CMOS模拟集成电路设总复习
专升本《CMOS模拟集成电路分析与设计》_试卷_答案

专升本《CMOS模拟集成电路分析与设计》_试卷_答案专升本《CMOS模拟集成电路分析与设计》一、(共75题,共150分)1. Gordon Moore在1965年预言:每个芯片上晶体管的数目将每()个月翻一番(2分).标准答案:B2. MOS管的小信号输出电阻是由MOS管的()效应产生的。
(2分)A.体B.衬偏C.沟长调制D.亚阈值导通.标准答案:C3. 在CMOS模拟集成电路设计中,我们一般让MOS管工作在()区。
(2分)A.亚阈值区B.深三极管区C.三极管区D.饱和区.标准答案:D4. MOS管一旦出现()现象,此时的MOS管将进入饱和区。
(2分)A.夹断B.反型C.导电D.耗尽.标准答案:A5. ()表征了MOS器件的灵敏度。
(2分)A.C.D..标准答案:C 6. Cascode放大器中两个相同的NMOS管具有不相同的()。
(2分)A.B.C.D..标准答案:B7. 基本差分对电路中对共模增益影响最显著的因素是()。
(2分)A.尾电流源的小信号输出阻抗为有限值B.负载不匹配C.输入MOS不匹配D.电路制造中的误差.标准答案:C8. 下列电路不能能使用半边电路法计算差模增益()。
(2分)A.二极管负载差分放大器B.电流源负载差分放大器C.有源电流镜差分放大器负载Casocde差分放大器.标准答案:C9. 镜像电流源一般要求相同的()。
(2分)A.制造工艺B.器件宽长比C.器件宽度WD.器件长度L.标准答案:D10. 某一恒流源电流镜如图所示。
忽略M3的体效应。
要使和严格相等,应取为()。
(2分)B.C.D..标准答案:A11. 选择题:下列结构中密勒效应最大的是()。
(2分)A.共源级放大器B.源级跟随器C.共栅级放大器D.共源共栅级放大器.标准答案:A12. 下图中,其中电压放大器的增益为-A,假定该放大器为理想放大器。
请计算该电路的等效输入电阻为()。
(2分)A.B.C.D..标准答案:A13. 对电路进行直流工作点分析的Hspice命令是()。
模拟CMOS集成电路分析与设计总复习

第五章 无源与有源电流镜
• 基本电流镜
• 共源共栅电流镜
• 有源电流镜
– 电流镜做负载的差分放大器
• 大信号特性 • 小信号特性 • 共模特性
• 1,基本电流镜的复制关系,L的选择,电 流镜的不足
• 2,有源负载差动对小信号增益求法(辅助定 理、戴维南等效)
第六章 放大器的频率特性
– 大信号差分特性 – 大信号共模特性 – 小信号差分特性 – 小信号共模特性
• MOS管做负载的基本差分对放大器 • 差分放大器的应用-Gilbert单元
• 1,差动相对于单端的优点
• 2,共模电平的变化对简单差动对输出的影 响
• 3,基本差动对大信号特性,静态
• 4,基本差分对共模输入范围的求法,共模 输入电平与小信号增益间的关系,小信号 增益的两种求法(叠加法和半电路法),单/双 边输入与单/双边输出对增益的影响
• 4,带源极负反馈电阻的共源极:等效跨导, 小信号增益的求法(直观)
• 5,共漏极(源极跟随器):小信号增益(直观 求法),无体效应的源极跟随器,小信号特 点
• 6,共栅极:小信号增益
• 7,共源共栅极:大信号特性,输出摆幅, 屏蔽特性,折叠式共源共栅极的大信号特 性
第四章 差动放大器
• 差分放大器简介 • 简单差分放大器 • 基本差分对放大器
• 米勒定理及利用米勒定理求解输入电阻、 电容、极点等
CMOS模拟集成电路分析与设计
——总复习(2010.12)
第一章 绪论
• 研究模拟电路的重要性 • 模拟电路设计的难点 • 研究AIC的重要性 • 研究CMOS AIC的重要性 • 电路设计一般概念
– 抽象级别 – 健壮性设计 – 符号约定
模拟CMOS集成电路设计复习提纲(课堂PPT)

Summary # 20
西电微电子:模拟集成电路设计
共源共栅级的输出阻抗(3)
Rup gm3ro3ro4
Rup
Rdown gm2ro2ro1
