高分辨相位衬度的起源与理论

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第五章 高分辨(相位)衬度的起源与理论

第五章  高分辨(相位)衬度的起源与理论

面电子波。在菲涅尔近似下,有
ψ ( x, y ) =
− 2πik [( x − X ) 2 + ( y − Y ) 2 ] i exp(−2πikZ ) q X Y ( , ) exp dXdY ∫∫ Zλ 2R
= q ( x, y ) * PR ( x, y )
(4-8)
其中,q(x,y) 为物函数,Ψ(x,y)为传播 R 距离后的电子波函数, PR(x,y)为菲涅尔传播因子:
高分辨研究简史
关于高分辨透射电子显微镜的基本成像理论,Boersch 早在 1946 年在研究电子与 原子的相互作用时就提出,固体中的原子会对在其中传播的电子束进行调制,改变电 子波的相位。他认为,利用电子波的相位变化,有可能观察到单个原子,可以用来分 析固体中原子的排列方式。 这一理论实际上成为现代实验高分辨电子显微分析方法的理 论依据; 1947 年, 德国科学家 Scherzer 提出, 磁透镜的离焦 (defocus, 即所谓的 Scherzer 最佳欠焦量,而非通常的高斯正焦)能够补偿因透镜缺陷(球差)引起的相位差,从而 可显著提高电子显微镜的空间分辨率。 高分辨试验方面的最初结果首先是由 Menter 在 1956 年做出的。 在 20 世纪 50 年代, 由于透射电镜的线分辨率只有 1.2 纳米,点分辨率更差,大大限制了这一时期高分辨 电子显微技术的应用。直到 1970 年代,透射电镜点分辨率已达到几个埃的水平,对高 分辨电子显微学的应用创造了良好的物质基础。 1957 年,美国 Arizona 洲立大学物理系的 Cowley 教授等利用物理光学方法来研究 电子束与固体的相互作用,并用所谓“多层法”计算相位衬度随样品厚度、离焦量的变 化,从而定量地解释所观察到的相位衬度像,即所谓高分辨像,从而建立和完善了高分 辨电子显微学的物理基础。1971 年,Cowley、Iijima 等人首次获得了可直接解释的氧化 物晶体的高分辨电镜像,证实了他们所看到的高分辨像与晶体结构之间具有对应关系, 实际上是晶体结构沿着特定方向上的二维投影。 这一时期高分辨电子显微像的分辨率已 优于 4 埃。 Cowley、Iijima 的工作开创了一个应用高分辨电子显微学的新时代,从此 高分辨电子显微术开始被广泛地利用与多种领域,成为现代物理、化学、材料科学、矿 物学、生物学等多种学科研究的常用技术。 在这一章节中, 先介绍要一下有关高分辨电子显微学的一些基本理论和概念。 之后,讨论一下高分辨电子显微术的图像模拟方法,以及主要应用对象,并简单 介绍一下近年来高分辨电子显微学的一些新进展,如球差矫正(Cs corrector) , 以及出射波重构(exit wave reconstruction)等新技术。

