溅射镀膜操作流程(谷风技术)
镀膜机操作步骤
镀膜机操作步骤注意：1.清洗前，看片子是否短路，是否大小与样品托合适，蒸镀时放样品托的架子升最高，且旋转。
2.打开电流开关，及时打开ABC舟中一个，打开束源炉，及时打开其中一个启动A、B等。
3.掺杂材料用量覆盖舟底即可。
操作步骤：1、打开总开关，包括冷却水开关和机器开关。
2、打开镀膜机总开关，样品旋转开关，升降开关按钮。
3、将玻璃基板至于样品托中，导电一面向下。
4、蒸镀室、预处理室放气。
5、打开蒸镀室与预处理室之间的闸板阀（顺时针方向关，逆时针方向开），推拉杆推至大真空室中，将样品放到推拉杆上，将推拉杆拉回至预处理中。
关闭闸板阀（顺时关闭，逆时针开）6、打开快门控制电源，打开快门一，更换钨丝（每做一次实验更换一次），将铝丝挂在钨丝上（5个，挂于弯折处），检查蒸镀所需材料。
7、将掩膜版放置于掩膜版架上。
8、打开机械A、机械B泵。
打开四个真空计，关闭放气阀。
9、基片预处理（打开角阀）：当处理室真空度达到4.0E1 (4.0×10)Pa 时关闭预角阀，打开大真空室角阀，再打开紫外轰击电源（直流溅射电源），调节电流0.025-0.030A。
轰击10-15分钟（等预处理室与蒸镀室气压平衡，打开闸板）。
10、插入样品托：再次打开蒸镀室与预处理室之间的闸板阀（顺时针方向开，逆时针方向关），将样品传送至蒸镀室，用机械手抓取样品托，并保持在机械手上；然后将将推拉杆拉回至预处理中，关闭闸板阀；降低蒸镀台（注意样品托挡板位置）与机械手平齐，将样品托轻轻推入蒸镀台下方的样品托导引槽（上方导引槽）。
11、插入掩模板：将样品升降电源调到手动，将蒸镀台旋转180度（用皮带精确定位），用升降盒使蒸镀台最下方的掩模板导引槽与掩膜版库轨道，至于同一水平线上，用机械手将掩膜版轻轻推至蒸镀台的掩模板导引槽。
12、当大真空室的压强为1.2E1的时候，关闭角阀，打开闸板阀。
13、关闭机械泵A，升起样品台。
14、打开分子泵。
抽到6.0-6.5E-4（大概需要两个小时）。
溅射镀膜
溅射镀膜定义：利用高能离子冲击材料靶，从其表面溅射出粒子并沉积在工件表面上形成薄膜的方法。
溅射镀膜的基本方式及原理：溅射镀膜最基本的方法是两电极溅射法。
镀膜是在真空溅射槽内进行的，真空度要达10ⅹ10-3以上，充入一定量惰性气体，以材料靶作为阴极，工件作为阳极，(见图l)在两电极间加上高压使惰性气体电离，Ar+离子被阴极的负高压(一500v)加速，以高速轰击材料靶，从靶面飞溅出来的粒子以足够的速度飞向阳极工件并沉积在其表面上，形成镀层。
图1直流两电极溅镀装置但是这种方法，工件的温升过高，有时高达500℃，这样对于塑料工件或不允许有热变形的精密零件均不能进行镀膜，另外，这种方法的成膜速度慢，膜中也易混入不纯的气体，影响成膜的质量，因此，虽然两电极溅射镀膜的历史悠久，但应用范围受到了限制。
为了克服上述的缺点，先后研制出了各种方式的溅射镀膜装置。
1974年研制出可以在低温下高速溅射的磁控管溅镀装置，为溅射镀膜的进一步发展创造了条件。
溅射镀膜方法的种类◆三电极(四电极)溅射方法三电极溅射装置就是在以前两电极的装置上附加了第三电极的装置，第三电极作为生成等离子用的电子供应源放出热电子。
而又有时为了放射热电子，使放电稳定化设置了稳定化电极，又称作四电极溅射装置。
金属的高速溅镀，制得了几十微米厚的镀层。
但是这种装置不能抑制靶材的高速电子对基板(工件)的轰击，使得工件温度仍上升显著，还有灯丝的寿命也是装置连续工作的障碍。
◆磁控管溅射方法磁控管溅射法是加一个与材料靶表面平行的磁场，如图2由于从靶面飞溅出的高速电子被偏转而不冲击工件，这就克服了由电子冲击工件所引起的温升，同时也促进了惰性气体的离子化。
因而可以在10-3的低气压下，工件处于100℃的条件下进行溅射镀膜。
