材料表面与界面技术
材料表面与界面的研究
材料表面与界面的研究随着科技的不断进步，各行各业都越来越依赖于材料科学的发展。
材料科学在现代社会中无处不在，从医疗健康、电子设备、建筑、汽车、航空航天，到人造卫星、火箭，材料科学都有其应用。
在材料科学中，表面和界面是研究的重点。
本文将阐述材料表面与界面的研究现状和未来发展趋势。
一、表面的研究材料表面的研究涉及到材料成分、结构、物理和化学性质等方面。
目前，已经有许多研究成果在几乎所有材料领域中应用；例如，通过调节表面的化学性质，可以控制细胞附着和生长的条件，从而制备出优质的生物医用材料；通过控制表面形貌，可以获得低光反射率或高光反射率等特殊光学性能，在某些行业，如光学仪器和激光设备等方面有着重要应用。
在表面化学研究领域，近年来，翻译公司多利用表面修饰或功能化的方法，将不同功能团修饰到表面，实现了多种特殊性质的材料制备。
利用萃取、化学吸附、电化学氧化还原等手段，可以修饰材料的表面，实现不同的性能，如抗菌、防腐、疏水或亲水等，为各种领域提供了很多新的材料选择。
二、界面的研究界面是指材料间或同一材料内不同形态的交界面。
界面的研究与材料尺度的逐步减小有关，根据经验规律，尺度减小到几个毫米到几纳米，界面对材料的性能影响会变得越来越明显。
因此，在材料设计、制备、调控、加工等各个方面，界面的作用与研究变得越来越重要。
例如，固态化学可分为材料物性、化学性质以及其局部发生化学反应之间的极其复杂的交错。
进一步研究固体表面和界面的化学反应机理，对于合理地设计、制造材料和解决催化、能源和环境等领域的问题至关重要。
此外，材料的界面也是造成材料损伤和疲劳的重要因素。
通过研究材料内部的微观组织与固溶体界面、晶界、相界等之间的相互作用，解决控制材料内部微观结构之间相互作用，以实现优化材料性能的问题。
三、表面与界面研究的未来发展趋势未来的研究将体现多学科的交叉和融合，包括材料学、化学、物理学、生物学、计算机学、机械学等领域。
通过多方面的合作，我们可以进一步掌握表面和界面的基本特性和物理化学机制，实现材料性能的可控制、协同提高，以满足不断提高的材料应用需求。
材料表面与界面工程
材料表面与界面工程是一个繁荣的领域，在材料科学中扮演着至关重要的角色。
表面与界面工程的目的是改善材料表面的特性以及相邻物质之间的相互作用，可以通过多种方法来实现。
一、表面修饰表面修饰是一种改善材料表面特性的方法，通过特定的表面修饰技术，材料的表面性质可以被改善，例如表面粗糙度、化学反应活性、涂层均匀性、粘附性等。
其中，表面粗糙度是表面修饰中最常见的一种方法。
表面粗糙度能够影响材料表面的湿润性、化学反应活性和粘附性等特性，因此表面微纳结构化和表面粗糙度的控制被广泛应用于诸如生物医学、化学传感、机械制造等领域。
二、表面涂层表面涂层是一种表面修饰的方法，它是将一层材料沉积到另一层材料表面上的过程，通常是通过化学气相沉积、磁控溅射等方法实现。
涂层可以改善材料表面的电学、热学、化学和生物性能，并且对于增强材料的机械性能及耐磨性也有很大的帮助。
涂层材料的选择取决于特定应用的需求，例如生物医学、能量储存和环保材料等领域。
三、界面工程在材料科学中，所有的材料都可以被看作是由不同材料的层叠组合而成的复合材料。
因此，界面的性质变化与材料性能息息相关，界面工程就是通过调节相邻物质之间的相互作用来改善界面特性。
这通常需要对多种方面进行调节，包括界面结构、化学反应、电介质、热膨胀等。
界面工程具有许多潜在的应用领域，其中最显著的包括能源和环保材料。
在环保领域中，提高材料间的拉伸、切割和剪切强度非常重要，例如土壤稳定、土地复垦等。
在能源领域中，界面工程可以用于生产能量存储器件，例如锂离子电池、氢燃料电池等，也可以用于制备太阳能电池和光电转换材料。
综上所述，表面与界面工程在材料科学中扮演着至关重要的角色，通过改善材料表面的特性以及相邻物质之间的相互作用来提高材料的性能和应用。
考虑到不同应用领域的需求和材料特性，科学家们将继续发现新的表面及界面工程技术，以进一步改善现有材料的性能和开发新的材料。
材料的表面与界面
（2）贝尔比层：材料经抛光后，表面形成厚度约5-100nm的光亮而致密层，称为· 金属和合金的贝尔比层往往存在非晶、微晶和金属氧化物.贝尔比层坚硬并且具有 良好的耐腐蚀性. 机械加工后金属表面组织：氧化物层（10-100nm）-贝尔比层（5-100nm）-严重 畸变区（1-2μ m）-强烈畸变区-轻微畸变区
通过晶格的收缩或扩张而形成特殊排列的位错作为两相的过渡区.过渡区的位错称为失配位错.
