俄歇电子AES能谱2013

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俄歇电子能谱

俄歇电子能谱

(3)表面损伤:电子束损伤会严重,限制了对 表面损伤:电子束损伤会严重, 表面损伤 有机物、 生物体和少数陶瓷材料的有效分析; 有机物 、 生物体和少数陶瓷材料的有效分析 ; (4)表面电荷:电子束充电会限制对高绝缘材 表面电荷: 表面电荷 料的检查分析, 料的检查分析 , 入射电子会导致表面状态发 生变化诱发吸附或脱附等。 生变化诱发吸附或脱附等。
(1) X射线光电子谱术 射线光电子谱术(XPS)给出表面组分和 射线光电子谱术 给出表面组分和 化学态信息,相对地是非破坏性的; 化学态信息,相对地是非破坏性的; (2)离子散射谱术 离子散射谱术(ISS) 信息来自最表层,给 信息来自最表层, 离子散射谱术 出表面组分和结构信息, 出表面组分和结构信息,选区表面原子键特 性及表面成分和深度,成分分布信息; 性及表面成分和深度,成分分布信息;
由于俄歇电子特征能量与原子的原子序数有 关,因此根据电子能量谱中俄歇峰位置所对应 的俄歇电子能量,就可以鉴定原子的种类, 的俄歇电子能量,就可以鉴定原子的种类,即 表面存在的元素。 表面存在的元素。 在一定实验条件下,根据俄歇信号强度,可 在一定实验条件下,根据俄歇信号强度, 以确定含量。 以确定含量。 根据俄歇峰能量位移和线形变化, 根据俄歇峰能量位移和线形变化,可以取得 固体表面化学态的信息。 固体表面化学态的信息。
2、俄歇电子的能量 、
俄歇电子的能量与原子的原子序数有关, 俄歇电子的能量与原子的原子序数有关 , 为待测样品(靶物质 所特有, 靶物质)所特有 为待测样品 靶物质 所特有,与入射电子的能 量无关。 量无关。 俄歇电子能谱用作表面组分的指纹鉴定时, 俄歇电子能谱用作表面组分的指纹鉴定时 , 须测定俄歇电子的特征能量。 须测定俄歇电子的特征能量。 根据能谱线中俄歇峰位置所对应的俄歇电 子的能量,来鉴定原子种类,即识别元素。 子的能量,来鉴定原子种类,即识别元素。 原则上, 原则上 , 俄歇电子的能量可由俄歇跃迁前 后的体系总能量差来估算。 后的体系总能量差来估算。

俄歇电子能谱-AES

俄歇电子能谱-AES
当俄歇跃迁涉及到价电子能 带时,情况就复杂了,这时 俄歇电子位移和原子的化学 环境就不存在简单的关系, 不仅峰的位置会变化,而且 峰的形状也会变化。
2、俄歇谱分析技术-iiii元素沿深度方向的分布分析
AES的深度分析功能是俄歇电子能谱最有用的分析功能
原理:先用Ar离子把表 100
面一定厚度的表面层溅 80
五、俄歇电子谱实验技术
1 样品制备技术
俄歇电子能谱仪对分析样品有特定的要求,在通常情况下 只能分析固体样品,并还不应是绝缘体样品。原则上粉体 样品不能进行俄歇电子能谱分析。由于涉及到样品在真空 中的传递和放置,待分析的样品一般都需要经过一定的预 处理。主要包括样品大小,挥发性样品的处理,表面污染 样品及带有微弱磁性的样品等的处理。
四、俄歇电子谱实验技术
1 样品制备技术
➢带有微弱磁性样品的处理
由于俄歇电子带有负电荷,在微弱磁场作用下可以发生偏转。当 样品具有磁性时,样品表面发射的俄歇电子会在磁场作用下偏离 接收角,不能到达分析器,得不到正确的AES 谱
对于具有弱磁性的样品,一般可以通过退磁的方法去掉样品的微 弱磁性,再进样分析
四、俄歇电子谱实验技术
4俄歇电子能谱的采样深度
俄歇电子能谱的采样深度与出射的俄歇电子的能量及材料 的性质有关。一般定义俄歇电子能谱的采样深度为俄歇电子平 均自由程的3倍。根据俄歇电子的平均自由程的数据可以估计 出各种材料的采样深度。一般对于金属为0.5 ~2 nm, 对于无 机物为1 ~3 nm, 对于有机物为1 ~3 nm。从总体上来看,俄 歇电子能谱的采样深度比XPS的要浅, 更具有表面灵敏性。
五 俄歇电子能谱法特点
• 优点:
• ①作为固体表面分析法,其信息深度取决于俄歇电子 逸出深度(电子平均自由程)。对于能量为50eV~2keV 范围内的俄歇电子,逸出深度为0.4~2nm。深度分辨 率约为1nm,横向分辨率取决于入射束斑大小。

