第三章:官能团的保护

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有机化学中的官能团保护与反应选择

有机化学中的官能团保护与反应选择

有机化学中的官能团保护与反应选择在有机化学领域,官能团保护与反应选择是一项关键而重要的技术。

它们在有机合成中发挥着重要的作用,可以实现对特定官能团进行保护,以及控制反应的选择性。

本文将探讨有机化学中的官能团保护与反应选择的原理、方法和应用。

一、官能团保护的原理和方法官能团保护是在有机合成中使用特定的试剂或方法对特定官能团进行保护,以阻止其在反应中发生不需要的转化或损失。

这种保护可以临时地对官能团进行屏蔽,以防止不需要的反应发生。

一旦需要,这些保护官能团可以很容易地被去除,使得官能团再次可用。

常见的官能团保护方法包括酯化、缩醛、缩酮、硅烷保护、硼酸酯保护等。

例如,在酯化反应中,羧酸可以与醇发生酯化反应,形成酯。

这种反应可以通过加入催化剂、调节反应条件和使用适当的反应物比例来控制。

一旦酯形成,官能团保护就实现了。

二、反应选择性的控制在有机合成中,反应选择性是指在具有多个官能团的分子中,选择性地引发或控制特定官能团的反应。

反应选择性的控制对于合成复杂的有机化合物非常重要,可以避免副反应的发生,并帮助提高产率和纯度。

反应选择性的控制可以通过多种方法实现,如调节反应条件、选择适当的催化剂、改变反应物的比例、使用合适的试剂和溶剂等。

以亲核取代反应为例,当分子中存在多个能提供亲核位点的官能团时,可以通过调节反应条件和选择适当的反应物比例,去控制反应的进行。

三、官能团保护与反应选择的应用官能团保护和反应选择在有机合成中有广泛的应用。

其中最具代表性的应用之一是在多步合成中,其中的中间体需要在反应过程中保护起来,以防止意外的转化或副反应的发生。

通过对中间产物进行官能团保护,可以控制整个反应过程,确保预期产物的高产率和选择性。

另一个重要的应用是在天然产物合成中。

天然产物通常具有复杂的结构和多个官能团,官能团保护和反应选择技术可以被用来合成这些天然产物或其类似化合物。

通过选择性地引发或控制特定官能团的反应,可以构建复杂分子骨架,实现对天然产物的全合成。

高等有机化学

高等有机化学
C2H5O C Cl O
(氯甲酸乙酯)
NaCl
+ RCON3
H2O + RCON3
(70%)
+
NaN 3
C 2H5O C N 3 O
(叠氮基甲酸酯)
ROCO
N3
hv or
RO C N : + N2 O
3、消除反应
烷氧羰酰乃春由N-(对硝基苯磺酰氧基)胺基甲酸酯在碱存在下消
除反应得到:
ROCONHOSO 2 NO 2 KOH
二、高等有机化学
1、高等有机化学(Advanced Organic Chemistry)是基础有 机化学的深化和提高。
2、有机化学结构与性能的关系是高等有机化学的基本研究内 容之一。 3、对于有机化合物的结构研究,高等有机化学主要以物理测 试方法为主 。
三、高等有机化学的发展
1、由宏观观测向微观观测发展 2、由静态立体化学向动态立体化学的发展 3、量子化学的应用 4、研究由简单体系向复杂体系延伸
:CH2>:CHCl>:CCl2>:CBr2>:CF2
C X
+
: CH2
C CH2
X
(X=H,Cl,O,N,etc.),碳碳键不能插入
hv CH3CH2CH2CH2CH3 + CH2N2 o CH3CH2CH2CH2CH2CH3 + CH3CH2CH2CHCH3 + CH3CH2CHCH2CH3 -75 C
Cl (1) Na / NH3 (2) O 3 NaBH4 MeOH O
OH
CH3COCl NaH CH3I , NaH
OCOCH3
OCH3
第二节
乃春 (Nitrenes)