多晶材料中的界面；（1）多晶材料中的相平衡 两个非共格相界的平衡： ①120︒<ψ <180︒时，第二相在母相中呈圆形，对母相不润湿，呈柱状分布； ②60︒<ψ <120︒时，第二相在母相三晶粒交界处沿晶界部分渗入； ③0︒<ψ <60︒时，第二相在母相三晶粒交界处形成三角状，随二面角减小铺展的越开； ④ψ =0︒时，第二相在母相的晶界区铺开；
旋转对称：旋转角θ =2π /n,n为正整数，称为旋转对称的滑移群：对某一直线作镜像反应后，再沿此线平行方向滑移 半个平移基失.镜像滑移群+点群→17种对称群，称为二位空间群. 原子的表面密度：单胞中某一表面上原子的总面积与该表面积之比.ρ =Aa/As （2）清洁表面：在真空中分开晶体，或将已有表面在真空中经过离子轰击、高温 脱附后得到的表面，这种表面没有吸附其它异类原子，只存在表面原子的排列变化 ①表面重构：形成晶体表面的悬空键的存在，使其处于高能不稳定状态，为了降低 表面自由能，表面原子的位置必然发生变化，这种变化的结果，使得表面原子的 平移对称性与理想表面显著不同，这种表面变化称为表面重构. ②表面弛豫：为了降低体系能量，表面上的原子会发生相对正常位置的上或者下 位移，表面原子的这种位移称为表面弛豫.其显著特征是表面第一层原子和第二层 原子之间的距离改变，越深入体相，弛豫效应越弱，并迅速消失. ③表面台阶结构：存在各种各样的缺陷：TLK模型，T指平台，L表示单原子高度的 台阶，K表示单原子尺度的扭折. （3）吸附表面：除了表面原子几何位置发生变化外，还通过吸附外来原子来降低 表面自由能.包括物理吸附(弱、快、无选择性)和化学吸附（强、慢、选择性）. 表面热力学：①表面自由能：自由能极图 ②表面自由能的各向异性影响因素：a.键能Eb； b.单位面积键的数量 ③晶体的稳定形状：表面自由能趋向最小，所以对于各向同性的液体来说，形状 总是趋于球形.定义体积恒定情况下表面自由能最小的形状为平衡形状. 对于各向异性的晶体来说，晶体的平衡形状就是自由能极图的最大内接多边形 实际表面：①表面粗糙度（表面不平整程度小于1mm时）R=Ar/Ag Ag为几何表面积；Ar为包括内表面在内的实际表面积 ②表面杂质的偏析（表面杂质浓度比体内大时）与耗尽（表面浓度比体内小时） 如果杂质原子在表面能使表面自由能降低，则形成偏析，反之形成耗尽； 由热力学条件得出、且偏析尺度为原子尺度（纳米级），称为平衡偏析； 实际上表面的偏析主要发生在几十纳米到几个微米的范围，这种偏析为非平衡 偏析，原因：表面区内存在许多空位、晶格畸变等缺陷，它们形成了明显的应力 场，并引起相应的畸变能，与主成分原子半径不同的各种杂质，进入畸变区域后， 将有利于畸变能的减少，使表面自由能降低，故形成各种非平衡偏析. ③金属与合金的表面组织受环境温度、氧气分压、合金组分浓度等的影响； 表面组织： （1）表面层晶粒尺寸变化：在切磨、抛光等机械加工时，产生大量的热，使表面
材料表面与界面
材料表面与界面一、教学内容本节课的教学内容选自人教版小学科学五年级下册第四单元《材料与我们生活》中的第一课时《材料表面与界面》。
本节课主要让学生通过观察、实验等方法，了解不同材料的表面和界面特性，培养学生的观察能力和实验操作能力。
二、教学目标1. 让学生了解不同材料的表面特性，如光滑、粗糙等。
2. 让学生通过实验观察，了解不同材料界面的特性，如浸润、不浸润等。
3. 培养学生的观察能力、实验操作能力和分析问题的能力。
三、教学难点与重点重点：不同材料的表面特性和界面特性的认识。
难点：如何通过实验观察和分析不同材料的表面和界面特性。
四、教具与学具准备教具：多媒体课件、实验材料（如玻璃板、塑料片、水、硬币等）。
学具：实验记录表、画笔、实验材料。
五、教学过程1. 导入：通过多媒体课件展示不同材料的图片，引导学生观察并说出这些材料的名称。