材料分析高分辨电子显微学

材料分析高分辨电子显微学





(2)经物镜作用在后焦面处形成衍射谱 Q(u,v)=F[q(x,y)] (3)像平面上形成高分辨电子显微像 当物平面与像平面严格地为一对共轭面时,像面波Ψ(r) 真实地放大了物面波q(r),而当物镜有像差时,像平面不严 格与物平面共轭,此时像面波不再真实地复现物面波。像面 波与物面波之间的这种偏差可用在物镜后焦面上给衍射波加 上一个乘子,就是衬度传递函数exp(iⅹ (u,v)) 。 同时考虑物镜光阑的作用C(U,V).因而像平面的电子散射 振幅为: Ψ(u,v)=F[C(U,V) Q(u,v) exp(iⅹ (u,v)) ] 像平面上像的强度为像平面上电子散射振幅的平方,即 振幅及其共轭的乘积: I(x,y)= Ψ*(u,v) · Ψ(u,v) =│1 +iF{C(U,V)F[σφ(x,y) Δz ] exp(iⅹ (u,v))} │2
(4)样品厚度对像衬度的影响 高分辨像实际上是所有参加成像的衍射束与透 射束之间因相位差而形成的干涉图像。因此,试样 厚度非直观地影响高分辨像的衬度。 图3-3所示为Nb2O5单晶在同一欠焦量下不同试 样厚度区域的高分辨照片。在照片上能看到由于试 样厚度不均匀等因素引起的图像衬度区域性变化, 即图像从试样边缘的非晶衬度过渡到合适厚度下的 晶胞单元结构像。
高分辨电子显微学
林鹏 081820022
目录
1.绪论
2.高分辨电子显微相位衬度像的成像原理 3.高分辨电子显微像衬度的影响因素 4.高分辨电子显微像的计算机模拟 5.高分辨电子显微观察和拍摄图像的程序 6.高分辨电子显微图像的类型和应用实例
1.绪论
不同材料有不同的使用性能;材料的性能 决定于材料的结构,特别是它的微观结构。 为了获得能满足人类生活和生产需要的材料, 必须研究材料的结构,首先要直接观察到结 构的细节。 1956年,门特用分辨率为0.8nm的透射 电子显微镜直接观察到酞菁铜晶体的相位衬 度像,这是高分辨电子显微学诞生的萌芽。

第五章 高分辨(相位)衬度的起源与理论

第五章  高分辨(相位)衬度的起源与理论
S ∑ a i q i ( x , y ) i
}= ∑ ai Sqi ( x, y ) }

i
3. 菲聂尔衍射过程-小角近似、进场近似
由于通过求解薛定厄方程解决电子波的传播过程和衍射过程非常 复杂,所以一般用物理光学的方法来处理电子波的传播、衍射和成像 过程。电子波在晶体中传播产生的衍射现象,如直边,狭缝,园孔等 典型衍射过程,可以用惠更斯-菲涅尔原理成功地进行解释。 基尔霍夫(Kirchhoff)从简谐标量波的亥姆霍茨(Helmholtz)微 分方程出发, 推导出与惠更斯-菲涅尔原理的积分公式相似的衍射公 式:
q(r )
Q(u ) = F {q (r )}
ψ (r ) = F
−1
{Q(u )} = q(r )
图 5-1 理想透射电镜磁透镜的 Abbe 成像原理
3
北京大学
物理学院
研究生教材――俞大鹏
2004. 9
2. 线性系统
由于在晶体中传播的电子波函数满足线性的薛定愕方程,所以电 子透镜成像系统可以被看成是线性变换系统。 高分辨透射电镜的成像 过程是一个线性变换过程,其基本特征是,若干个输入信号所产生的 响应等于单个输入信号的响应之和,即:
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研究生教材――俞大鹏
2004. 9第五Biblioteka 相位衬度的起源与理论-高分辨理论
高分辨研究简史
关于高分辨透射电子显微镜的基本成像理论,Boersch 早在 1946 年在研究电子与 原子的相互作用时就提出,固体中的原子会对在其中传播的电子束进行调制,改变电 子波的相位。他认为,利用电子波的相位变化,有可能观察到单个原子,可以用来分 析固体中原子的排列方式。 这一理论实际上成为现代实验高分辨电子显微分析方法的理 论依据; 1947 年, 德国科学家 Scherzer 提出, 磁透镜的离焦 (defocus, 即所谓的 Scherzer 最佳欠焦量,而非通常的高斯正焦)能够补偿因透镜缺陷(球差)引起的相位差,从而 可显著提高电子显微镜的空间分辨率。 高分辨试验方面的最初结果首先是由 Menter 在 1956 年做出的。 在 20 世纪 50 年代, 由于透射电镜的线分辨率只有 1.2 纳米,点分辨率更差,大大限制了这一时期高分辨 电子显微技术的应用。直到 1970 年代,透射电镜点分辨率已达到几个埃的水平,对高 分辨电子显微学的应用创造了良好的物质基础。 1957 年,美国 Arizona 洲立大学物理系的 Cowley 教授等利用物理光学方法来研究 电子束与固体的相互作用,并用所谓“多层法”计算相位衬度随样品厚度、离焦量的变 化,从而定量地解释所观察到的相位衬度像,即所谓高分辨像,从而建立和完善了高分 辨电子显微学的物理基础。1971 年,Cowley、Iijima 等人首次获得了可直接解释的氧化 物晶体的高分辨电镜像,证实了他们所看到的高分辨像与晶体结构之间具有对应关系, 实际上是晶体结构沿着特定方向上的二维投影。 这一时期高分辨电子显微像的分辨率已 优于 4 埃。 Cowley、Iijima 的工作开创了一个应用高分辨电子显微学的新时代,从此 高分辨电子显微术开始被广泛地利用与多种领域,成为现代物理、化学、材料科学、矿 物学、生物学等多种学科研究的常用技术。 在这一章节中, 先介绍要一下有关高分辨电子显微学的一些基本理论和概念。 之后,讨论一下高分辨电子显微术的图像模拟方法,以及主要应用对象,并简单 介绍一下近年来高分辨电子显微学的一些新进展,如球差矫正(Cs corrector) , 以及出射波重构(exit wave reconstruction)等新技术。

