氧化铝和氮化铝基板强度

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氮化铝陶瓷

氮化铝陶瓷

氮化铝陶瓷氮化铝陶瓷氮化铝陶瓷AlNF 系列 (Aluminium Nitride Ceramic)结构结构氮化铝陶瓷AlNF 系列是以氮化铝(AIN)为主晶相的陶瓷。

AIN 晶体以〔AIN4〕四面体为结构单元共价键化合物,具有纤锌矿型结构,属六方晶系。

化学组成 AI 65.81%,N 34.19%,比重3.261g/cm3,白色或灰白色,单晶无色透明,常压下的升华分解温度为2450℃。

为一种高温耐热材料。

热膨胀系数(4.0-6.0)X10(-6)/℃。

多晶AIN 热导率达260W/(m.k),比氧化铝高5-8倍,所以耐热冲击好,能耐2200℃的极热。

此外,氮化铝具有不受铝液和其它熔融金属及砷化镓侵蚀的特性,特别是对熔融铝液具有极好的耐侵蚀性。

性能性能AIN 陶瓷的性能与制备工艺有关。

如热压烧结AIN 陶瓷,其密度为3 .2一3 .3g/cm3,抗弯强度350一400 MPa(高强型900 MPa),弹性模量310 GPa,热导率20-30W/m*K,热膨胀系数5.6x10(-6)K(-1)(25℃一400℃)。

机械加工性和抗氧化性良好。

应用应用1、氮化铝AlNF 系列粉末纯度高,粒径小,活性大,是制造高导热氮化铝陶瓷基片的主要原料。

2、氮化铝陶瓷基片,热导率高,膨胀系数低,强度高,耐高温,耐化学腐蚀,电阻率高,介电损耗小,是理想的大规模集成电路散热基板和封装材料。

3、氮化铝硬度高,超过传统氧化铝,是新型的耐磨陶瓷材料,可用于磨损严重的部位.4、利用AIN 陶瓷耐热耐熔体侵蚀和热震性,可制作GaAs 晶体坩埚、Al 蒸发皿、磁流体发电装置及高温透平机耐蚀部件,利用其光学性能可作红外线窗口。

氮化铝薄膜可制成高频压电元件、超大规模集成电路基片等。

5、氮化铝耐热、耐熔融金属的侵蚀,对酸稳定,但在碱性溶液中易被侵蚀。

AIN 新生表面暴露在湿空气中会反应生成极薄的氧化膜。

利用此特性,可用作铝、铜、银、铅等金属熔炼的坩埚和烧铸模具材料。

七大方面解析氮化铝陶瓷基板的分类和特性

七大方面解析氮化铝陶瓷基板的分类和特性

七大方面解析氮化铝陶瓷基板的分类和特性氮化铝陶瓷基板在大功率器件模组,航天航空等领域备受欢迎,那么氮化铝陶瓷基板都有哪些种分类以及氮化铝陶瓷基板特性都体现在哪些方面?一,什么是氮化铝陶瓷基板以及氮化铝陶瓷基板的材料氮化铝陶瓷基板是以氮化铝(AIN)为主晶相的陶瓷基板,也叫氮化铝陶瓷基片。

