单层MoS_2分子掺杂的第一性原理研究_刘俊
基于第一性原理的MoS2体系能带结构研究

1引言2005年,K.S.Novoselov等研究者为了更好地描述石墨烯和类石墨烯材料的二维结构,提出了二维原子晶体概念。
二维原子晶体是通过原子间的共价键结合在一起的单原子层材料或者少数原子层的材料,当层间存在耦合作用力时,该体系为标准二维材料。
MoS2体材料的层状结构与石墨非常类似,所以其具有石墨的润滑功能,也可以通过机械剥离得到单层的MoS2[1]。
层状MoS2是一种类石墨烯材料,它和石墨烯等二维结构的一个共性是其三维母体材料的层间存在非常弱的范德瓦尔斯力,且结构各向异性,其层内原子通过强烈的共价键结合在一起。
单层MoS2材料由于其本身就具有较大的直接带隙,相较于零带隙的石墨烯,具有更优越的能带结构,是良好的层状半导体材料,可以被用来构造具有低功率消耗的带间遂穿场效应晶体管,在电磁学以及电子器件等方面都有很广阔的应用前景。
2MoS2简介自然界中的二硫化钼(MoS2)主要有三种常见的晶体结构,基于第一性原理的MoS2体系能带结构研究Research on the Electronic Band Structure of MoS2System Based on the First Principle孙金芳(安徽信息工程学院,安徽芜湖241000)SUN Jin-fang(Anhui Institute ofInformation Technology,Wuhu241000,China)【摘要】MoS2作为一种典型的层状二维半导体材料,因其存在直接带隙,所以其能带结构优于石墨烯,在电磁学和电子器件等科学技术领域都有很好的应用价值。
论文基于第一性原理,采用castep软件,计算了不同层数MoS2的能带结果。
结果表明,随着层数的减少MoS2从间接带系转变为直接带系半导体,单层MoS2直接带隙宽度约1.8eV。
这一结果为MoS2在晶体管制造、分子传感器等领域的广泛应用提供了理论基础。
【Abstract】As a typical layered two-dimensional semiconductor material,MoS2has direct band gap,its band structure is superior to graphene, soithasgood applicationvalueinthefieldsofelectromagneticsandelectronic devices.Based on the first principle,this paper usescastep software to calculate the band results of different layers of MoS2.The results show that with the decrease of the number of layers,MoS2changes from the indirect band system to the direct band semiconductor,and the width of the direct band gap of the single layer MoS2is about1.8eV.This result providesatheoretical basis forthe wide applicationofMoS2inthefieldsoftransistormanufacturingandmolecularsensors.【关键词】第一性原理;MoS2;能带;二维材料【Keywords】first principle;MoS2;energyband;two-dimensionalmaterial【中图分类号】U283.5【文献标志码】A【文章编号】1673-1069(2018)04-0160-02【基金项目】安徽省教育厅自然科学项目(KJ2016A073)(KJ2016A070)。
过渡金属掺杂的g-GaN吸附Cl_(2)和CO气体分子的第一性原理研究

过渡金属掺杂的g-GaN吸附Cl_(2)和CO气体分子的第一性
原理研究
田双林;高廷红;刘玉涛;陈茜;谢泉;肖清泉;梁永超
【期刊名称】《无机化学学报》
【年(卷),期】2024(40)6
【摘要】基于密度泛函理论的第一性原理计算,系统研究了类石墨烯氮化镓(g-GaN)和掺杂过渡金属原子(TM)的g-GaN对Cl_(2)和CO气体分子的吸附行为。
结果表明,Cl_(2)和CO在本征g-GaN上的吸附均为物理吸附,2个体系的吸附能均为正值,表明体系不稳定。
相反,Cl_(2)和CO在Fe和Co掺杂的g-GaN上吸附时的吸附能为负值,且吸附能较小,表明吸附体系稳定。