03-电子显微分析-基础知识与TEM(3-TEM)

03-电子显微分析-基础知识与TEM(3-TEM)

二、透射电子显微像的质厚衬度及透射电镜样品
使用透射电镜观察分析材料的形貌、组织、结构,需具备以 下两个前提: 一是制备适合TEM观察的试样,厚度100-200nm,甚至更薄;
TEM试样大致有三种类型: 粉末颗粒 材料薄膜 复型膜
二是建立电子图像的衬度理论
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二、像衬度及复型像
(一)电子像衬度(像衬度)——质厚衬度
一般都采用双聚光镜系统。
②成象放大系统
主要组成:
➢ 物镜

➢ 中间镜(1-2个)


➢ 投影镜(1-2个)
大 系

11
物镜
①形成显微像
将来自试样同一点的不同方向的弹性散射束会聚于其像
作用:平面上,构成与试样组织结构相对应的显微像。 ②形成衍射花样
将来自试样不同点的同方向、同相位的弹性散射束会聚 于其后焦面上,构成含有试样晶体结构信息的衍射花样
22
(2)放大倍数
透射电镜的放大倍数是指电子图象对于所观察试样区的 线性放大率。
最高放大倍数表示电镜的放大极限。实际工作中,一般 都是在低于最高放大倍数下观察,以得到清晰的图像。
(3)加速电压
电镜的加速电压指电子枪的阳极相对于阴极的电压 决定电子枪发射的电子束的波长和能量 200kV电镜是一种比较理想的电镜(0.00251nm )
三、电子衍射
四、透射电子 显微像
电子衍射和X-ray衍射异同点 电子衍射基本公式 电子衍射花样 阿贝显微镜成像原理 透射电子显微镜中选区电子衍射 电子衍射花样的标定
像衬度:质厚衬度、衍射衬度、相位衬度 选择衍射成像原理 双光束条件 电子衍射分析的特点
一、透射电子显微镜
结构组成与工作原理 ➢ 光学成像系统 ➢ 真空系统 ➢ 电气系统

相位衬度原理

相位衬度原理

相位衬度原理今天来聊聊相位衬度原理。

你们有没有见过那种在阳光下会有特殊视觉效果的物品呢?比如说一些蝴蝶的翅膀,从不同的角度看,会有不一样的色泽和光晕。

其实这背后就有点类似相位衬度原理在微观世界里的表现。

我最开始接触相位衬度原理的时候啊,那可真是一头雾水。

这就要说到光和物质相互作用的特性了。

在微观世界里,当光穿过一个物体的时候,就像一群小蚂蚁在搬东西,物体不同的区域会对光产生不同的影响。

简单来说,相位衬度原理主要是关涉到光的相位变化。

咱们就把光想象成是一群有着整齐步伐的士兵在跑步,当经过一个微观的物体结构时,有的地方会让士兵的脚步加快或者减慢(也就是光的相位变化)。

通常我们的眼睛只能看到光的强度信息,也就是看到那些很亮或者很暗的地方。

但是当我们利用特殊的技术手段(就像是给这些变化了步伐的士兵专门建一个舞台来展示他们的不同),让相位的变化能够通过强度的变化被我们的眼睛或者探测器察觉到,这就是相位衬度成像。

