X射线光电子能谱20150421
X射线光电子能谱

荷电效应
• 用XPS测定绝缘体或半导体时,由于光电子的连续发射而得不到 足够的电子补充,使得样品表面出现电子“亏损”,这种现象称 为“荷电效应”。 • 荷电效应将使样品出现一稳定的表面电势VS,它对光电子逃离有 束缚作用。
其中 ES=VSe 为荷电效应引起的能量位移,使得正常谱线向低动能端偏移, 即所测结合能值偏高。 荷电效应还会使谱锋展宽、畸变,对分析结果产生一定的影响。
位移。
对于半导体、绝缘体,在测量化学位移前应首先决定荷 电效应对峰位位移的影响。
化合态识别-光电子峰
Ti及TiO2中2p3/2峰的峰位及2p1/2和2p3/2之间的距离
化合态识别-光电子峰 C1s在不同化学状态下半峰高宽的变化
CF4
C6H6
CO
CH4
半峰高宽(eV)
0.52
0.57
0.65
0.72
荷电效应的来源主要是样品的导电性能差。
荷电电势的大小同样品的厚度、X射线源的工作参数等
因素有关。
实际工作中必须采取有效的措施解决荷电效应所导致的
能量偏差。
荷电效应的解决-中和法
制备超薄样品;
测试时用低能电子束中和试样表面的电荷,使Ec<0.1eV,
这种方法一方面需要在设备上配置电子中和枪,另一方面荷电效 应的消除要靠使用者的经验。
M5 M4 M3 M2 M1 L3 L2 L1 K
典型XPS谱
O 1s
Ti(CN)x/ Al film
X轴——电子束缚能或动能 Y轴——光电子的强度 N(E)/E
Counts [a.u.]
Ti 2p
N 1s
x射线光电子能谱

x射线光电子能谱X射线光电子能谱技术(XPS)是电子材料与元器件显微分析中的一种先进分析技术,而且是和俄歇电子能谱技术(AES)常常配合使用的分析技术。
由于它可以比俄歇电子能谱技术更准确地测量原子的内层电子束缚能及其化学位移,所以它不但为化学研究提供分子结构和原子价态方面的信息,还能为电子材料研究提供各种化合物的元素组成和含量、化学状态、分子结构、化学键方面的信息。
它在分析电子材料时,不但可提供总体方面的化学信息,还能给出表面、微小区域和深度分布方面的信息.另外因为入射到样品表面的X射线束是一种光子束,所以对样品的破坏性非常小。
这一点对分析有机材料和高分子材料非常有利。
以X射线为激发光源的光电子能谱,简称XPS或ESCA处于原子内壳层的电子结合能较高,要把它打出来需要能量较高的光子,以镁或铝作为阳极材料的X射线源得到的光子能量分别为1253.6电子伏和1486.6电子伏,此范围内的光子能量足以把不太重的原子的1s电子打出来。
周期表上第二周期中原子的1s电子的XPS谱线见图1。
结合能值各不相同,而且各元素之间相差很大,容易识别(从锂的55电子伏增加到氟的694电子伏),因此,通过考查1s的结合能可以鉴定样品的化学元素。
除了不同元素的同一内壳层电子(inner shell electron)(如1s电子)的结合能各有不同的值而外,给定原子的某给定内壳层电子的结合能还与该原子的化学结合状态及其化学环境有关,随着该原子所在分子的不同,该给定内壳层电子的光电子峰会有位移,称为化学位移(chemical shift)。
这是由于内壳层电子的结合能除主要决定于原子核电荷而外,还受周围价电子的影响。
电负性比该原子大的原子趋向于把该原子的价电子拉向近旁,使该原子核同其1s 电子结合牢固,从而增加结合能。
如三氟乙酸乙酯CF3COOC2H5中的四个碳原子分别处于四种不同的化学环境,同四种具有不同电负性的原子结合。
由于氟的电负性最大,CF键中碳原子的C(1s)结合能最高(图2)。
X射线光电子能谱

XPS 特点及实验方法
• 一般是把粉末样品粘在双面胶带上, • 块状样品可直接夹在样品托上或用导电胶带粘在样
品托上。 其它方法:
1.压片法:对疏松软散的样品可用此法。 2.溶解法:将样品溶解于易挥发的有机溶剂中,然 后将其滴在样品托上让其晾干或吹干后再进行测量。 3.研压法:对不易溶于具有挥发性有机溶剂的样品, 可将其少量研压在金箔上,使其成一薄层,再进行 测量。
西)人,因吉州原属庐陵郡,因此他又以“庐陵欧阳修”自居。谥号文忠,世称欧阳文忠公。北宋政治家、文学家、史学家,与韩愈、柳宗元、王安石、苏洵、苏轼、苏辙、曾巩合称“唐宋八大家”。后人又将其与韩愈、柳宗元和苏轼合称“千古文章四大家”。