俄歇电子能谱AES

俄歇电子能谱AES

的Auger电子从样品表面发射。从Auger电子可以得到
如下信息:
发射的Auger电子能量
确定元素种类
Auger电子数量
元素含量
+电子束聚焦、偏转和扫描
元素面分布
+离子束溅射刻蚀
元素深度分布
AES是一种重要的材料成分分析技术。其最大特点是: Δ 信息来自表面 (3 - 30Å) Δ 具有微区分析能力(横向与深度分辨率好) Δ 定量分析较好
二、基础知识
1 . 俄歇效应 (1925年, 法国人 P. Auger) 用某种方法使原子内层电子(如K层)电离出去,内
层出现空位。电离原子去激发可采用如下两种形式:
Δ 辐射跃迁:
一外层电子填充空位后,发射出特征X射线 (例L3上电子填充K能级上空位,发出X射线Kα1)
Δ 无辐射过程(即Auger过程): 一外层电子填充空位,使 另一个电子脱离原子发
(5) 俄歇电流表达式 IA = ∫o∞Ip ni QW PWXY T e-z/λcosθ dz
当能量为Ep,束流为Ip的一次电子束垂直入射样 品 表面,假设能量分析器只接收出射方向为与表面法线 夹角从θ-Δθ/2到θ+Δθ/2(Δθ为一小量)的俄歇 电子(这样的电子处于Ω立体角内)
俄歇电子辐射方向各向同性,能量分析器所接收的 俄歇电子占各方向总数的Ω/4π,近似等于能量分析器 的传输率T。
同能级组合的俄歇跃迁, 因而可以有若干不同特 征能量的俄歇电子。 Δ可能出现的俄歇跃迁数随 原子序数增大(壳层数增 多)而迅速增加。 Δ 俄歇电子的能量大多在502000eV (不随入射电子能量改变) Δ主峰
通过实验和计算得到He以后所有元素的各组基本俄歇跃迁的特征能量。
3.俄歇电流 俄歇电流的大小,即俄歇峰所包含的电子数,

7-4 俄歇电子能谱(AES)

7-4 俄歇电子能谱(AES)

§7.4 俄歇电子能谱(AES)俄歇电子能谱的基本机理是:入射电子束使原子内层能级电子电离,产生无辐射俄歇跃迁,用电子能谱仪在真空中对它们进行探测。

虽然早在1925年法国的物理学家俄歇(P.Auger )在用X 射线研究光电效应时就已发现俄歇电子,并对这种电子的产生给予了正确的解释。

但直到1968年哈里斯(L.A.Harris )采用微分电子线路,首创了微分形式俄歇电子能量分布曲线测定法后,解决了如何从强大的本底和噪声中把俄歇信号检测出来的问题,俄歇电子能谱开始进入实用化阶段。

1969年,帕尔姆堡(Palmberg )等引进了筒镜能量分析器,进一步提高了信噪比,使AES 达到很高的灵敏度和分析速度,而一年后出现的扫描俄歇显微探针系统(SAM )使AES 从定点分析发展为二维表面分析。

目前,俄歇电子能谱是表面科学领域中最广泛使用的表面化学成分分析仪器之一。

7.4.1 俄歇过程和俄歇电子能量当原子内层W 能级的一个电子被具有足够能量的光子或入射电子电离时,在W 能级产生一个空穴,该空穴立即就被较高能级的另一电子通过W X →跃迁所填充,多余的能量交给Y 能级上的电子,使之成为俄歇电子发射出去。

