沉镍金工艺培训教材
沉镍钯金工艺(一)

沉镍钯金工艺(一)沉镍钯金工艺1. 简介•沉镍钯金工艺是一种常用于表面镀层的工艺技术。
•它通过在金属表面沉积一层镍和钯的合金薄膜来实现防腐、提高硬度和耐磨性的效果。
2. 工艺流程1.表面预处理–清洗:将待处理的金属表面进行清洗,去除污垢、氧化物等。
–酸洗:使用酸性溶液消除金属表面的氧化层,提高后续工艺的效果。
2.沉镍钯金–沉镍:将金属表面浸入含有镍盐的溶液中,施加电流使镍离子在金属表面还原沉积。
–镍层均匀性:控制电流密度、搅拌溶液等因素,确保沉积的镍层均匀。
3.沉钯–沉钯:将经过镍层处理的金属再次浸入含有钯盐的溶液中,进行类似的电化学反应,沉积钯层。
–钯层厚度:通过控制电流密度、溶液浓度,调整钯层的厚度。
4.表面处理–精整:去除不平整的部分,提高镀层的外观。
–抛光:使得镀层表面更加光滑,增强镀层的光泽度。
3. 应用领域•汽车工业:沉镍钯金工艺常用于汽车发动机零部件的表面处理,提高其耐腐蚀性和耐磨性。
•电子工业:沉镍钯金可用于电子器件的接点材料,提高其连接稳定性和导电性。
•机械工业:沉镍钯金工艺可应用于机械零件的表面涂层,提高其硬度和耐磨性。
4. 优势和局限性•优势:1.镀层均匀,能够提供出色的防腐和耐磨性能。
2.镀层与基材结合牢固,不易剥落。
3.工艺成熟,操作相对简单。
•局限性:1.沉镍钯金工艺对金属表面的准备要求较高。
2.镀层厚度有限,不适用于需要特别厚度的场景。
5. 结论•沉镍钯金工艺是一种可靠且成熟的表面处理技术,在许多领域得到广泛应用。
•通过控制工艺流程和参数,可以获得优良的防腐和耐磨性能的镀层。
•然而,工艺的局限性也需要考虑,根据具体需求选择适合的表面处理技术。
ENIG培训资料(沉镍浸金)(课堂PPT)

换槽标准: Cu2+大于300ppm Cu2+含量较高会有较多的Cu2+带入到后面的活化 槽,使活化槽的Cu2+含量增高,直接影响活化槽 的使用寿命。
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PH 时间
工艺范围 4.4-5.5 g/l 20 – 35g/l 4.5-4.7
20‘-32’
温度
78-84℃
20
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反应原理 化学镍层的生成无需外加电流,只靠高温槽液 中等)(的78作~用84,℃针)对还已原活剂化(的如待次镀磷金酸属钠表Na面H,2PO即2 可持续进行『镍磷合金层』的不断沉积。 反应机理过程:
工艺流程介绍
5、活化
活化的作用是在铜面析出一层钯,作为化 学镀镍起始反应之催化晶核。
参数控制:
主要成分 工艺范围
KAT-450
Cu2+ 时间 温度
80-120 ml/L
<100g/L 2’30“ 25-35℃
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工艺流程介绍
3、酸洗
使铜面处于新鲜状态下(去氧化,使铜面无氧化 物),清除铜表面残留的SPS。
参数控制:
主要成分 工艺范围
PCB沉金工艺介绍

化学镍药水的分类:
按操作温度分可将镀液分成高温镀液(85950C)、中温镀液(65-750C)、低温 镀液(500C)以下
按其使用的还原剂又可大致分为次磷酸盐 型、硼氢化物型、肼型、胺基硼烷型4种。
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按pH值分又可将其分为酸性镀液和碱性镀 液; 最常用的是次磷酸盐为还原剂的酸性高温 化学镀镍液,常称为普通化学镀镍液。
1.5 ±0.5min
搅拌:摆动及药液循环搅拌或空气打气
槽材质:PVC或PP
加热器:石英或铁弗龙加热器
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铜浓度控制:
由于Cu2+对微蚀速率影响较大,通 常须将Cu2+的浓度控制在5-25g/l, 以保证微蚀速率处于0.5-1.5μm之间。 生产过程中,换缸时往往保留1/5-1/3 缸母液(旧液),以保持一定的Cu2+浓 度。