热导率高,膨胀系数低,强度高,耐高温,耐化学腐蚀,电阻率高,介电损耗小,是大功率集成电路和散热功能的重要器件。

二,氮化铝陶瓷基板分类1,按电镀要求来分氮化铝陶瓷覆铜基板(氮化铝覆铜陶瓷基板),旨在氮化铝陶瓷基板上面做电镀铜,有做双面覆铜和单面覆铜的。

2,按应用领域分LED氮化铝陶瓷基板(氮化铝led陶瓷基板),主要用于LED大功率灯珠模块,极大的提高了散热性能。

igbt氮化铝陶瓷基板,一般用于通信高频领域。

3,按工艺来分氮化铝陶瓷基板cob(氮化铝陶瓷cob基板),主要用于Led倒装方面。

dpc氮化铝陶瓷基板,采用DPC薄膜制作工艺,一般精密较高。

dpc氮化铝陶瓷基板(AlN氮化铝dbc陶瓷覆铜基板),是一种厚膜工艺,一般可以实现大批量生产。

氮化铝陶瓷基板承烧板3,按地域分有的客户对特定的氮化铝陶瓷基板希望是特定地域的陶瓷基板生产厂家,因此有了:日本氮化铝陶瓷基板氮化铝陶瓷基板台湾氮化铝陶瓷基板成都福建氮化铝陶瓷基板东莞氮化铝陶瓷基板台湾氮化铝陶瓷散热基板氮化铝陶瓷基板珠海氮化铝陶瓷基板上海4,导热能力来分高导热氮化铝陶瓷基板,导热系数一般较高,一般厚度较薄,一般导热大于等于170W的。

氮化铝陶瓷散热基板,比氧化铝陶瓷基板散热好,大于等于50W~170W.三,氮化铝陶瓷基板特性都有哪一些?1,氮化铝陶瓷基板pcb优缺点材料而言:陶瓷基板pcb是陶瓷材料因其热导率高、化学稳定性好、热稳定性和熔点高等优点,很适合做成电路板应用于电子领域。

许多特殊领域如高温、腐蚀性环境、震动频率高等上面都能适应。

氮化铝陶瓷基板,热导率高,膨胀系数低,强度高,耐高温,耐化学腐蚀,电阻率高,介电损耗小,是理想的大规模集成电路散热基板和封装材料。

氧化铝和氮化铝基板强度

氧化铝和氮化铝基板强度

氧化铝和氮化铝基板强度
氧化铝和氮化铝基板是两种常见的材料,它们在工业生产和科学研究中都有广泛的应用。

其中,氧化铝基板是一种高温陶瓷材料,具有优异的耐热性、耐腐蚀性和机械强度;而氮化铝基板则是一种高性能陶瓷材料,具有优异的机械强度、热导率和耐磨性。

本文将从氧化铝和氮化铝基板的强度方面进行探讨。

氧化铝基板的强度主要受其晶体结构和制备工艺的影响。

氧化铝基板的晶体结构为六方最密堆积结构,具有高度的结晶度和均匀的晶粒尺寸,这使得氧化铝基板具有较高的机械强度和硬度。

同时,氧化铝基板的制备工艺也对其强度有着重要的影响。

采用高温烧结工艺可以使氧化铝基板的晶粒尺寸更加均匀,晶界更加致密,从而提高其强度和硬度。

此外,氧化铝基板的强度还受其纯度、密度和晶界结构等因素的影响。

相比之下,氮化铝基板的强度更加突出。

氮化铝基板的晶体结构为六方晶系,具有高度的结晶度和均匀的晶粒尺寸,这使得氮化铝基板具有较高的机械强度和硬度。

同时,氮化铝基板的制备工艺也对其强度有着重要的影响。

采用高温烧结工艺可以使氮化铝基板的晶粒尺寸更加均匀,晶界更加致密,从而提高其强度和硬度。

此外,氮化铝基板的强度还受其纯度、密度和晶界结构等因素的影响。

总的来说,氧化铝和氮化铝基板都具有较高的机械强度,但是氮化铝基板的强度更加突出。

在实际应用中,我们需要根据具体的需求
选择合适的基板材料,以达到最佳的效果。

ALN(氮化铝)陶瓷基片主要性能指标

ALN(氮化铝)陶瓷基片主要性能指标

ALN(氮化铝)陶瓷基片主要性能指标
ALN(氮化铝)陶瓷基片主要性能指标
Technical factors of Aluminum Nitride substracts
ALN(氮化铝)陶瓷基片产品图
ALN(氮化铝)陶瓷干压片产品图
氮化铝陶瓷基片外观缺陷指标
Aluminum Nitride Ceramic Substrates Surface Inperfection Criteria
项目Item
标准Acceptance criteria
粘粒Burrs:
多余物质的碎片,或者粘附于表面的外来物质Fragment of excess material or foreign particle adhering to the surface 直径None≤0.5mm Diameter 高度None≤0.025mm High
凹坑,针孔,斑点Holes, Pits, and Pocks:形成空洞或印迹明显
Detectable trace or void 凹坑Holes:直径None≤0.25mm Diameter; 深度None≤0.18mm Depth
针孔Pits:直径None≤0.2mm Diameter
斑点Pocks:直径None≤0.3mm Diameter
瓷疱Blisters:
气泡或包含气体破裂后在表面形成的坑、点或孔
Bubble or pore inclusion at the surface which
if broken could form a pit, pock or hole
高度None≤0.025mm。