这种跃迁过程称为俄歇过程或俄歇效应(图7.4.1)。

一般用原子中出现空穴的能级次序来表示相应的俄歇过程。

上述过程用符号表示就是WXY ,表明W 空穴被X电子填充使Y电子成为俄歇电子。

通常把来自1s 壳层的电子标记为K ,来自2s 的电子标记为1L ,来自2p 的电子标记为2L 、3L 等;把来自价壳层的电子标记为V 。

一般最明显的俄歇跃迁都是X、Y主量子数相等,同时X、Y主量子数比W大一的过程,如KLL 、LMM 、MNN 和NOO 俄歇跃迁。

由WXY 跃迁产生的俄歇电子的动能,可近似地用经验公式估算,即: φ-∆+--=)()()(Z E Z E Z E E Y X W WXY (7.4.1) 其中φ为功函数,Z 是原子序数)3(≥Z 。

俄歇电子能谱

俄歇电子能谱
1896
1920
1987
2006
俄歇电子能谱(AES)
一、方法原理 二、仪器结构 三、数据分析与表征 CO N TA N T S
四、AES的应用
历史与现状
1925年,法国科学家俄歇在威尔逊云室中首次观察到了俄歇电子的轨
迹,并且他正确的解释了俄歇电子产生的过程,为了纪念他,就用他的
名字命名了这种物理现象。 1953年,兰德从二次电子能量分布曲线中第一次辨识出这种电子的电
2.激发源
样品原子的激发可以用不同的方式完成。作为常规分析 用的激发源都为具有一定能量的电子束,其原因是电子 束易实现聚焦和偏转,另外它不破坏真空度。 某些特殊场合也可使用光子束作为激发源。其优点是二 次电子背景可大大减少,辐射损伤小于电子束。 另外,离子轰击也可以激发俄歇电子。
(1)电子源
电子源目前有两种:热电子发射源和场发射电子源。 热电子发射源,是通过对发射体(阴极)加热,使垫子 获得足够能量以克服表面势垒(称功函数或逸出功)而 逸出,电子流密度与发射体的功函数和温度有关。 场发射电子源,其原理是发射体外施加一强电场,是发 射体的表面势垒降低,宽度变窄,从而电子得以逸出。
俄歇电子从入口位置进入两圆 筒夹层,因外筒加有偏转电压 ,最后使电子从出口进入检测 器。若连续的改变外筒上的偏 转电压,就可在检测器上依次 接收到具有不同能量的俄歇电 子。 从能量分析器输出的电子经电 子倍增器、前置放大器后进入 脉冲计数器,最后由x-y记录 仪或荧光屏显示俄歇谱。
不同能量的电子通过分析器后最大限度的被分离,以便 选出某种能量的电子(色散特性——获得高分辨率) 具有相同能量、不同发射角的电子尽可能会聚于一点( 聚焦特性——获得高灵敏度) 上述两方面要求相互矛盾,应根据具体问题,做折中选 择。

俄歇电子能谱仪(AES)

俄歇电子能谱仪(AES)

由图可知,随着原子序数Z的增加,X射线荧光产额增加, 而俄歇电子的产额下降。Z<33时,俄歇发射占优势。
2.俄歇过程的命名 2.俄歇过程的命名
每一俄歇电子的发射都涉及3个电子能级,故常以三壳层 符号并列表示俄歇跃迁和俄歇电子。若W表示最初空穴能级, X表示填充空穴的 电子能级,Y表示俄歇电子发射能级,则该 过程称为WXY俄歇跃迁。
KL1L1 L1M1M1 L2, 3VV
3.俄歇电子的能量 3.俄歇电子的能量
俄歇电子发射涉及三个电子能级WXY, 对于基态原子,俄歇电子能量为:
俄歇电子
EWXY (Z)=EW(Z)-EX(Z)-EY(Z)
事实上,原子发射俄歇电子时已处于激发态,此时需 要在公式中引入能级修正项。经验公式为: EWXY(Z)=EW(Z)-EX(Z)-EY(Z)-[EX(Z+1)-EX(Z)+EY(Z+1)-EY(Z)]/2 由于束缚能强烈依赖于原子序数,所以,用确定能量 的俄歇电子来鉴别元素是明确而不易混淆的。通过经验公式 及各元素不同能级的束缚能,可以绘制出俄歇电子能量图。
二、AES的结构
三、AES应用举例
1.AES的定性分析——元素组成 1.AES的定性分析——元素组成 的定性分析—— ★ 特定的元素具有特定的俄歇跃迁过程,其俄歇 电子的能量是特征的。 ★ 特定元素在俄歇电子能谱上的多组俄歇峰的峰 位、峰数、各峰相对强度大小由特定元素原子结构 确定。 因此可以通过AES实测的直接谱或微分谱与 “俄歇电子能量图”及“俄歇电子标准谱”进行对 比,从而识别元素。
4.AES的深度剖析——元素的深度分布 4.AES的深度剖析——元素的深度分布 的深度剖析—— 先用Ar离子把表面一定厚度的表面层溅射掉, 然后再用AES分析剥离后的表面元素含量,这样就可 以获得元素在样品中沿深度方向的分布。