有机合成——官能团的引入转化消除及保护课件高二化学人教版选择性必修3

有机合成——官能团的引入转化消除及保护课件高二化学人教版选择性必修3

氧化
CH3-CHO
CH3-COOH
五、官能团的转化(种类、数目和位置的变化)
2、官能团数目变化
原创:WJ化学研究院
CH3CH2-OH 消去
CH2=CH2
加Br2
水解 CH2Br-CH2Br
HO-CH2CH2-OH
3、官能团位置变化
消去
CH3CH2CH2-Br
CH3CH=CH2
加HBr CH3CH-CH3 Br
卤素原子 烯烃(炔烃)的加成 烷烃(苯及苯的同系物)的取代 醇(酚)的取代
羟基 烯烃与水的加成 酯的水解 卤代烃的水解 醛、酮的加氢
醛基 炔烃水化 烯烃氧化 伯醇的催化氧化 糖类水解
羧基 烯炔烃、苯的同系物、醛、醇的氧化 酯、酰胺、R-CN的水解
酯基
酯化反应、酰氯醇解
八、练习
原创:WJ化学研究院
1.由苯酚制取
①醇的催化氧化引入碳氧双键
2RCH2OH+O2
催化剂 △
2RCHO+2H2O
2RCH(OH)R'+O2 催化△ 剂2R—C—R+2H2O
O
②某些烯烃被氧化
2CH2=CH2+O2 一定条件 2CH3CHO
①O3
②Zn/H2O OHCCH2CH2CH2CH2CHO
三、引入官能团--碳氧双键
2、引入碳氧双键
4、醛基的保护
醛基可被弱氧化剂氧化,为避免在反应过程中受到影响,保护一般是把 醛基制成缩醛,最后再将缩醛水解得到醛基(常用乙二醇)
缩醛 也可以先生成醇,然后再氧化恢复
四、官能团的保护--氨基的保护
5、氨基(-NH2)的保护
胺基易被O2、O3、H2O2等氧化,一般采用下列方法保护

第三章 第五节 第1课时 有机合成的主要任务(学生版)

第三章 第五节 第1课时 有机合成的主要任务(学生版)

第五节 有机合成第1课时 有机合成的主要任务[核心素养发展目标] 通过碳骨架的构建、官能团的转化,体会有机合成的基本任务,掌握有机化合物分子碳骨架的构建,官能团引入、转化或消除的方法。

有机合成使用相对 的原料,通过有机化学反应来构建 和引入 ,由此合成出具有特定 和 的目标分子。

碳骨架是有机化合物分子的结构基础,进行有机合成时需要考虑碳骨架的形成,包括碳链的增长和缩短、成环等过程。

一、构建碳骨架 1.碳链的增长 (1)炔烃与HCN 加成CH ≡CH ―――→HCN催化剂CH 2==CHCN ――――→H 2O ,H+△CH 2==CHCOOH 丙烯腈 丙烯酸(2)醛或酮与HCN 加成――→HCN催化剂――→H 2催化剂(1∶2加成)羟基腈 氨基醇带正电荷的原子或原子团连接在 上,带负电荷的原子或原子团连接在 上。

