电子探针分析
电子行业电子探针显微分析方法

电子行业电子探针显微分析方法引言在现代电子行业中,电子制造过程中的材料和器件的质量控制是非常重要的。
为了确保电子产品的性能和可靠性,需要对材料中的缺陷和杂质进行精确的分析和检测。
电子探针显微分析方法是一种常用的技术,为电子行业提供了一种非常有效的分析工具。
本文将介绍电子探针显微分析方法的原理和应用。
电子探针显微分析方法的原理电子探针显微分析方法是利用高能电子束与物质的相互作用来进行材料分析的方法。
它基于电子束和样品之间的相互作用,通过分析电子束与样品相互作用后产生的信号,来获取样品的组成、结构和性质等信息。
电子探针显微分析方法主要包括以下几个方面:1.能谱分析:通过分析在样品与电子束相互作用后产生的X射线,可以得到样品的元素组成和含量等信息。
这对于分析材料中的杂质和控制样品的化学成分非常重要。
2.成分分析:通过对样品进行扫描,检测原子或化学组分的分布和浓度,可以评估材料的均一性和制备工艺的质量。
这对于确定电子器件中的材料特性和缺陷非常重要。
3.形貌分析:通过对样品表面的形貌进行观察和分析,可以评估材料的表面形态和结构特征。
这对于确定材料的纯度和表面处理效果非常重要。
4.结构分析:通过在样品表面刻蚀或切割,然后使用电子探针进行断面观察,可以获得材料内部结构的信息。
这对于评估材料的晶体结构和内部缺陷非常重要。
电子探针显微分析方法的应用电子探针显微分析方法在电子行业中有着广泛的应用,以下是一些常见的应用场景:1. 材料研究电子探针显微分析方法可以用于对新材料的研究。
通过对样品的成分分析和结构观察,可以评估材料的性能和潜在应用。
这对于新材料的开发和应用具有重要意义。
2. 电子器件制造在电子器件制造过程中,电子探针显微分析方法用于评估材料的质量和性能。
通过对电子器件中的材料进行成分分析和缺陷观察,可以提前发现潜在的故障和问题,并采取相应的措施来解决。
3. 故障分析当电子产品出现故障时,电子探针显微分析方法可以用于确定故障的原因和位置。
_扫描电镜与电子探针分析

_扫描电镜与电子探针分析扫描电镜(Scanning Electron Microscope,SEM)和电子探针分析(Energy Dispersive X-ray Spectroscopy,EDS)是现代材料科学和纳米技术领域中广泛应用的两种重要分析技术。
本文将分别介绍扫描电镜和电子探针分析的原理、仪器结构和应用。
一、扫描电镜(SEM)扫描电镜是一种基于电子束的显微镜,通过聚焦的电子束对样品表面进行扫描,获得高分辨率的图像。
相比传统光学显微镜,SEM具有更高的分辨率和更大的深度聚焦能力。
SEM的工作原理如下:1.电子源:SEM使用热阴极电子枪产生的高速电子束。
电子束由一根细丝产生,经过加热后电子从细丝上发射出来。
2.透镜系统:电子束经过电子透镜系统进行聚焦和调节。
透镜系统包括几个电磁透镜,用于控制电子束的聚焦和扫描。
3.样品台:样品台用于固定样品并扫描表面。
样品通常需要涂覆导电性材料,以便电子束可以通过样品表面。
4.探测器:SEM使用二次电子和背散射电子探测器来检测从样品表面散射的电子。
这些探测器可以转化为图像。
SEM可以提供高分辨率的表面形貌图像,并通过电子束的反射和散射来分析样品的成分、孔隙结构和晶体结构等。
其应用广泛,包括材料科学、纳米技术、电子器件等领域。
二、电子探针分析(EDS)电子探针分析是一种基于X射线的成分分析技术,常与扫描电镜一同使用。
EDS可以对样品的元素成分进行快速准确的定性和定量分析。
其工作原理如下:1.探测器:EDS使用一个固态半导体探测器来测量从样品发射的X射线。
当样品受到电子束轰击时,样品中的元素原子被激发并发射出特定能量的X射线。
2.能谱仪:EDS使用能谱仪来分析探测到的X射线,该仪器能够将X 射线能量转换成电压信号,并进行信号处理和分析。
3.能量分辨率:EDS的精度取决于能谱仪的能量分辨率,分辨器的能量分辨率越高,分析结果越准确。