通常情况,不采用调节药水浓度或 升高温度来弥补因时间不足而引起的镍 厚不足,一定要根据客户镍层要求来设 置适当的镀镍时间。否则,可能引起活 性不稳定,会造成许多不良后果。
44
C、浓度: 不同供应商之不同系列药水,
其浓度控制范围各不相同。由于化 学镀镍的本身特点,其动态平衡的 控制难度远远大于化学镀铜,其控 制范围很窄则可说明这一点。因此, 尽可能使用自动补料器来控制药水 浓度,手动补料是很难保证每一个 制板的良品率。
• B、随着NaH2PO2和NiSO4浓度的增加, 沉积速度逐渐提高,而后趋于稳定或稍 有降低。但此时溶液的稳定性下降;
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•C、化学镀镍层的厚度一般控制4~5μm, 最少要大于2.5μm厚的镍磷层才能起到 有效的阻挡层作用,防止铜的迁移,以免渗 出金面,氧化后导致导电性不良;
•D、镀覆PCB的装载量(裸铜面)应适 中,以0.1~0.5dm2/L为宜。负载太大会导 致镍缸活性逐渐升高,甚至导致反应失 控,造成严重后果;负载太低会导致镍 缸活性逐渐降低,造成漏镀等问题。
培训教材(镀金工艺)

: 7.9g/cm2
: 8-10% (重量比) : 48 Rockwell(500VHN)(于沉积后) : 75micro ohm-cm
: 13.8微米/米/℃
: Mil-C-26074B (军用规范:化学镀镍层技术要求) AMS 2404A (航空材料规范、化学镀镍) ISO 4527 (国际标准:自催化镍磷镀层-规范和 试验方法)
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药液混浊及分解
100
粗糙表面
2
析出速度减慢,露铜。
50
析出速度减慢,露铜。
10
析出速度减慢
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浸金槽金属污染极限及影响
金属杂质 Cu Ni
污染极限 (ppm) 影响
10
焊锡性不良,甩金
900
焊锡性不良
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流程控制要点
1. 退Sn/Pb(或纯Sn) - 线路及孔壁上的Sn/Pb(或纯Sn)须完全退除,特别要注意SnCu金属化物要退干净。
NaH2PO2 温度 PH 值
溶液过滤 负载
搅拌
控制范围
80-120ppm 150-200ml/l
20-35℃ 3-5min 缓慢机械搅拌
80-120ml/l 4.8-6.3g/l 22-32g/l 82-86℃
4.6-5.2 5-10Cycle/hr 0.25-2.5dm2/l 机械搅拌,加热管 下微弱打气。
度
焊性不良。
渗镀
PH
同上
同上
温度
同上
同上
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改变工艺参数对化学镍金效果的影响
浸镀金
参数 比重
温度
低于标准下限
高出标准上限
不足以与金属污染物络合, 金变色。
增加溶液带出成本
沉镍金流程

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一、什么是化学镀
化学镀是在金属的催化作用 下,通过可控制的氧化还原 反应产生金属沉积的过程。
4
化学镀应具备的条件:
1、氧化还原电位应显著低于金属 还原电位; 2、溶液不产生自发分解,催化时 才发生金属沉积; 3、PH值、温度可以调节镀覆速度; 4、具有自催化作用; 5、溶液有足够寿命。
5
镀液成分:
9
第二部分
沉镍金原理及工艺流程
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一、沉镍金原理 催化 化学镀镍 浸金
(一)、催化(活化) • 作用:为化学镍提供催化晶体 • 反应式:Pd2++Cu Pd+Cu2+
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(二)、化学镍 • 作用:在钯的催化作用下,Ni2+在NaH2PO2的还
原条件下沉积在裸铜表面。当镍沉积覆盖钯催 化晶体时,自催化反应将继续进行,直至达到 所需之镍层厚度。