(3)羟醛缩合反应醛分子中在醛基邻位碳原子上的氢原子(α-H)受羰基吸电子作用的影响,具有一定的活泼性。

分子内含有α-H 的醛在一定条件下可发生加成反应,生成β-羟基醛,该产物易失水,得到α,β-不饱和醛。

+C αH 3CHO ―――→催化剂――→催化剂△CH 3—C βH==C αHCHO +H 2O 2.碳链的缩短反应可以使烃分子链缩短。

(1)烯烃―――→KMnO 4H+。

(2)炔烃RC ≡CH ―――→KMnO 4H+。

(3)芳香烃。

与苯环相连的碳原子上 才能被酸性高锰酸钾溶液氧化。

3.碳链的成环 (1)共轭二烯烃共轭二烯烃含有两个碳碳双键,且两个双键被一个单键隔开。

(第尔斯-阿尔德反应的加成原理)。

(2)环酯浓硫酸△。

(3)环醚HOCH 2CH 2OH ――――→一定条件。

二、引入官能团有选择地通过取代、加成、消去、氧化、还原等有机化学反应,可以实现有机化合物类别的转化,并引入目标官能团。

1.引入碳碳双键 (1)醇的消去反应CH 3CH 2OH ―――→浓H 2SO 4170 ℃ 。

有关官能团的保护

有关官能团的保护

有机合成中旳基团保护、导向基(高考必备) (一)基团保护在有机合成中,些不但愿起反映旳官能团,在反映试剂或反映条件旳影响下而产生副反映,这样就不能达到估计旳合成目旳,因此,必须采用对这些基团进行保护,完毕合成后再除去保护基,使其复原。

对保护措施一定要符合下列规定:①只对要保护旳基团发生反映,而对其他基团不反映;②反映较容易进行,精制容易;③保护基易脱除,在除去保护基时,不影响其他基团。

下面只简略简介要保护旳基团旳措施。

1、羟基旳保护在进行氧化反映或某些在碱性条件进行旳反映,往往要对羟基进行保护。

如避免羟基受碱旳影响,可用成醚反映。

避免羟基氧化可用酯化反映。

2、对氨基旳保护氨基是个很活泼旳基团,在进行氧化、烷基化、磺化、硝化、卤化等反映时往往要对氨基进行保护。

(1)乙酰化(2)对NR 2可以加H+ 质子化形成季铵盐,– NH 2也可加H+– OH–CH C 或酸–NH 2-C O-O -C O–成 – NH3而保护。

3、对羰基旳保护羰基,特别是醛基,在进行氧化反映或遇碱时,往往要进行保护。

对羰基旳保护一般采用缩醛或缩酮反映。

4、对羧基旳保护羧基在高温或遇碱性试剂时,有时也需要保护,对羧基旳保护最常用旳是酯化反映。

5、对不饱和碳碳键旳保护碳碳重键易被氧化,对它们旳保护重要要加成使之达到饱和。

(二)导向基在有机合成中,往往要“借”某个基团旳作用使其达到预定旳目旳,预定目旳达到后,再把借来旳基团去掉,恢复本来面貌,这个“借”用基团 我们叫“导向基”。

固然这样旳基团,要符合易“借”和易去掉旳原则,如由苯合成1,3,5 – 三溴苯,在苯旳亲电取代反映中,溴是邻、对位取代基,而1,3,5 – 三溴苯互居间位,显然不是由溴旳–COOH + R –OH H –CHO +2ROH H定位效应能引起旳。

但如苯上有一种强旳邻、对位定位基存在,它旳定位效应比溴旳定位效应强,使溴进入它旳邻、对位,这样溴就会呈间位,而苯环上本来并无此类基团,显然要在合成时一方面引入,完毕任务后,再把它去掉,正好氨基能完毕这样旳任务,由于它是一种强旳邻、对位定位基,它可如下引入:– H → – NO 2 → – NH 2 ,同步氨基也容易去掉:– NH2→ – N 2 → – H 因此,它旳合成路线是:根据导向基团旳目旳不同,可分为下列几种状况:1、致活导向 如果要合成 可以用 但这种措施产率低,由于丙酮两个甲基活性同样,会有副反映发生:但在丙酮旳一种甲基上导入一种致活基团,使两个甲基上旳氢旳活性有明显差别,这可用一种乙酯基(–C OO C2H 5)导入丙酮旳一种甲基上,则这个甲基旳氢有较大旳活性,使这个碳成为苄基溴攻打旳部位,因此,运用乙酰乙酸乙酯而不用丙酮,完毕任务后,把乙酯基OC 6O + C 6BrO C 6C 6Br O COOC C 2H 5O O COOC C6O COOC 1)2)△ C 6O OC6C 6Br碱C 6Br 碱OC 6C 6O水解成羧基,运用β– 酮酸易于脱羧旳特性将导向基去掉,于是得出合成路线为:2、致钝导向活化可以导向,有时致钝也能导向,如合成 氨基是很强旳邻、对位定位基,进行取代反映时容易生成多元取代物:如只在苯胺环上旳氨基旳对位引入一种溴,必须将氨基旳活性减少,这可通过乙酰化反映来达到,同步乙酰氨基是一种邻、对位定位基,而此状况下对位产物是重要产物:3、运用封闭特定位置来导向例如合成 ,用苯胺为起始原料,用混酸硝化,一方面苯胺易被硝酸氧化,另一方面,苯胺与硫酸还会生成硫酸盐,而 是一种H 2Br NH 2+ Br 2NH 2BrBr BrNH 2 BrNHCO BrBr 2H 2ONHCONH 2 NH 2NO–⊕间位定位基,硝化时得到,因此苯胺硝化时,要把苯胺乙酰化后,再硝化。