通过分析态密度、电荷密度差和能带结构等性质,可以得出结论:过渡金属原子的引入能有效增强气体分子与g-GaN之间的相互作用。
【总页数】12页(P1189-1200)
【作者】田双林;高廷红;刘玉涛;陈茜;谢泉;肖清泉;梁永超
【作者单位】贵州大学大数据与信息工程学院新型光电子材料与技术研究所
【正文语种】中文
【中图分类】O474;O483;O614.371
【相关文献】
1.4d过渡金属掺杂石墨烯对HCN吸附行为的第一性原理研究
2.第一性原理研究气体小分子吸附的石墨烯负载金属原子体系
3.非金属N和过渡金属(Mo,Ru,Rh,Pd)
掺杂SnO_(2)磁性的第一性原理研究4.Y掺杂空位石墨烯对NO及CO气体表面吸附的第一性原理研究5.金属Sc修饰Ti_(2)CO_(2)吸附气体分子的第一性原理研究
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【国家自然科学基金】_mos_2_基金支持热词逐年推荐_【万方软件创新助手】_20140801

推荐指数 2 2 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1
2010年 序号 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30
科研热词 边界润滑 mos2 固-液复合润滑 自修复作用 聚四氟乙烯 粉末冶金 等离子体喷涂 空心球 磨损 环氧树脂 热分析 润滑膜 水热法 摩擦磨损性能 摩擦磨损 摩擦材料 摩擦性能 摩擦学性能 摩擦因数 摩擦 形成机理 尼龙1010复合材料 复合润滑涂层 复合材料 固体润滑剂 固体-油脂复合润滑 同化动力学 二硫化钼 ni60a/mos2 mos2膜
推荐指数 3 3 2 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1
2011年 序号 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25
科研热词 磁控反应溅射 摩擦磨损性能 二硫化钼 阳极氧化铝模板 花状mos_2纳米粉 自润滑 组织结构 组织 磨损率 球形 激光熔覆 液相沉淀-氢还原法 水热法 无机非金属材料 摩擦系数 摩擦性能 摩擦学性能 感应加热烧结 单分散 tin mos2薄膜 mos2纳米管 mos2/ti/c薄膜 mos2/cu-fe基高温自润滑复合材料 mos2
推荐指数 2 2 2 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1
2012年 序号 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37
1t mos2 s空位形成能

1t mos2 s空位形成能1t MoS2的S空位形成能引言:1t MoS2是一种具有广泛应用前景的二维材料,其特殊的结构和性质使其在能源、催化、电子器件等领域具有重要的应用价值。
在1t MoS2中,S空位是一种常见的缺陷,对其形成能进行研究可以更好地理解材料的性质和应用潜力。
1. 1t MoS2的结构和性质1t MoS2是一种由Mo和S原子组成的二维材料,具有层状结构。
每一层由一个Mo原子层和两个S原子层交替排列而成,层与层之间由范德华力相互作用。
这种结构使得1t MoS2具有良好的机械柔韧性和优异的电子传输性能。
此外,1t MoS2还具有优异的催化性能和光电特性,使其在能源和光电器件领域具有广泛的应用前景。
2. S空位形成S空位是1t MoS2中常见的缺陷之一,其形成可以通过不同的方法实现。
一种常用的方法是在1t MoS2晶体中引入硫空位,从而形成S空位。
这可以通过在生长过程中加入适量的硫原子来实现。
另一种方法是通过在1t MoS2晶体中进行高温处理或离子辐照来引入S 空位。
这些方法可以有效地形成S空位,并且可以控制空位的数量和位置。
3. S空位的影响S空位的引入对1t MoS2的性质和应用产生了重要影响。
首先,S空位会导致1t MoS2的晶格畸变和缺陷密度增加。
这些缺陷可以影响材料的力学性能、电子传输性能和催化性能。
其次,S空位还可以改变1t MoS2的能带结构和能级分布,从而影响材料的光电特性。
因此,了解S空位的形成能对于深入研究1t MoS2的性质和应用至关重要。
4. 形成能的计算方法为了研究S空位的形成能,可以使用第一性原理计算方法。
首先,需要构建包含S空位的1t MoS2晶体模型。
然后,通过计算晶体的总能量和无缺陷晶体的能量,可以得到S空位的形成能。
形成能越低,说明S空位的形成越稳定。
通过对不同位置和数量的S空位进行计算,可以得到S空位形成的能量变化规律。
5. 形成能的影响因素S空位的形成能受多种因素的影响。