关于“醉翁”与“六一居士”:初谪滁山,自号醉翁。既老而衰且病,将退休于颍水之上,则又更号六一居士。客有问曰:“六一何谓也?”居士曰:“吾家藏书一万卷,集录三代以来金石遗文一千卷,有琴一张,有棋一局,而常置酒一壶。”客曰:“是为五一尔,奈何?”居士曰:“以吾一翁,老于此五物之间,岂不为六一乎?”写作背景:宋仁宗庆历五年(1045年),
面化学性质的变化(如氧化还原反应)。 ③ 擦磨、刮剥和研磨。对表理成分相同的样品可用
SiC(600#)砂纸擦磨或小刀刮剥表面污层;对粉末样 品可采用研磨的方法。 ④ 真空加热。对于能耐高温的样品,可采用高真空 下加热的办法除去样品表面吸附物。 ⑤ XPS的灵敏度很高,待测样品表面,绝对不能用 手接触。
• 电子结合能是体系的初态原子有n个电子和终态原子有 n-1个电子(离子)和一自由光电子间能量的简单差 Eb = E(n-1)–E(n)
• 如果原子的初态能量发生变化,例如,与其它原子化学 成键,则此原子中的电子结合能Eb就会改变,Eb的变化 Δ Eb称为化学位移。
第八章-X射线光电子能谱(XPS)

3.俄歇电子能谱法(AES)是用具有一定能量的电子束(或X射 线)激发样品俄歇效应,通过检测俄歇电子的能量和强度, 从而获得有关材料表面化学成分和结构的信息的方法。
4. X射线光电子能谱法(XPS),采用能量为1000~1500eV 的X射线源,能激发内层电子, 使物质光电离、光电子发 射,研究其激发过程及其能量关系,各种元素内层电子的 结合能是有特征性的,因此可以用来鉴别化学元素。又称 为化学分析用电子能谱法(ESCA)。
KE = hv - BE
3 元素不同,其特征的电子键能不同。测量电子动能KE , 就得到对应每种元素的一系列BE-光电子能谱,就得到 电子键能数据。
4 谱峰强度代表含量,谱峰位置的偏移代表价态与环境的 变化-化学位移。
Ag的光电子能谱图(MgK激发)
➢ Core level electrons are ejected by the xray radiation
X射线
K1 K2 K’ K3 K4 K5 K6 K
Mg 靶
能量(eV)
相对强度
1253.7
67.0
1253.4
33.0
1258.2
1.0
1262.1
9.2
1263.1
5.1
1271.0
0.8
1274.2
0.5
1302.0
2.0
Al 靶
能量(eV)
相对强度
1486.7
67.0
1486.3
33.0
1492.3
2p 2s
发射出的光电子Ejected Photoelectron
Free Electron Level Fermi Level
L2,L3 L1
X射线能谱、X射线光电子能谱(XPS)

X射线能谱、X射线光电子能谱(XPS)在通常的光谱方法中,主要研究光和物质的相互作用后产生的光信息。
在电子能谱法中,却采用单色光源(如X射线、紫外光)或电子束去照射样品,使其电子受到激发而发射出来,然后测量这些这些电子的能量关系及其强度的关系,从中获得有关信息。
根据激发能源的不同,可以得到不同的电子能谱法。
用X射线作为激发源的称X射线光电子能谱法(X-ray photoctron spectorscopy ,XPS)。
用紫外光作为激发源的称为紫外光电子能谱法(UV photoctron spectorscopy,UPS)。
若用电子束或X射线作为激发源测量样品激发后产生的俄歇电子,成为俄歇电子能谱法(anger electron spectroscopy,AES)。
近年来,X射线光电子能谱法在化学分析中得到了广泛的应用,因此它又称为化学分析用电子能谱法(electron spectroscopy for chemical analysis 简称为ESCA)。
目前,电子能谱法已在化学、物理、生物等各个领域中得到广泛应用,并逐渐显示出它在表面分析和结构鉴定中的巨大潜力。
基本原理:光电效应基本组成:真空室、X射线源、电子能量分析器辅助组成:离子枪主要功能:成分分析、化学态分析采谱方法:全谱、高分辨率谱分析方法:定性分析、定量分析表面组成:包括表面元素组成、化学价态及其在表层的分布等,后者涉及元素在表面的横向及纵向(深度)分布;表面结构包括表面原(分)子排列等;表面电子态包括表面能级性质、表面态密度分布、表面电荷密度分布及能量分布等;表面形貌指“宏观”外形,当分析的分辨率达到原子级时,可观察到原子排列,这时表面形貌分析和表面结构分析之间就没有明确的分界。
表面分析技术的特点:是用一个探束(电子、离子、光子或原子等)入射到样品表面,在两者相互作用时,从样品表面发射及散射电子、离子、中性粒子(原子或分子)与光子等。