氧化铝基板的屈服强度

氧化铝基板的屈服强度

氧化铝基板的屈服强度
氧化铝基板是一种常见的材料,具有很高的屈服强度。

屈服强度是指材料在受到外力作用下,开始发生塑性变形的最大应力值。

氧化铝基板的屈服强度通常在200-400MPa之间,这使得它成为许多工业应用中的理想材料。

氧化铝基板的高屈服强度主要归功于其特殊的晶体结构和化学成分。

氧化铝基板的晶体结构是六方最密堆积结构,这种结构具有非常高的密度和强度。

此外,氧化铝基板的化学成分中含有大量的氧化铝,这种化合物具有非常高的硬度和耐磨性,能够有效地抵抗外界的损伤和磨损。

氧化铝基板的高屈服强度使得它在许多领域中得到广泛应用。

例如,在电子行业中,氧化铝基板被用作半导体器件的基板,因为它能够承受高温和高压的环境,同时具有良好的导电性和绝缘性。

在航空航天领域中,氧化铝基板被用作飞机和火箭的结构材料,因为它能够承受极端的温度和压力,同时具有轻质和高强度的特点。

在医疗领域中,氧化铝基板被用作人工关节和牙科种植体的材料,因为它能够与人体组织良好地结合,同时具有良好的生物相容性和耐腐蚀性。

氧化铝基板的高屈服强度使得它成为许多工业应用中的理想材料。

随着科技的不断发展,氧化铝基板的应用领域将会越来越广泛,为人类的生产和生活带来更多的便利和创新。

氮化铝陶瓷基板生产制作流程和加工制造工艺

氮化铝陶瓷基板生产制作流程和加工制造工艺

氮化铝陶瓷基板生产制作流程和加工制造工艺氮化铝陶瓷基板相对于氧化铝套基板而氧,机械强度和硬度增加,相应的导热率比氧化铝陶瓷基板更高。

氮化铝陶瓷基板生产制作难度增加,加工工艺也有所不同。

今天小编主要是讲述一下氮化铝陶瓷基板生产制作流程和加工制造工艺。

一,氮化铝陶瓷基板生产制作流程1,氮化铝陶瓷基板生产制作过程氮化铝陶瓷基板生产制作流程,大致和陶瓷基板的制作流程接近,需要做烧结工艺,厚膜工艺,薄膜工艺因此具的制作流程和细节有所不同。

氮化铝陶瓷基板制作流程详见文章“关于氧化铝陶瓷基板这个八个方面你知道几个?”2,氮化铝陶瓷基板研磨氮化铝陶瓷电路板的制作流程是非常复杂的,第一步就是氮化铝陶瓷电路板的表面处理,也叫作研磨,其作用是去除其表面的附着物以及平整度的改善。

众所周知,氮化铝陶瓷基板会比氧化铝陶瓷电路板的硬度高很多,遇到比较薄的板厚要求的时候,研磨就是一个非常难得事情了,要保证氮化铝陶瓷电路板不会碎裂,还要达到尺寸精度和表面粗糙度的要求,需要专业的人操作。

不同的研磨方式对氮化铝陶瓷电路板的平整度、生产率、成品率的影响都是很大的,而且后续的工序是没办法提高基材的几何形状的精度。

所以氮化铝陶瓷电路板的制作选用的都是离散磨料双面研磨,对于生产企业来讲整个工序的成本会提升很多,但是为了使客户得到比较完美的氮化铝陶瓷电路板。

另外研磨液是一种溶于水的研磨剂,能够很好的做到去油污,防锈,清洁和增光效果,所以可以让氮化铝陶瓷电路板超过原本的光泽。

然而如今国内市场上的一些氮化铝陶瓷电路板仍旧不够完美,例如产品的流痕问题,是困扰氮化铝陶瓷电路板加工行业的难题。

主要还是没有办法达到比较好的成本控制和生产工艺。

3,氮化铝陶瓷基板切割打孔金瑞欣特种电路采用是激光切割打孔,采用激光切割打孔的优点:●采用皮秒或者飞秒激光器,超短脉冲加工无热传导,适于任意有机&无机材料的高速切割与钻孔,小10μm的崩边和热影响区。