例谈有机合成中官能团的保护_熊光发

例谈有机合成中官能团的保护_熊光发
1 对羰基的保护 羰基,特别是醛基,是有机化学中最易发生反应的 活性官能团之一,对羰基的保护一般采用与醇反应生 成缩醛或缩酮的方法,以降低其反应活性。 在 干 燥 氯 化 氢 或 浓 硫 酸 作 用 下,一 分 子 醛 和 一 分 子 醇 发 生 加 成 反 应,生 成 半 缩 醛。例 如: CH3CH2CHO+CH3OH 干燥 HCl CH3CH2|CHOCH3 ,半 缩 醛 一 般
CH |
2OH
CH2OH
OO R—C—R' H2O/H+
O ‖ R—C—R'
O
(2)R—‖C—OC2H5 LiAlH4
H2O RCH2OH+C2H5OH
试以丙烯及其 他 必 要的 有 机试 剂为原 料 合成
CH3COCH2OH,无机试剂任选,写出合成流程图。 解 析:结合 题 给 信息,不 难 设 计出前半 段合成 线
步骤④用丙酮与其他四个羟基反应以保护它们,然后
在步骤⑥中水解脱保护。
第Ⅱ小题中的有机合成则要求学生对上述所用到
的羟基保护方法,在领会的基础上加以运用。
答案:
I.(1)①(A 与 H2 加成得 B)、③(C 分子内 5 号 C
上的羟基与 2 号 C上的碳氧双键发生加成作用得 D:)
21|CCH=O2OH
一线教师在课堂教学中,要做到难点突破和重点 掌握,实现教学的有效性和高效性,有时很需要概览知 识内容的全部,再加以条分缕析和方法指导,彰显知识 构建的逻辑性,既要求得学生当下的发展(解决某个问 题)又要赢得长远发展(遇到新问题能触类旁通)。我 在进行高中化学“有机合成”的教学时,作了些许有关 的尝试。
路:
CH3CH=CH2
Br2
CH3|CH-|CH2 NaOH

有机物官能团保护

2、n位选择性活化
保护基与被保护的官能团反应,起到“钝化”保护作用,反应后,保护基在温和条件下与外加修饰试剂反
和Ars—作磷酸的—oH保护基,可分别用py、I z和cucl

在温和条件下活化,形成活性反应中心。在毗啶作用下,氯甲基变成吡啶翁甲基吸电子基团,使苯氧基易离去,在特定位置上 形成反应活性中心这种方法已成功地用于舍成,并且使合成过程大大简化。例如利用此法可晟简便地合成胆碱—∞P。
RNHa・pheoeH2S02Cl
——*RNHs02cHtcoph塑竺望竖型兰:Q}
昶一二=NH
》勘eH。e。pn跫等哥虽NH
州/Ns。2eH2e。ph—I西南
4、c=c的保护
c=c双键易发生加成,氧化反应,在合成中有时需要保护。常用的保护方法有二卤代反应,一般是加溴, 还可以使c=c形成环氧化合物,脱保护基时可在乙酸中使用锌处理,使双键再生。
CH2~o卜{
eH20Cph