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3、铜浓度控制:
由于Cu2+ 对微蚀速率影响较大, 通常须将Cu2+的浓度控制在5-25g/l, 以保证微蚀速率处于0.5-1.5μm之间。 生产过程中,换缸时往往保留1/5-1/3 缸母液(旧液),以保持一定的Cu2+ 浓 度。
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4、逆流水洗:
由于带出的微蚀残液,会导致铜 面在水洗过程中迅速氧化,所以微蚀 后水质和流量以及浸泡时间都须特别 考 虑 。否 则 ,预 浸 缸会 产 生太 多 的 Cu2+ ,继而影响钯缸寿命。所以,在 条件允许的情况下(有足够的排缸), 微蚀后二级逆流水洗,之后再加入5% 左右的硫酸浸洗,经二级逆流水洗后 进入预浸缸。
1、微蚀药剂组成:
过硫酸钠Na2S2O8 硫酸H2SO4 H 作用: 酸性过硫酸钠微蚀液用于使铜面微 粗糙化,增加铜与化学镍层的密着性。 沉镍金生产也有使用硫酸双氧水或酸性 过硫酸钾微蚀液来进行的。
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沉镍
二级DI水洗 热DI水洗
沉金
回收金水
烘干
二级DI水洗
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3.1药液的补充与更新
流程 缸体积 补充主成份
除油 255L
酸性清洁剂 QY-007
补充基本准
补充频率 补充标准
换缸标准
每天一次 根 据 化 验 结 21ksf 果补充
微蚀 255L NPS 硫酸 预浸 255L 硫酸 活化 255L 活化剂 QY-450
Hale Waihona Puke 活化剂 QY-45020L/桶
化学镍开缸剂 QY-SXM
20L/桶
化学镍补充剂 QY-SXA
20L/桶
化学镍补充剂 QY-SXB
20L/桶
化学镍补充剂 QY-SXCK 20L/桶
化学薄金开缸剂 QY-61M 20L/桶
化学薄金补充剂 QY-61 20L/桶
比重 1.15±0.05 1.07±0.1 1.18±0.03 1.25±0.05 1.2-1.3 1.16-1.19
—— 1.10±0.02
储存条件 -5-35°C -5-35°C -5-35°C -5-35°C -5-35°C -5-35°C -5-35°C -5-35°C
有效期 ≤2 年 ≤2 年 ≤2 年 ≤2 年 ≤2 年 ≤2 年 ≤2 年 ≤2 年
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3.3药液控制及分析频率
流程 除油 微蚀
H2PO2-+e
P+OH-
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镍还原的反应式:
Ni2++H2PO2-+H2O
H2PO3-+2H+Ni
沉镍金工艺培训
2、调节烘干段温度;
3、调节酸缸浓度;
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常见问题处理
沉镍金
问题描述 原因
1、金厚太厚或太薄 2、沉金后多次热冲击 1、可焊性差 2.出货前用酸洗
解决方法
1.调整金缸参数
3、最终水洗不干净
4、镍缸超过4MTO
3.更换水洗缸
4.保持<4生产量
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工艺流程介绍
2、微蚀
微蚀的目的在于增加铜表面的粗糙度,清除前工 序遗留残渣,保持铜面新鲜,增加化学镀镍层与 铜面的的结合力。 参数控制:
主要项目 NaPS H2SO4 Cu2+ 时间 工艺范围 50-90ml/l 10-30ml/l 2~20g/l 2‟
温度
28-32℃
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换槽标准为Cu2+大于20g/l。 若Cu2+含量偏高,会导致铜面咬蚀不均,可能产 生色差。 微蚀量控制:0.8-1.5微米 若微蚀量不足会引起金面色差。 若有防焊塞孔不满的孔与PAD相连,易导致漏 镀,此时就可以考量在进板时将微蚀打气关闭, 板出微蚀缸后开启。