图2平面型磁控管溅射◆对向靶溅射法由于对于氧化铁、铍莫合金等磁性记录材料的低温、高速成膜要求，研制出了对向靶溅射方式。
如图3所示，把两块靶材相对布置，工件位于靶的一侧，由线圈产生的外加磁场垂直地加在磁性材料靶的表面，在这里磁场H和电场平行。
溅射镀膜的工业流程
溅射镀膜的工业流程下载温馨提示：该文档是我店铺精心编制而成，希望大家下载以后，能够帮助大家解决实际的问题。
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溅射镀膜机安全操作及保养规程
溅射镀膜机安全操作及保养规程操作前须知1.安全第一：在使用溅射镀膜机之前必须遵守相关安全规定，不得轻举妄动。
特别是需要志愿者要进行相关的安全培训并由专业人员指导。
2.清洁检查：在使用溅射镀膜机之前，需要对设备的外部和操作面进行清洁，确保加工环境的清洁度，避免影响工件的质量。
3.仪器检查：在使用过程中需要检查仪器各部件是否正常，如电源、油压、水流等，对于发现不正常情况时，需要及时向专业人员报告，禁止个人修改或拆除。
4.操作流程：在操作溅射镀膜机时需要按照规范操作流程进行。
5.操作规范：根据操作规范按要求进行加工处理，保证工件的生产质量。
安全操作规程1.穿戴防护装备：操作人员在对机器进行操作时，必须穿戴好安全帽、隔热手套等安全设备，确保操作时对人员的身体无危险。
2.注意加工顺序：在加工不同材质的工件时，需要采用不同的加工顺序，不能够把不同的工件一起进行加工，避免造成材质在加工中的交叉污染。
3.避免损伤残留：在加工的过程中需要保证没有废弃物残留在机器上，避免对下一轮的加工产生影响。
4.防止材料的混淆：加工相同材料的工件时，需要按照不同的材料放入对应的料筒中进行加工，以避免材料的混淆。
保养规程在使用溅射镀膜机之后，需要进行机器的保养和维护，以下是一些注意事项：1.清洁工具：在清洁机器时，需要使用专门清洁的工具进行，不能够使用硬质物品对机器进行清洁，以免造成机器的破损。
2.避免振动：对于加工过程中出现的振动问题，需要及时进行处理，避免机器因震动而导致的加工偏差等问题。
3.保证主机稳定性：在进行长时间稳定性加工时，需要保证机器的主机处于稳定状态，不能存在振荡情况，避免影响加工效率。
4.更换压制器：在使用溅射镀膜机的过程中，如果压制器受损需要及时进行更换处理，以免影响加工质量。
5.维护防爆装置：在使用时保持防爆装置的灵敏度，以保证在紧急情况下的人身安全。
结论总而言之，在使用溅射镀膜机的过程中，必须注意相关安全规定和操作要求，遵守规范操作流程，以保证机器稳定运行。
溅射镀膜操作过程
溅射镀膜操作过程镀膜操作过程磁控溅射开启1开总电源，开冷却水2开总控制柜电源开关，开机械泵开关，开V6阀初抽真空（初抽3分钟后可打开复合真空计测真空）3当真空度<10Pa时，可打开电磁阀DF4当真空度<5Pa时即关V6阀，开分子泵（先开电源，等到显示屏显示不断跳跃的450时按下Start）5打开闸板阀G开始抽真空，（30分钟后）当真空度<10-2Pa时可以打开程控真空计测真空6大约抽30分钟看一下真空计读数，真空达到10-4时就可以开始烘烤（切记：烘烤时不能开程控真空计）7烘烤30分钟后关闭烘烤按钮，继续抽真空到所需真空度气体通入1关闭程控真空计，检查气路正常，然后打开（流量计面板上气路控制）电源开关2打开所用气路的截止阀，抽出气路中的残余气体3关闸板阀G（实际上不完全关闭，调到很小）4打开气瓶（先逆时针开主旋钮），再顺时针轻开压力表的次级压力旋钮（气压表气压0.1MPa）5打开所用气路的计量计（对Ar气，对应MFC4）开关，拨至阀控，用调节旋钮调节气路流量大小（如20sscm）6调节闸板阀G使之到所需的工作气压（如一般3Pa）（气压基本稳定时可结合流量计微调，波动范围0.05Pa）溅射1开射频控制柜总电源2开射频电源预热5分钟3开始反溅射（起清洗真空室的作用）。
