LCD玻璃基板的基本要求及性能指标分析
液晶面板主要材料之基板玻璃
液晶面板主要材料之基板玻璃
基板玻璃是构成液晶面板重要的原材料之一。
液晶面板的关键结构类似于三明治，两层“面包”(TFT基板和彩色滤光片)夹“果酱”(液晶)，故制作一片TFT-LCD面板需要用到两片玻璃，分别作为底层玻璃基板和彩色滤光片底板使用。
基板玻璃在TFT-LCD原材料成本中占比约20%，对面板产品性能的影响十分巨大，面板成品的分辨率、透光度、厚度、重量、可视角度等指标都与所采用的基板玻璃质量密切相关，作为重要的基底材料，基板玻璃之于TFT-LCD产业的意义相当于硅晶圆之于半导体产业。
TFT-LCD液晶面板结构
基板玻璃分为含碱和无碱两种。
有碱玻璃主要用于TN/STN型液晶面板中，但对于TFT-LCD，由于玻璃中碱金属离子会影响薄膜晶体管栅压的稳定性，故基板的制造必须使用无碱配方，不可以含有氧化钠和氧化钾等成分;但氧化钠和氧化钾可以降低玻璃的融化温度，故无碱玻璃的制造需要更高的炉温，这也是无碱玻璃生产技术难度高于有碱玻璃的原因之一。
TFT-LCD液晶产业链
基板玻璃作为液晶面板基础原材料之一，占据液晶产业链顶端。
上游原材料是一些最基础的化工原料如石英粉、氧化铝等，下游主要是面板厂和彩色滤光片供应商，分别供给他们制作TFT阵列和彩色滤光片，再在成盒段进行灌液晶、组装，制成Open Cell面板。
基板玻璃供应链
基板玻璃作为薄膜显示产业的基石，不仅广泛应用在TN/STN、TFT等液晶面板结构中，也是OLED必不可少的基底材料，基板玻璃重要性受显示机理变化的影响有限，具有不可替代性，未来产业地位稳固。
液晶屏基本知识及关键指标参数
液晶屏基本知识及关键指标参数液晶显示屏（LCD Liquid Crystal Display）的工作原理与传统球面显示屏完全不同。
液晶显示屏就是两块玻璃中间夹了一层(或多层)液晶材料，玻璃后面有几根灯管持续发光，液晶材料在信号控制下改变自己的透光状态，这样就能在玻璃面板前看到图像了。
液晶显示屏性能是有以下几个参数：响应时间响应时间的快慢是衡量液晶显示屏好坏的重要指标，响应时间指的是液晶显示屏对于输入信号的反应速度，也就是液晶由暗转亮或者是由亮转暗的反应时间。
一般来说分为两个部分：Tr(上升时间)、Tf(下降时间)，而我们所说的响应时间指的就是两者之和，响应时间越小越好，如果超过40毫秒，就会出现运动图像的迟滞现象。
目前液晶显示屏的标准响应时间大部分在25毫秒左右，不过也有少数机种可达到16毫秒。
拥有16ms 的超快响应时间，就可以用每秒显示60帧画面以上的速度，完全解决传统液晶显示屏在玩游戏或者看DVD影碟时所存在的拖影、残影问题。
对比度对比度是指在规定的照明条件和观察条件下，显示屏亮区与暗区的亮度之比。
对比度是直接体现该液晶显示屏能否体现丰富色阶的参数，对比度越高，还原的画面层次感就越好。
目前液晶显示屏的标称为250:1或者300:1，高档产品在400:1或500:1。
这里要说明的是，对比度必须与亮度配合才能产生最好的显示效果。
400:1或500:1的高对比度将使显示出来的画面色彩更加鲜艳，图像更柔和，让您玩游戏或者看电影效果直逼CRT显示屏。
亮度液晶显示屏亮度普遍高于传统CRT显示屏，液晶显示屏亮度一般以cd／m2(流明/每平方米)为单位，亮度越高，显示屏对周围环境的抗干扰能力就越强，显示效果显得更明亮。