2. 探究材料表面特性：让学生拿取实验材料，用手触摸并观察其表面特性，如光滑、粗糙等。
3. 实验观察界面特性：引导学生进行实验，观察水滴在不同材料表面的现象，如浸润、不浸润等。
4. 分析实验现象：让学生根据实验现象，分析不同材料界面的特性。
6. 实践应用：让学生举例生活中应用这些特性的事物。
六、板书设计板书内容：材料表面与界面1. 表面特性：光滑、粗糙2. 界面特性：浸润、不浸润七、作业设计1. 观察生活中的物品，举例说明其表面和界面特性。
答案：如手机屏幕光滑、电脑键盘粗糙；水杯水面浸润、油瓶界面不浸润等。
2. 思考：为什么不同材料的界面特性不同？答案：不同材料的分子结构和性质不同，导致其界面特性不同。
八、课后反思及拓展延伸本节课通过观察、实验等活动，让学生了解了不同材料的表面和界面特性。
在教学过程中，要注意引导学生积极参与实验，培养其观察能力和实验操作能力。
同时，可以进一步拓展学生的知识，如介绍不同材料的特性和应用，激发学生对科学的兴趣。
重点和难点解析一、探究材料表面特性在教学过程中，引导学生拿取实验材料，用手触摸并观察其表面特性是重点环节。
材料表面与界面性质分析技术
材料表面与界面性质分析技术材料是人类社会发展的基础，它们蕴含着各种性质和特征，比如热学、力学、化学等等。
材料的性质往往由其内部构成及表面和界面特性所决定。
因此，对材料的表面和界面进行深入分析是非常必要和重要的。
那么，如何对材料的表面和界面进行分析呢？一、扫描电子显微镜技术扫描电子显微镜技术是一种常见的表面形貌观测和分析手段。
这种技术通过扫描电子束照射样品表面，并通过检测样品表面反射、散射和辐射等信号来获得样品表面的形貌和组成信息。
这种技术具有分辨率高、非接触、多功能等优点，可以被广泛应用于样品形貌、尺寸、表面化学成分等方面的探测和分析。
二、原子力显微镜技术原子力显微镜技术是一种高分辨、非接触表面显微镜技术。
它通过量子力学的原理来探测样品表面微观特征。
具体来说，是利用在极近距离下样品表面和探针之间的作用力进行采样。
原子力显微镜技术可用于表面拓扑、力学、电学、热学特性的表征，如原子尺度上的精确距离测量、接触区域的模拟和力学性质的量化等。
三、拉曼光谱技术拉曼光谱技术是一种照射样品后测量样品化学组成和分子结构的手段。
这种技术通过使用一束激光束引起样品内分子振动，以探测样品的分子成分和化学结构。
利用拉曼光谱技术可以非常精确地探测到许多有机和无机分子的结构，如聚合物中官能团的结构和亚表面结构等。
这种技术具有非常高的分辨率和精度，被广泛应用于材料科学和化学分析。
四、电化学阻抗谱技术电化学阻抗谱技术是一种通过分析材料接触面上的电化学反应来获得材料界面性质信息的技术。
该技术是基于对微小电压交流信号下材料粗糙表面的阻抗响应进行分析的，可揭示材料的化学反应、传输速率和电子传输特性等。
电化学阻抗谱技术可以用于生物医学、电池、阳极保护和光伏等领域的研究。
总之，对材料表面和界面特性进行精确分析可以检测到材料特性的微小变化，进而为各种材料科学应用提供基础数据和指导。
以上介绍的技术是常见的材料表面和界面性质分析技术，它们各自具有独特的优点和适用范围。
材料表面与界面
材料表面与界面材料的表面与界面性质对于材料的性能具有重要的影响。
材料的表面和界面性质是指材料的表面和与其它物质接触的界面上的性质，这些性质直接影响材料的力学、热学、光学等性能。
因此，研究材料的表面与界面性质对于材料科学和工程具有重要的意义。
首先，材料的表面性质对于材料的耐磨性和耐腐蚀性具有重要的影响。
材料的表面硬度、粗糙度、化学成分等都会直接影响材料的耐磨性和耐腐蚀性。
例如，通过表面处理可以提高材料的硬度和耐腐蚀性，从而延长材料的使用寿命。
因此，研究材料的表面性质对于提高材料的耐磨性和耐腐蚀性具有重要的意义。