4.谱库:EDS使用事先建立的元素谱库进行定性和定量分析。
电子探针分析方法 结构与工作原理

电子探针分析方法结构与工作原理一、引言电子探针分析方法是一种常用的表面分析技术,可以用于研究材料的表面形貌、化学成分和电子结构等。
本文将详细介绍电子探针分析方法的结构和工作原理。
二、电子探针分析方法的结构电子探针分析方法主要由以下几个部分组成:1. 电子枪电子枪是电子探针分析仪器中的核心部件,它产生高能电子束。
电子枪通常由阴极、阳极和加速电极等组成。
阴极发射电子,经过加速电极加速后形成电子束。
2. 聚焦系统聚焦系统用于将电子束聚焦到一个小的区域,以提高分辨率。
聚焦系统通常由一组磁铁和透镜组成,通过调节磁场和电场来实现电子束的聚焦。
3. 电子探测器电子探测器用于检测电子束与样品相互作用后产生的信号。
常用的电子探测器包括二次电子探测器和能量色散X射线谱仪。
二次电子探测器可以获得样品表面的形貌信息,而能量色散X射线谱仪可以获得样品的化学成分信息。
4. 样品台样品台是用于支撑和定位样品的平台。
样品台通常具有多个自由度的运动,以便于对样品进行精确定位和调整。
三、电子探针分析方法的工作原理电子探针分析方法的工作原理基于电子束与样品相互作用后产生的信号。
主要包括以下几个步骤:1. 电子束的生成与聚焦电子束由电子枪产生,并经过聚焦系统聚焦到一个小的区域。
聚焦系统通过调节磁场和电场来实现电子束的聚焦,以提高分辨率。
2. 电子束与样品的相互作用电子束与样品相互作用后,会发生多种物理与化学过程,如电子散射、电子俘获、电子激发等。
这些相互作用会产生二次电子、背散射电子、X射线等信号。
3. 信号的检测与分析电子探测器用于检测电子束与样品相互作用后产生的信号。
二次电子探测器可以获得样品表面的形貌信息,而能量色散X射线谱仪可以获得样品的化学成分信息。
通过对信号的检测与分析,可以得到关于样品表面形貌、化学成分和电子结构等方面的信息。
4. 数据处理与图像重建获得的信号经过数据处理与图像重建,可以得到样品的表面形貌图像、元素分布图像等。
电子探针分析

能谱仪的结构
能谱仪的工作原理
• 由试样出射的具有各种能量的X光子(图8-29)相继 经Be窗射入Si(Li)内,在I区产生电子-空穴对。 每产生一对电子-空穴对,要消耗掉X光子3.8 eV 的能量。因此每一个能量为E的入射光子产生的电 子-空穴对数目N=E/3.8。 • 加在Si(Li)上的偏压将电子-空穴对收集起来,每 入射一个X光子,探测器输出—个微小的电荷脉冲, 其高度正比于入射的X光子能量E。
• • • • • • • • • • • Si(Li)是厚度为3-5mm、直径为 3-10mm的薄片,它是p型Si在严 格的工艺条件下漂移进Li制成。 Si(Li)可分为三层,中间是活性 区(1区),由于Li对p型半导体起 了补偿作用,是本征型半导体。 I区的前面是一层0.1m的p型半 导体(Si失效层),在其外面镀有 20 nm的金膜。I区后面是一层n 型Si导体。 Si(Li)探测器实际上是一个p-I-n型二级管,镀金的p型Si 接高压负端,n型Si接高压正端和前置放大器的场效应管相 连接。
分光晶体
• 谱仪的角有一定变动范围,如15°-65°; 每一种晶体的衍射晶面是固定的,因此它只 能色散一段波长范围的X射线和适用于一定原 子序数范围的元素分析。 • 目前,电子探针仪能分析的元素范围是原子 序数为4的铍(Be)到原子序数为92的铀 (U)。其中小于氟(F)的元素称为轻元素, 它们的X射线波长范围大约在18-113 Å。
波谱仪和能谱仪的比较
量子效率 瞬时接收范 围 最大记数速 率 分析精度 (浓度>10%, Z>10) 改变,< 30% ~ 100% (2.5~15 keV)
谱仪能分辨的范 全部有用能量范围 围 ~ 50000 cps 与分辨率有关,使在 (在一条谱线上) 全谱范围内得到最佳 分辨时,< 2000 cps 1~5% 5%
电子探针显微分析