俄歇电子能谱分析AES

因此,AES技术是适用于对所有元素进行一次全分析的 有效定性分析方法,这对于未知样品的定性鉴定是非常 有效的。
通常在进行定性分析时,主要是利用与标准谱图对比的方法。根据《 俄歇电子能谱手册》,建议俄歇电子能谱的定性分析过程如下: 首先把注意力集中在最强的俄歇峰上。利用“主要俄歇电子能量图” ,可以把对应于此峰的可能元素降低到2~3种。然后通过与这几种可能 元素的标准谱进行对比分析,确定元素种类。考虑到元素化学状态不 同所产生的化学位移,测得的峰的能量与标准谱上的峰的能量相差几 个电子伏特是很正常的。 在确定主峰元素后,利用标准谱图,在俄歇电子能谱图上标注所有属 于此元素的峰。 重复上面两个过程,去标识更弱的峰。含量少的元素,有可能只有主 峰才能在俄歇谱上观测到。 如果还有峰未能标识,则它们有可能是一次电子所产生的能量损失峰 。改变入射电子能量,观察该峰是否移动,如移动就不是俄歇峰。
电 子 产 额
二次电子
弹性散射峰
为了增加谱图的信噪比, 通常采用微分谱来进行 定性鉴定。 负峰所对应的能量为阈 值能量,利用峰-峰高 度确定信息强度。
Auger 电子峰
AES spectrum of CuInS2 thin films grown by three source evaporation
俄歇电子能谱
(Auger Electron Spectroscopy 简称AES)
1.俄歇效应(Auger Effect)
处于基态的原子若用光子 或电子冲击激发使内层电 子电离后,就在原子的芯 能级上产生一个空穴。这 一芯空穴导致外壳层 的收缩。这种情形从能量 上看是不稳定的并发生弛 豫,K空穴被高能态L1的 一个电子填充,剩余的能 量( )用于释放一个 电子,即俄歇电子。
表面元素的半定量分析

俄歇电子能谱AES解读


粉末样品的处理
一是用导电胶带直接把粉体固定在样品台上 ,一是把粉体 样品压成薄片,然后再固定在样品台上
四、俄歇电子谱实验技术
1 样品制备技术
挥发性样品的处理 对于含有挥发性物质的样品,在样品进入真空系统前必须清除 挥发性物质。一般可以对样品进行加热或用溶剂清洗。对含 有油性物质的样品,一般依次用正己烷、丙酮和乙醇超声清洗 , 然后红外烘干,才可以进入真空系统。 表面污染样品的处理 对于表面有油等有机物污染的样品,在进入真空系统前,必须用 油溶性溶剂,如环己烷,丙酮等清洗样品表面的油污,最后再用乙 醇洗去有机溶剂。为了保证样品表面不被氧化, 一般采用自然 干燥
三、俄歇电子谱分析技术
2、俄歇谱分析技术-III表面元素的化学价态分析
由于谱图解析的困难和能量 分辨率低的缘故,一直未能 获得广泛的应用
SiO2 72.5 eV 纯 Si 88.5 eV Si 基底
界面 B
近年俄歇电子能谱的化学位移 分析在薄膜材料的研究上获得 了重要的应用,取得了很好的 效果
计数 / 任意单位
C KLL
Ti KLL
AES谱图的横坐标为俄歇 电子动能,纵坐标为俄歇 电子计数的一次微分
俄歇峰主要集中在20~ 1200eV
278.0
415 385 510
0
100
200
300
400
500
600
俄歇电子动能 / eV
金刚石表面的Ti薄膜 的俄歇定性分析谱
如图中的C KLL表示碳原 子的K层轨道的一个电子 被激发,在退激发过程中, L层轨道的一个电子填充 到K轨道,同时激发出L 层上的另一个电子。这个 电子就是被标记为C KLL 的俄歇电子。
子因最外层只有一个电子,也不能产生俄歇电子,

俄歇电子AES能谱2013.