其次，材料的界面性质对于材料的粘接性和界面传输性能具有重要的影响。
材料的界面粘接性和界面传输性能直接影响材料的结构强度和功能性能。
例如，在复合材料中，界面的结合强度和传输性能直接影响复合材料的力学性能和热学性能。
因此，研究材料的界面性质对于提高材料的粘接性和界面传输性能具有重要的意义。
此外，材料的表面与界面性质对于材料的光学性能也具有重要的影响。
材料的表面和界面对于光的反射、透射和散射等过程有重要的影响，这直接影响材料的光学性能。
例如，在光学器件中，材料的表面和界面质量直接影响器件的光学性能。
因此，研究材料的表面与界面性质对于提高材料的光学性能具有重要的意义。
综上所述，材料的表面与界面性质对于材料的性能具有重要的影响，包括耐磨性、耐腐蚀性、粘接性、界面传输性能和光学性能等方面。
因此，研究材料的表面与界面性质对于提高材料的性能具有重要的意义，这也是材料科学和工程领域的重要研究方向之一。
希望通过对材料的表面与界面性质的研究，可以为材料的设计、制备和应用提供重要的理论和实验基础，从而推动材料科学和工程的发展。
材料科学中的表面和界面研究
材料科学中的表面和界面研究材料科学的发展水平已经到了让人瞠目的地步，这离不开表面和界面这两个重要的研究方向。
表面和界面科学早已成为材料科学研究的重要部分。
无论是材料的性能还是材料的组织结构，其都与材料表面和界面有着密不可分的联系。
本文将从表面和界面科学的基本概念到理论研究和实践应用等方面给大家进行介绍，并就其在实际应用中进行一些探讨。
一、表面和界面科学的基本概念表面和界面科学主要关注的是物质的表面和界面所具有的性质、结构和功能等。
其研究的主要对象是具有表面和界面的材料，如液体、气体、固体等。
材料的表面是指物质和外界的接触面，它是材料表征和性能调控的重要途径。
而界面则是指两相材料之间的分界面，如液体-气体、液体-固体、固体-气体等。
材料的界面位置不同，其表现出的性质也不同，因此表面和界面科学可以对这一方面进行探讨。
二、表面和界面科学的理论研究表面和界面科学的理论研究探讨的是在材料表面和界面上发生的一系列物理和化学过程，其目的是为了揭示表面和界面上的基本规律和特性。
主要分为表面物理学和表面化学两个方向。
表面物理学研究的是表面的物理性质，如最大吸附量、表面结构、电子结构等，通过研究表面物理性质，可以揭示表面吸附和反应的本质，从而解决许多实际问题。
表面化学则是揭示表面化学反应的机理和动力学规律，以及表面吸附和反应行为的影响因素，如温度、压力和化学势等。
三、表面和界面在实际应用中的作用表面和界面在实际应用中有着广泛的应用，如催化剂、电子器件、涂料等。
在催化剂方面，表面和界面通常可以调节催化剂的活性和选择性，提高催化反应的效率。
在电子器件方面，表面和界面技术目前已经成为了制造先进微电子器件的重要手段。
在涂料领域，表面和界面对于材料抗腐蚀、抗磨损、增强粘附等方面有着显著的影响。
以上便是表面和界面科学的基本概念、理论研究和实际应用方面的简单介绍。
表面和界面科学是材料科学研究的重要组成部分，其在材料性能、结构和功能的探讨和改进方面所发挥的作用不可小觑。
生物材料的表面和界面改性研究进展
生物材料的表面和界面改性研究进展引言：生物材料的表面和界面改性是一项重要的研究领域，涉及到生物医学工程、组织工程、药物传递系统等多个领域。
通过改变材料的表面性质和界面特性，可以实现生物材料的生物相容性、机械性能和药物传递性能的改善。
本文将介绍生物材料表面和界面改性的研究进展，包括表面修饰技术、生物相容性改善、界面相互作用等方面的内容。
一、表面修饰技术的发展表面修饰技术是改变材料表面性质的关键手段，其发展对于生物材料的应用和性能提升至关重要。
目前，包括物理方法、化学方法和生物方法等多种表面修饰技术被广泛应用于生物材料的改性。