●采用单激光器双光路分光技术,双激光头加工,效率提升一倍。

氮化铝陶瓷基板的性能参数和应用范围

氮化铝陶瓷基板的性能参数和应⽤范围氮化铝陶瓷基板在⾼功率器件、半导体、⼤功率模组等领域⼴泛应⽤,就因为氮化铝陶瓷基板的优越特性,今天⼩编就来阐述⼀下氮化铝陶瓷基板的性能参数和应⽤范围。

⼀,氮化铝陶瓷基板的基础特性和性能参数1,氮化铝陶瓷基板特性氮化铝陶瓷基板导热率很⾼,是氧化铝陶瓷基板导热率的5倍,晶体是AIN,硬度强,绝缘性好,耐⾼温和耐腐蚀。

2,氮化铝陶瓷基板热导率(导热系数)氮化铝陶瓷基板的热导率(导热系数)⼤于等于170W/m.k,氮化铝陶瓷基板的热导率是氧化铝陶瓷基板、氮化硅陶瓷基板所不能及的。

3,氮化铝陶瓷基板多⼤尺⼨氮化铝陶瓷基板没有FR4板可以做到很长很⼤,尺⼨相对⽐较⼩,⼀般氮化铝陶瓷基板板料的最⼤尺⼨是110mm*140mm,氮化铝陶瓷基板属于陶瓷基,容易碎,做太⼤太长不符合基材的性质特点。

4,氮化铝陶瓷基板能耗和热膨胀系数氮化铝陶瓷基板介电损耗很低,在0.0002,加上热膨胀系数也很低(4.6~5.2),介电损耗⼩,能耗⼩,耐⾼温耐腐蚀,经久耐⽤。

5,氮化铝陶瓷基板介电常数氮化铝陶瓷基板介电常数⼀般在9.0,⽐氧化铝陶瓷基板介电常数低0..8,介电常数低,意味着品质更优。

6,氮化铝陶瓷基板抗弯强度抗弯强度,是指材料抵抗弯曲不断裂的能⼒,主要⽤于考察陶瓷等脆性材料的强度。

氮化铝陶瓷基板的折弯强度是450Mpa,氧化铝陶瓷基板折弯强度是400Mpa,意味着氮化铝陶瓷基板能够承受更多的压⼒和张⼒。

7,氮化铝陶瓷基板硬度和断裂韧性材料抵抗其它硬物压⼊引起凹陷变形的能⼒。

常⽤的硬度单位有布⽒硬度(HB或BHN),维⽒硬度(Hv或VHN),洛⽒硬度(HRA、HRC或RHN)奴⽒硬度(HK或KHN)。

材料的表⾯硬度是其强度、⽐例极限、韧性、延展性及抗磨损、抗切割能⼒等多种性质综合作⽤的结果。

氮化铝陶瓷基板的断裂韧性是3.0Mpa m1/2。

8,氮化铝陶瓷基板的脆性和颜⾊、表⾯粗糙度氮化铝陶瓷基板的脆性较⾼,虽然⽐氧化铝陶瓷基板硬度更强⼀些,氧化铝陶瓷基板板材是⽩⾊的,氮化铝陶瓷基板呈灰⽩⾊。

从基材性能告诉你氮化铝和氧化铝陶瓷基板工艺有什么不同

从基材性能告诉你氮化铝和氧化铝陶瓷基板工艺有什么不同氮化铝陶瓷基板和氧化铝陶瓷基板都同属于陶瓷基板,他们的制作工艺大致是一样的,都有都才可以采用薄膜工艺和厚膜工艺,DBC工艺、HTCC工艺和LTCC工艺,那么不同的什么呢?氮化铝和氧化铝陶瓷基板工艺的不同主要是因为基材的性能和结构决定了,他们烧结温度的不同。