此参数至少要达到200cd／m2，最好在250cd／m2以上。
传统CRT显示屏的亮度越高，它的辐射就越大，而液晶显示屏的亮度是通过荧光管的背光来获得，所以对人体不存在负面影响。
屏幕坏点屏幕坏点最常见的就是白点或者黑点。
LCD材料特性
液晶显示器用材料特性简介第一篇ITO导电玻璃简介ITO导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控溅射的方法镀上一层氧化铟锡（俗称ITO）膜加工制作成的。
液晶显示器专用ITO导电玻璃，还会在镀ITO层之前，镀上一层二氧化硅阻挡层，以阻止基片玻璃上的钠离子向盒内液晶里扩散。
高档液晶显示器专用ITO玻璃在溅镀ITO层之前基片玻璃还要进行抛光处理，以得到更均匀的显示控制。
液晶显示器专用ITO玻璃基板一般属超浮法玻璃，所有的镀膜面为玻璃的浮法锡面。
因此，最终的液晶显示器都会沿浮法方向，规律的出现波纹不平整情况。
在溅镀ITO层时，不同的靶材与玻璃间，在不同的温度和运动方式下，所得到的ITO层会有不同的特性。
一些厂家的玻璃ITO层常常表面光洁度要低一些，更容易出现“麻点”现象；有些厂家的玻璃ITO层会出现高蚀间隔带，ITO层在蚀刻时，更容易出现直线放射型的缺划或电阻偏高带；另一些厂家的玻璃ITO层则会出现微晶沟缝。
ITO导电层的特性：ITO膜层的主要成份是氧化铟锡。
在厚度只有几千埃的情况下，氧化铟透过率高，氧化锡导电能力强，液晶显示器所用的ITO玻璃正是一种具有高透过率的导电玻璃。
由于ITO具有很强的吸水性，所以会吸收空气中的水份和二氧化碳并产生化学反应而变质，俗称“霉变”，因此在存放时要防潮。
ITO层在活性正价离子溶液中易产生离子置换反应，形成其它导电和透过率不佳的反应物质，所以在加工过程中，尽量避免长时间放在活性正价离子溶液中。
ITO层由很多细小的晶粒组成，晶粒在加温过程中会裂变变小，从而增加更多晶界，电子突破晶界时会损耗一定的能量，所以ITO导电玻璃的ITO层在600度以下会随着温度的升高，电阻也增大。
ITO导电玻璃的分类：ITO导电玻璃按电阻分，分为高电阻玻璃（电阻在150~500欧姆）、普通玻璃（电阻在60~150欧姆）、低电阻玻璃（电阻小于60欧姆）。
高电阻玻璃一般用于静电防护、触控屏幕制作用；普通玻璃一般用于TN类液晶显示器和电子抗干扰；低电阻玻璃一般用于STN液晶显示器和透明线路板。
TFT_LCD玻璃基板简介
（ ４） 薄 膜 晶 体 管 型 （ ＴＦＴ－ Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）。
ＴＦＴ－ＬＣＤ是 有 源 矩 阵 类 型 液 晶 显 示 器 ＡＭ－ ＬＣＤ中的一种，ＴＦＴ在液晶的背部设置特殊光管，可 以“主动的”对屏幕上的各个独立的像素进行控制， 这也就是所谓的主动矩阵ＴＦＴ（ａｃｔｉｖｅｍａｔｒｉｘＴＦＴ）的 来历，这样可以大大地提高反应时间，一般ＴＦＴ的反 应时间比较快，约８０ｍｓ，而ＳＴＮ则为２００ ｍｓ，如果要 提高就会有闪烁现象发生。而且由于ＴＦＴ是主动式矩 阵ＬＣＤ可让液晶的排列方式具有记忆性，不会在电流