样品的预处理室是对样品表面进行预处理
的单元。一般可完成清洗、断裂、镀膜、 退火等一系列预处理工作。
3.5 其它附件
目前,一般都配有 SAM 功能,可以对样品
表面进行二维AES成像。
还可在样品室上安装加热、冷却等功能,研 究样品在特殊环境下的状态。
还可根据用户的要求配置EDX等辅助功能。
3.6 俄歇谱仪的分辨率和灵敏度
1.前言
现有很高微区分辨能力的扫描俄歇微探针
( Scanning Auger Microprobe, SAM ) , 成 为微区分析的有力工具
电子计算机的引入,使能谱仪的功能更趋完
善。目前其已成为许多科学领域和工业应用 中的最重要的表面分析手段之一。
1.前言--AES的特点
表面性(1-2nm) 具有很高的表面灵敏度,其检测极限约为1-5原
微分法
俄歇电子有很强的背底噪音.
俄歇图谱采用微分后曲线的负峰能量 作为俄歇动能进行标定
微分谱
Fe经轻微氧化的d[EN(E)]/dE谱和dN(E)/dE谱
5. AES分析方法
5.1 定性分析
定性分析是进行 AES 分析的首要内容,是根据测得 的 Auger 电子谱峰的位置和形状识别分析区域内所
在原子内某一内层电子电离而形成空位(如K层), 则该电离原子的去激发可以有两种方式: 一个能量较高态的电子填充该空位,同时发出 特征X射线,即辐射跃迁。 一个较高能量的电子跃迁到空位,同时另一个 电子被激发发射,这是一无辐射跃迁过程,这一 过程被称为Auger效应,被发射的电子称为Auger 电子。
电子枪的电子束斑直径,决定着 SAM的空间
分辨率。目前,商品仪器中,最小的电子束 斑直径为<15 nm,最大加速电压为20 keV。

俄歇电子能谱 (AES, Auger)

俄歇电子能谱(AES, Auger)美信检测
俄歇电子能谱(AES、Auger)是一种利用高能电子束为激发源的表面分析技术. AES分析区域受激原子发射出具有元素特征的俄歇电子。

AES电子束可以扫描一块或大或小的表面. 它也可以直接聚焦在小块表面形貌上(半导体产业经常要求这样)。

聚焦电子束斑到10nm或更小的直径使得AES成为小表面形貌元素分析的非常有用的工具。

此外,它能够在可调整的表面区域内栅蔽电子束从而控制分析区域的尺寸。

当用来与溅射离子源的结合时, AES能胜任大、小面积的深度剖面。

当与聚焦离子束(FIB)一起使用时,它对于截面分析是很有用的。

应用范围:
缺陷分析
颗粒分析
表面分析
小面积深度剖面
工艺控制
薄膜成分分析
AES优点:
小面积分析(30纳米)
良好的表面灵敏度
良好的深度分辨率
AES激发原理示意图应用案例:。