二硫化钼催化裂解水析氢第一性原理研究

二硫化钼催化裂解水析氢第一性原理研究摘要:水解产氢作为一种可再生清洁能源,备受研究者的关注。
近年来,二硫化钼(NS_2)作为一种高效的水解催化剂备受关注。
本文采用第一性原理方法,系统研究了NS_2催化裂解水析氢的过程。
研究结果显示,水分子经过吸附后与NS_2的相互作用强度较弱,利用NS_2催化水分子裂解生成氢气的过程能够被有效地降低激活能。
此外,比对不同NS_2的性质,通过计算计算了不同NS_2结构对水解产氢的影响,并探讨了其机理。
本研究为NS_2在水解产氢领域的应用提供重要理论支撑。
关键词:二硫化钼;催化裂解水析氢;第一性原理;激活能;机理研究Abstract: Hydrogen production by water splitting has been widely studied as a renewable and clean energy source. Recently, molybdenum disulfide (NS_2) has attracted much attention as an efficient catalyst for water splitting. In this study, the process of hydrogen production by water splitting catalyzed byNS_2 was systematically investigated using the first-principles method. The results showed that the interaction between the water molecule and NS_2 was weak after adsorption. The activation energy for the water molecule to be catalytically decomposed intohydrogen gas using NS_2 was effectively reduced. In addition, the influence of different NS_2 structureson hydrogen production was calculated and the mechanism was discussed. This research provides important theoretical support for the application of NS_2 in the field of hydrogen production by water splitting.Keywords: Molybdenum disulfide; catalytic decomposition of water for hydrogen production; first-principles; activation energy; mechanism study1. 引言水解产氢是一种重要的清洁能源技术,其可以通过电解水的方式来产生氢气和氧气。
Se掺杂对单层MoS2电子能带结构和光吸收性质的影响

Se掺杂对单层MoS2电子能带结构和光吸收性质的影响李刚;陈敏强;赵世雄;李朋伟;胡杰;桑胜波;侯静静【期刊名称】《物理化学学报》【年(卷),期】2016(32)12【摘要】基于密度泛函理论的第一性原理方法,计算了Se掺杂单层MoS2能带结构和光吸特性,并分析了对其光解水性质的影响.结果表明:本征单层MoS2为直接带隙结构,禁带宽度为1.740 eV,导带底电位在H*/H2还原势之上0.430 eV,价带顶电位在OdH2O的氧化势之下0.080 eV,具有可见光催化分解水的能力,但氧化和还原能力不均衡,导致单层MoS2作为光催化剂分解水的效率不高.通过Se掺杂计算发现,单层MoS2的禁带宽度变为1.727 eV,相应的光吸收谱变化幅度几乎不变,且体系的形成能较低,表明其热力学稳定性良好.然而,导带底电位调整到HVH2还原势之上0.253 eV,价带顶电位处于OdH2O的氧化势之下0.244eV,平衡了氧化与还原能力,单层MoS2可见光催化分解水的效率得到提高.