比如说晶体的结构研究里。

晶体内部的原子排列就像一个精细设计的小迷宫,原子间不同的疏密排列会使穿过的光有相位的变化。

通过相位衬度原理相关的成像技术,我们可以观察到晶体内部原子的阵列。

注意哦,这里面“相位回廊”(这里只是形象化说法,实际是微观的结构环境)可就不是随便逛逛那么简单,如果不理解这个原理,就丢失了很多微观结构的重要信息。

有意思的是,在生物样本成像里,相位衬度也帮我们不少忙。

细胞结构,比如细胞器,像是微观世界里的小工厂,相位衬度可以让我们在不染色(染色类似于一种破坏原生状态的化妆)的情况下,清楚观察到这些小工厂的结构排列等信息。

老实说,我一开始也不明白为什么相位这么个摸不着的东西这么重要。

打个比方吧,相位就像交响乐里每个乐器发出声音的先后顺序,如果不关注这个顺序,那整个交响乐的协同美感就没了。

同样,不关注相位,微观世界成像就缺少准确性和全面性。

说到这里,你可能会问,那在我们的日常生活中有什么更直接的应用呢?在集成电路中的电子元件检测这里就用到了,微小的电路像是一座微型城市,相位衬度成像可以把里面的小零件成像,帮助工程师找出故障或者优化设计。

TEM-10

TEM-10

2 其中: [ (r )] = -4 (r) 电荷密度函数
I (r) = 1+2f (r) 即: I(r)与ρ(r)成线形关系 ρ(r)与原子的周期势场有关,这样就建立了物与像的一一对应关系。
3)赝弱相位物体相互理论(考虑厚度对衬度的影响)
四、高分辨电镜的试验技术
HR
NBD
5 K/ min
E (412 C)
250
300
350
400
450
500
Temperature (C)
000
130
220
1-10
incommensurate
[002] Zr2Ni (T)
FT
IFT
The HR images and NBD of QCs with 2f, 3f and 5f symmetries HR HR HR
1、高分辨电镜的技术要求

照明光源有足够的亮度,采用LaB6灯丝, V,I稳定
放大倍数足够大,一般 M>50~100 万倍
2、试验技术


合轴:电子束与所以透镜的光轴精确重合
薄区:寻找理想薄区,一般, 100 KV, 1000 KV, t<10nm t<50nm


寻找合适的晶带轴,使其与光轴严格重合。
Chapter 7 高分辨电镜及 高分辨衍衬像原理
一、高分辨电镜与普通电镜的区别
高分辨电镜
分辨率高 ∆r≈2Å 放大倍数M=50~ 100万倍 多束成像(至少一透 射束+一衍射束)
球差 相位衬度 散焦 欠焦 转化 振幅衬度
普通电镜
∆r=1nm M=20~30万倍
明(透射束)

高角度环形暗场Z衬度像成像原理及方法

高角度环形暗场Z衬度像成像原理及方法

STEM 图像的获得可以采用专用的透射扫描电 镜( 如英国生产的 HB- 501 等) , 它的光学 镜筒与 SEM 类似。这种仪器不具备普通 TEM 的功能, 因 此只在 STEM 和 SEM 模式下工作。常用的是一种 TEM/ STEM 混合型仪器, 一般表示为( S) TEM。它 是在通常的 TEM 中加装了扫描附 件、探测设备及 分析装置。如环形探测器、8 过滤器、电子能量损失 谱仪等等。这种仪器具有 STEM, TEM 及 SEM 的 各种功能。如日本生产的 JEOL 2010F 分析电镜。 1. 2 STEM 与 TEM 的电子光学系统比较
变化的能力。
2 高角度环形暗场(HAADF) 方法
在 TEM 中, 被高电压加速的电子照射到试样
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兵器材料科学与工程
第 25 卷
上, 入射电子与试样中原子之间发生多种相互作用。
其中弹性散射电子分布在比较大的散射角范围内,
而非弹性散射电子分布在较小的散射角范围内, 因
此, 如果只探测高角度散射电子则意味着主要探测
3
散射几率建立在散射截面与 Z 2 成正比的基础上, 其 中 Z 是原子序 数。因此环形暗场像可 以显示某种 原子序数的衬 度[7] 。随后, Pennycook 等人 开发了 环形暗场技术的应用, 他们用特殊设计的环形探测 器收集高角度弹性散射电子( 即高角度环形暗场方 法) 。并用这种方法得到了高分辨的 YBa2Cu3O7- X 和 ErBa2 Cu3O7- X 的 Z 衬度非相干图 像[8] 。Penny2 cook 认为 Crewe 等人使用的环形探测 器收集了包 含非弹性散射在内的低角散射电子, 因此散射截面
信息的透射束和若干衍射束经过透镜重构就得到了 晶体 的高分 辨像。高 分辨 透射电 子显 微方 法 (H RTEM) 可以获得有关原子排列、晶格缺陷、表面 形态等信息。但是如果晶体试样厚度超过若干原子 层, 相位衬度像的解释就变的复杂了。