1. 物理方法物理方法是通过改变表面形貌和结构来实现材料性能的调控。
常见的物理方法包括沉积薄膜、等离子体处理、溶液喷雾等。
例如，利用磁控溅射技术可以在材料表面形成一层均匀的薄膜，改变表面的化学反应性，提高材料的生物相容性和耐磨性。
2. 化学方法化学方法是通过表面化学反应来改变材料的表面性质。
其中，最常见的化学方法是控制材料表面的化学组成和功能团的引入。
例如，通过溶液法或气相法在材料表面修饰一层功能化分子，可以增强材料的生物相容性或控制材料的附着行为。
3. 生物方法生物方法是利用生物分子的特异性识别和作用来实现材料的表面修饰。
生物方法基于生物分子与材料表面之间的特异性相互作用，可以制备具有特定生物活性和生物识别特性的材料。
例如，利用抗体与特定抗原的配对作用，可以在材料表面制备具有高度选择性的生物传感器。
二、生物相容性改善的研究进展生物相容性是生物材料在生物体内具有良好的生物适应性和稳定性的能力。
通过表面和界面的改性可以改善材料的生物相容性，降低材料在体内引起的炎症反应和排异反应。
1. 表面形貌对生物相容性的影响表面形貌是材料表面粗糙度和微观结构的表征。
研究表明，改变材料的表面形貌可以影响细胞黏附、增殖和分化等过程，进而影响生物材料的生物相容性。
例如，通过控制材料表面的纳米结构，可以实现细胞的定向分化和组织再生。
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根据蒸发镀的原理可知，通过采用单金属镀膜 材料或合金镀膜材料就可在基体上得到单金属 膜层或得到合金膜层。但由于在同一温度下， 不同的金属具有不同的饱和蒸气压，其蒸发速 度也不一样，蒸发速度快的金属将比蒸发速度 慢的金属先蒸发完，这样所得的膜层成分就会 与合金镀料的成分有明显的不同。所以，通过 蒸发镀获得合金镀膜比获得单金属镀膜困难。
材料表面和界面技术
材料表面和界面技术
气相沉积技术
气相沉积技术也是在基体上形成功能膜的 技术，它是利用气相之间的反应，在各种 材料或制品表面沉积单层或多层薄膜，从 而使材料或制品获得所需的各种优异性能， 如常用的TiC、TiN、Ti(C,N)、(Ti,Al)N、 Cr2C3、Al2O3、C-BN 等超硬耐磨涂层。
气相沉积技术在1970年前也称作干镀， 1980年前后被广泛用于电子和装饰方面的 无公害加工以及刀具的硬面涂层。
近30多年来，随着电子器件、金属切削刀 具以及各类尖端科学技术的发展，使得气 相沉积技术得到了迅速发展和广泛应用。
气相沉积技术一般可分为两大类：物理气 相沉积(Physical Vapour Deposition-PVD)和化学气相沉积(Chemical Vapour Deposition--CVD)。
一、 蒸发镀
在真空条件下，用加热蒸发的方法使镀膜材 料转化为气相，然后凝聚在基体表面的方法 称为蒸发镀膜，简称蒸镀。
蒸发镀是PVD方法中最早用于工业生产的一 种方法，该方法工艺成熟，设备较完善，低 熔点金属蒸发效率高，可用于制备介质膜、 电阻、电容等，也可以在塑料薄膜和纸张上 连续蒸镀铝膜。
1．蒸发镀的原理
2．蒸发镀用途
蒸镀只适用于镀 制对结合强度要 求不高的某些功 能膜，例如用作 电极的导电膜， 光学透镜的反射 膜及装饰用的金 膜、银膜。
2．蒸发镀用途
蒸镀纯金属膜中90％是铝膜，铝膜有广泛的用 途。 目前在制镜工业中已经广泛采用蒸镀，以铝代 银，节约贵重金属。 集成电路是镀铝进行金属化，然后再刻蚀出导 线。在聚酯薄膜上镀铝具有多种用途，可制造 小体积的电容器；制作防止紫外线照射的食品 软包装袋等；经阳极氧化和着色后即得色彩鲜 艳的装饰膜。 双面蒸镀铝的薄钢板可代替镀锡的马口铁制造 罐头盒。
基片 (工件)
被镀材料 蒸发过程