X射线光电子能谱(XPS)

X射线光电子能谱(XPS)X射线光电子能谱是利用波长在X射线范围的高能光子照射被测样品,测量由此引起的光电子能量分布的一种谱学方法。
样品在X射线作用下,各种轨道电子都有可能从原子中激发成为光电子,由于各种原子、分子的轨道电子的结合能是一定的,因此可用来测定固体表面的电子结构和表面组分的化学成分。
在后一种用途时,一般又称为化学分析光电子能谱法(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis,简称)。
与紫外光源相比,X射线的线宽在以上,因此不能分辨出分子、离子的振动能级。
此外,在实验时样品表面受辐照损伤小,能检测周期表中除和以外所有的元素,并具有很高的绝对灵敏度。
因此是目前表面分析中使用最广的谱仪之一。
7.3.1 谱图特征图7.3.1为表面被氧化且有部分碳污染的金属铝的典型的图谱。
其中图(a)是宽能量范围扫描的全谱,主要由一系列尖锐的谱线组成;图(b)则是图(a)低结合能端的放大谱,显示了谱线的精细结构。
从图我们可得到如下信息:1.图中除了和谱线外,和两条谱线的存在表明金属铝的表面已被部分氧化并受有机物的污染。
谱图的横坐标是轨道电子结合能。
由于X射线能量大,而价带电子对X射线的光电效应截面远小于内层电子,所以主要研究原子的内层电子结合能。
由于内层电子不参与化学反应,保留了原子轨道特征,因此其电子结合能具有特定值。
如图所示,每条谱线的位置和相应元素原子内层电子的结合能有一一对应关系,不同元素原子产生了彼此完全分离的电子谱线,所以相邻元素的识别不会发生混淆。
这样对样品进行一次宽能量范围的扫描,就可确定样品表面的元素组成。
2.从图7.3.1(b)可见,在和谱线高结合能一侧都有一个肩峰。
如图所标示,主峰分别对应纯金属铝的和轨道电子,相邻的肩峰则分别对应于中铝的和轨道电子。
这是由于纯铝和中的铝所处的化学环境不同引起内层轨道电子结合能向高能方向偏移造成的。
这种由于化学环境不同而引起内壳层电子结合能位移的现象叫化学位移。
X射线光电子能谱法

如下表由此可进行元素相对定量分析添加zro前后催化剂表面元素分析催化剂表面元素摩尔分数相对摩尔比cuznalcuzncualcop112951078962120135samp101349921550146245催化剂4auger电子峰由于auger峰与激发源能量无关可通过改变激发源光电子谱峰发生位置变化而auger峰位置不变即可分由于特定元素的auger谱线能量也是特定的所以auger峰经电子微分线路处理后可以进行元素的定性分析
(3)元素的特征峰强度 两种元素i,j原子比
ni/nj=Ii/Ij·Sj/Si
其中 Ii、Ij为元素相应特征峰的峰面积; Sj/Si为元素i,j相应特征峰的灵敏度因子比,其与基 体无关。 适用于含该原子的所有材料,可由标样实验得出。如下表 由此可进行元素相对定量分析
添加ZrO2前后催化剂表面元素分析
添加ZrO2前后CuZnAlO催化剂Cu2p3的XPS窄扫描谱图
(2)元素的特征峰——最强光电子线 每种元素的原子各个能级对应一个特征峰; 每种元素的原子都有1、2个代表自己的最强特征峰,其 为该元素的主峰;如Ag3d 研究发现,各种元素的最强特征峰很少重叠; 根据最强特征峰出现的位置进行元素定性分析
2.2 光电子能量公式 由能量分配图可得:
hv = Eb + Ws + Ek
Eb Ws Ek
电子结合能,即相应轨道上的电子结合能 样品逸出功 电子动能
由接触电势机理图可得: Ws - Wi= e(Vi-Vs)=Ek‘ – Ek 即 Ws + Ek = Wi + Ek’
可得 实用的光电子能量公式如下: Eb = hv - EK’ - Wi
4.2 价态分析
依据:元素原子内层光电子峰的化学位移和峰形变化。 e.g. Pd/C催化剂在Ar+刻蚀前后的XPS谱图图 结论:刻蚀后Pd3d向低能端位移,且峰形变窄,说明刻蚀 后Pd从氧化态向金属态过渡。 局限性:对于化学位移不大的体系(<0.5eV),谱峰仅发生 宽化;对虽有一定程度的位移,但变价原子含量较低的 体系,也不易区分。
X射线光电子能谱及其应用简介

2021/10/10
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电子能谱仪简介
电子能谱仪主要激发源、电子能量分析器、探 测电子的监测器和真空系统等几个部分组成。
2021/10/10
hv=Ek+Eb+Φ
即Eb= hv- Ek-Φ