TEM结构原理及应用

TEM结构原理及应用

2、 复型法
复型是利用一种薄膜(如碳、塑料、氧化物薄膜)将固体试 样表面的浮雕复制下来的一种间接样品,只能作为试样形貌 的观察和研究,而不能用来观察试样的内部结构。
对于在电镜中易起变化的样品和难以制成电子束可以透过 的薄膜的试样多采用复型法。
在材料研究中,复型法常用以下三种: (1)碳一级复型 (2)塑料-碳二级复型 (3)萃取复型
投影镜:为高级强透镜,最后一级放大镜,用来 放大中间像后在荧光屏上成像。
D、观察记录部分
荧光屏:在电子束照射下,电子图像反映在荧 光屏上,可呈现终像。研究者通过观察窗在荧 光屏上进行像的观察、选择和聚焦。3~10倍。
照相底片:最常用的透射电镜的照相底片是片 状的胶片。胶片的一面有厚度约为25μm的明胶 层,明胶层含有均匀分散的10%的卤化银颗粒。 照相底片在电子束的照射下能感光。
透射电镜剖面图 结构示意图
1、电子光学系统组成
电 电子枪 子 聚光镜 光 样品台 学 物镜 系 中间镜 统 投影镜
荧光屏 底片盒
照明部分 样品装置部分 成像部分
观察记录部分
A、照明部分
电子枪:发射电子的场所,也是电镜的照明源。由阴极(灯 丝)、栅极、阳极组成。阴极管发射的电子通过栅极上的小 孔形成电子束,电子束有一定发射角,经阳极电压加速后射 向聚光镜,起到对电子束加速加压的作用,形成很小的平行 电子束。
可得d约为200nm
对于TEM在100kV加速电压下,波长0.0037nm,d约为 0.002nm,目前电子显微镜达不到其理论极限分辨率,最 小分辨率达到0.1nm
光学显微镜与透射电镜的比较
比较部分 光源 透镜
放大成象系统 样品 介质
像的观察 分辨本领 有效放大倍数 聚焦方法
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因此,对于一个处于高斯正焦状态的理想磁透镜而言,像函数是 物函数的完全“再现”,成像过程不会造成图像失真。换句话说,对于 一个正焦的理想透镜而言,我们无法在想平面上看到相位物体的任何
像上的对应点为 g(x, y)。我们知道,对于任何周期函数,都可以进 行 Fourier 展开成为周期函数(如正玄函数、指数函数等)之和。因 此,对于 g(x, y),可以展开为:
∑ g(x, y) = g(r) = G(ux , u y )exp(2πi(xu x + yuy )) u x,y
= ∑ G(u)exp(2πik ⋅ r) u
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糊函数,或点扩展函数,也被称为脉冲响应函数,原因是透镜系统有 缺陷,包括衍射效应,球差、色差、聚焦、光阑函数等。在非相干光 学成像系统中,点扩展函数对应于衬度传递函数的 Fourier 变换:
h(r − r') = cos2 (x, y) + sin 2 (x, y)
G(k)=H(k)F(k) 意即,实空间的卷积,在倒空间变成了简单的乘积形式了。 对于理想透镜(指无衍射效应,无限大透镜,无象差、畸变下), H(k)≡1,像函数等于物函数与脉冲响应函数的卷积。显然,这个函数 只是一个放大了的透射波,其强度是:
I = Ψ(x, y) 2= exp(-iσVt (x, y) 2 = 1
在这一章节中,先介绍要一下有关高分辨电子显微学的一些基本理论和概念。 之后,讨论一下高分辨电子显微术的图像模拟方法,以及主要应用对象,并简单 介绍一下近年来高分辨电子显微学的一些新进展,如球差矫正(Cs corrector), 以及出射波重构(exit wave reconstruction)等新技术。
)
exp(−2πikrq ) rq
cosθ
− cosθq