Rdown
Rout Rup || Rdown
Av0 g R m1 out
gm1 gm2ro2ro1 || gm3ro3ro4
Summary # 21
gm1 ro2 || ro1
Summary # 13
西电微电子:模拟集成电路设计
二极管接法MOSFET负载的共源级
Rup Rdown
Rup
1 gm2
Rdown ro1
Rout
Rup
|| Rdown
1 gm2
|| ro1
ro1 1 gm2ro1
1 gm2
(
1 gm2
ro1 )
Av0
Vout Vin
Summary #2
西电微电子:模拟集成电路设计 华大微电子:模拟集成电路设计
MOSFET的I-V特性
饱和区:I D
1 2
Cox
W L
VGS
Vth 2
沟长调制:I D
1 2
Cox
W L
VGS
Vth
21
VDS
线性区:I D
Cox
W L
VGS
Vth VDS
1 2
VD2S
深线性区:I D
Rout Rup || Rdown (RD || ro )
Vout Vin
gmRout
gm (RD
|| ro )
gmRD (RD ro )
Summary # 12
西电微电子:模拟集成电路设计
模拟cmos集成电路设计课后题

模拟CMOS集成电路设计课后题在现代电子科学领域中,模拟CMOS集成电路设计是一门重要的课程,它涉及到电子工程中的基本原理和技术,对从事电子电路设计和集成电路制造的专业人员来说,具有非常重要的意义。
而课后题作为知识的巩固和扩展,对于深入理解和掌握这门课程也至关重要。
接下来,我将针对模拟CMOS集成电路设计课后题进行深度和广度兼具的全面评估,并据此撰写一篇有价值的文章。
一、基本概念解释1. 什么是模拟CMOS集成电路设计?模拟CMOS集成电路设计即使用CMOS工艺制作的模拟电路。
它在数字电路的基础上加入了模拟电路。
2. 课后题的重要性课后题是对课堂所学知识的巩固和拓展,通过解答课后题可以帮助学生更深入地理解和掌握课程内容,提高解决问题的能力。
二、课后题解析1. 请列举一些模拟CMOS集成电路设计的常见应用?模拟CMOS集成电路设计常见的应用包括放大电路、滤波电路、比较器、运算放大器等。
2. 什么是CMOS工艺?CMOS是指互补型金属氧化物半导体技术,它是当今集成电路工艺的主流之一。
CMOS工艺具有低功耗、高集成度和良好的抗干扰能力等特点。
3. 请解释CMOS集成电路的工作原理。
CMOS集成电路由N型金属氧化物半导体场效应晶体管和P型金属氧化物半导体场效应晶体管组成。
当输入电压改变时,两个晶体管的导通状态都会随之改变,从而实现信号的放大和处理。
4. 请说明模拟CMOS集成电路设计中需要考虑的主要因素?在模拟CMOS集成电路设计中,需要考虑的主要因素包括功耗、速度、噪声、线性度、稳定性等。
5. 如何进行模拟CMOS集成电路的性能指标评估?模拟CMOS集成电路的性能指标评估包括静态指标和动态指标两部分,静态指标包括增益、带宽、输入输出阻抗等;动态指标包括上升时间、下降时间、过冲、欠冲等。
三、个人观点和总结从我个人的观点来看,模拟CMOS集成电路设计是电子工程领域中非常重要的一门课程,通过课后题的解答可以更好地理解和掌握课程中的知识点,培养自己的问题解决能力。
模拟CMOS集成电路设计复习提纲

物理验证与DRC/LVS检查
01
02
03
物理验证
检查版图是否符合工艺要 求,确保可制造性。
DRC检查
进行设计规则检查,确保 版图满足工艺要求。
LVS检查
进行电路原理图与版图一 致性检查,确保两者匹配。
03
CMOS集成电路的模拟技 术
SPICE模拟器简介
1
SPICE(Simulation Program with Integrated Circuit Emphasis):一种用于模拟和分析集成 电路性能的软件工具。
新工艺
新型工艺技术如纳米压印、电子束光刻等不断涌现,这些新工艺能够制造更小尺寸的集成电路,提高集成度并降 低制造成本。
集成电路的可扩展性挑战
制程节点