主要项目 H2SO4 时间
工艺范围 10 – 30 ml/l 60“
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换槽标准: Cu2+大于300ppm Cu2+含量较高会有较多的Cu2+带入到后面的活化 槽,使活化槽的Cu2+含量增高,直接影响活化槽 的使用寿命。
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工艺流程介绍
沉金培训教材A
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内容
一.概述 二.工艺参数控制 三.工艺流程简介
页数
3-5 6-7 8-11
四.生产前准备认证
五.常见缺陷及对策 六.环境控制与工业安全 七.发展展望
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13 14-16 17
沉镍金培训教材
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一.概述
化学沉镍金是随着表面贴装技术的发展而发展出来的一种表面涂覆工艺 。现代复杂的印制板其成品的表面应具备多种作用,故在生产过程中,不仅要 求细线、小孔、平整的焊垫,同时要求良好的表面结合性、可焊性及低的接触 电阻,化学沉镍金是一种能满足大多数的组装要求的可行的表面涂层,不仅具
1.5添加药品时须带胶手套,并注意不可让药液溅至地面
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2.工业安全
2.1进入岗位,需要集中思想,按章操作
2.2场面保持干爽通风良好
2.3载好劳保用品,避免意外发生(手套、面罩防酸碱鞋) 2.4穿好工作服,扣紧袖口衣角,以免意外发生 2.5保养维修时应悬挂标示牌 2.6工作时,须需佩戴防护耳塞
预浸 活化 沉镍
沉金
沉金
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四.生产前准备验证
1.1设备保养、维修后,必须对第一缸板检查镍金厚度、颜色及结合
力,合格后方可生产准备验证
1.2更换新物料,更改工艺参数及停机超过12小时,必须对第一缸板检查镍金 厚度、颜色及结合,合格后可生产
1.3每次更换药水后,需对前面一缸的析检查厚度、颜色及结合力,合格后方
对策 延长浸泡时间 温度在 45C-55C 补充至标准浓度 温度在 28-32C 缩短至 2mil 以内 浴更新 前处理难去除 酸活化 调至 4.3-4.8 维持 88~92C 维持 10PPM 以下 加强水洗 标准范围 4.3~4.8 维持 88-92C 应在 2以上 加强循环
沉镍金品质检验培训
按流程生产
修理
标
按 流
程
全检筛选
识
生 产
四、来料检验流程
进料不良品品
反馈客户 修理、特采
修理结果 反馈客户
OK 首件生产
NG 退回客户处理
NG
五、来料检验标准
外观不干净,表面不能有油迹、脏污。
文字、绿油不能偏位,不能上PAD,渗油上PAD,影响沉金。
绿油不能有露铜,不能有显影不净,显影过度等问题。
生产板
生产部自检 不合格 可返
工 QC检查
不合格不可修 理(返工)
修理 (返工重做)
合格
出货
报废
六、过程检验
2 检验方法及要求:
2.1 每次生产首板交QC检查合格后才可以批量生产,每批2PNL。 2.2 QC在抽检中若发现产品偏离允收标准时需要退生产部处理。 2.3 QC需要按照检查项目一览表要求进行检查并做好相应的记录。 2.4 QC在检验过程中若发现处理不到的问题应该及时向上级反映。 2.5 若生产部门不能采取有效的改善措施时,QC主管可以要求其暂停生
4.2 QC检板过程中发现金镍厚度有问题必须及时反馈到生产经理和主管, 镍厚不能偏薄或过厚,金厚符合控制要求,特别是做厚要及时反馈。
(成本控制很重要)。
4.3 客户有特殊要求的则需按MI、LOT卡要求进行检查.
七、不良图例
沉金板检验图例
七、不良图例
漏铜
七、不良图例
七、不良图例
七、不良图例
七、不良图例
2. IPQC: 在制过程质量控制
3. FQC:
最终质思,主要从事品质工程的文件制定,QE是建立、分析、 完善品质控制程序的人,不会去查每一单货品;
016化学镍金作业指导书解析
一、目的:规范操作,维护品质.二、适用范围:适用于生产各种需要沉镍金的产品三、设备、工具及物料化学镍金线、清洗机、铁氟龙线.珠粒、周转盆、水盆、产品、化学镍金系列药水、手指套四、作业环境:温度:室温。
地面要求:无积水、无杂物空气要求:空气流通良好,无刺激性气味五、职责:工程部负责规范制作,生产部负责按规范要求操作,品管部负责监控。
六、内容6.1.工艺流程刷板→检查→准备工作→穿板→酸洗→双水洗→微蚀→双水洗→预浸→活化→双水洗→后浸→水洗→化镍→双水洗→化金→金回收→水洗→热水洗→卸板→放入水盆→烘干检查→生产完后关机6.2刷板:刷轮800#,1000#,每天进行刷幅测试,刷幅要求0.8-1.2CM.6.3检查:全检铜刷板,板面无压坑,皱折,胶点,油污,手指印的合格,否则为不合格。
合格板才能进入沉金,不合格退回上工序或处理成为合格板。
6.4准备工作:1、设备点检(具体见点检表)2、更换每个药水缸后的第一道水洗,并将水加满3、补加各药缸液位,打开加热器及过滤泵,通知化验室对药水进行分析且及时补加4、检查各药缸温度是否在工艺范围内.6.5穿板:穿板时必需将手指全部戴上手指套,穿板张数一挂不超过20PNL,且必须用珠粒隔开6.6检查:检查是否穿好。
6.7酸洗:除去板面氧化。
A. 工艺参数B.配制150升槽液的程序:①开缸体积150L 开缸浓度:硫酸5%。
②清洗干净缸体,缸体内不能有任何灰尘杂物。
③向槽里加入1/2缸体的去离子水。
④加入7.5L硫酸。
⑤用去离子水补充到操作体积并开启过滤泵混匀。
⑥加热至要求值,分析补加。
C.酸洗缸保养:①每生产100±10m2补加一次,每次补加0.5L硫酸。
②一个月换缸一次6.8微蚀:粗化铜面及除去铜面氧化物,使沉铜附着良好。
A . 工艺参数②每生产100±5m 2产品补加一次,每次补加0.8kg SPS 。
B . 配制130升槽液的程序:①开缸体积150L 开缸浓度:H 2SO 4:3% NPS :60g/L. ②清洗干净缸体,缸体内不能有任何灰尘杂物。
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沉镍金工艺培训教材何勇强沉镍金基本原理化学镍金集可焊接、可接触导通,可打线、可散热等功能于一身,是PCB板面单一处理却具有多用途的湿制程。
但该制程不好做已时日已久,问题常常出现且不能返工,问题的解决须从源头开始。
1. 流程:沉金前处理(微蚀、打磨)→上板→除油→两道自来水洗→微蚀→两道自来水洗→酸洗→两道DI水洗→预浸→活化→后浸→两道DI水洗→化镍→两到DI水洗→沉金→回收→DI水洗→热水洗→后处理(水洗、烘干)2. 流程详解(材料、设备、原理、作用)2.1 沉金前处理(宇宙的设备)2.1.1 微蚀材料:YT33S、YT33R(殷田化工),分析补充硫酸和双氧水。
原理:通过氧化还原反应,去除铜面的氧化物。
同时对铜面有一定的整平作用。
控制关键:速度和药水浓度。
2.1.2 刷磨:材料:使用高目数的针刷(1000-1200目)。
作用:对板面进行轻刷(刷磨电流1.3-1.7A)除去访垢和氧化物。
控制关键:磨痕不能超过要求,而且不能磨伤绿油。
2.2 沉金线2.2.1 除油(19#缸)a)材料:清洁剂Cupra Pro S2(ATO)、硫酸b)作用:去除油脂及有机物。
一般采用非离子型遥介面活性剂,仅具润湿效果而已,不能用太强的板子型活性剂,以防止防焊漆表面或基材上带有静电而上镍或损伤水溶性碱液显影的防焊漆而溶出碳粉污染槽液。
c)浸泡时间:4-6mind)药水颜色:温度低于35℃时无色,随着温度的升高而变浑浊(35-45℃),可以根据这个来判断温度是否足够。
e)控制关键:浸泡时间和药水温度、药水添加情况。
因为药水只能分析硫酸浓度,与补加硫酸按照1:2的比例进行补加除油剂。
2.2.2 微蚀(22#缸)a)材料:过硫酸钠、硫酸b)作用:一般蚀铜1-2µm。
化学反应方程式S2O82-+2H++CuO+Cu→2SO42-+2Cu2++H2O,利用氧化还原反应清楚铜表面的氧化物,同时把铜面微粗化,提高镍铜结合力。
如果发现有星点露铜现现象,很可能为感光制程之显影不洁或显影后水洗不净造成。