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XPS的基本原理
化学位移 1. 定义
由于化合物结构的变化和元素氧化状态的变化引起谱峰 有规律的位移称为化学位移
2. 化学位移现象起因及规律 (1)原因
内层电子一方面受到原子核强烈的库仑作用而具有一定 的结合能,另一方面又受到外层电子的屏蔽作用。因而元素 的价态改变或周围元素的电负性改变,则内层电子的结合能
2、降低活性残余气体的 分压。因在记录谱图所 必需的时间内,残留气 体会吸附到样品表面上, 甚至有可能和样品发生 化学反应,从而影响电 子从样品表面上发射并 产生外来干扰谱线。
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XPS应用
表面元素定性分析
计数/ 任意单位
这是一种常规分析方法,一般利用 XPS谱仪的宽扫描程序
首先考虑消除荷电位移
O 1s
Ti(CN)X/Al 薄膜
C 1s
Ti 2p N 1s
Al 2ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ Al 2p
对于绝缘样品,必须进行校准
一般来说,只要该元素存在,其所有 的强峰都应存在
600
500
400
300
200
100
0
结合能/eV
高纯Al基片上沉积的Ti(CN)x薄膜的XPS谱 图,激发源为MgKα
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(2)XPS信息深度 样品的探测深度通常用电子的逃逸深度度量。 电子逃逸深度λ(Ek):逸出电子非弹性散射的 平均自由程。
λ:金属0.5~3nm;氧化物2~4nm ;
有机和高分子4~10nm 。 通常:取样深度
d = 3λ
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XPS中的电离过程
光电离过程:即光电效应。 电子束电离:电子束强度比起X射线源可以打几十个数 量级,并可以高度聚焦,以利于提高测量的分辨率和进行 微区分析。
→ A*+ + e − hv + A A − −中性原子 hv--入射光子能量 e − − −发射出的光电子 A*+ − −处于激发态的离子
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光子的一部分能量用来克服轨道电子结合能( EB),一 部分能量用来克服逸出功(Ws),余下的能量便成为 发射光电子(e- ) 所具有的动能 ( EK),这就是光电 效应。用公式表示为:
4
X射线起源于轫致辐射,可被认为是光电效应的 逆过程,即: 电子损失动能 ⇒ 产生光子(X射线)
慢电子 EK2 EK1 光子 hν
原子核 快电子
EK 1 − EK 2 = hν
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光电效应
由德国物理学家赫兹于1887年发现
具有足够能量的入射光子(hν) 同样品相互作用时, 光子把它的全部能量转移给原子、分子或固体的某一束缚 电子,使之电离。(光电离过程)
3. 检测器
用电子倍增器检测电子数目。电子倍增器是 一种采用连续倍增电极表面的静电器件,内壁具有 二次发射性能。电子进入器件后在通道内连续倍增, 增益可达 109
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4.真空系统
1、减少电子在运动过程中同残留气体分 子发生碰撞而损失信号强度。 2、降低活性残余气体的分压。因在记录 谱图所必需的时间内,残留气体会吸附 到样品表面上,甚至有可能和样品发生 化学反应,从而影响电子从样品表面上 发射并产生外来干扰谱线。 298K吸附一层气体分子所需时间:10-4Pa 时为1秒;10-7Pa时为1000秒
XPS现象基于爱因斯坦于1905年揭示的光电效应,爱因斯坦由于这方 面的工作被授予1921年诺贝尔物理学奖;
X射线是由德国物理学家伦琴(Wilhelm Conrad Röntgen,l845-1923 )于1895年发现的,他由此获得了1901年首届诺贝尔物理学奖。
3