【总页数】8页(P2905-2912)【作者】李刚;陈敏强;赵世雄;李朋伟;胡杰;桑胜波;侯静静【作者单位】太原理工大学信息工程学院,新型传感器和智能控制系统教育部重点实验室微纳系统研究中心,太原030024;太原理工大学信息工程学院,新型传感器和智能控制系统教育部重点实验室微纳系统研究中心,太原030024;太原理工大学信息工程学院,新型传感器和智能控制系统教育部重点实验室微纳系统研究中心,太原030024;太原理工大学信息工程学院,新型传感器和智能控制系统教育部重点实验室微纳系统研究中心,太原030024;太原理工大学信息工程学院,新型传感器和智能控制系统教育部重点实验室微纳系统研究中心,太原030024;太原理工大学信息工程学院,新型传感器和智能控制系统教育部重点实验室微纳系统研究中心,太原030024;太原理工大学信息工程学院,新型传感器和智能控制系统教育部重点实验室微纳系统研究中心,太原030024【正文语种】中文【中图分类】O641;O646;O649【相关文献】1.Te掺杂单层MoS2的电子结构与光电性质 [J], 张昌华;余志强;廖红华2.单层MoS2(1-x)Se2x合金材料中硒原子的晶界择优掺杂和富集 [J], 吕丹辉;朱丹诚;金传洪3.Ag掺杂对单层MoS2的电子结构和光学性质影响 [J], 黄保瑞;张富春;杨延宁4.O、Se和Te掺杂对单层MoS_2电子能带结构和光学性质的影响 [J], 张耀予;肖岗;王鹤;林一歆5.外压调制对Cr-Se共掺杂单层MoS2光电特性的影响 [J], 范梦慧;蔡勋明;岑伟富;骆最芬;闫万珺;谢泉因版权原因,仅展示原文概要,查看原文内容请购买。
二维二硫化钼(MoS2)及应用

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MoS2
早在1986年,就有人通过插入锂的方法成功剥离出单层二硫化钼。 2007年,世界上第一支纳米二硫化钼晶体管在美国马里兰大学问世,但由于其迁移 率并不理想因而并未引起太多注意。 2011年,Kis教授实验组在上发表了自己利用单层二硫化钼成功制造晶体管的文章, 引起轰动。 2011年11月,该实验组又报道了世界上第一只二硫化钼集成电路的成功研制。他们 将两只二硫化钼晶体管集成在一起,实现了简单的“或非”运算。 2012年,美国的Liu实验组报导了采用原子层沉积工艺制作的场效应晶体管,他们在 Al2O3绝缘衬底上使用23层,总厚度为15nm的二硫化钼纳米片层材料,成功制造出 双栅MOSFET,迁移率达到517cm2/V· s,是最初的纳米二硫化钼晶体管迁移率的10 倍。 同年,日本东京大学的Zhang实验组利用离子液体作为栅极绝缘体,使用纳米二硫 化钼材料成功研制出了双极型晶体管,其空穴和电子导电的开关比均大于102,实现 了较高的空穴迁移率。
二维材料典型 代表:石墨烯
3
研究背景
制备石墨烯(graphene)之路
早期美国和日本的科学家试图分别利用硅片以及原子力显微镜的针尖在石 墨的表面摩擦获得单层的石墨烯,但是很可惜没有对产物进行细致的测量。 2005年,美国Kim Philip 等人通过铅笔的石墨笔芯划写表面,也成功地得 到了石墨薄片,但是这些薄片的最低层数只能够达到十层左右这个工作为 单层石墨烯实物的发现提供了一种可能,令人遗憾的是幸运之神并没有眷 顾他们。 利用石墨独特的层内强共价键结合而层间范德瓦尔斯弱相互作用的特点, 人们长期以来一直试图尝试把石墨这种层状材料分解为单个原子层。其中 化学剥离的方法可以将层状材料的各单位原子层有效分离,但是无法从剥 离后的胶状体中提取出孤立的二维晶体;化学剥离石墨的实验结果也表明, 其剥离产物是多个原子层的原子晶体堆垛而成。 英国曼彻斯特大学的K.S. Novoselov和A.K. Geim两位俄裔科学家利用最普 通的胶带在高定向热解石墨上反复剥离,最终首次从石墨中剥离出单个原 子层的基本层结构,即石墨烯。石墨烯的发现立即震撼了凝聚态物理界, 这一突破性进展为类石墨烯二维原子晶体的制备及其新奇量子效应研究开 拓了崭新的领域。
1T′-MoTe_(2)单层:一种有前景的电催化合成双氧水的催化剂

1T′-MoTe_(2)单层:一种有前景的电催化合成双氧水的催化剂孙晓旭;朱晓蓉;王彧;李亚飞【期刊名称】《催化学报》【年(卷),期】2022(43)6【摘要】在酸性介质中,氧气(O_(2))的电化学两电子氧还原反应(2e-ORR)是一种新兴的合成双氧水(H_(2)O_(2))的绿色方法.然而,目前该方法普遍依赖贵金属电催化剂,严重影响了其在工业上的大规模应用.与传统材料相比,二维材料具有超高比表面积和表面原子比率,这非常有利于其在催化领域的应用.实验和理论研究结果表明,以2H-MoS_(2)为代表的过渡金属二硫属化合物(TMDs)具有较强的电化学析氢性能.最近,有研究团队发现2H-MoTe_(2)在酸性介质中对O_(2)的电化学还原制H_(2)O_(2)具有较高的催化活性(Natl.Sci.Rev.,2020,7,1360‒1366),这也为2e-ORR催化剂的开发带来了新的机遇.然而与其他TMDs材料类似,2H-MoTe_(2)只有边缘原子具有催化活性,暴露最多的表面原子是催化惰性的,导致其催化效率受限.除常规2H相外,二维MoTe_(2)还有稳定的1T′相.由于1T′-MoTe_(2)单层是半金属特性的,因此它的电催化性能要优于半导体性质的2H-MoTe_(2).