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Selected Energy Electron Auger Electrons Multiplier
CMA的原理结构
3.3 真空系统
Auger电子谱仪都带有超高真空系统。系 统的真空度一般优于6.710-8Pa。
3.4 离子枪和预处理室
离子枪是进行样品表面剖离的装置,主要
用于样品的清洗和样品表层成分的深度剖 层分析。常用Ar作为剖离离子,能量在 1~5 KeV。
• Measure Auger signal at many points on the surface. • Creates 3D elemental map of surface. • Requires a highly focused electron beam. • Spatial resolution is about 0.1 μm • Generally use a concentric hemispherical analyzer (CHA) instead of CMA. • When used with an Ar+ sputter beam, composition depth profiling may be done.
在原子内某一内层电子电离而形成空位(如K层), 则该电离原子的去激发可以有两种方式: 一个能量较高态的电子填充该空位,同时发出 特征X射线,即辐射跃迁。 一个较高能量的电子跃迁到空位,同时另一个 电子被激发发射,这是一无辐射跃迁过程,这一 过程被称为Auger效应,被发射的电子称为Auger 电子。
定性分析的一般步骤:
1)根据最强的俄歇峰能量,查《俄歇电子能谱
手册》,确定元素。 2)标注所有此元素的峰。 3)微量元素的峰,可能只有主峰才能在图谱上 观测到。 4)未标识峰可能是能量损失峰。通过改变入射 电子能量辨别。 注意:化学环境对俄歇谱的影响造成定性分析的 困难(但又为研究样品表面状况提供了有益的信 息),应注意识别。
扫描Auger显微探针(SAM)
目前,最好的SAM的初级电子束直径为<15
nm,其空间分辨能力很高。
在实际的分析过程中,可用的最小束径一般
大于电子枪的最小束径。因为:(1)束径越 细,使得信噪比下降。(2)样品的抗辐照损 伤的能力对束径的大小有限制。(3)束斑漂 移对束径也有限制。
扫描Auger显微探针(SAM)
定性分析
Al的标准AES谱
Al2O3的标准AES谱
定性分析
TiN的Auger电子谱
俄歇电子能谱定性分析总结
任务:根据实测的直接谱(俄歇峰)或微分谱
上的负峰的位置识别元素。 方法:与标准谱进行对比。 注意:由于电子轨道之间可实现不同的俄歇 跃迁过程,所以每种元素都有丰富的俄歇谱, 由此导致不同元素俄歇峰的干扰。 对于原子序数为3~14的元素,最显著的俄歇 峰是由KLL跃迁形成的;对于原子序数14~40 的元素,最显著的俄歇峰则是由LMM跃迁形成 的。
电子枪的电子束斑直径,决定着SAM的空间
分辨率。目前,商品仪器中,最小的电子束 斑直径为<15 nm,最大加速电压为20 keV。
3.2 电子能量分析器
在表面分析技术中使用的电子能量分析器 都是静电型的。 最常用的为筒镜型能量分析器(CMA)。
电子能量分析器
-V
Sample
Electron Gun
谱仪的能量分辨率由CMA决定,通常CMA的分 辨率<0.5%,所以ΔE约为5~10eV。 谱仪的空间分辨率与电子束的最小束斑直径 有关。目前商品的最小束斑直径>500埃。 检测极限(灵敏度)。一般认为俄歇谱仪典 型的检测极限为0.1%。

4. Auger电子能谱的测量
在Auger电子能谱仪中,所采集的Auger电子
定性分析
主要是利用俄歇电子的特征能量值来确定固体表面
的元素组成。能量的确定在积分谱中是指扣除背底 后谱峰的最大值,在微分谱中通常规定负峰对应的 能量值。习惯上用微分谱进行定性分析。 定量分析:以峰-峰值(正负峰高度差)代表俄歇 峰强度,用于定量分析。
俄歇电子像
若调整电子能量分析器,使其仅检测制定元素的俄
直接谱的信噪比优于微分谱,但信背比却 在实际的工作中,应针对具体的问题,结
合微分谱和直接谱而进行分析。
直接谱
Fe经轻微氧化的EN(E)~E和N(E)~E谱
4.2微分谱
用锁定放大技术和微分电路获取Auger电子
微分谱,是人们解决强大背底所选用的重要 方法之一。从而使Auger电子能谱成为今天 的重要表面分析技术之一。
能力。
EAES与 XAES的比较
XAES 也具有很多优点: (1)由于X射线引发的二次电子较弱,俄歇
峰具有很高的信/背比; (2)X射线引发的俄歇电子具有较高的能量 分辨率; (3)X射线束对样品的表面损伤小得多。
2.4 俄歇分析的选择
对于Z≤14的元素,采用KLL俄歇电子分析; 14<Z<42的元素,采用LMM俄歇电子较合适; Z>42时,以采用MNN和MNO俄歇电子为佳。
微分法
俄歇电子有很强的背底噪音.
俄歇图谱采用微分后曲线的负峰能量 作为俄歇动能进行标定
微分谱
Fe经轻微氧化的d[EN(E)]/dE谱和dN(E)/dE谱
5. AES分析方法
5.1 定性分析
定性分析是进行AES分析的首要内容,是根据测得 的Auger电子谱峰的位置和形状识别分析区域内所
存在的元素。 方法是将采集到的Auger电子谱与标准谱图进行对 比,来识别分析区域内的未知元素。 由于微分谱具有比较好的信背比,利于元素的识别, 因此,在定性分析中,一般用微分谱。