［ ２］ Ｅｎｅｒｇｙ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ａｄｍｉｎｉｓｔｒａｔｉｏｎ， Ｍｏｎｔｈｌｙ Ｅｎｅｒｇｙ Ｒｅｖｉｅｗ Ｆｅｂ ２００７， ｐａｇｅ ２５ ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｅｉａ．ｄｏｅ．ｇｏｖ／ｅｍｅｕ／ ｍｅｒ／ｃｏｎｔｅｎｔｓ．Ｈｔｍｌ Ｖｉｅｗｅｄ Ｊａｎｕａｒｙ １８， ２００９ ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．Ｅｉａ． Ｄｏｅ．ｇｏｖ／ｅｍｅｕ／ｍｅｒ／ｃｏｎｔｅｎｔｓ． Ｈｔｍｌ Ｖｉｅｗｅｄ Ｊａｎｕａｒｙ １８， ２００９ ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｅｉａ．ｄｏｅ．ｇｏｖ／ｅｍｅｕ／ｍｅｒ／ｃｏｎｔｅｎｔｓ．Ｈｔｍｌ Ｖｉｅｗｅｄ Ｊａｎｕａｒｙ １８， ２００９
［７］ＥＦＥＮ Ｓｏｆｔｗａｒｅ ｂｙ Ｃａｒｌｉ Ｉｎｃ ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｄｅｓｉｇｎｂｕｉｌｄｅｒｓｏｆｔｗａｒｅ． ｃｏｍ／ｅｆｅｎ．ｐｈｐ ｖｉｅｗｅｄ Ｊａｎｕａｒｙ １８， ２００９
［８］ＵＳ Ｍｉｌｉｔａｒｙ ｓｔａｎｄａｒｄ ８１０Ｄ Ｊｕｌｙ ３１， １９８６ Ｐａｇｅ ５０５．２－４
从产能和综合实力对比看，全球液晶领域由中 国台湾地区、韩国和日本掌控。作为中间环节的液 晶面板全球的占有率，中国台湾地区居首位（约占 ４３％），其次为韩国（约占３３％），日本第三。
TFT-LCD 玻璃基板边部破片分析及对策
技术讲座401 前言在TFT-LCD 液晶面板生产过程中，玻璃基板做为基础原材料，从第一道玻璃投入工序至模组完成包装出货要经历清洗、镀膜、光刻、成盒等制程工艺，在此过程中玻璃基板在各个工段不停传送运输，这对玻璃基板强度与边部质量要求较高。
在液晶玻璃生产中，品质不良主要为玻璃内部欠陷、表面欠陷和边部不良，而80%以上的破片都是源于边部不良。
破片易对玻璃基板生产和面板生产的产线设备与环境造成污染，影响生产效率并使后续产品不良率提升，造成严重经济损失。
2 玻璃基板破片原因玻璃基板破片的根本原因是本体受力，而受力分为基板内部应力与机械外力。
破片形式有两种状况：一是玻璃基板在厂内生产和客户使用制程过程中不断搬运传送、经历高温高压、真空等环境，内部应力发生变化的同时受到外力引起发生碎片，玻璃基板边部因受力面积小，不良缺陷多等特点，使得绝大部分的破片都先由边部开始破裂；二是机械外力碰撞玻璃表面或边部形成缺陷导致碎片发生。
以上两种状况中，机械外力为外部因素与基板本身质量无相应关联，内部应力与玻璃边部缺陷共同构成玻璃碎片主要控制质量指标。
3 内部应力对破片的影响3.1 玻璃基板应力产生原因玻璃基板内部应力又叫做热应力，按照其特点可分为永久应力和暂时应力，暂时应力为当玻璃低于应变点时处于弹性变形温度范围内即脆性状态时经受不均匀的温度变化时产生的热应力，普遍存在于整个退火工段。
在生产过程中主要控制的是永久应力，而影响永久应力的主要因素为：玻璃基板由塑性状态转为脆性状态时退火炉内温度的变化，导致玻璃基板退火效果不佳，应力变大；厚薄不同的玻璃散热不一致造成退火横向温度不同，形成相邻较大的张应力与压应力。
此外由于玻璃中局部区域化学组成不均匀导致内部缺陷（如条纹、结石、铂金等）会形成因不同材质的膨胀系数不同产生的结构应力。