氮化铝陶瓷基板的结构和性能原理:1、氮化铝陶瓷(Aluminium Nitride Ceramic)是以氮化铝(AIN)为主晶相的陶瓷。

2、AIN晶体以〔AIN4〕四面体为结构单元共价键化合物,具有纤锌矿型结构,属六方晶系。

3、化学组成AI65.81%,N34.19%,比重3.261g/cm3,白色或灰白色,单晶无色透明,常压下的升华分解温度为2450℃。

4、为一种高温耐热材料。

热膨胀系数(4.0-6.0)X10(-6)/℃。

5、多晶AIN热导率达260W/(m.k),比氧化铝高5-8倍,所以耐热冲击好,能耐2200℃的极热。

6、此外,氮化铝具有不受铝液和其它熔融金属及砷化镓侵蚀的特性,特别是对熔融铝液具有极好的耐侵蚀性。

氧化铝陶瓷基板的结构和性能:1、氧化铝陶瓷是一种以氧化铝(Al2O3)为主体的陶瓷材料,用于厚膜集成电路。

2、氧化铝陶瓷有较好的传导性、机械强度和耐高温性。

需要注意的是需用超声波进行洗涤。

3、氧化铝陶瓷是一种用途广泛的陶瓷,因为其优越的性能,在现代社会的应用已经越来越广泛,满足于日用和特殊性能的需要。

对比可知:氮化铝和氧化铝陶瓷基板工艺的最大区别主要是烧结温度的区别。

氮化铝陶瓷基板是氧化铝陶瓷基板5-8倍,能耐2200℃的极的级热,导热可达260W/(m.k),氧化铝陶瓷基板导热一般在30W/(m.k)左右,好的可以做到50W/(m.k).氮化铝陶瓷陶瓷可以加工更加精密的线路,耐高温,更耐压,制作工艺相对氧化铝陶瓷基板而已烧结的温度把控是不一样的。

如果是一个需要用氮化铝陶瓷基板的高精密线路板,用氧化铝陶瓷基板来替代,那肯定会造成基材大量的耗费,制作的难度增加,良品率和低。

一文看氮化铝的性质用途

一文看氮化铝的性质用途氮化铝是共价键化合物,属于六方晶系,纤锌矿型的晶体结构,呈白色或灰白色。

物理性质密度:3.26熔点:>2200 ℃(lit.)性状:powder溶解性:MAY DECOMPOSE(氮化铝粉末)化学性质室温强度高,且强度随温度的升高下降较慢。

导热性好,热膨胀系数小,是良好的耐热冲击材料。

具有优异的抗热震性。

AlN的导热率是Al2O3的2~3倍,热压时强度比Al2O3还高。

氮化铝对Al和其他熔融金属、砷化镓等具有良好的耐蚀性,尤其对熔融Al液具有极好的耐侵蚀性,还具有优良的电绝缘性和介电性质。

但氮化铝的高温抗氧化性差,在大气中易吸潮、水解,和湿空气、水或含水液体接触产生热和氮并迅速分解。

在2516℃分解,热硬度很高,即使在分解温度前也不软化变形。

氮化铝和水在室温下也能缓慢地进行反应,而被水解。

和干燥氧气在800℃以上进行反应。

生产方法1.将氨和铝直接进行氮化反应,经粉碎、分级制得氮化铝粉末。

或者将氧化铝和炭充分混合,在电炉中于1700℃还原制得氮化铝。

2.将高纯度铝粉脱脂(用乙醚抽提或在氮气流中加热到150℃)后,放到镍盘中,将盘放在石英或瓷制反应管内,在提纯的氮气流中慢慢地进行加热。

氮化反应在820℃左右时发出白光迅速地进行。

此时,必须大量通氮以防止反应管内出现减压。

这个激烈的反应完毕后,在氮气流中冷却。

由于产物内包有金属铝,可将其粉碎,并在氮气流中于1100~1200℃温度下再加热1~2h,即得到灰白色氮化铝。

另外,将铝在1200~1400℃下蒸发气化,使其与氮气反应即得到氮化铝的须状物(金属晶须)。

此外,也有将AlCl3·NH3加成物进行热分解的制法。

3.直接氮化法将氮和铝直接进行氮化反应,经粉碎、分级制得。

氮化铝产品质量受反应炉温、原料的预混合以及循环氮化铝粉末所占的混合比例、氮化铝比表面积等条件的影响。

因此需严格控制工艺过程,得到稳定特性的氮化铝粉末(如比表面积、一次粒径、凝聚粒径、松密度和表面特性等)。

氧化铝陶瓷材料中氮化处理对性能的影响与优化

氧化铝陶瓷材料中氮化处理对性能的影响与优化氧化铝陶瓷是一种具有优异性能的陶瓷材料,具有高温稳定性、高硬度、低导热性等特点,在航空航天、化工、电子等领域有着广泛的应用。