电子探针显微分析电子探针显微分析(Electron Probe Microanalysis,简称EPMA)是一种用于材料分析的先进技术。
它结合了扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscopy,简称SEM)和能谱仪,能够提供高分辨率的成分分析和元素分布图像。
电子探针显微分析的原理是利用电子束和样品之间的相互作用。
首先,电子束通过集束系统聚焦到样品表面,与样品发生相互作用。
这些相互作用包括:在样品表面产生的次级电子、背散射电子和散射电子。
次级电子是从样品表面弹出的电子,背散射电子是从样品内部产生的电子,散射电子是从相互作用点散射出的电子。
次级电子和背散射电子是电子显微镜的常规成像信号,这部分信号可以用来获得样品的表面形貌和显微结构。
而散射电子则包含了样品的化学信息,通过能谱仪可以对这些散射电子进行能谱分析,获得样品的元素组成。
电子探针显微分析既可以定性分析材料中的元素,也可以定量分析元素的含量。
电子探针显微分析在材料科学、地质学、环境科学等领域广泛应用。
它可以对金属、陶瓷、半导体、岩石等各种材料进行分析。
在材料科学研究中,电子探针显微分析可以用于分析材料中的微观缺陷、晶体结构和化学成分。
在地质学研究中,它可以用于分析岩石样品中的矿物成分和地球化学元素分布。
在环境科学研究中,它可以对大气颗粒物、水体中的溶解物等进行化学成分分析。
除了成分分析,电子探针显微分析还可以进行元素的显微分布分析。
通过调整电子束的扫描区域和扫描速度,可以获得样品中元素的分布图像。
这些图像可以用来研究材料的相分离、溶质迁移和化学反应等过程。
总之,电子探针显微分析是一种强大的材料分析工具。
它提供了高分辨率、高灵敏度的成分分析和元素分布图像,对于研究材料的结构和性质具有重要意义。
未来,随着技术的不断进步,电子探针显微分析将在更多领域展示其潜力和应用价值。
电子探针显微分析

数据记录
记录每个扫描点的特征X 射线能量和强度,以及对 应的位置信息。
结果分析
根据扫描区域内各点的数 据,绘制元素或化合物的 分布图,并分析其空间分 布规律和变化趋势。
06
电子探针显微分析的数据处理与结果解释
数据处理的基本步骤
数据预处理
包括背景扣除、死时间校正、能量漂移校正等步 骤,以确保数据的准确性和可靠性。
烘干处理
将镀膜后的样品放入烘箱中,在适当的温度和时间下进行烘干,以 去除样品表面的水分和有机污染物,确保分析的准确性。
05
电子探针显微分析的实验方法
定点分析
01 选定分析点 在电子显微镜下选定感兴趣的区域或特定相,确定分 析点。
02 电子束聚焦 将电子束聚焦到分析点上,确保分析的准确性。
03 X射线激发 用高能电子束激发样品,产生特征X射线。
04
X射线检测
通过能量色散谱仪(EDS)检测特征X射线的能量和强 度。
05
定量分析
根据特征X射线的能量和强度,结合标准样品的数据 进行定量分析。
线扫描分析
X射线激发与检测
在扫描过程中,不断激发样品并 检测特征X射线。
电子束扫描
将电子束沿选定的扫描线进行连 续扫描。
数据记录
记录每个扫描点的特征X射线能 量和强度。
精准度高
相比其他分析方法,电子探针显微分析具有更高的精准度和灵敏度,能够检测 到ppm级别的元素含量,满足现代科学研究对高精度分析的需求。
电子探针显微分析的应用领域
01 02
材料科学
在材料科学领域,电子探针显微分析可用于研究合金、陶瓷、高分子等 材料的元素分布、相组成和微观结构,为材料性能优化和新材料开发提 供指导。
电子探针分析原理

重元素玻璃EDS谱线图
该玻璃含有Pb、 Ta、Ba、Si、O等 主要组分,以及Bi、 Al等微量组分
二、波谱定性分析
• 基本原理:在电子束的轰击下,样品产生组成元素的特征X 射线,然后由谱仪的分光晶体分光,计数管接收并转换成脉 冲信号,最后由计数器显示,或由记录仪记录下试样组成元 素的特征X射线全谱。
Ci Ii k C(i) I(i)
式中,Ci和C(i)分别为样品和标样中i元素的浓度,Ii和I(i) 分别为样品和标样中i元素的X射线强度。