X射线光电子能谱( XPS ,全称为Xray Photoelectron Spectroscopy)是 一种基于光电效应的电子能谱,它是 利用X射线光子激发出物质表面原子的 内层电子,通过对这些电子进行能量 分析而获得的一种能谱。 这种能谱最初是被用来进行化学分析 ,因此它还有一个名称,即化学分析 电子能谱( ESCA,全称为Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)
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29
样品的制备
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样品
粉末样品 10~100mg 薄片或薄膜样品
约Φ10mm×1mm 15mm×10mm×1mm
约
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样品要充分干燥 粉末样品要尽量细 薄膜样品表面要平整 不要用手摸样品表面
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化学位移
1. 定义 由于化合物结构的变化和元素氧化状态的变化引起谱峰有规 律的位移称为化学位移 2. 化学位移现象起因及规律 (1)原因 内层电子一方面受到原子核强烈的库仑作用而具有一定的结 合能,另一方面又受到外层电子的屏蔽作用。因而元素的价态改 变或周围元素的电负性改变,则内层电子的结合能改变。 (2)规律 当元素的价态增加,电子受原子核的库仑作用增加,结合能 增加;当外层电子密度减少时,屏蔽作用将减弱,内层电子的结 合能增加;反之则结合能将减少。
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电负性: O>S>H N1s结合能值: -NO2>-SO2NH->
N
例1 有机化合物中氮原子的化学结构分析
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例2 BeF2和BeO中的 Be具有相同的氧化数 (+2), 电负性F>O, 所以Be在BeF2中比在 BeO中具有更高的氧 化态。
氧化态增加→化学位移 增加
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例3 电负性 F>O>C>H 四个碳原子在分 子中所处的化学 环境不同 所以在谱图上出 现四个位移不同 的C1s峰
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1.X射线激发源
XPS中最常用的X射线源主要由灯丝、栅极和阳极 靶构成。 X射线源的主要指标是强度和线宽,一般采用Kα 线,因为它是X射线发射谱中强度最大的。在X射线光 电子能谱中最重要的两个X射线源是Mg和Al的特征Kα 射线。
21
要获得高分辨谱图和 减少伴峰的干扰,可以采 用射线单色器来实现。即 用球面弯曲的石英晶体制 成,能够使来自X射线源 的光线产生衍射和“聚 焦”,从而去掉伴线等, 并降低能量宽度,提高谱 仪的分辨率。
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X光电子能谱的应用
利用XPS测定元素的电子结合能及谱峰的强度,可以鉴定除了 H, He之外的全部元素。利用XPS的化学位移可以获得固体表 面的化学状态、固体表面吸附(或反应)物的状态,研究分 子与分子之间相互作用的机理、催化作用机理、聚合物表面 结构及其改性等。
XPS的定性和定量分析
能够对原子序数为3~92的元素进行定性和定量分析。不仅 可以给出元素的种类和含量,还可以给出元素的化学状态。 XPS的定量分析的关键是要把XPS谱仪测得的信号强度转 变成元素的含量,即将谱峰的峰面积(谱峰的强度)转变 成元素的浓度。主要包括标样法、元素灵敏度因子法和基 本理论模型法。
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元素的定性和定量分析
绝对灵敏度:10-18g 相对灵敏度:0.1% 1. 定性分析 (1)先找出C1s、O1s 峰 (2)找出主峰位置,注意自旋双峰,如 p1/2,3/2; d3/2,5/2;f5/2,f7/2,并注意两峰的强度比 (3)与手册对照
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2. 定量分析 假定在分析的体积内样品是均匀的,则这种 从特定的谱线中所得到的光电子数可用谱线包括的 面积 I 表示,则元素的原子密度为:
I ρ= S
两种元素的浓度比:
S---原子灵敏度因子-可查
ρ1 I1 / S1 = ρ2 I 2 / S2
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对多种元素中的某一元素浓度:
ρx I x / Sx = Cx = ∑ ρi ∑ I i / Si
i
注意: (1)不适用非均匀样品; (2)对过渡金属,不同的化学状态有不同的原子灵 敏度因子; (3)上式的误差10-20%
X射线光电子能谱
X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS)
主 要 内 容
XPS的基本原理 光电子能谱仪简介 化学位移及其影响因素 X射线光电子能谱的应用
2
XPS的基本原理
XPS是由瑞典Uppsala大学的K. Siegbahn及其同事历经近20年的潜心 研究于60年代中期研制开发出的一种新型表面分析仪器和方法。鉴于 K. Siegbahn教授对发展XPS领域做出的重大贡献,他被授予1981年诺 贝尔物理学奖;
XPS谱图分析中原子能级的表示用两个数字和一个小 字母表示。例如:3d5/2
第一个数字3代表主量子数(n) ;
小写字母代表角量子数 ; 右下角的分数代表内量子数j
l—为角量子数,l = 0, 1, 2, 3 ……,
j = l ± 1/ 2
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注意:
在XPS谱图中自旋-轨道偶合作用的结果, 使 l 不等于0(非s轨道)的电子在XPS谱图上出 现双峰,而S轨道上的电子没有发生能级分裂, 所以在XPS谱图中只有一个峰。
12
XPS的特点
在实验时样品表面受辐照损伤小,能检测周期 表中除 H 和 He 以外所有的元素,并具有很高 的绝对灵敏度。 相邻元素的同种能级的谱线相隔较远,相互干 扰较少,元素定性的标识性强。 能够观测化学位移,化学位移同原子氧化态、 原子电荷和官能团有关。
13
XPS谱图分析中原子能级的表示方法
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筒镜式电子能量分析器 同轴圆筒,外筒接负压、内筒接地,两筒之间形 成静电场; 灵敏度高、分辨率低。
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• 分辨率
分 辨率 =∆E / Ek ×100%
∆Ε---光电子能谱的半高宽即绝对分辨率 Ek---通过分析器电子的额动能 W---狭缝宽度
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∆E / Ek = (W / 2r ) + α 2 / 2
XPS采用能量为1000~1500ev 的射线源,能激发内 层电子。各种元素内层电子的结合能是有特征性 的,因此可以用来鉴别化学元素; UPS采用 16~41ev的真空光电子作激发源。与X射 线相比能量较低,只能使原子的价电子电离,用 于研究价电子和能带结构的特征; AES大都用电子作激发源,因为电子激发得到的 俄歇电子谱强度较大。
谱带强度
固体表面XPS谱带强种元素,谱带强度反映了元素的浓度或含量。对于不 同种元素,谱带强度并不能直接给出元素之间量的关系,这是 因为影响谱带强度的因素是复杂的,主要包括: 1)仪器因素; 2) 样品因素; 3) 电离过程。
电子能谱中,谱带的强度与组成元素原子的 n 和 l 有关。对于同一 种元素,主量子数小的谱带的强度大于主量子数达的谱带的强度, 即1s谱带的强度大于2s谱带的强度。
9
在入射光子能量一定的前提下,同一原子中半径越 小的壳层,σ越大; 电子的结合能与入射光子的能量越接近,σ越大; σ越大说明该能级上的电子越容易被光激发,与同 原子其它壳层上的电子相比,它的光电子峰的强度 越大。
价电子对X射线的光电截面远小于内层电子,所 以XPS主要研究的内层电子的结合能。
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XPS谱图的表示
1. XPS谱图的表示 横坐标:动能或结合能,单位是eV,一般以结合能 为横坐标。 纵坐标:相对强度(CPS)。 结合能为横坐标的优点: 结合能比动能更能反应电子的壳层结构(能级结构), 结合能与激发光源的能量无关