3Dmax 快捷键

笔记第一阶段建模第一节视图一，快捷键1，T——顶视图F——前视图P——透视图L——左视图B——底视图Alt+鼠标中键——旋转Ctrl+Alt+鼠标中键——缩放Z——最大化视图G——网格F4——显示线条F3——显示网格二，Attach附加Attach Mult 附加多个Refine加点Weld焊接（中间不能隔点）Filet切圆角Chamfer切直角Outline轮廓（Center从中心点）三，布尔运算Boolean布尔运算(加运算、减运算、交叉运算）Mirror镜像Break断开（选中移动）路径具有方向的唯一性（隔点不可焊接）Bevel倒角Divide划分加点Lathe车削（Weld core 焊接内核）四，点Bezier 两端同时调节Bezier Corner 可调节端点Corner直角点Smooth平滑点五，放样Compound object→loft放样Get path拾取路径get shape拾取图形（选择路径拾取图形，选择图形拾取路径）六，阵列Tools→Array阵列rotate旋转放样做花：圆修改→放样→修改→Deformations→scale缩放→层面板→仅影响轴七，Edit Poly1，快捷键：1，点；2，边；3，边界；4，面；5，体2，参数：Ignore back facing禁选背面Shrink 减选grow加选ring（可选择平行边）loop可选择同一层边（多选）By angle按角度选择3，软选择——冷暖色调4，Edit vertices 可编辑点remove移除break 断开weld 焊接chamfer 细分Target weld目标点焊接（隔点不可焊接）Connect连接remove isolated vertices 移除飘离点bridge桥接边界→cap补面attach附加cut切线（快捷alt+c) collapse(闭合)5，空格键——锁定x——坐标轴快捷键：ctrl——加选alt——减选6，Symmetry对称Bevel倒角Shell厚度turbo smooth涡轮平滑bend弯曲（angle角度direction弧度limit 限制7，光滑时要求布线均匀，疏密有致先做大型，后出细节；细分时要整体细分；连线尽量连成四边面，尽量避免五星点和多星点，有棱角时要加线。

8，Path deform沿路径变形先pick path然后move to path再改轴向Percent移动stretch缩放twist扭曲9，paint deformation笔刷工具push/pull笔刷push/pull direction 笔刷方向（1）original normals 法线方向（2）deformed normals transform axis 自身方向push/pull value 笔刷力度brush size 笔刷大小八，灯光三盏照明法：主光：产生高光，决定阴影的方向。

辅光：照亮黑暗处(关闭阴影，亮度稍低）背光：与背景分离，边缘较清晰(亮度较低，颜色稍偏蓝)九，材质Blin万能材质metal金属类phong塑料类multi——layer多层材质（例如：车漆类）Wire线框2——sided双面face map面贴图Ambient环境光diffuse漫反射specular高光颜色glossiness光泽度opacity 不透明度Uvw贴图——mirror镜像tile平铺Maps——bump凹凸reflection反射refraction折射blur模糊金属材质反射要加光线跟踪。

折射率：宝石类在2左右；钻石类：2；水的折射率在1.2——1.5左右玻璃的折射率在1.5左右多维子材质：Multi/sub—objectID位置：polygon：material IDS混合材质：blend （可以调自己的高光、性质，但混合贴图不可以调节）底色→锈色→黑白图车漆：第一层出小高光，第二城出大高光反射+fall off 衰减→光线跟踪(白色）Gradient渐变alt+x 半透明玻璃材质：Ray trace,固有色给黑色，在不透明度上调色彩十，UVW rap(拆UV）Show map seam 隐藏电脑切割线Point to point seam 点到点的切割Edit seams 切割线（ctrl 加选alt 减选）Exp face sel to seams 选择到边界→pelt撕开→ Start plet开始展开→ commit继续→tools 工具→relax松弛（relax by face angle)移动在中间，缩放在顶角。

加完UVW后要转换成可编辑多边形，可以稳定切割线。

十一，V—ray1,vray sun参数Turbidity空气浑浊度（可以模拟真实空气质量，天空发灰的效果）：控制空气的干净程度，其值在2—20之间，值越大阳光受干扰越大，呈暖调黄色或者红色；越小越干净，呈蓝色。

一般正午取3—5，下午取6—9，晚上取15。

ozone臭氧混合度（数值大，天空越蓝）：值越大，臭氧层越稀薄，阳光强度就越低，光的漫射效果越弱。

有效值0—1，一般不做调节。

intensity multiplier强度倍增器（可以和天光强度结合起来调节，如果影子偏黑，可以提高天光强度，降低太阳光强度）：和浑浊度配合，浑浊度越大阳光越暖越暗。