己H:-。H
咛!i璺曼!,6H:旬i
亡H2。cp秘
e15H3{8一cI
CH2一oCp魏3 CH—oCoCl 5H3{ eH2一oCpn3
6H2一。H戮7
墼器:慧c洲。,
eH,一oH
以上例子中两个羟基能够被选择性地保护反应和脱除,同样利用不同保护基可实现同时用于六羟基化合
加以掩蔽,待反应完成后,再恢复原来的基团,这就是官能团的保护。 官能团保护一般采用官能团保护基的策略,引入保护基后,当经过必须反应后,不得损坏其它官能团,反应选择性高,收 率要尽可能好,同时易被除去。随着有机合成的技术不断发展,保护基在合成中的作用除所谓只是暂时使之“钝化”外,还有 高选择性区域反应的保护基等。下面将这两类主要的保护基分别介绍:

官能团保护

化学与环境学院 084班 温才裕 周俊凯
官能团保护的意义
有机反应往往会伴有副反应,原因就是
有机反应的复杂性,反应条件、官能团 的相互影响等都会影响反应的进行.在 有些反应中,使某个官能团参加反应时, 可能会有其他的官能团受到影响,这样 就需要对官能团进行保护.
官能团的保护
一、保护基的基本条件 二、羟基保护 三、羰基保护

在一些例子中,最后一条可以放宽,允许保护基 被直接转变为另一种官能团。
二、羟基的保护基团
保护醇类 ROH 的方法一般是制成醚类 (ROR ′ ) 或酯 类(ROCOR′),缩醛或缩酮类。前者对氧化剂或还原剂都有 相当的稳定性。 1
. 醚类衍生物
①形成甲醚类 ROCH3 可以用碱脱去醇ROH质子,再与合成子 +CH3作用,如 使用试剂NaH/Me2SO4。也可先作成银盐 RO-Ag+ 并与碘甲 烷反应,如使用 Ag2O/MeI;但对三级醇不宜使用这一方法 。醇类也可与重氮甲烷CH2N2,在Lewis酸(如BF3·Et2O) 催化下形成甲醚.
以羧基为保护基:
OH CO2/NaHCO3 OH COOH OH Br Br2/AcOH OH COOH H3O OH
+
OH Br
OH
OH
以磺酸基为保护基:
CH3 浓H2SO4 CH3 Cl2,Fe CH3 Cl H3O
+
CH3 Cl
SO3H
SO3H
以硝基为保护基:
C(CH3)3
HNO3 H2SO4
Et2O AgNO3/H2O/EtOH
Ag
KCN/H2O -AgCN
H
格氏反应和有机锂合成中的保护
PhLi+RC CH

高中化学有机合成中的官能团保护

高中化学有机合成中的官能团保护在有机合成中,某些不希望起反应的官能团,在反应试剂或反应条件的影响下而产生副反应,这样就不能达到预计的合成目标,因此,必须采取措施保护某些官能团,待完成反应后再除去保护基,使其复原。

1、保护措施必须符合如下要求①只对要保护的基团发生反应,而对其它基团不反应;②反应较易进行,精制容易;③保护基易脱除,在除去保护基时,不影响其它基团。

2、常见的基团保护措施①羟基的保护在进行氧化或某些在碱性条件下进行的反应,往往要对羟基进行保护。

a.防止羟基受碱的影响,可用成醚反应。

b.防止羟基氧化可用酯化反应。

②对羧基的保护羧基在高温或碱性条件下,有时也需要保护。

对羧基的保护最常用的是酯化反应。

③对不饱和碳碳键的保护碳碳双键易被氧化,对它们的保护主要用加成反应使之达到饱和。

;④对羰基的保护(以信息题出现)羰基,特别是醛基,在进行氧化反应或遇碱时,往往要进行保护。

对羰基的保护一般采用生成缩醛或缩酮的反应。

(缩醛或缩酮)(缩酮)生成的缩醛或缩酮水解又变成原来的醛或酮。

3、题例解析例1、已知下列信息:①烯键在一定条件下氧化可生成二元醇:②醛能发生如下反应生成缩醛:缩醛比较稳定,与稀碱和氧化剂均难起反应,但在稀酸中温热,会水解为原来的醛。