二、定量分析数据的预处理
(一)背景修正 实验测得的特征X射线强度必须扣除连续X射线所造成的背
景强度,即进行背景修正。 测定背景值的方法有如下几种: (1)如果背景强度是X射线波长的线性函数,则在谱峰两侧偏
对于定量分析来说,这样的处理是远远不够的。这是因为X 射线强度比与元素浓度比之间并非呈简单的线性关系。造 成这种非线性关系的因素包括内因和外因两方面。
内因:①试样和标样对入射电子的原子序数效应;②试样和 标样对X射线的吸收效应;③试样和标样对X射线的荧光 效应。
外因:电子入射角、X射线的出射角以及电子加速电压等。 因此,在尽量保证外因影响最弱的情况下,就必须进行内因
一、能谱定性分析
• 根据探测器(正比计数管、闪烁计数管)输出脉冲幅度与 入射X射线在检测器中损耗能量之间的已知关系来确定X 射线能量。
• 分析原理:(1)样品中同一元素的同一线系特征X射线的 能量值是一定的,不同元素的特征X射线的能量值各不相 同。(2)利用能谱仪接收和记录样品中特征X射线全谱, 并展示在屏幕上。(3)然后移动光标,确定各谱峰ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ能 量值,通过查表和释谱,可测定出样品组成。
电子探针分析原理

等组成
电 子 光 学 系 统 与 X 射 线 谱 仪 结 构 图
X射线谱仪
电子枪
电磁透镜 物镜光阑
探针电流检测器 微物镜样品
电 子 光 学 系 统 详 细 剖 面 图
灯丝 栅极 阳极
第五节 电子探针定性分析
• 定性分析是指确定未知样品所含有的在 检测极限范围内的所有元素。 • 电子探针定性分析包括①波长色散X射线 光谱法(wavelength-dispersive X-ray spectrometry,WDS),②能量色散X射线 光谱法(energy-dispersive X-ray spectrometry,EDS)。EDS的检测极限为 0.1wt%±,WDS的检测极限大部分为 100ppm,极理想情况下可达10ppm。
nBSE iBSE nB iB
式中,nBSE为背散射电子数,nB为入射电子数,iB为入 射电流,iBSE为背散射电流。
• 1、背散射系数与原子序数之间的关系
• 研究表明,电子的背散射作用随原子序数增加而增 强。统计结果显示背散射系数与原子序数(Z)之间 存在良好的相关关系:
0.0254 0.016Z 1.8610 Z 8.3107 Z 3
当入射电子轰击样品时,因为受到原子核库仑 场的作用而急剧减速,在减速过程中会产生 电子能量损失,于是就辐射出X射线,这种 辐射作用称为韧致辐射(bremsstrahlung)。 由于在原子核库仑场作用下入射电子的速度变 化是连续的,辐射出的X射线的能量也是连 续的,可以从0KeV至样品原子的能量,所 以称为连续X射线。 因此,当电子束轰击样品时,因为受到原子核 库仑场的作用发生韧致辐射而形成的具有连 续能量变化的X射线称为连续X射线。 在电子探针分析时,连续X射线表现为背景。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
SA:A元素的阻止本领(非弹性散射因 子) SAB:B元素对A元素的阻止本领
吸收校正
FA X A Ai ......(5) FAB ( X AB )
式中 FA(XA)----对XA的吸收校正系数
FAB(XAB)----对XAB的吸收校正系数
荧光效应校正
3) ZAF修正法 样品中组成元素的百分含量与样品 激发区内该元素产生的特征X射线成正 比,但是,在特征X射线从产生到逸出 表面的过程中,其强度会发生一定变化. 目前认为,这种变化由:
样品中各组成元素的原子序数(Z) 元素本身与元素间的吸收(A) 荧光效应(F) 三种主要因素决定。因此,要获得准确 的电子探针定量分析结果,必须进行这 三种因子的修正计算。这种修正计算方 法叫ZAF法,修正计算的总公式为:
F