本文通过理论计算发现,1T′-MoTe_(2)的剥离能为0.45 J/m^(2),与2H-MoS_(2)的解离能相近,表明通过机械剥离或者液相剥离来制备1T′-MoTe_(2)单层结构是可行的.进一步计算了1T′-MoTe_(2)单层的声子谱,并对其进行了第一性原理分子动力学(FPMD)模拟.结果表明,1T′-MoTe_(2)单层的声子谱中没有虚频,并且其在整个FPMD模拟过程中都能保持良好的晶体结构,表明1T′-MoTe_(2)单层具有良好的动力学和热力学稳定性.中间体OOH*的吸附自由能(DGOOH*)是2e-ORR催化剂的活性描述符,本文发现1T′-MoTe_(2)单层的ΔGOOH*为4.24 eV,非常接近其催化活性理论最佳值(4.22 eV),优于PtHg4催化剂(4.28 eV).此外,采用微观动力学模拟的方法,对1T′-MoTe_(2)单层的2e-ORR催化性能进行了定性分析;通过求解反应物种的速率方程,得到了其2e-ORR极化曲线.根据模拟结果,1T′-MoTe_(2)单层的起始电压约为0.62 V,相当于80 mV的过电势.这个结果略优于最先进的PtHg4催化剂.进一步通过动力学分析研究了1T′-MoTe_(2)单层催化剂对2e-ORR的选择性,发现其生成H_(2)O_(2)步骤的动力学势垒远低于4e路径中生成O*和H_(2)O的动力学势垒.从动力学角度看,2e路径比4e路径更有利,因此1T′-MoTe_(2)单层对2e-ORR具有高的选择性.本研究为高效2e-ORR催化剂的设计提供了新思路.【总页数】7页(P1520-1526)【作者】孙晓旭;朱晓蓉;王彧;李亚飞【作者单位】南京师范大学化学与材料科学学院【正文语种】中文【中图分类】O64【相关文献】1.微波合成Pd/C和Pd2Pt/C电催化剂及其对甲酸氧化的电催化性能2.含硝基咔唑类有机电催化剂的合成及其对醇的电催化氧化3.一种新的共轭桥联双二茂铁衍生物的单层LB膜及其电催化效应4.过渡金属原子对掺杂g-CN单层作为高效氮电催化剂性能5.用于电催化氧还原制备双氧水的催化剂的研究进展因版权原因,仅展示原文概要,查看原文内容请购买。
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单层MoS2分子掺杂的第一性原理研究∗刘俊梁培†舒海波沈涛邢凇吴琼(中国计量学院光学与电子科技学院,杭州310018)(2014年1月25日收到;2014年2月27日收到修改稿)基于密度泛函理论的第一性原理平面波赝势方法的计算,研究了通过吸附不同有机分子对单层MoS2进行化学掺杂.计算结果表明有机分子与MoS2单层衬底间的相互作用主要是范德瓦尔斯作用力.吸附不同有机分子的单层MoS2结构均表现出间接带隙的特征,还表明吸附TTF分子的单层MoS2结构表现出n型半导体的特质,而吸附TCNQ,TCNE两种分子的单层MoS2结构均表现出p型半导体的性质,这些结果表明可以通过改变吸附的分子来实现对单层MoS2的掺杂类型的调控.本文的研究结果将对单层MoS2在晶体管中的应用提供理论基础和指导.关键词:MoS2,密度泛函理论,有机分子吸附,分子掺杂PACS:71.15.Mb,68.47.Pe,61.72.U–DOI:10.7498/aps.63.1171011引言近年来随着石墨烯[1−3]等二维层状纳米材料研究热潮的兴起,一类新型的二维层状化合物——类石墨烯二硫化钼引起了物理、化学、材料、电子等众多领域研究人员的广泛关注[4−7].类石墨烯蜂窝状二硫化钼单层结构是由六方晶系的单层二硫化钼组成的具有三明治夹心层状结构的准二维晶体结构:单层二硫化钼由三层原子层构成,中间一层为钼原子层,上下两层均为硫原子层,钼原子层被两层硫原子层所夹形成类三明治结构,钼原子与硫原子以共价键结合形成二维原子晶体;多层二硫化钼由若干单层二硫化钼组成,一般不超过五层,层间存在弱的范德华力,层间距约为0.65nm[8].单层二硫化钼(MoS2)[9]可以通过机械剥离的方法直接从它们母体材料中得到,由于量子尺寸效应的影响这些准二维纳米材料表现出许多优于块体材料的力学、电子、光学和化学性质[10].另外一方面,由于摩尔定律的限制,科学家在寻找下一代半导体材料时尤为关注低维纳米材料.作为一种电子性质优异的半导体材料,单层MoS2在电子器件领域的研究一直受到了广泛的关注[11]. Cao等研究了过渡金属V,Cr,Mn掺杂单层MoS2的电子结构、磁性和稳定性[12].在常规的半导体工艺中,一般采用掺杂的方式实现对半导体材料的p 型和n型掺杂以最终实现p-n结的制备,构建最好的电路逻辑单元.但是在低维材料中,尤其是二维材料中,常规的掺杂工艺会影响到载流子的输运效率,还会在在一定程度上破坏半导体材料结构,在掺杂缺陷位会产生载流子的散射.