N7 N6 N5 N4 N3 N2 N1
2.3 EAES与 XAES的比较
用电子束作为激发源的优点是: 电子束的强度大于X射线源多个数量级; 电子束可以进行聚焦,具有很高的空间分辨率; 电子束可以扫描,具有很强的图像分析功能; 由于电子束束斑直径小,具有很强的深度分析
AES Auger效应
电子能级、X射线能级和电子数
3d5/2 3d3/2 3p3/2 3p1/2 3s1/2
2p3/2 2p1/2 2s1/2 1s1/2


每种元素的各种
Auger 电 子 的 能 量 是识别该元素的重 要依据。
3. 俄歇电子能谱仪的组成
主要组成部分:电
子枪、能量分析器、 二次电子探测器、 (样品)分析室、 溅射离子枪和信号 处理与记录系统等。 样品和电子枪装置 需置于超高真空分 析室中。
俄歇谱仪示意图
3.1 电子枪
电子枪是用于激发Auger电子的装置。
子单层 同时定性分析除氢氦以外的所有元素 半定量分析表面成份 化学价态分析 微区分析 界面分析
2.Auger过程
(a) KL1L3 Auger 跃迁 (b) K1 辐射跃迁
入射电子束和物质作用,可以激发出原子的内层电子形成空穴。外层 电子填充空穴向内层跃迁过程中所释放的能量,可能以X光的形式放 出,即产生特征X射线,也可能又使核外另一电子激发成为自由电子, 这种自由电子就是俄歇电子。
俄歇电子能谱
俄歇电子数目N(E)随其能量E的分布曲线称为俄
歇电子能谱。一般情况下,俄歇电子能谱是迭加 在缓慢变化的,非弹性散射电子形成的背底上。 俄歇电子峰有很高的背底,有的峰还不明显,不 易探测和分辩。为此通常采用电子能量分布的一 次微分谱,即N’(E)=dN(E)/dE来显示俄歇电子峰 。这时俄歇电子峰形成正负两个峰,一般负值大 于正峰。微分谱的特点是灵敏,背底扣除问题自 动得到解决,峰明锐且易辨识,特别是如图中的 碳和钙峰。习惯上将原先的N(E)谱称为积分谱。
歇能量范围,让细聚焦的入射电子束在试样表面沿 指定直线或区域扫描,同步探测俄歇电子信号,就 能获得俄歇线扫描图或俄歇电子图像。利用俄歇图 像和电子显微图像相比较,亦可得到元素分布与表 面形貌的相关性。。
4.1 直接谱

直接谱根据能量分辨率的不同设置方式, 也有两种形式,即EN(E)~E和 N(E)~E。 低于微分谱。
2.5俄歇电子产额
俄歇电子产额或跃迁
几率决定俄歇谱峰强 度,直接关系到元素 的定量分析。俄歇电 子与特征X射线是两个 互相关联和竞争的发 射过程。
俄歇电子产额与原子序数的关系
由图可知,Z<19,发射俄歇电 子的几率在90%以上;随Z的增 加,X射线荧光产额增加,而俄 歇电子产额下降。Z<33时,俄 歇发射占优势。
谱中,不仅有Auger电子信号,同时也存在其 它的二次电子。 用 于 分 析 的 Auger 电 子 的 能 量 一 般 在 0~2000eV,它所对应的平均自由程为0.5~3 nm,即1~5个原子层左右。因此,Auger电 子的信号强度在整个电子信号中所占的比例 是相当小的,即AES中有强大的背底。
样品的预处理室是对样品表面进行预处理
的单元。一般可完成清洗、断裂、镀膜、 退火等一系列预处理工作。
3.5 其它附件
目前,一般都配有SAM功能,可以对样品
表面进行二维AES成像。
还可在样品室上安装加热、冷却等功能,研 究样品在特殊环境下的状态。
还可根据用户的要求配置EDX等辅助功能。
3.6 俄歇谱仪的分辨率和灵敏度
2.2 Auger跃迁的标记
Auger跃迁的标记以空位、 跃迁电子、发射 电子所在的能级为基础。如初态空位在K能级, L1能级上的一个电子向下跃迁填充 K 空位,同 时激发 L3 上的一个电子发射出去便记为 KL1L3 。 一般地说,任意一种Auger过程均可用 WiXpYq 来表示。 此处, Wi, Xp 和 Yq 代表所对应的电 子轨道。
2.6 俄歇电子能谱的基本原理
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