聚焦圆的中心O在 以F为圆心,R为半径 的圆弧上运动。在此 种条件下,探测器的 动作较特殊,它是沿 着一个绕晶体转动轴 摆动的四叶玫瑰形导 臂滑动,其运动轨迹 方程为:
2R sin 2
式中ρ 为入射狭缝至接收狭缝的距离; R为聚焦圆半径。
由图可看出:
SC1 C1D1 2 R sin 1 SC2 C2 D2 2 R sin 2
Ci Ki Zi Ai Fi ......(3)
式中:Ci为i元素的重量浓度; Ki为样品中i元素与标样中同种 元素的X射线强度比; Zi为i元素的原子序数校正项; Ai为i元素吸收系数修正项; Fi为i元素荧光效应修正项。
原子序数校正
RA S AB Zi ......(4) RAB S A RA:A元素的背散射因子,由表查出
使聚焦电子束在一个微区范围内 进行二维平面扫描,从而得到一个面 内的元素分布。
EPMA的分析方法
微区定量分析
在定性分析的基础上进行定量分 析时,电子束可以固定在选定的一点 上或者在一个微小区域内扫描。定量 分析的基本步骤如下:
EPMA的分析方法
微区定量分析
1) 根据定性分析结果,确定定量分析 元素的种类,并制备各待测元素的纯 元素标准试样,然后,先在分析试样 的选定区域测量所含各元素特征X射 线的强度IL及其本底X射线强度IB;在 同样条件下测量各纯元素标准试样的 特征X射线的强度IM及其本底X射线强 度IC;
如图所示, 晶体先弯曲成曲 率半径为2R的柱 面,即晶面(h,k,l) 的曲率半径为2R, 然后再研磨成外 形曲率半径为R 的检测晶体。
从图中可以看 出,X射线入射到 晶面各点的入射 角和向检测器的 散射角都是相等 的(晶体先弯曲 成半径为2R的原 因),起完全聚 焦的作用。
Байду номын сангаас
1968年以后又提出一种方法,利 用固态检测器测量每个X射线光子的能 量并按其能量分类,记下不同能量的 光子的数目或数率(每称多少数目), 这种方法称为能量分散谱仪,简称能 谱仪或EDS:
Energy Dispersive Spectrometer
波谱仪WDS
波谱仪即接收X-ray,进行不同波 长展谱的仪器。 当波长为λ的X射线照到晶体(单 体)上时,在散射角等于入射角的方 向如满足布拉格定律:
就可以得到一个按特征X射线能量展 开的分布图谱。
能谱仪不使用分光晶体,因而 探测器可以放在距发射源很近的位 置,X射线讯号的强度没有什么损失。 同时,Si(Li)检测器对很宽的X射线 波长范围内的检测效率接近于100%, 所以能谱仪的分析灵敏度高,可以 在几分钟内对Z<11(Na)的所有元素进 行快速定性分析。
若特征X射线检测器 的波长设置在某一数值 (对应某一元素),在电子 束扫描过程中,根据不 同微区发射该波长信号 的强弱,可以得出该种 元素的分布。
➊WDS
通过衍射分光原理,测量X射线的波长 分散(分布)及强度,这种方法称波 长分散射谱仪,简称:
Wavelength Dispersive Spectrometer
显然,如果连续地使探测器与 分光晶体协调地在聚焦圆运动(改 变θ角),则样品上发射的各种波长 的特征X射线信号使相继被探测器接 收,然后经过记录处理,就可以得 到样品的定性分析结果。
考虑到定量分析的准确性,需 保持检测器的检测方向不变,这样 X射线从内部逸出过程的吸收条件 不变。为此,目前使用较多是直进 式全聚焦谱仪。如下图如示,晶体 从光源F向外沿着一直线移动,并通 过自转来改变θ角。
电子探针X射 线显微分析
EPMA: Electron Probe x-ray Micro-analysis
EPMA是X射线波 谱仪和扫描电镜相结合 的仪器:不但能观察材 料的表面形貌,而且能 对材料表面的点、线和 面进行成分分析。
EPMA成分分析的原理 是利用电子和样品作用产 生的特征X射线,测量其 波长(或能量)确定样品的 元素种类,测量其强度确 定元素的含量。
1 Fi ......(6) IF 1 IA
式中 IA为A元素特征X射线强度, IF为荧光X射线强度.