此时可适当延长微蚀时间除之,但是要保证孔壁厚度。
c)浸泡时间:≤1.5mind)药水颜色变化:开缸无色,随着生产颜色变成深蓝色。
e)控制关键:铜离子、浸泡时间。
因为浸泡时间过长,孔壁厚度容易不足。
而铜离子过高,微蚀效果变差,而且容易出现薄镀的质量问题。
同时要注意生产线补加NPS的情况,防止局部添加堵塞打气管。
2.2.3 酸洗(25#号缸)a)材料:硫酸b)作用:清洗,去除微蚀中生产的铜盐,防止个别绿油塞油不满的小孔内藏有铜离子导致漏镀或薄镀。
c)浸泡时间:3-5mine)控制关键:浸泡时间和温度。
2.2.4 预浸(18#缸)a)材料:硫酸b)作用:去除前面槽液的污染,保护活化槽,同时保证铜面新鲜。
c)浸泡时间:3-5min2.2.5 活化(17#缸)a)材料:化镍活化剂(ATO)、硫酸b)作用:离子钯,通过置换反应,在铜面上置换上一层原子钯,为后续的化镍反应提供催化剂。
化学反应式:Cu+Pd2+→Pd+Cu2+。
由于铜离子的不断置换出来,当铜离子高(≥2.0g/L)的时候,容易出现漏镀的情况,所以活化的寿命一般为3-4MTO(MTO是Metal Turn Oevr 的缩写)。
一般活化剂的添加要求为生产每200块板添加1.5L。
c)控制:温度20-30℃(一般控制25℃),活化Pd浓度为40-60ppm,硫酸50ml/L。
d)浸泡时间:1.5-2.5mine)控制关键:活化缸的杂质和补加的情况。
而且出现吊车故障时,浸泡时间不能超过控制要求。
过了活化的板件必须按正常走后续的流程。
2.2.6 后浸(16#缸)a)材料:硫酸b)作用:清洗板面残留的活化剂,防止出现渗镀,同时形成酸膜保护活化钯面。
去除前面槽液的污染,保护镍缸。
由于原子Pd的活性高,所以在后浸缸浸泡的时间要求为0.5-1min,过长容易出现钝化而出现漏镀。
c)浸泡时间:0.5-1.0min2.2.7 镍缸(8-13#号缸)a)材料:化镍补充剂PartA、化镍补充剂PartB、化镍校正液CNN、氨水。
槽液的配方一般为供应商的机密,主要成份有:镍盐,还原剂,和多种有机添加剂。
磷含量:(7-10%)含量低,其抗蚀性,焊锡性都会变差,且镍层表面易钝化,含量高,会影响镍层的质量,增大镍层的内应力,使金镍之间的结合力变差。
Ni2+:(95%-105%)含量低,影响沉积速率,含量高,槽液稳定性差,活性太强易渗镀和生产镍碎。
有机添加剂:添加剂主要有络合剂(使Ni2+生成络合物,避免生成氢氧化物或亚磷酸盐沉淀)、加速剂、稳定剂剂。
由于槽液中加有加速剂(多为乳酸),故槽液冷却停用后易发霉。
因此,在产量不大或长时间性不用时,每隔1-2天就升温做假镀(拖缸)。
以维持其品质及活性。
b)设备:镍缸(不锈钢、表明光滑)、自动分析器、自动添加泵、保护电流控制器、循环泵、变频器。
c)原理:①次磷酸二氢钠的次磷酸根离子水解并氧化成磷酸根,同时放出两个活性氢原子吸附在铜底钯面上。
②镍离子在活化钯面上迅速还原镀出镍金属。
③小部分次磷酸根在催化氢的刺激下,产生磷原子并沉积在镍层中。
④部分次磷酸根在催化环境下,自己也会氧化并生成氢气从镍面上向外冒出。
反应方程式:H2PO2—+ H2O→H++HPO32-+2H(催化剂)Ni2+ + 2H(催化剂) →Ni + 2H+H2PO2—+H(催化剂)→H2O+OH-+ P(副反应)H2PO2—+ H2O →H++HPO32-+H2d)浸泡时间:20-25mine)对于镍缸的稳定性控制,要关注以下几点:每次监督生产镍缸清洗情况,当发现镍缸的使用寿命异常时,重点检查开缸加药的顺序(先加化镍建浴剂、然后再加化镍补充剂A,最后才加氨水。
因为镍非常容易分解,先加PartA 会导致部分镍分解生成Ni(OH)2而沉淀下来)、缸壁上镍情况(查清那个地方上镍严重才容易调查原因)、阳极保护的接口和保护套情况等。
每天要检查自动分析器,包括管路、分析结果和显示结果、出水是否正常、调整后是否一直加药或不加药等。
每周保养时检查分析器,看是否残留有较多的镍碎、PH探头是否正常等。
(PH探头曾经出现失效导致板件批量报废)镍缸的开缸控制:新开缸要求分析镍缸成分:Ni2+浓度为105-108%为正常,次磷酸钠为28-31g/l为正常(不能低于25g/l,否则该缸活性会不足,容易出现颜色不良的问题),PH值4.6-4.7之间(超过说明氨水加入过量,偏小说明氨水加入量少或硝酸没有清洗干净)。