现有如下合成路线:试回答下列问题:(1)写出A、B的结构简式:________、________。

(2)写出反应Ⅲ的化学方程式:________。

解析:由题给信息知,欲使CH2=CH—CHO变为CH2OH—CHOH—CHO,需将C=C双键氧化,而—CHO对氧化剂敏感,故应先进行保护,待C=C双键氧化完毕,再将醛基还原出来,故合成路线为:答案:(1)A:CH2=CH=CH(OC2H5)2 B:CH2OH—CHOH—CH(OC2H5)(2)CH2OH—CHOH—CH(OC2H5) CH2OH—CHOH—CHO+2C2H5OH例2、已知胺(R—NH2)具有下列性质:(Ⅰ)R—NH2+(CH3CO)2O R—NHCOCH3+CH3COOH(Ⅱ)R—NHCOCH3+H2O R—NH2+CH3COOH硝基苯胺是重要的化工原料,其合成路线如下:(1)a、c、e分别为________。

chapt3 官能团的保护

第三章 官能团的保护一. 官能团保护的意义及对保护基的要求1. 意义.是对复杂化合物而言的,简单化合物不用保护,复杂化合物由于官能团多(包括种类多,部位多)若要在一个部位选择性的完成一个化学反应,则必须对其他反应部位加以保护封闭,否则反应可能在多部位进行。

关于官能团的保护,前面的内容已部分涉及到。

例:CO 2EtOOH OHOO2Et2MeMgI OOOH+2OOH保护的目的是为了更好地反应,不是为了保护而保护,保护只是手段,保护不该反应的部位,以便在该反应的部位发生反应。

CO 2EtOOH OH O O+2O-CO 2Et 1.2.1.NaNH 23OOHCl 2 存在问题:由于官能团的保护和去保护,实际上使整个反应多了两步,不但费时费力,而且整个收率降低,所以设计合成路线时尽量避免保护基的引入,特别是工业生产。

所以应满足以下要求:<1>容易引入——选择性好、收率高、试剂廉价、专一性 <2>引入保护基后的分子结构能经受往下多反应的条件<3>容易解除保护,不提高分子其它部位、条件温和,不重排异构化、副反应,脱出保护基后的产物易于保护基及附带生成的副产物分离。

本章主要介绍以下几种官能团的保护:羟基、羰基、羧基、氨基 二.羟基的保护——利用成醚、酯加以保护(一)形成醚——甲醚、苄醚、三苯甲醚、四氢吡喃醚、特丁基二甲基硅醚、甲氧基乙氧基甲醚1.甲醚——成醚条件:1)Me 2SO 4/NaOH,Bu 4N +I -2)CH 2N 2/硅酸 0-10℃3)CH 2N 2/HBF 4,CH 2Cl 2,Et 3N,25℃4)CH 3I/固体KOH,DMSO 20℃5)(MeO)2POH/催化剂TSOH,90-100℃ 12h 6)MeO +BF 4-7)CH 3I-Ag 2O醚化条件例:OH+Me 2SO 4NaOHMeOSO 3Na+OCH3CH 2N 2+RCH 2OH RO -RCH 2OCH 3R 2CN 2ArOHR 2CHOAr CH 2N 2ROHHBF 4ROCH 3+++N 2特别是酚羟基一般用MeO -醚保护,反应容易,解脱也容易,醇羟基形成甲醚较稳定,不以脱掉,故少用,在糖类化合物中羟基的保护勿用形成醚。