TFT-LCD 玻璃基板边部破片分析及对策周阳强 张晓东 李阳蚌埠中光电科技有限公司 安徽 蚌埠 233030摘 要：本文基于液晶玻璃生产和使用中应力与边部质量导致的破片分析，就边部破片产生原因展开讨论，为液晶玻璃生产边部破片提供思路。
国内液晶基板玻璃发展及标准浅析
国内液晶基板玻璃发展及标准浅析
液晶基板玻璃简介
液晶基板玻璃是一种被广泛应用于LCD（液晶显示器）和其他电子产
品中的一种玻璃材料，因具有良好的耐化学性、光学性、热性和机械性能，具有优越的电气绝缘、耐热、耐酸碱性和绝缘性能，因而得到了广泛的应用。
液晶基板玻璃具有质地非常细腻，超薄片厚度可达0.3mm，耐热性也
非常良好，可在温度较高的环境中稳定运行。
尽管国内液晶基板玻璃的发展迅速，但仍然存在一些问题，主要表现为：
1、国内液晶基板玻璃技术难以与国外技术竞争：目前，国内液晶基
板玻璃技术主要集中在切割、拼板和表面处理技术，与国外技术相比，有
较大差距，特别是在厚度控制、阻隔层处理、隔离层处理、光学表面处理
和机械精度等方面，还存在一定差距。
2、原材料的短缺：由于国内大部分原材料的供应商都比较少，导致
国内液晶基板玻璃原材料供应量不足，造成大量生产，进而影响了企业的
生产效率。
3、科技创新能力不足：在中国，由于科研经费有限，国内科技创新
能力不足，导致新产品的研发落后于国外，落后于市场的发展趋势。
标准要求。
TFT-LCD基板玻璃配方及工艺性能探讨
TFT-LCD基板玻璃配方及工艺性能探讨摘要：新时期，无论是工艺还是科技，都离不开玻璃制品，而随着对科技产品的要求越来越高，对玻璃质量的要求也随之提高。
本文主要对TFT-LCD基板玻璃采用流孔下引法、熔融溢流法及浮法等成形技术的特点与应用状况进行对比，全面且综合地阐述了这种玻璃的高温粘度、液相线温度、高温电导率等技术性能的研究方法及相关进展。
关键词：无碱硼铝硅酸盐玻璃；粘度；技术性能引言TFT-LCD（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器）是一种采用新技术，利用新型材料和新工艺，并且规模比较大的半导体全集成电路制造技术。
而TFT-LCD液晶玻璃基板又是平板显示器的关键材料。
但是，TFT-LCD液晶玻璃基板生产具有投资量大，技术门槛高等特点，在实际生产环节的难度比较大，它对原材料品位、生产环境（如压力、温度、湿度、洁净度等）、工艺控制精度的要求十分苛刻。
当然，在如此苛刻的条件下所生产出来的产品，其质量关可以保证，这便是现代化、规模化生产的顶尖技术。
一、对基板玻璃的性能要求为了能达到最高的标准和液晶显示屏的要求，这种超薄玻璃必须无碱、无砷。
而且，还要达到高化学稳定性、高热稳定性、微缺陷、低密度、高弹性等高性能的要求。
在制造过程中，基板玻璃需要在真空中进行蒸镀与刻蚀，所以，在材料选择时必须选择耐高温、耐强酸强碱的。
在进行高温处理时，一定要严格地防止电路的损伤，基板玻璃的热稳定性要确保在合格范围内。
应变点温度、热膨胀系数等因素都要进行严格的检测，以确保生产出来的产品都是优等品。
有时我们可能会忽略重量以及厚度，在制作的过程中，玻璃基板必须确保非常薄，此时的玻璃基板的厚度会不断减薄，这会导致机械强度降低，这样会导致在包装和运输时，容易造成很大的难题。
所以，不单单是要将玻璃的密度降到最低点，而且还要将弹性模量相对应的提升。
二、TFT-LCD玻璃的生产技术在早期的玻璃制作过程中，玻璃的成形技术有垂直引上法、平拉法、浮法、压延法等等。
浅论TFT—LCD用玻璃基板的性能及检测
