之比,
称为量子效率:
SK
IK
能够看出:
量子效率和光谱敏捷度之间旳关系:
c S()1240
e () / h q
是同一物理 意义旳两种 不同描述
式中,λ单位为nm; S(λ)为光谱敏捷度,单位为A/W。
第5章 真空光电器件
了解:光电阴极旳定义和真空光电器件旳定义、分类、构造;
了解:倍增极构造、特点和阳极旳作用;
了解:常用光电阴极旳材料:Ag-O-Cs、单碱锑化合物(PEA)、 多碱锑化合物(PEA)、负电子亲合势材料(NEA)和紫外 光电阴极材料;
了解:负电子亲和势材料旳光电阴极具有四个特点; 了解:光电管与光电倍增管构造、构成、工作原理; 了解:二次电子发射原理和二次电子发射过程三个阶段。
3.光谱响应曲线

光电效应定义及分类

光电效应定义及分类

光电效应定义及分类一、引言光电效应是指当金属或半导体表面受到光照射时,会发生电子的发射现象。

这一现象是量子物理学的重要研究对象之一,不仅在理论上有着深刻的意义,而且在实际应用中也具有广泛的应用价值。

本文将对光电效应进行全面详细的定义及分类。

二、基本概念1. 光电效应:当金属或半导体表面受到光照射时,会发生电子的发射现象。

2. 光电子:被光激发出来的自由电子。

3. 光阴极:能够产生大量光电子的材料。

通常使用碱金属和合金作为光阴极材料。

4. 入射光强度:单位时间内入射在单位面积上的能量。

5. 逸出功:当一个自由电子从固体表面逸出所需能量。

它是固体材料特性之一。

三、分类根据不同条件下产生光电效应,可以将其分为以下几类:1. 外光电效应:即经过真空或气体后照射到金属表面产生的光电效应。

这种光电效应的实验条件非常苛刻,需要使用真空或极低压气体环境。

2. 内光电效应:即在半导体中发生的光电效应。

这种效应与半导体材料的能带结构有关,可以通过控制半导体材料的能带结构来调节其性质。

3. 前向光电效应:即在PN结或PNP结中正向偏置时,经过照射产生的光电流现象。

前向光电效应是太阳能电池等器件中最常见的一种现象。

四、影响因素1. 入射光强度:入射光强度越大,产生的光电子数目越多。

2. 入射光频率:入射光频率越高,产生的光电子动能越大。

3. 材料逸出功:逸出功越小,产生的光电子数目越多。

4. 材料表面状态:表面平整度、清洁度等都会影响到产生的光电子数目和动能。

五、实际应用1. 光阴极:利用外部激励源(如激光)照射在金属或半导体表面,产生大量的光电子,从而实现高亮度电子束的发射。

2. 光电探测器:利用光电效应的原理,将入射光转化为电信号,实现对光信号的检测和测量。

3. 太阳能电池:利用前向光电效应原理,将太阳能转化为电能,实现太阳能的利用。

六、结论综上所述,光电效应是一种重要的物理现象,在科学研究和实际应用中都具有广泛的意义和价值。

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光阴极材料概念
光阴极材料是一种用于电子束注入器和自由电子激光器中的材料,主要用于产生高能电子。

随着科技的不断发展,光阴极材料的需求也越来越大,因此对其进行深入的研究和开发具有重要意义。

光阴极材料的基本原理是将光能转化为电子能,具体来说,它是通过光电效应来实现的。

光电效应是指当光子和物质相互作用时,物质中的电子能够被激发出来,形成自由电子。

其中,光子的能量决定了电子的动能,因此光阴极材料的能量转换效率和光子的能量有关。

在光阴极材料的研究中,主要考虑的是材料的光电子发射特性。

常见的光阴极材料有铜、镁、碱金属等金属材料,以及氮化硅、氮化铝等半导体材料。

这些材料的光电子发射特性不同,因此对其进行研究和开发,有助于提高光阴极材料的能量转换效率和稳定性。

在光阴极材料的应用中,主要考虑的是其在电子束注入器和自由电子激光器中的作用。

电子束注入器是一种用于产生高能电子束的设备,主要应用于加速器、同步辐射等领域。

自由电子激光器是一种利用自由电子产生激光的设备,主要应用于光学、化学、生物等领域。

在这些设备中,光阴极材料的作用是产生高能电子,从而实现相关设备的功能。

光阴极材料的研究和开发是一个复杂的过程,需要考虑材料的物理、化学等方面的特性。

同时,还需要结合设备的实际需求,对光阴极材料进行优化设计。

这种研究和开发的成果,不仅可以提高设备的性能和效率,还可以推动相关领域的发展和应用。

总之,光阴极材料是一种重要的材料,在电子束注入器和自由电子激光器等领域具有广泛的应用前景。

通过对其进行深入的研究和开发,可以提高其能量转换效率和稳定性,推动相关领域的发展和应用。

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