操作时(拨到反溅档)，先把溅射电压调至50V。
量程按钮调到最大（2000，保护仪表不超过量程），调节功率到设定功率，反射读数调到最低。
按量程到200按钮，调节功率（电压）起辉反溅10分钟，关闭溅射电源4调节闸板阀到所需工作气压（如0.3Pa），开射频电源，电压调至50V，重复步骤3调节到所需功率，起辉预溅5～10分钟（转动挡板挡住样品）清洗靶材。
5移开挡板，打开偏压（设定好）开始溅射（注意把握好时间，到时间旋转挡板）溅射关闭1关射频功率源（旋钮至最低，OFF）2关偏压电源3关基片旋转控制电源（注意顺序）4关射频总控制电源5把旋钮打到反溅关闭气体1先将调节旋钮旋到最低，当流量显示<1.0时再把流量计开关档打到关闭2关闭气路的截止阀（对Ar气是V5）3打开闸板阀，关闭气瓶（先逆时针关次分压）真空系统关闭1关闭闸板阀G2继续抽真空到10-4数量级，关闭分子泵。
镀膜机操作规程(3篇)
第1篇一、前言镀膜机是一种用于在物体表面形成均匀薄膜的设备，广泛应用于光学、电子、建材等行业。
为确保操作安全、设备正常运行以及产品质量，特制定本操作规程。
二、操作前准备1. 检查镀膜机各部件是否完好，包括电源、控制系统、真空系统、喷枪、泵等。
2. 确认设备处于关闭状态，并进行安全防护措施，如关闭电源、切断水源等。
3. 检查工作环境，确保无易燃易爆物品，通风良好。
4. 检查并调整真空系统，确保真空度达到要求。
5. 准备好所需材料，如镀膜液、清洗液、擦拭布等。
三、操作步骤1. 开启电源，启动控制系统，预热设备至设定温度。
2. 检查喷枪是否清洁，如有污垢，需用清洗液清洗干净。
3. 调整喷枪位置，确保喷枪与被镀物体表面保持适当距离。
4. 打开真空泵，逐渐降低设备内部压力，达到所需真空度。
5. 按照工艺要求，调整喷枪速度、角度、压力等参数。
6. 开始喷镀，控制喷镀时间，确保镀膜均匀。
7. 镀膜完成后，关闭喷枪，逐渐提高设备内部压力，使被镀物体缓慢回到常压状态。
8. 检查镀膜质量，如需进一步处理，可进行清洗、烘烤等操作。
四、注意事项1. 操作过程中，严禁触摸高温部件，以免烫伤。
2. 操作时，严禁将手或任何物品伸入喷枪射流范围内，以免受伤。
3. 操作过程中，严禁关闭真空泵，以免损坏设备。
4. 操作结束后，关闭电源，切断水源，清理工作区域。
5. 定期检查设备各部件，确保设备正常运行。
6. 如遇设备故障，立即停止操作，并及时报修。
五、维护保养1. 定期检查真空系统，确保真空度达到要求。
2. 定期清洗喷枪，保持喷枪清洁。
3. 定期检查控制系统，确保控制系统稳定可靠。
4. 定期检查设备各部件，确保设备无松动、损坏等情况。
六、结束本规程为镀膜机操作的基本要求，具体操作需根据实际情况和工艺要求进行调整。
操作人员应严格遵守本规程，确保操作安全、设备正常运行及产品质量。
第2篇一、概述镀膜机是一种用于在物体表面形成均匀薄膜的设备，广泛应用于电子、光学、化工等领域。
真空溅射镀膜生产工艺
真空溅射镀膜生产工艺真空溅射镀膜是一种常用于光学材料、金属材料和半导体材料上的高科技表面处理技术。
其生产工艺主要包括：材料准备、设备调试、真空抽取、材料加热、镀膜、冷却等环节。
首先，材料准备是真空溅射镀膜生产工艺的第一步。
根据所需的镀膜材料和工艺要求，合理选择和准备相应的材料。
通常情况下，需要将材料制备成均匀、无杂质的靶材，保证材料的质量和纯度。
其次，设备调试是确保真空溅射镀膜设备正常运行的关键步骤。
包括设备的安装、电气连接、气路调试等工作。
通过仔细调试各项参数，确保设备能够稳定工作，并满足镀膜工艺要求。
第三，真空抽取是为了排除镀膜环境中的气体和杂质，保证镀膜过程的稳定性和成膜质量。