因此,寻求一种新的有效的掺杂方式,对于二维半导体纳米材料尤为重要.分子掺杂是一种利用表面吸附物中电子转移,实现对半导体进行掺杂的一种方式,在半导体纳米线[13],石墨烯材料[14−16]中已经得到了广泛的应用.最近Mouri等[17]通过有机分子吸附成功的在实验上实现了对层状MoS2的p型和n型掺杂.尽管如此,化学掺杂由于其复杂的吸附过程和材料之间的弱相互作用使得这种掺杂比起传统的掺杂而言更复杂,因此弄清楚化学掺杂的过程和相关的作用机理,对实现低维材料,尤其是二维材料的有∗国家自然科学基金(批准号:61006051,61177050),浙江省大学生科技创新活动计划(批准号:2013R409016)和浙江省科技厅公益技术应用研究(批准号:2013C31068)资助的课题.†通讯作者.E-mail:plianghust@©2014中国物理学会Chinese Physical Society 效化学掺杂有着重要的研究意义.本文采用密度泛函理论(DFT)研究了在MoS 2表面上几种有机分子吸附的形态,以及其对MoS 2单层的电子性质的影响,利用电荷转移理论和能带理论从机理上解释了不同有机分子和MoS 2单层结构的作用机理,最后阐明了不同有机分子的化学掺杂对于MoS 2准二维材料的电子性质的调节机理,为MoS 2的在晶体管领域的应用提供理论依据.2模型与计算方法本文采用基于密度泛函理论的第一性原理平面波赝势方法,利用VASP (vienna ab initio sim-ulation package)软件进行计算[18,19].计算中,交换关联能采用了广义梯度近似(GGA)的PBE 泛函[20],平面波截断能为350eV,电子-离子间相互作用采用投影缀加平面波方法(PAW)来描述[21].优化过程中,单个原子能量收敛精度为10−3eV,原子受力最大值0.01eV/Å,总能计算中采用Gamma 方案6×6×1的积分网格对布里渊区积分.TTFTCNQTCNEMoS 2C H NSMo图1(网刊彩色)单层MoS 2与所吸附有机分子的计算模型计算体系选取MoS 2单层结构,即无极性的(0001)面.为了避免不同的吸附分子之间的相互作用选取5×5×1共75个原子的超胞作为研究对象,为了避免MoS 2在z 轴方向的影响,在[001]方向加上18Å的真空层.为了实现有效的分子掺杂技术,本文选择了一种优异的电子给主Tetrathiafulvalene(TTF)和优异的电子受主Tetracyanoquinodimethane(TCNQ)和Tetra-cyanoethenide(TCNE)作为分子掺杂源,这三种分子在分子器件中已经得到了广泛的应用[22,23].MoS 2表面上吸附的有机分子分别为TTF,TCN-Q 和TCNE,如图1所示.建模过程基于有机分子的对称性和MoS 2的周期性,每种有机分子与衬底所对应的构型如图2所示,考虑到计算体系的稳定性,建模过程中只选取了和MoS 2(0001)面平行吸附的构型作为计算模型.对于三种不同的有机分子根据分子对称性,分别选择了TCNQ 的中心对应(a1)空位,(a2)Mo 原子位,(a3)S 原子位;(b1)—(b4)分别表示有机分子TTF 的中心C—C 键平行于S—Mo 键,垂直于S—Mo 键,I 空位,T 空位;(c1)—(c4)分别表示有机分子TCNE 的中心C—C 键在I 空位,平行于S—Mo 键,T 空位,垂直于S—Mo 键.3结果与讨论为了明晰有机分子化学掺杂的本质,本文首先通过计算和比较不同的吸附构型的总能来确定吸附体系的稳定性和形态.初始状态下,吸附分子在平行于MoS 2的(0001)面且与MoS 2垂直高度2.6Å的位置,远大于相应的原子的范德华半径之和.根据吸附分子的构型不同,考虑了两套不同的吸附位置.TTF 分子、TCNE 分子与MoS 2单层的结合体系有机分子的中心C—C 键垂直于S—Mo 键,平行于S—Mo 键,I 空位,T 空位;TCN-Q 分子:有机分子的中心对应Mo 原子位,S 原子位,空位,如图2所示.在MoS 2单层分别与TTF,TCNQ,TCNE 形成的体系中,最趋于稳定的三种组态如图3所示.表1吸附不同有机分子后有机分子和MoS 2衬底之间的高度(Å)以及结合能(eV)模型d/ÅE ab /eV MoS 2-TTF 3.16−0.0572MoS 2-TCNQ 3.03−0.0978MoS 2-TCNE3.17−0.2172为了研究不同体系的结合的稳定性,设定了结合能E ab ,其计算公式如下[24]:E ab =E total −E mo −E MoS 2,(1)其中,E total ,E MoS 2,E mo 分别表示不同的吸附体系总能量、单层MoS 2的能量、单个有机分子的能量.结合能作为吸附稳定性的一个判据,根据定义其数值为负时,表示反应是一个放热反应,其绝对值越大则表示分子与MoS 2间的相互作用越强,体系也越稳定.