蒸发材料 子迁移 过程
蒸发材料 粒子沉积 过程
• 在真空容器中将蒸镀材料(金属或非金属)加热， 当达到适当温度后，便有大量的原子和分子离 开蒸镀材料的表面进入气相。
• 因为容器内气压足够低，这些原子或分子几乎 不经碰撞地在空间内飞散，
• 当到达表面温度相对低的被镀工件表面时，便 凝结而形成薄膜。
能力知识点1 物理气相沉积
在真空条件下，利用各种物理方法，将镀 料气化成原子、分子或使其离子化为离子， 直接沉积到基体表面上的方法称为物理气 相沉积（PVD）。
物理气相沉积法主要包括真空蒸镀、溅射 镀膜、离子镀膜等。
物理气相沉积（PVD）技术经历了由最初的真空蒸镀到1963 年离子镀技术的开发和应用。20世纪70年代末磁控溅射技术有 了新的突破。
二、 溅射镀膜
离子束射向一块固体材料时，有三种可能：
1．入射离子把固体材料的原子或分子撞出固体材 料表面，这个现象叫做溅射。
2．入射离子从固体材料表面弹了回来，或者穿出 固体材料而去，这些现象叫做散射。
3．入射离子受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低 下来，并最终停留在固体材料中，这一现象就 叫做离子注入。
溅射镀膜
在真空室内用几十电子伏持或更高动能的荷能 粒子 (通常是Ar+)轰击阴极(沉积材料做的靶)， 将其原子溅射出，迁移到基片(工件)上沉积形 成镀层的过程称为溅射镀膜。
在溅射镀膜中，被轰击的材料称为靶。
➢二极溅射是最基 本最简单的溅射 装置。
➢在右图的直流二 极溅射装置中， 主要部件为 靶(阴 极)、工件(基片) 和阳极。
1．基本原理
其中靶是一平板，由欲沉积的材料组成，一般 将它与电源的负极相连，故此法又常称为阴极 溅射镀膜。
固定装置可以使工件接地、悬空、偏置、加热、 冷却或同时兼有上述几种功能。真空室中需要 充入气体作为媒介，使辉光放电得以启动和维 持，最常用的气体是氩气。
工作时，真空室预抽到6.510-3Pa，通入Ar 气使 压强维持在1.310 1.3 Pa，
和液体一样，固体在一定温度下也可以或多 或少的气化（升华），形成该物质的蒸气。
在高真空中，将镀膜材料加热到高温，相应 温度下的饱和蒸气就在真空槽中散发，蒸发 原子在各个方向的通量并不相等。基体设在 蒸气源的上方阻挡蒸气流，且使基体保持相 对较低的温度，蒸气则在其上形成凝固膜。 为了弥补凝固的蒸气，蒸发源要以一定的比 例供给蒸气。
➢真空容器(提供蒸发 所需的真空环境)。 ➢蒸 发 源 ( 为 蒸 镀 材 料 的蒸发提供热量)。 ➢基 片 ( 即 被 镀 工 件 ， 在它上面形成蒸发料 沉积层)，基片架(安装 夹持基片)。 ➢加热器。
蒸发镀膜系统
蒸发成膜过程是由蒸发、蒸发材料粒子的迁移和沉 积三个过程所组成。
蒸发 材料
蒸发材 料粒子
真空蒸镀时，蒸发粒子动能为0.1～1.0eV,膜对基 体的附着力较弱，为了改进结合力，一般采用:
在基板背面设置一个加热器，加热基极，使基 板保持适当的温度，这既净化了基板，又使膜 和基体之间形成一薄的扩散层,增大了附着力。
对于蒸镀像Au这样附着力弱的金属，可以先蒸 镀像Cr，Al等结合力高的薄膜作底层。
近年来，各种复合技术，如离子注入与各种PVD方法的复合， 已经在新材料涂层、功能涂层、超硬涂层的开发制备中成为必 不可少的工艺方法。
PVD法已广泛用于机械、航空、电子、轻工和光学等工业部门 中制备耐磨、耐蚀、耐热、导电、磁性、光学、装饰、润滑、 压电和超导等各种镀层。
随着物理气相沉积设备的不断完善、大型化和连续化，它的应 用范围和可镀工件尺寸不断扩大，已成为国内外近20年来争相 发展和采用的先进技术之一。
接通直流高压电源，阴极靶上的负高压在极间 建立起等离子区，其中带正电的Ar+离子受电场 加速轰击阴极靶，溅射出靶物质，