如果使用物理相机，一般为1左右。

如果使用3D自带相机，一般为0.002—0.005。

Size multiplier尺寸倍增器（保持默认，太阳越大阴影越分散）：越大光线越分散，阴影会越模糊，根据场景需要而定，一般可取3—6。

shadow subdivs太阳细分（数值越大，渲染速度越慢）：越小阴影质量越差，尺寸倍增器越大，细分值就要越大，一般可取6—15。

shadow bias阴影偏移：值越大产生偏移距离越远，一般保持默认。

2，vray 渲染器参数设置（1），V—rayV—ray：image samplerType：fixed 用于测试Adaptive dmc 出图精细，速度慢Adaptive subdivision 自适应细分（常用)V—ray：color mappingType ：reinhard 莱茵哈德（混合指数）（常用）Burn value ：0.5（2），indirect illuminationV—ray：GI打开一次反弹→irradiance map发光贴图二次反弹→light cache 灯光缓存一次反弹要比二次反弹强Type :still cam静帧图片3，V—ray摄影机参数：F—number光圈（值大）——进光量少Shutter speed 快门（值大）——速度快——进光少Film speed 胶片感光度——值大——越亮Exposure 曝光（不能关掉）Sampling——depth—of—field景深Specify focus 景深开关注意;v—ray材质，反射加falloff后不用加raytraceReflect可以加v—ray mapCustom balance白平衡（画面偏蓝往蓝色调，偏白往白色调）第二阶段笔记一，构图1，九宫格构图线框交叉点上排比下排表现动感强，左排比右排表现动感强2，斜线构图(和三角构图配合使用）代表力量、动感和方向优势：可以增强纵伸感3，水平线构图比较宁静宽广、博大水平线放在画面的上1/3或下1/3安全框——菜单——views——viewport configuration——safe frames——背景、前景、文字二，v—ray 材质1，混合材质底漆→高光、反射（一层比一层强）2，v—ray 2sidemtl 双面材质（植物）output 输出数值3,v—ray材质特性（1）反射：反射程度；反射类型：全反射；菲尼尔反射（2）折射：折射程度；折射率(3) 高光：亮度；柔和程度；高光的范围（反射程度越强，亮度越强）(4) 凹凸，纹理三，V—ray摄影机参数Sampling采样Depth—of—filed景深Motion blur运动模糊subdivs 细分（控制质量）Specify focus 手工定焦（将焦点移到画面比较清晰处）Film gate片门（控制视野的大小）Focal length 焦长注：灯光与摄影机的夹角在60°到120°之间摄影机打镜头时，采用较为极端的镜头，在正常生活中人不能达到的视角。

四，材质保存1，选中材质,2，点击最左边的球形按钮get material3，在scene materials 中选择保存材质4，右击copy to 选择temporary library材质库5, sample slot 下方右击temporary library 选择save as保存为mat格式注：下次使用时，打开材质球，点击最左边球形按钮，点击最左上方的按钮，选择open material library五，代理物体在渲染的时候，从外界文件调入的网格物体。

1，导出前的工作：（1）减面，节省场景资源（2）面分ID号，用多维子材质（3）保存材质（4）保存max文件，方便以后对代理物体的修改2，导出mesh文件选中物体右击，选择v—ray mesh export ，选择export all selectedAutomatically create proxies 自动创建代理物体Face in preview 控制代理物体在新场景中占的面数3，导入代理物体实体创建，选择v—ray，选择v—ray proxy 代理物体通道减面工具:pro optimizerOptimization level 减面后占减面前的百分比减面工具可以和贴图扭曲配合使用。

六，换背景V—ray ：environmentGI environment 可以换背景图片背景要与材质球关联，天光要打开。

Alt +b，打开use environment backgroundV—ray ：取消environment affect background 影响背景七，贴图坐标1，uvw 贴图，map channel 贴图通道与材质球对应2，拆uv，拆完后转化为editable poly ，用v—ray混合材质，再加uvw map。

注意uvw map通道要与贴图通道保持一致。

八，制作面片树叶创建一个平面，分段数加高，加noise命令，勾选fractal ，在z轴调参数，转换为editable poly ，再加uvw map材质：在固有色中贴颜色贴图，在bump中贴纹理贴图，在不透明度通道中贴黑白图九，小光子渲染大图1，光子图：带有光线反弹信息的文件2，出图快的原因：光子质量越大，渲染速度越慢；图片尺寸不必过大；在出图时可以直接调用光子文件，不必再计算；计算光子图只需要明显的几帧，其他可以叠加。