随着集成电路制程节点不断缩小,制 程技术面临物理极限的挑战,如量子 隧穿效应、漏电等问题,需要探索新 的物理机制和制程技术。
异构集成
为了实现更高效能、更低功耗的集成 电路,需要将不同材料、不同工艺的 芯片集成在一起,形成异构集成技术, 这需要解决不同芯片之间的互连、兼 容等问题。
功耗优化
总结词
功耗优化旨在降低CMOS集成电路的功 耗,以提高芯片的能效和延长电池寿命 。
VS
详细描述
功耗优化主要通过降低晶体管导通电阻、 减小时钟信号功耗和优化电路结构来实现 。例如,采用低阻抗材料和工艺技术来降 低导通电阻,采用时钟门控技术来减小时 钟信号功耗,优化电路逻辑和结构等。这 些措施有助于降低功耗,提高能效,延长 电池寿命。
和规范,如元件选择、布线规则、版图设计等。
设计实践
02
结合具体的设计案例,分析可靠性设计的实际应用和效果,总
结经过实验和仿真等方法,对设计的可靠性进行验证和评估,确
集成电路设计复习资料

集成电路设计复习资料集成电路设计是一门涉及电子工程、计算机科学和物理学等多学科交叉的领域,对于现代电子技术的发展起着至关重要的作用。
以下是为大家整理的集成电路设计的复习资料,希望能对大家的学习有所帮助。
一、集成电路的基本概念集成电路(Integrated Circuit,简称 IC)是将大量的电子元件(如晶体管、电阻、电容等)集成在一个微小的芯片上,实现特定功能的电路。
其优点包括体积小、重量轻、性能高、可靠性强等。
集成电路的分类方式众多,按照集成度可分为小规模集成电路(SSI)、中规模集成电路(MSI)、大规模集成电路(LSI)、超大规模集成电路(VLSI)和特大规模集成电路(ULSI);按照功能可分为数字集成电路、模拟集成电路和混合信号集成电路;按照制造工艺可分为双极型集成电路、CMOS 集成电路等。
二、集成电路设计流程集成电路设计是一个复杂而系统的工程,通常包括以下几个主要步骤:1、系统规格定义在这一阶段,需要明确设计的目标和要求,包括功能、性能、功耗、成本等方面的指标。
同时,还需要对市场需求、竞争情况进行分析,以确定设计的可行性和竞争力。
2、算法设计与优化对于数字集成电路,需要设计相应的算法,并对其进行优化,以提高性能和降低资源消耗。
例如,在图像处理领域,需要设计高效的图像压缩算法。
3、逻辑设计将算法转换为逻辑电路,使用硬件描述语言(如Verilog 或VHDL)进行描述。
逻辑设计包括组合逻辑和时序逻辑的设计。
4、电路设计根据逻辑设计,进行晶体管级的电路设计,包括晶体管尺寸的确定、偏置电路的设计等。
5、物理设计将电路设计转换为实际的版图,包括布局(确定各个元件在芯片上的位置)和布线(连接各个元件)。
物理设计需要考虑工艺规则、寄生效应等因素,以保证芯片的性能和可制造性。
6、验证与测试对设计进行各种验证,包括功能验证、时序验证、物理验证等,以确保设计的正确性。
同时,还需要进行芯片的测试,包括晶圆测试和封装测试。
模拟cmos集成电路设计第二版知识点总结

模拟cmos集成电路设计第二版知识点总结《模拟CMOS集成电路设计》第二版是由Behzad Razavi编写的一本关于模拟集成电路设计的经典教材。
本书主要介绍了模拟集成电路设计的基本原理、技术和方法,包括以下几个方面的知识点:1.CMOS技术基础:介绍CMOS技术的发展历程、基本概念和特点,以及MOSFET器件的工作原理、特性和参数。
2.单级放大器:讨论了单级放大器的基本结构、设计方法和性能指标,包括共源放大器、共栅放大器和共漏放大器等。
3.差分放大器:介绍了差分放大器的工作原理、性能指标和设计方法,以及如何利用差分放大器实现信号放大、电压参考和电流镜等功能。
4.运算放大器:详细阐述了运算放大器的设计原理、性能指标和实际应用,包括折叠式Cascode放大器、套筒式Cascode放大器和两级放大器等。
5.数据转换器:介绍了模数转换器(ADC)和数模转换器(DAC)的基本原理、结构和设计方法,包括逐次逼近型ADC、闪存型ADC、Σ-Δ型ADC和R-2R梯形DAC等。