浅论TFT—LCD用玻璃基板的性能及检测作者：岳峰汪斌来源：《中国化工贸易·下旬刊》2018年第07期摘要：我国作为TFT-LCD产品的消费大国，近年来对TFT-LCD的市场需求正逐渐提升，玻璃基板是生产TFT-LCD极为重要的材料，其性能如何直接决定了TFT-LCD产品的质量。
本文介绍了TFT-LCD用玻璃基板的性能要求，并初步分析了其性能检测方法。
关键词：TFT-LCD；玻璃基板；性能随着技术手段的不断创新与深化，薄膜晶体管型液晶显示器凭借清晰的图像、丰富的色彩、逼真的视觉感受以及较轻的重量等诸多优势在显示器的市场中逐渐占据主流地位，传统阴极射线管显示器相比TFT-LCD在质量和性能方面有很大不足，正日益从显示器领域中淘汰。
TFT-LCD的构成中包含了偏光板、背光源以及液晶面板等元件，液晶面板的制作过程中玻璃基板是必不可少也是最为重要的一部分，一块液晶面板的生产需要底层玻璃基板和滤光片两块玻璃基板。
玻璃基板即通常而言的素玻璃，其主要特点是平滑度、精细度都十分高，并且极薄。
玻璃基板的使用历史不长，自20世纪90年代开始，由日本研发并正式投入生产，到目前为止玻璃基板已经进行了数次更新换代。
尽管玻璃基板在显示器的制作全过程中仅仅耗费5%左右的成本，但玻璃基板的性能直接决定了显示器的制造水准，影响显示器在分辨率、视角、重量、透光水平等诸多方面的表现。
1 TFT-LCD用玻璃基板的性能要求1.1 外观与尺寸显示器的制造工艺对于精密性有着极高要求，玻璃基板的外观尺寸的误差不能超过0.1mm，对玻璃基板的厚度和外表的平整程度也有十分严格的限制。
平整度高的玻璃基板可以保证光刻过程顺利进行，使曝光时可以充分聚焦于整个平面，避免电路故障的产生。
此外，玻璃基板的尺寸必须控制在极小的误差范围内，否则会对像素和电场的稳定造成破坏，导致显示器出现色彩或是灰度不均匀的问题。
除了以上外观条件的限制，玻璃基板的表面应保证不存在污渍或是划痕，一些内在缺陷如包裹体或是气泡应尽量避免，即使存在也应保证内在缺陷足够小，缺陷面积不能超过单个像素面积的20%。
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LCD玻璃基板的基本要求及性能指标分析
液晶显示器(LCD)是在两个玻璃基片之间填充液晶介质，再加上一定形状的极化层，当电压通过导电栅网施加于液晶介质时，液晶介质起着光开关的作用，从而形成一定的图像。
一、各类LCD显示器对基板的要求
液晶(LC)及液晶显示器(LCD)研究的飞速发展带动了所需基
板的更新换代。
LCD为有源显示器，依靠外部光源来显示。
其基板需要两种不同的短阵.第一种是内部矩阵型，依靠液晶材料的阀值性质.第二是外部矩阵或有源矩阵(AM)型.由二极
管阵列、金属-绝缘体-金属(MIM)装置或薄膜晶体管汀兀)来
为每个像素电子转换。
两层之间是厚度为5-101am的隔阻层。
1968年美国RCA公司的Heilmeir使用向列型液晶的动态散射效应发明了液晶数字手表，开创了内部矩阵型液晶研究的新时代，1971年Schadt提出利用向列液晶的电场效应的扭曲向列液晶显示技术(TN LCD)。
在此基础上，1983年，又
发明了超扭曲向列型液晶显示器(STN LCD)。
其扭曲角为240°-270°，预倾角为5°-20°左右，后来又相继出现了非晶
硅的有源矩阵薄膜晶体管液晶显示器(a-Si AM TFT LCD)和