将以上各项修正因素代入式(3)得:
RA S AB FA X A 1 Ci Ki RAB S A FAB X AB 1 I F IA
迭代运算 根据第一次校正浓度,再经过几 次迭代运算校正后得到一个收敛的近 似值。大量成分精确已知的标准样品, 采取ZAF校正程序进行定量分析结果表 明,校正后的元素浓度和真实浓度之 间误差可达1~2%,这对大多数应用来 说已是够准确的。定量校正计算的手 续相当繁琐,通常都是用计算机运算 处理。
能谱仪对样品表面发射点的位置 没有严格限制,适宜作比较粗糙表的 分析工作。 能谱仪有许多优点,但不能代 替波谱仪,这是因为它的分辨能力 还远不如波谱仪的分辨能力,且对 轻元素的分析灵敏度低。
样品要求
表面清洁、平坦; 薄片样品不应覆盖玻片; 样品表面应具有良好的导电性, 对非导电样品须喷镀一层导电膜 (碳、Au或铝等)。
即当晶体位于θ 角时,晶体与 光源之间的距离:
L 2 R sin
d d R 由于sin θ<1,所以: 2 R,即d d 2
将此式代入布拉格方程,得: R L 2 R sin R
显然,对波 长为0.05-10nm的 特征X射线,需 要使用几块晶面 间距为0.1-5nm的 晶体展谱,常用 的晶体有LiF、石 英等。
IS 158788 WS 53.4% 53.4% 37.3% I 53.4S 227316
I Ni 71516 WNi 46.6% 100% 29.6% I100 Ni 241984
ICo 44870 WCo 100% 100% 21.9% I100Co 204979
I46.6Fe=127693计数/30秒 I53.4S=227316计数/30秒 I53.4S=227316计数/30秒 INi=241984计数/30秒 ICo=204979计数/30秒
经过归一化得到的一级近似初始浓度是:
I Fe 10656 WFe 46.6% 46.6% 3.9% I 46.6Fe 127698
经过迭代运算的ZAF修正后,得到近似 收敛的各元素真实浓度为:
CFe 3.5% CS 41.4% CNi 30.8% CCo 22.4%
C
j
98.1%
例
某Ni-Co矿粒采用电子束分析,用标 准黄铁矿(其中含Fe:46.6%,S:53.4%) 作为测定样品中铁和硫的标准,再以纯 Ni和纯Co作为测定样品中Ni和Co的标 准特征X射线用Fe-Kα,S-Kα,Ni-Kα, Co-Kα,强度测量结果如下(已扣除本 底)。
IFe=10656计数/30秒 IS=158788计数/30秒 INi=71516计数/30秒 INi=71516计数/30秒 ICo=44870计数/30秒
显然,对波长为0.05-10nm的特 征X射线,需要使用几块晶面间距 为0.1-5nm的晶体展谱,常用的晶体 有LiF、石英等。 波谱仪分辨率较高,适宜作元 素定量分析。但由于X射线利用率 低,分析速度慢,作一次元素的全 分析的时间需半个小时以上。
能谱仪的关键部件是Li漂移检 测器,习惯上称Si(Li)检测器,它是 一个特殊的半导体二极管,以Si(Li) 检测器作探头的能谱仪,实际上是 一整套复杂的电子装置。检测器输 出的电压脉冲讯号经场效应晶体管 放大后被馈送到单道或多道脉冲分 析器中按高度进行分类。然后由计 算机处理后分别显示记录。这样,
2d sin
则在该方向衍射的X射线强度有极大 值,如d、θ 已知,可从布拉格定律 确定λ,再利用Moseley定律可确定 样品中所含的元素。与此同时,如 果在与特征X射线衍射方向呈2 θ角 的位置上放置一个X射线探测器,就 可以检测到这个特征X射线强度,从 而推算出元素的丰对含量。
由于电子探针的X射线源相当于一 个点源,而晶体有一定尺寸,如采用 平面晶体,则晶体面上各处入射角不 同,所以实际的波谱仪采用有一定聚 焦作用的弯曲面晶体,X射线源、晶 体和检测器三者位于半径为R的圆周 上(该圆称罗兰圆或聚焦圆)。
2) 计算各元素的第一次近似重量百 分浓度: IL IB i 100%......(1) IM IC
在一个微小区域内制备极均匀和极纯的 标样是非常困难的,待测元素X射线强 度与该元素标准试样的X射线强度之比, 即: IL IB Ki ......(2) IM IC
Ki
EPMA的分析方法
微区定性分析
1)元素分布状态分析
主要为背散射电子像与吸收电子像 分析。原子序数小的元素,背散射电子 像较暗,而吸收电子像正相反。
EPMA的分析方法
微区定性分析
2)点分析
测定一个点内的特征X射线,从而 得到元素组成。
EPMA的分析方法
3)线分析
微区定性分析
测定一个线内的特征X射线,从 而得到一个线的元素分布。 4)面分析