然而,氧化铝陶瓷的性能仍然有待进一步提高,因此研究新的改性方法是十分必要的。

氮化处理是一种常见的改性方法,能够改善氧化铝陶瓷的力学性能、导热性能和化学稳定性等方面的性能。

首先,氮化处理可以显著提高氧化铝陶瓷的硬度。

氮化处理通常是将氧化铝陶瓷置于高温氮气中,使氮气中的氮原子渗透到陶瓷材料表面,并与氧化铝反应生成氮化铝。

氮化铝具有较高的硬度,能够显著提高氧化铝陶瓷的硬度。

研究表明,经过氮化处理后的氧化铝陶瓷的硬度可以提高20%以上,使其更适用于一些对硬度要求较高的应用领域。

其次,氮化处理可以改善氧化铝陶瓷的导热性能。

氮化铝具有较高的导热系数,接近于金属材料。

通过氮化处理,可以在氧化铝陶瓷的表面形成导热性能更好的氮化铝层,提高整体陶瓷材料的导热性能。

研究表明,经过氮化处理后的氧化铝陶瓷的导热系数可以提高30%以上,使其适用于一些对导热性能要求较高的应用领域,如热导片、散热器等。

此外,氮化处理还可以提高氧化铝陶瓷的化学稳定性。

氮化铝具有较高的化学稳定性,能够抵抗酸、碱等强腐蚀性介质的侵蚀。

经过氮化处理后的氧化铝陶瓷的化学稳定性可以得到显著提高,使其在强腐蚀环境下仍然能够保持较好的性能。

这对于一些特殊环境下的应用领域,如化工设备、气体分离膜等具有重要意义。

总的来说,氮化处理对氧化铝陶瓷材料的性能有着显著的影响,并且在提高硬度、导热性能和化学稳定性方面具有优势。

然而,氮化处理的最佳条件还需要进一步研究和优化。

例如,氮化处理的温度、时间以及氮气流量等影响氮化效果的参数需要进行系统的实验研究,以找到最佳的处理条件。

此外,还可以结合其他改性方法,如添加适量的陶瓷颗粒增强材料等,进一步提高氧化铝陶瓷的性能。

总之,氮化处理是一种有效的提高氧化铝陶瓷性能的方法,可以提高硬度、导热性能和化学稳定性等方面的性能。

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氧化铝和氮化铝基板强度
氧化铝和氮化铝基板是目前应用领域较广的基板材料之一,它们的特
性在许多方面都有所不同,其中强度是最受关注的一个方面。

一、氧化铝基板的强度
1.1 优点
氧化铝基板的强度是很不错的,因为它具备良好的韧性。

这种材料不
仅抗压性能好,还能抵抗弯曲和撕裂等各种力量。

1.2 缺点
然而,虽然氧化铝基板强度很高,但它的热稳定性和抗腐蚀能力比较差,这个缺点限制了它在某些需要更高温度或更恶劣环境下使用的场合。

二、氮化铝基板的强度
2.1 优点
相比之下,氮化铝基板的强度更强,因为它拥有极高的硬度。

这种基
板材料能够承受更大强度的载荷,甚至能够在极端的环境下保持稳定性。

2.2 缺点
然而,氮化铝基板的缺点是易碎性高,对于一些大面积的制造难度比
较大。

此外,相对于氧化铝基板,氮化铝基板的制造成本也相对更高。

三、结论
总之,在选择基板材料的时候,不同的应用需求和制造难度都需要考虑。

如果需要高强度和良好韧性,可以考虑选择氧化铝基板;而如果要求更高的硬度和稳定性,就需要使用氮化铝基板。

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