多晶硅的有源矩阵薄膜晶体管液晶显示器(p-Si AMTFT LCD)。
含有一硅阻隔层的钠钙硅玻璃完全可满足内部矩阵型LCD 的要求。
在内部矩阵LCD中具有较高性能的超扭曲向列性(STN)中，为满足其间隙尺寸的大小一致，就要求基板格外平整。
所以.应用于这种显示器时，钠钙硅玻璃就必须精密抛光。
但精确成型的Corning7059玻璃则可以应用。
外部矩阵LCD可进一步细分为两种类型，一种是基于MIM 或非晶硅(a-Si)器件，另外一种是基于多晶硅(p-Si)器件。
MIM 或非晶硅(a-Si)型对基板的要求和STN一致。
Corning7059薄板玻璃由于钠含量较低(0.1wt%)、尺寸精确和具有商业可行性而成为较为理想的基板。
但是，多晶硅(p-Si)器件的成型工艺温度比a-Si TFT要高。
基板所需的工作温度为
600-800℃(在玻璃的应变点以下25℃)。
准确的温度由生产TFT的特定工艺来确定。
沉积控制介电质需600-650℃，热氧化物需大约800℃。
a-Sj和p-Si工艺都要求和后续的工艺精确匹配，也都要求基板的热收缩要小。
在生产工艺中.由基板上的碱金属氧化物对TFT形成的钠污染应引起重视，通常的做法是在基板上覆盖一阻隔层来阻止碱金属的迁移。
在这一点上值得注意的是碱含量近于零的非晶硅则可以应用，有对也称熔融硅或熔融石英。
由于熔融硅的工作温度为965℃，集成电路工艺技术可以直接应用而不
需添加阻隔层。
这种玻璃的主要问题是债格昂贵，不能用价格低廉的商用平板玻璃工艺制各。
相反，它必须用浇铸、切割、细磨和抛光方法来制备。
由于各类LCD的性质和制备工艺不同，因此对基板的要求
也不同。
?
二、LCD基板的主要性质要求
除基板的三个主要性质，即尺寸的精确度、耐温性和热收缩性外。
本节再添加另外的两个要求：无明显缺陷(包括内部和表面).在显示器生产中抗化学腐蚀性。
本节将讨论在五个因
素和平板显示器的装配和性能的关系。
1、尺寸精密度
高性能显示器的装配包括多种的精确工艺。
因此.基板的尺寸、形状和边界精度公差的数量级为0.1μm。
在AM LCD中，对由扭曲产生的形变、表面租造度或厚度误差的要求的精度更高。
这是因为狭缝空间(在两个显示基板之问的距离)在显示
器中的要求是十分严格的。
如果玻璃的缺陷引起狭缝空间的局部变化，那么此地的电场将会同周围像素的电场发生偏离。
这种电场偏离将会使最终的显示的灰度或色彩不一致。
即使表面缺陷的大小在0.1 μ到几个毫微米，也会对显示效果产
生十分大的影响.诸如扭曲的较大的平整度形变现在可以用塑料微珠或混有液晶材料的玻璃棒来补偿狭缝空间以保证狭缝的宽度-狭缝宽度的形变只会发生在当基板变形幅度小到狭缝的另外一个基板也不能纠正到与之相匹配和保持两基板间的固定间距时发生。
板的平整度变形会在生产中产生另外的一个问题。
由于照相平板印刷时不能在基板显示器上聚焦，因此会在显示电路中产生缺陷。
如果印刷精度欠缺，扭曲的基板将会发生光掩蔽的危险。
平板玻璃基板产生有可能产生的平整度变形包括上至简单形变和整个基板的波浪性扭曲下到玻璃的纳米级的细微的分子粗造度整个范围.上述论述只是粗略描述了平整度形变的幅度是如何影响显示器的生产和性质，对基板表面形变和显示器性质的关系的更详尽的阐述是十分必要的。
2、热要求
耐温性和热收缩性，这两种热要求是有联系的。
玻璃基板的刚度，即抗粘滞流动性。
只是在热过程最高温度高于退火点时出现。
但是.在温度接近玻璃的应力点时。