镍缸平时生产控制:Ni2+浓度控制在98-105%之间;当分析器中的镍碎较多时,分析不准,有时实测会达到110%,所以保养时要清洁,清洁后分析器容易出现不稳定的情况,要求生产关注。
PH值一般控制在4.8-5.0之间,PH探头要求为3个月更换一次,根据目前的保养情况来看,可以使用到半年,但是平时要特别关注,防止出现分析不准,如果没有把握,最好在3个月时更换。
PH值调整时可用10%硫酸或铵水调整,注意:用铵水和硫酸调整时须缓慢加入且少量多次进行。
当镍缸实际分析镍浓度低于90%,要求按开缸比例进行调整,同时对镍缸进行拖缸处理,并查明什么原因造成浓度偏低。
每天注意观察镍缸的反应状态。
当发现镍缸活性偏低时要求生产进行拖缸。
同时可以考虑提高温度和暂时停加PartB的方法。
在活性正常的情况下,镍厚一般在150-230微英寸之间,超过250说明活性太强,要适当调整温度,低于150就说明活性偏低,就要提高温度同时进行拖缸处理。
按照目前的情况来看,刚开缸时,镍厚度一般为180-210之间;使用1MTO以后会有所下降,到2-3MTO基本可以维持在150-180之间,所以要关注镍厚度。
同时可以根据化学方法来测量镍缸的活性(测量镍缸的稳定点):取1L最佳条件下的槽液,恒温加热并保持82-84度;同时配制滴定液(取30ml活化剂原液到250ml容量瓶配制成30ppmPd液)每天关注PartA和PartB的添加槽和添加流量,如果偏差大(连续生产超过3-5L)必须调查,有下面几个可能:有一添加槽里面的药水已经很少(或药水没有完全浸没取样口)会导致两者流量不相等、生产是否在生产过程由于金面颜色不良停用PartB、添加泵是否正常工作、两者流量比例是否正常等。
其实如果是PartA比PartB的耗用量梢大,影响不大。
根据目前的情况来看,PartA比PartB大较好,现在基本控制在1:1到1.2:1之间;如果是PartB大的话就要注意板件的颜色情况,要进行拖缸和适当调整两者的流量比例。
保护阳极:每次镍缸换缸前都要注意检查阳极保护杠的情况:接口是否生锈、保护杠是否固定好、下端不能与缸壁接触。
定期对阳极保护的电压和电流进行检测。
镍缸循环:目前三个镍缸的循环泵都有变频器可以调整流量。
目前一般控制在25-35赫兹之间。
该循环量一般控制在4-6个循环/小时,对改善大铜面方向性的颜色不良有很大的帮助。
2.2.8 金缸(4-5#)a)材料:浸金补充剂、浸金建浴剂、浸金辅助剂、氰化金钾(含金68.3%)b)原理:当PCB板面沉好镍层放入金槽后,其镍面即受到槽液的攻击而溶出镍离子,所抛出的两个电子被金氰离子获得而在镍面上沉积出金层。
反应式:Ni→Ni2++2e Au(CN)2-+2e→Au+2CN-由此可知,一个镍原子溶解可获得两个金原子的沉积,又因金层上有许多疏孔,故表面虽已盖满了金层,但仍可让疏孔的镍面溶解而继续镀出金层,只是速度越来越慢而已。
c)设备要求:由于金缸反应为置换反应,所以要求设备里面不能含有金属的材料,防止带进金属杂质,要求全部使用铁氟龙材料。
沉金金缸中不能使用任何的金属或含金属的材料。
切记!。
二沉金出现的质量问题及基本解决办法:沉金颜色不良:镀层的光亮度(颜色均匀与否)依赖基底表面的粗糙度。
1.1 沉金前的影响:单面开窗的孔边缘有水迹或其他污染,这会造成沉金后明显的发白或水迹状不良。
(可以通过水平微蚀前处理降低影响,但是要注意防止薄镀的出现)。
经过绿油工序,如果显影不好的时候,会有有机杂物附在铜面上,如果微蚀不好无法完全除去会影响。
活化缸钯浓度不足时,由于多层板的内外层存在着电位差(经过微蚀后更突出),阻止镍的附着,从而颜色不良,严重漏镀。
同时要控制好微蚀的铜离子含量。
1.2 沉镍:镍缸活性的影响,同时还有负载、药水的循环情况、温度、震荡等。
我们前处理微蚀使用的药水与OSP一致,对铜面有一定的整平作用,对颜色不良有比较大的帮助,但是由于走前处理容易藏药水而出现薄镀的问题,所以要比较小心。
当在一些大铜面与绿油交接处出现金层发白,而且发白处剥离。
主要原因有:镍缸循环过快、镍缸活性不足、活化不足、微蚀效果不好、镍缸开缸拖缸不足。