在TTF,TCNQ,TCNE 与MoS 2所形成的体系中,最稳定的三种组态的结合能分别为−0.098eV,−0.057eV,−0.217eV.由于计算得到的结合能为负值表明这些有机小分子吸附在MoS2表面属于放热反应,可以在室温条件下自发形成.MoS2-TTF各组态的能量差值的范围为2—38meV,MoS2-TCNQ各组态的能量差值的范围为41—88meV,MoS2-TCNE各组态的能量差值的范围为10—42meV.通过结构优化,吸附体系的吸附能和分子间距结果如表1所示,从计算结果可以得出表面吸附物和衬底之间并没有化学键作用,而是物理吸附,因此有机分子与MoS2衬底间的相互作用主要是范德瓦耳斯力相互作用.从吸附能也可以看出,单个有机分子的吸附能大约在几十到二百meV数量级,属于弱相互作用.(a1)(a2)(a3)(b1)(b2)(b3)(b4)(c1)(c2)(c3)(c4)(a) MoS2-TTF(b) MoS2-TCNQ(c) MoS2-TCNE图2(网刊彩色)(a)表示TCNQ分子与单层MoS2衬底构成体系的不同组态,(a1)—(a3)分别表示有机分子TCNQ的中心对应空位,Mo原子位,S原子位;(b)表示TTF分子与单层MoS2衬底构成体系的不同组态,(b1)—(b4)分别表示有机分子TTF 的中心C—C键平行于S—Mo键,垂直于S—Mo键,I空位,T空位;(c)表示TCNE分子与单层MoS2衬底构成体系的不同组态,(c1)—(c4)分别表示有机分子TCNE的中心C—C键在I空位,平行于S—Mo键,T空位,垂直于S—Mo键图3(网刊彩色)(a),(b),(c)分别表示吸附有机分子TTF,TCNQ,TCNE后不同构型各自最稳定的组态,与各组态对应的结构的优化结果(a)(b)(c)网刊彩色)不同构型体系的部分电荷密度图(a),(b),(c)分别表示吸附MoS2的结构MoS2-TTF,MoS2-TCNQ,MoS2-TCNE的VBM,为了分析吸附体系的电子结构的贡献,本文还计算了MoS 2-TTF,MoS 2-TCNQ,MoS 2-TCNE 三个体系的价带顶和导带底的部分电荷密度.结果表明吸附了受主杂质分子TCNQ 吸附MoS 2单层的导带底(CBM)来自TCNQ 分子下方且靠近H 原子的Mo-d 电子,价带顶(VBM)来自Mo 原子的p 电子,从图5的部分电荷密度图中可以得出:局域能级全来自于有机分子TCNQ 中S-p 和C-p 电子.吸附受主杂质TCNE 的单层MoS 2的导带底(CBM)主要来自TCNE 分子下方的Mo-d 电子,也有少部分是由TCNE 分子下方周围的Mo 原子的d 电子贡献,价带顶(VBM)来自Mo-P 电子,局域能级全来自于有机分子TCNE 中C-p 和N-p 电子.掺杂施主杂质TTF 的单层MoS 2的导带底(CBM)主要来自TTF 分子下方周围且靠近H 原子的Mo-d 电子,也有少部分是由TCNE 分子下方周围的且离H 原子较远的Mo-d 电子贡献,价带顶(VBM)来自Mo-p 电子,局域能级全来自于有机分子TTF 中C-p 和N-p 电子.以上结果表明有机分子掺杂会导致MoS 2单层结构中Mo 原子的电子出现局域化.为了解释在不同的体系中,对于CBM 和VMB 电荷的分布,本文还对MoS 2-TTF,MoS 2-TCNQ,MoS 2-TCNE 等三个体系做了差分电荷密度,其结果如图6所示.从图6可以看出,三种不同的吸附分子都发生了电荷重排,正负电荷发生了分离,在分子的边缘处出现了正电荷聚集的现象,通过这个电荷重排在吸附的有机小分子内部出现电偶极矩,通过这个电偶极矩的作用使得单层MoS 2分子中Mo-d 电子发现了重新分布,Mo-d 电子和有机分子的边缘相互吸引,是导致上述Mo-d 电子局域化的原因.这点和极性有机分子吸附在Si 表面的现象是类似的[27].(a)(b)(c)图6(网刊彩色)不同构型体系的差分电荷密度图(a),(b),(c)分别表示吸附TTF,TCNQ,TCNE 三种分子的单层MoS 2的结构MoS 2-TTF,MoS 2-TCNQ,MoS 2-TCNE 的差分电荷密度图4结论本文采用基于密度泛函理论的第一性原理平面波赝势的方法研究了通过化学掺杂方式吸附不同有机分子对单层MoS 2电子性质的影响.结合能计算表明单层MoS 2吸附TTF,TCNQ,TCNE 不同分子的结合能分别为−57.2meV/cell,−97.8meV/cell,−217.2meV/cell,有机分子与MoS 2单层衬底间的相互作用主要是范德瓦尔斯作用力;同时,结合能计算表明在MoS 2单层上吸附有机分子进行MoS 2的化学掺杂是可行的,吸附后有机分子发生了不同程度的形变.