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H
CH3COOH / H2O
(脲核苷)
O HOCH2 O NH N H OCH2Ph
(保护)
O
( 脱保)
OCH2Ph
PhCH2O
O HOCH2 Pd _ c / H2 O
NH N H
O
+
H PhCH2O
( 脱保)
H OH OH
PhMe
例:DHP(二氢吡喃作保护剂)
OH (1) DHP / TsOH OTHP N2CH2COOEt OTHP (1) LiAlH4 (2) CrO3 COOEt CHO OTHP
第三章、官能团的保护
第一节: 羟基的保护(醇、酚羟基的保护)
一、醚化保护
保护剂:(C6H5)3C-Cl、【保护伯醇】; C6H5CH2Cl【保护仲醇】等
例:
HOCH2 O O NH N H OH OH O O (Ph)3COCH2 O (Ph)3CCl / Py _ PhCH2Cl / OH H NH N H O
COOH HO Ph3P(CH2)4COOH PhLi OSi(CH3)3 OH CH2OCH2Ph HO CH3COOH / H2O CH2OCH2Ph
COOH
酚羟基醚化保护:
例:
(1)
HO N N PhCH2Cl / Py Zn / NaOH PhCH2O NH NH
(2)
(N-对羟基偶氮苯)
第二节:烯键的保护
(1)二卤化 , (2)环氧化
例:甾族化合物的合成
OH O O
O CH 3CO
(1) Br2 (2)K2Cr 2O7
O CH3CO Br Br
(1) Zn, CH3 COOH
(2) H2 O, OH--
HO
O MCPBA CHCl3 O (1) 3, CH2Cl2 (2) Zn-NaI 脱保 O
例:
O O (CH3)3SiCl / DMF CH2OCH2Ph OH O O (i_ C4H9)2AlH PhMe CH2OCH2Ph OSi(CH3)3 OH
(正丁基氢化铝) O
HO
CHO CH2
CH2OCH2Ph OSi(CH3)3
CH2OCH2Ph OSi(CH3)3
(半缩醛不稳定,分解)
CH2CHCOOH NH2
+
NH2
Br
例:
COOCH3 OH (1) Ac2O _ (2)Me2SO4 /OH NH2 COOCH3 OCH3 (1) Cl2 / CH3COOH (2)(C2H5)2NCH2CH2NH2 Cl NHCOCH3 NHCOCH3 CONHCH2CH2NEt2 OCH3
CONHCH2CH2NEt2 Na2CO3 H2O Cl NH2 OCH3
OH CH2OH
(1)OH_
OCOCH3 CH2OCOCH3 C6H5CH2NHCH3 COCH2Br
OCOCH3 CH2OCOCH3
CH3 COCH2N CH2Ph
H2O
(2) Pt C H2 CHCH2NHCH3 OH
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
(舒喘灵)
例:
(1)Br2 CH2Cl2
PhCOCl HO COCH3 PhCOO
(环戊烯醇)
(四氢吡喃醚衍生物)
O
(Witting试剂) _ (1) Ph3P CHC5H11 n
(2) H3O+ (3) CrO3
_ CH CHC5H11 n
有机硅保护剂:氯硅烷
( CH3 )3 SiCl ( CH3)3C
CH3 Si CH3 Cl
(三甲基氯硅烷)
(叔丁基二甲基氯硅烷)
脱去保护基用酸水解
PhCH2O (1)n_ C4H9CH(COOEt)2 (2) EtONa (正丁基丙二酸二乙酯)
(保护-还原)
HO O N N O O Pd / C H2 N N O C4H9 _ C4H9 n(氢解,脱保)
用氯甲醚作醚化试剂保护酚羟基:
例: (吗啡代用品的合成)
HO CH3OCH2O HO
O
N CH3
例:
(1) O2N CH2CHCOOH NH2
O O
O
O2N
CH2CHCOOEt NHCO EtOOC
(2)EtOH /H+
(1)H2 , Pt /CaCO3 (2)CH2CH2 O
(HOCH2CH2)2N
CH2CHCOOEt NHCO EtOOC