6.滤波器和振荡器:讨论了模拟滤波器的基本原理、设计和实现方法,包括有源RC滤波器、Gm-C滤波器和开关电容滤波器等;同时介绍了振荡器的工作原理、性能指标和设计方法,包括环形振荡器、LC振荡器和晶体振荡器等。
7.电源管理:阐述了线性稳压器、开关稳压器和电荷泵等电源管理电路的工作原理、性能指标和设计方法。
8.频率响应和稳定性:介绍了频率响应的基本概念、分析方法和设计技巧,以及如何利用频率补偿技术提高电路的稳定性。
9.噪声分析:讨论了噪声的来源、类型和影响因素,以及如何降低噪声对电路性能的影响。
10.非线性效应:介绍了非线性效应的基本原理、产生原因和影响,以及如何利用非线性效应实现特定的功能,如混频器、乘法器和倍频器等。
通过学习这些知识点,读者可以掌握模拟CMOS集成电路设计的基本原理、技术和方法,为进一步深入研究和实际应用打下坚实的基础。
模拟cmos集成电路设计拉扎维第1章绪论

总结词
拉扎维模拟方法在CMOS比较器设计中 具有重要作用,可以预测比较器的性能 和行为。
VS
详细描述
CMOS比较器是模拟集成电路中的关键元 件,用于信号的阈值检测和整形。拉扎维 模拟方法可以准确地模拟CMOS比较器的 静态和动态特性,包括响应时间、失调电 压、比较精度等参数,有助于设计者优化 比较器的性能,提高整个电路的稳定性。
应用实例二:模拟CMOS滤波器设计
总结词
利用拉扎维模拟方法,可以高效地设计和优化CMOS滤波器的性能。
详细描述
CMOS滤波器在通信、音频处理等领域有广泛应用。通过拉扎维模拟方法,可以快速设计和优化 CMOS滤波器的性能,包括频率响应、群延迟、线性相位等参数,从而缩短设计周期并提高滤波器的 性能。
应用实例三:模拟CMOS比较器设计
拉扎维模拟方法的优缺点
优点
拉扎维模拟方法基于物理模型,能够精确模拟CMOS集成电路的性能,对于复杂电路和新型器件具有较高的预测 精度。此外,该方法还支持多物理效应和多尺度模拟,能够模拟电路在不同工艺、温度和电压条件下的性能。
缺点
由于拉扎维模拟方法基于物理模型,因此需要较长的计算时间和较大的计算资源,对于大规模电路的模拟可能会 面临性能瓶颈。此外,该方法需要手动设定电路元件的参数,对于不同工艺和不同设计需求需要进行相应的调整 和优化。
04
拉扎维模拟方法的应用实例
应用实例一:模拟CMOS放大器设计
总结词
通过拉扎维模拟方法,可以有效地模拟CMOS放大器的性能,包括增益、带宽、 噪声等参数。
详细描述
CMOS放大器是模拟集成电路中的基本元件,其性能对于整个电路的性能至关 重要。拉扎维模拟方法可以准确地模拟CMOS放大器的直流和交流特性,包括 增益、带宽、噪声等参数,为设计者提供可靠的参考依据。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
Rout 1 g ds 2 g ds1
2
3dB
g g ds 2 1 ds1 RoCo CL
f 3dB
CMOS反相器的频率响应
反相器极点频率近似计算方法:
1 p ROUT COUT
Vb VGS 2 VGS 1 VT
2 I REF VT K ' (W / L)1
2 0.1103 2 0.1103 0.7 6 11010 40 110106 40
1.11V
例题
M2饱和: VDS 2 VGS 2 VT
VGS 1 (Vb VGS 2 ) VGS 2 VT
的平均漂移速度,是载流子在电场作用下运动速度的快慢 的量度](cm2/Vs)
COX : 单位面积栅氧化物电容(F/cm2) W : 器件的宽长比 L
K ' : 跨导参数
COX
OX
tOX
K ' COX 0
MOS管的大信号模型
饱和区电流(以NMOS为例):
W iD K ' (vGS VT ) 2 2L
解:AV
( g m1 g m 2 ) 2 K ' N (W1 / L1 ) I D 2 K ' N (W1 / L1 ) I D g ds1 g ds 2 N I D P I D