电子结构计算表明吸附不同有机分子的单层MoS 2结构均表现出间接带隙的特征,同时能带结构还表明吸附TTF 分子的单层MoS 2结构表现出n 型导电性质,而吸附TCNQ,TCNE 两种分子的单层MoS 2结构均表现出p 型导电性质,说明通过有机分子进行分子吸附来实现对MoS 2单层的掺杂是可行的,并且可以通过改变吸附的分子类型来实现对单层MoS 2的到点类型以及对带隙的调控.最后,电荷密度表明吸附后的结构的导带底均由有机分子周围或者下方的Mo-d 电子提供,价带顶由Mo-d 电子提供,所以吸附有机分子后的结构的杂质能级表现出局域化,为工艺生产及应用奠定了一定基础.本文的结果将对单层MoS 2在电子器件及光电子器件方面的应用提供理论基础和指导.参考文献[1]Ahn H S,Kim J M,Park C,Jang J W,Lee J S,Kim H,Kaviany M,Kim M H2013Sci.Rep.31960[2]Ai W,Xie L H,Du Z Z,Zeng Z Y,Liu J Q,Zhang H,Huang Y H,Huang W,Yu T2013Sci.Rep.32341[3]Allain A,Han Z,Bouchiat V2012Nat.Mater.11590[4]Ataca C,Şahin H,Ciraci S2012J 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received27February2014)AbstractThe chemical doping of organic molecules adsorbed on MoS2monolayers are systematically studied by using plane-wave pseudo-potential method based on the density functional theory.Our results indicate that the interaction between organic molecules and the MoS2monolayer substrate is of van der Waals’type of force.Structure of monolayer MoS2 which adsorbs different organic molecules,exhibits indirect bandgap characteristics,and the energy band structure of monolayer MoS2which adsorbs TTF molecules exhibits n-type conducting characteristics.However,the structures of monolayer MoS2which adsorbs TCNQ or TCNE molecules would exhibit p-type conductivity characteristics.Thus,the results indicate that the doping type of molecules in monolayer MoS2can be regulated by adsorbing different molecules. Results of this study may provide a theoretical basis for single-layer MoS2transistor and guidance for it in the application.Keywords:density functional theory,MoS2,organic molecules adsorption,molecule dopingPACS:71.15.Mb,68.47.Pe,61.72.U–DOI:10.7498/aps.63.117101*Project supported by the National Natural Science Foundation of China(Grant Nos.61006051,61177050),the College students in Zhejiang Province Science and Technology Innovation Activities Plan,China(Grant No.2013R409016),and the Science and Technology Department of Zhejiang Province Public Interest Research Technology,China(Grant No.2013C31068).†Corresponding author.E-mail:plianghust@。