(1) PCl5 (2) H3O+
(Cl CH2CH2) 2N
CH3OCH2Cl
O
N CH3
(1) Ph3PCH2 (2) CH3COOH
O
N CH3
O
O
CH2
(6-亚甲基二氢脱氧吗啡)
二、酯化保护:
保护剂一般有:
CH3COCl, PhCOCl, (CH3CO)2O, (CF3CO)2O, COCl2 , POCl3
例:舒喘灵的合成:
OH CH2OH (1) (CH3CO)2O (2) Br2, CH2Cl2 COCH3
-
H H C O
CHO
C C
COOCH2CCl3 C H O
H Zn /CH3COOH H C O
C C
COOH
(头胞金素)
C H O
第五节:胺基的保护-酰化或成盐
例如:
NH2 H2SO4 _ + NH3 HSO4 H2SO4+ HNO3
+ NH3 HSO4
_
NH2
_ OH NO 2
NO2
例如:
NH2 CH3COCl NHCOCH3 Br2 Br NHCOCH3 H3O
O
(2) H3O+
HO
例:(用乙二硫醇作保护剂,必须用Hg2+脱保)
SH O SH, H COOH (1) (2)CH3Li
O
O O
+
S S
O C CH3 (1)Ph3P CH2 ++ (2) Hg , H2O
O
CH2
O
C CH3
闭环
NaH
第四节:羧基的保护-酯化
例:
O2N CHCH2COOH NHCOCH3 (1) EtOH /H+ (2) Fe /HCl H2N CHCH2COOEt (1) O CH 3CO OH (2) SOCl2 NHCOCH3
CH3 COCH2N CH2Ph
(2)C6 H5CH2NHCH3 PhCOO COCH3
(1) OH- H2O (2)Pt C, H2 HO
OH CHCH2NHCH3
(氢解,脱苄基)
例:
OH OH (1) COCl2
OCH2CH CH2 O C O O CH2=CHCH2 (1) 190-210 C (2) OH--, H2O
目前,常用的醇保护剂有2,2,2-三氯乙醇:Cl3CCH2OH,如:
RCOOH + HOCH2CCl3 T sOH RCOOCH2CCl3 Zn RCOOH + CH2=CCl2 CH3COOH
如在头胞类药物合成中,其中间体头胞金素的合成:
CHO HOOC CHCHCOOH OHOH (1)HOCH2CCl3,TsOH 2 OHCCOOCH2CCl3 (2) HIO4 CH2 OH
0
OH OH OH
OH (2) CH2=CHCH2Br
(加热,Claison重排)
例:Vc的合成(利用缩醛、缩酮保护羟基)
CH2OH H O H H H OH OH OH H H O H OH HO CH2OH H OH (1)CH3COCH3/ H+ (2) NaOCl
O O
H H H O
O O
MCPBA:(间氯过氧苯甲酸)
第三节:羰基的保护(用醇保护)
例:
O O O H (1)HCl / CH3OH
CHO
CH(OCH3) 2
HO
CH(OCH3) 2
CH3MgBr
(2)
HO
H3O
+
CHO
例: 甾族化合物的合成
O OH (1) H+ OH
O O (1) LiAlH4 O
(2) PhCOOOH
COOH
OH
(1)H2 / Ni HO 2 CH (2) _ Cat . O
2
(菌催化)
H
O
H
HO
OH
H3 O
CH2
+
(开环) Open the ring
COOH O C H C OH H C OH HO C H CH2OH
CH2OH CHOH O H HO O OH
COOH
OH
H
HO
(半缩醛)
( Vc)
(ClCH2CH2)2N
CHCH2COOEt H3O (ClCH2CH2)2N NHCOCH3
+
CHCH2COOH NH2
CH2COOBu - t
例:
N H
CH2COOH (1) t CH3 (2)
_BuOH /DCC,ZnCl
COCl
2
Cl
, NaH
N C O
CH3
Cl
CH2COOH o 210 C H2O Cl N C O CH3
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