式中θ和θq 分别是面积微元 dσ的法线方向与矢量 rr 和 rrq 的夹角。
基尔霍夫公式的主要用途不在于解释波在真空中的传播,而是为
了研究波在透过样品以后的传播及波函数ψ(x,y)在观测点的分布。
作为一个简单的例子,入射波是位于 Q 的单位强度的点光源发出的球
似。菲涅尔近似的本质就是在近光轴区域用抛物面形的电子波代替球
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面电子波。在菲涅尔近似下,有
ψ
(x,
y)
=
i
exp(−2πikZ ) Zλ
∫∫
q( X
,Y
)
exp

2πik[(x

X )2 2R
+
(
y
−Y
)2
]
dXdY
= q(x, yபைடு நூலகம் * PR (x, y)
这里 u 为倒易空间的矢量,即特定方向上的空间频谱。根据 Fourier 定理,展开系数 G(k)为 g(x,y)的 Fourier 变换。
同样的道理,物函数 f(x,y)也可以表达成类似的形式, 即 F(k)为 物函数 f(x,y)的 Fourier 变换。点扩展函数(或脉冲响应函数)h(x,y) 也 可以表达成类似的形式,即 H(k)为点扩展函数 h(r)的 Fourier 变换。 由于脉冲响应函数 h(x,y)描述了在实空间从物到图像的信息传递过 程,因此,H(k)则描述了倒空间中信息的传递过程,被称为衬度传递 函数(CTF)。总的像函数可以写成以下形式:
1、 Abbe 成像原理
尽管电子显微镜已经成为重要的现代分析手段,其电子光学成像 原理可以用物理光学的 Abbe 成像原理进行说明。过去,人们在讨论 透镜成像时,仅局限于样品的物点与像点之间的对应关系。一百多年 前的 1873 年,Ernst Abbe(阿贝)在研究如何提高显微镜的分辨率时, 提出了一个相干成像的新理论。阿贝从物体空间频率信息的分解与合 成的角度,研究了透镜的成像过程。具体方法是,把一束单色平行光 照射到平面物体 ABC 上,使整个系统成为相干成像系统。单色光波 通过透镜后发生 Fraunhofer 衍射,透射波中蕴含了样品的空间频率信
向。上式可以直接应用于高能电子经样品散射后的传播过程的研究。
在实际问题中,为了简化,可以在基尔霍夫公式引入适当的近似
与假设。Fresnel 衍射,就是一种近场、小角近似下的衍射过程(平 面波近似)。
首先,假设入射波为一平面波,则在离样品距离为 R 的观察点的
波函数为:
ψ
(x,
y)
=
i 2λ
∫∫
q(
X
过程是一个线性变换过程,其基本特征是,若干个输入信号所产生的
响应等于单个输入信号的响应之和,即:
∑ ∑
S
i
ai qi (x, y)
}
=
i
ai Sqi (x, y)
}
3. 菲聂尔衍射过程-小角近似、进场近似
由于通过求解薛定厄方程解决电子波的传播过程和衍射过程非常
复杂,所以一般用物理光学的方法来处理电子波的传播、衍射和成像
高分辨透射电镜的成像过程可以大致分为三个过程: 1)、入射电子束在晶体内的散射; 2)、各散射波透过样品后,在后焦面上形成的衍射波; 3)、各衍射波相互干涉,在像平面上形成图像。 对于样品中的点(x, y),设它的物(样品)函数为 f(x, y),在图
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q(r)
Q(u) = F{q(r)}
ψ (r) = F −1 {Q(u)} = q(r)
图 5-1 理想透射电镜磁透镜的 Abbe 成像原理
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2. 线性系统
由于在晶体中传播的电子波函数满足线性的薛定愕方程,所以电
子透镜成像系统可以被看成是线性变换系统。高分辨透射电镜的成像
电子透镜的脉冲响应函数就是菲涅尔传播因子。菲涅尔衍射的强度分
布可以用半波带方法和菲涅尔积分求出。
4. 光学系统的作用与传递函数(Transfer Function)