2 110106 1 3 104 2 50106 2 3 104 18.6 6 6 0.04 30010 0.05 30010
2
AVD:差模增益 AVC:共模增益 AVD/AVC:共模抑制比 VICMR:共模输入电压范围 理想差放
Vout AVD (v1 v2 )
电流镜负载差分放大器
大信号分析——输入共模范围ICMR
求ICMR方法:令vID=0,改变vIC直到有一个管子退出饱和区。 最小输入共模电压:
VIC min VGS 2 VDS 5sat VGS 1 VDS 5sat
1.频率响应的极点约等于节点到地的电容和电阻乘积的倒数。 2.电路中的每一个节点对传输函数贡献一个极点。
有源负载反相器的频率响应
例.假设下图所示电路中M1的宽长比为2um/1um,M2的宽长比为1 um/1um,Cgd1=0.5fF,Cbd1=10fF, Cbd2=10fF,Cgs2=2fF,CL=1pF,漏电流ID= 100uA,求小信号增益和-3dB频率。 K ' N W1 L2 110 2 解: A g m1 2.1 V gm2 K 'P W2 L1 501 -3dB角频率约等于主极点频率:
电流镜
1.电流的比值等于管子的宽长比的比值(忽略沟道长度调制效应)
iO W2 L1 iI W1 L2
2.从管子处于饱和区的条件出发,端口导出电压满足的关系
电流镜
例.下图所示电路中,假设M1和M2的宽长比为40/1, M3和M4的宽长 比为120/1,,IREF=0.1mA,试确定VX的值和Vb的允许范围(忽略衬偏 效应)。
2 I REF 2 0.1103 0.7 0.91 V VX VGS 1 VT 解: 6 11010 40 K ' (W / L)1
VDS 1 VGS 1 VT M1饱和: Vb VGS 1 VGS 2 VT
2 I REF K ' (W / L) 2
N+ P--Si
P型Si衬底 (Semiconductor)
MOSFET的工作原理—导通过程
VGS > 0时, 在栅极 下面的二氧化硅中将产 生一个指向P型衬底、且 垂直衬底表面的电场。 电场排斥空穴,吸引电 子到半导体表面。 吸引到栅极附近P型硅表面的电子积累形成N型反型薄层。器 件表面的导电类型从原来的P型反型到现在的N型,导电沟道 形成。
VGS S G D 反型层
N+
E
N+
P--Si
VGS越大吸引到半导体表面的电子就越多,当VGS >VT时,
MOSFET的工作原理—导通过程
继续增大VGS可使形
成的反型层增宽(N型导电 沟道),将源区和漏区连接 起来。VGS越大,反型层越 宽, 源漏间的导电能力越 强。 将开始形成反型层所需的VGS 值称为开启电压VT , 也称为阈值电压。 开启电压VT是增强型MOSFET的重要参数,其大
解:M2工作在饱和区 2 110 2
iD 2 2 (vGG VTN ) 2
(vGG 0.7) 2 100
VGG 2.05V
M1工作在饱和区
iD1
1
2
(VDD vin | VTP |)2
g m1 AV 24.8 增益: g ds1 g ds 2
vin 3.4V
50 5 (5 vin 0.7) 2 100 2
CMOS反相器的频率响应
例.假设下图所示电路中M1的宽长比为1um/1um,M2的宽长比为2 um/1um,Cgd1=0.5fF, Cgd2=0.5fF,Cbd1=10fF, Cbd2=10fF, CL=1pF,漏电流 ID=300uA,电源电压5V,求小信号增益和-3dB频率。
VGS(V)
0
VT VGS =VT
0
5
10 15
20
VDS(V)
VDS =VGS -VT
输入特性曲线
输出特性曲线
MOS管的大信号模型
MOS管的电流电压关系(以NMOS为例):
iD
0COX W
L
[( vGS VT )vDS
1 2 vDS ] 2
0 : 器件表面迁移率[载流子(电子和空穴)在单位电场作用下
线性区电流(以NMOS为例):
vDS W iD K ' [( vGS VT ) ( )]vDS L 2
PMOS的饱和区和线性区电流表达式?