如果玻璃冷却的过快，温度的差异就会使玻璃产生机械应力。
基板的最高工作温度在低于应力点25℃以下将会在显示器制备过程中避免产生不可接受的基板应力。
制备热弯曲的高温过程应十分小心以避免热开裂。
即使温度稍远低于应力点，基板也会由于体积松弛而发生尺寸改变。
基板玻璃在制备中冷却到室温所达到的最终密度受玻璃在玻璃转变区域的冷却速度的影响。
在显示器制备中。
如果快速冷却的玻璃重新加热而在随后的热过程中以可使
玻璃结构充分驰豫的方式冷却，玻璃的密度将会增加。
在显示器制备过程中线性尺寸的改变将导致照相平板印刷间的
不匹配.在显示器制备中对基板收缩的允许程度依赖于显示器.电路、显示器尺寸等性质。
在AM LCD的情况下，这意
味着收缩不能高于在显示器最大尺寸方向上的最小元件(例
如布线间的宽度)的一部分。
也就是说，在几百毫米上只有几个微米的收缩，即几个ppm。
实际应用的显示器基板玻璃的～些收缩数据已有报道。
玻璃的体积驰豫现象在实验和理论两方面都有研究。
在转变区域以下较远的区域的热收缩的理论研究还不够完全.其中，在ppm级范围内测定收缩是比较困难的。
为获得高的分辨率、大的显示尺寸的LCD显示器，对基板
的热收缩的良好控制是必需的。
假定收缩是均匀的和线性的，可通过后续工艺的补偿来达到100ppm的热收缩。
?3、化学稳定性
由于玻璃经历许多步骤，显示器的制备工艺，特别是AM LCD 制备工艺的化学性质是最容易改变的。
a-SiAM LCD液晶面板基板要加上七层或更多的薄膜，并且含有多次的刻蚀步骤。
显示器基板的化学稳定性要求如下：各种刻蚀溶液都不能使显示器产生可见的残留物或干扰随后的薄膜沉积。
在反应物对玻璃的较高的刻蚀速度的情况下(中或高的敏感性)。
刻蚀
条件必需优化处理以避免对基板产生不必要的破坏。
关于7059玻璃和1733玻璃的化学稳定性的定量数据己有报道。
在这些研究中可见，和含碱的玻璃的情形相似，酸首先将玻璃中非硅成分剥掉，形成一个富硅层。
当高膨胀的薄膜应用在基板上时这种脆弱多孔的表面层会剥蚀掉。
所以基板表面的化学性质的改变是显著的。
这同时证明氟化物和基础反应物对玻璃基板的刻蚀都没有使表面出现可见的粗糙，这是对硅网络的侵蚀而不是对非硅组成的侵蚀。
但是对于抛光的基板方面，由于玻璃表面的抛光损坏，均匀玻璃溶解也会使表面的粗糙度增加。
因此，保持洁净度和使用化学蚀刻工艺来使粗糙度降至最小。
4、表面和内部缺陷
LCD液晶显示器在表面和内部缺陷方面必须有非常高的质量。
在表面布置电路的基板必须避免擦伤或其他表面污染与小到几个毫米的缺陷来避免显示器线路的缺陷。
Heumstic
提出诸如表面平行度的基板形状和基板的长度和宽度同等
重要。
在缺少实验数据的情况下，显微镜下的基板缺陷仅仅是一种缺陷，当成为一种潜在的致命缺陷时才成为公开的缺陷。
和其他对显示器基板的重要要求一样。
这还没有成为数量化的、理论化的表面质量要求的标准。
内部缺陷，包括气体杂质和颗粒杂质，不影响显示器的生产。
因此.可见性是一个简单的问题。
只要杂质小于像素的某一部分，是可以接受的。
一个可以接受的缺陷的极限大小为一个独立像素表面积的25%。
因此像素为100的显示器的杂质尺寸极限为50pan。
因此，到目前还缺少玻璃基板的尺寸、化学性质和缺陷级别的量化的理论。
由于实际应用在不断的推进现代玻璃生产技术的发展。
在LCD液晶显示器的商业化进程中这方面的努力是十分必要的。