和光学成像系统一样,电子光学成像系统-磁透镜的作用是,把样 品中每一点 point(x, y)转换成图像中的扩展区域(extended region), 如图 2 所示:
4
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面波,照射在一个二维物体上,其透射函数为 q( X ,Y ) ,在观察点 P 波
函数可以写为,
{ } ψ (x, y) =
i 2λ
∫∫
exp(−2πikrq rq
)
q(
X
,
Y
)
exp(−2πikr r
)
cosθ
+ cosθq
dXdY
其中 X,Y 是固定在样品上的坐标,Z 沿样品所在平面的法线方
1957 年,美国 Arizona 洲立大学物理系的 Cowley 教授等利用物理光学方法来研究 电子束与固体的相互作用,并用所谓“多层法”计算相位衬度随样品厚度、离焦量的变 化,从而定量地解释所观察到的相位衬度像,即所谓高分辨像,从而建立和完善了高分 辨电子显微学的物理基础。1971 年,Cowley、Iijima 等人首次获得了可直接解释的氧化 物晶体的高分辨电镜像,证实了他们所看到的高分辨像与晶体结构之间具有对应关系, 实际上是晶体结构沿着特定方向上的二维投影。这一时期高分辨电子显微像的分辨率已 优于 4 埃。 Cowley、Iijima 的工作开创了一个应用高分辨电子显微学的新时代,从此 高分辨电子显微术开始被广泛地利用与多种领域,成为现代物理、化学、材料科学、矿 物学、生物学等多种学科研究的常用技术。
,Y
)
exp(−2πikr) r
{cosθ
+
1}dXdY
式中 r 2 = (x − X )2 + ( y − Y )2 + R2 。
其次,如果入射波的波长很短(如高能电子波),并且观察点到样
品的距离 R 远远大于样品上的被观测范围(X,Y 的最大取值范围)和观
测点的活动范围(x,y 的最大取值范围),则任一观测点所观察到的衍
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一、相位衬度 (phase contrast): 干涉条纹 fringes
1. 透射电镜成像原理
高 分 辨 电 子 显 微 镜 的 成 像 机 制 是 所 谓 的 相 位 衬 度 (phase contrast),即假设穿过样品后,电子束的强度基本不发生变化,仅仅 是电子的相位受到周期晶体势场的调制而改变,从而使得出射电子束 携带了晶体的结构细节信息。高分辨透射电镜的成像过程是一个利用 透射束与许多衍射束之间相互干涉后形成点阵条纹像的过程。因此, 高分辨成像理论,或相位衬度理论是一个多束成像理论。在特定条件 下,点阵条纹像(高分辨像,HRTEM)与晶体结构存在一一对应的 关系,此时才能称为高分辨结构像。
对于样品中的点 A、B, 有样品函数 fA(x, y)、fB(x, y)
光学系统
gA
gB
图像中对应的扩展盘 gA、gB(x, y)
图 5-2 光学成像系统示意图:样品中的点经过成像系统后,在 图像面上被转换成为扩展盘。
对于透射电镜,由于考虑的是相干成像过程,系统的传递函数与 衬度传递函数(CTF)是有区别的。
北京大学 物理学院 研究生教材――俞大鹏 2004. 9
第五章 相位衬度的起源与理论-高分辨理论
高分辨研究简史
关于高分辨透射电子显微镜的基本成像理论,Boersch 早在 1946 年在研究电子与 原子的相互作用时就提出,固体中的原子会对在其中传播的电子束进行调制,改变电 子波的相位。他认为,利用电子波的相位变化,有可能观察到单个原子,可以用来分 析固体中原子的排列方式。这一理论实际上成为现代实验高分辨电子显微分析方法的理 论依据;1947 年,德国科学家 Scherzer 提出,磁透镜的离焦(defocus,即所谓的 Scherzer 最佳欠焦量,而非通常的高斯正焦)能够补偿因透镜缺陷(球差)引起的相位差,从而 可显著提高电子显微镜的空间分辨率。
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