MOS管的小信号模型
小信号模型
输出电阻 增益
1 ro I D
跨导
W g m 2K ' I D L
Av gmro
知识点
1.MOS器件原理 2.电流镜 3.带隙基准 4.反相器(三种类型) 5.差分放大器 6.共源共栅放大器 7.输出放大器 8.运算放大器
带隙基准源
带隙基准源基本不受电源和温度的影响 三极管的基极发射极 电压VBE是负温度系数。
VBE T
300 K
2.2mV / C
两个三极管工作在不 同的电流密度下,其 基极发射极电压的差 值 VBE 是正温度系数。
VBE
kT ln n VT ln n(n为两三极管电流比值 ) q
gm2 p (CM COUT ) 2 K 'P (W / L) 2 I D CL
2 50106 1100106 100M (rad / s) 12 110 -3dB频率 f 3dB 16 M ( Hz ) 2
反相器
例 . 下图所示电路假设M1和M2都工作在饱和区,求需要加多大的 偏置电压VGG可使流过M1和M2的电流为100uA;此时输入电压vin 的直流值为多少;放大器的小信号电压增益为多少。
Vb VGS 1 VT
2 I REF VT VT K ' (W / L) 2
2 0.1103 1.4 6 11010 40
1.61V
获得稳定的输出 电流要求所有管 子饱和,则此时
1.11 V Vb 1.61 V
知识点
1.MOS器件原理 2.电流镜 3.带隙基准 4.反相器(三种类型) 5.差分放大器 6.共源共栅放大器 7.输出放大器 8.运算放大器
知识点
1.MOS器件原理 2.电流镜 3.带隙基准 4.反相器(三种类型) 5.差分放大器 6.共源共栅放大器 7.输出放大器 8.运算放大器
差分放大器
Vout 差动工作方式优点: •抑制共模噪声 •增大了可得到的最大电压摆幅 vID v1 v2 : 差模输入电压 •偏置电路相对简单 v1 v2 •线性对相对高 vIC : 共模输入电压 v1 v2 AVD (v1 v2 ) AVC ( ) 2
-3dB角频率: p ( g ds1 g ds 2 ) (N I D P I D ) (CM COUT ) CL
300106 (0.04 0.05) 27M (rad / s) 12 M ( Hz ) 2
解:假设(W/L)5=m(W/L)1
Vout k V 2 ln(n) EB3 2m ln(n) 8.67102 2.2 0 T q T
Vout mR2 I D1 VEB3 VT I ln(n) VEB1 R1I D1 VEB2 R1 m R2 Vout VT ln(n) VEB3 R1
VG S
S
G
D
反型层
N+
E
N+
P--Si
小主要取决于SiO2层的厚度以及衬底掺杂浓度。
MOSFET的工作原理—饱和过程
器件导通以后,此时在漏源之间加上电压VDS便会产生漏
极电流 ID , 随着VDS的增加ID增加。 由于沟道存在电位梯度,栅极 靠近源极的电位为VGS ,而栅极靠近 漏极的电位则为VGD=VGS-VDS,靠 近漏极的电场较弱,使沟道形状成
只要满足右式的所有m,n均可 m ln(n) 12.7
知识点
1.MOS器件原理 2.电流镜 3.带隙基准 4.反相器(三种类型) 5.差分放大器 6.共源共栅放大器 7.输出放大器 8.运算放大器