通常采用机械泵和分子泵等真空抽取装置，在一定时间内将镀膜室内的气体抽取至所需真空度。
然后，材料加热是真空溅射镀膜过程中需要进行的一项操作。
通过加热靶材，使其达到一定温度，从而提高材料的活性和增强溅射效果。
加热方式可以是感应加热、电阻加热或辐射加热，根据实际需要选择合适的加热方式。
接下来，镀膜是整个生产工艺的核心步骤。
通过针对不同材料和工艺要求，调整溅射靶材的放置位置和倾角，控制溅射功率和电子束速度等参数。
在真空环境下，通过溅射靶材，在基材表面形成均匀的薄膜。
最后，冷却是为了加速镀膜过程的冷却和固化，保证膜层的致密性和稳定性。
一般采用水冷却或风冷却方式，在合适的温度范围内对膜层进行冷却处理。
综上所述，真空溅射镀膜生产工艺包括材料准备、设备调试、真空抽取、材料加热、镀膜和冷却等多个环节。
通过合理操作和严格控制各个环节的参数，可以实现镀膜过程的稳定性和膜层的质量。
真空溅射镀膜技术广泛应用于光电子、信息技术和显示器件等领域，对提高材料性能和增强产品功能具有重要意义。
薄膜光学与制作_第03章 02溅射镀膜法
溅射镀膜的基本原理
1.2 正常与异常辉光放电
两电极之间维持辉光放电时，放电电压与电流之间的函数关 系为：在一定的电流密度范围内(可视为2~3个数量级)，放电 电压维持不变。这一区域为正常辉光放电区。在此区域内， 阴极的有效面积随电流的增加而增大，从而使阴极有效区内 电流密度保持不变
当整个阴极均成为有效放电区域后(整个阴极全部由辉光所覆 盖)，只有增加电流密度，才能增大电流，形成均匀稳定的异 常辉光放电，从而均匀地覆盖基片，这个放电区就是溅射区 域
溅射镀膜的基本原理
直流气膜的基本原理 溅射镀膜基于荷能粒子轰击靶材的溅射效应，而整个溅射效 应都是建立在辉光放电的基础之上，即溅射离子都来源于气 体放电
不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同： (a) 直流二极溅射利用的是直流辉光放电 (b) 三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电 (c) 射频溅射是利用射频辉光放电 (d) 磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电
非弹性碰撞对气体放电的产生和等离子体状态的维持至关重 要
溅射镀膜的基本原理
电子碰撞电离过程
溅射镀膜的基本原理
其他电离方式 1 光电离 2 电荷交换 3 潘宁电离 4 中性亚稳态原子间的碰撞电离 5 热电离
溅射镀膜的基本原理
激发-亚稳原子的形成 1 电子碰撞激发
溅射镀膜的基本原理
其他激发方式 1 光致激发 2 离子碰撞激发 3 亚稳态原子造成的激发 4 热激发
溅射镀膜的基本原理
溅射镀膜的基本原理
弹性碰撞：若电子或离子的动能较小，当其与原子或分子碰 撞时，达不到使或者激发或电离的程度，碰撞双 方仅发生动能交换
非弹性碰撞：当电子或离子的动能达到数电子伏以上，碰撞 原子或分子内部状态发生变化，例如造成原子 激发、电离、分子解离、原子复合及电子附着 等。把这种造成原子内部或分子内部状态发生 变化的碰撞称为非弹性碰撞
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JGP-560C双室磁控溅射沉积系统操作规范系统的气路图如图:
一、前期准备：
打开循环水（循环水能及时降温，主要是抽水泵能正常工作），打开墙上电源，打开总电源，打开控制电源
注：循环水的有效降温同样是维持实验条件稳定和实验参数进行的有力保障。
其主要影响设备是抽水泵。
所以在确定水箱充有足够水的前提下还要确保泵的正常工作。
二、抽真空：
1.开机械泵开关；
2.开旁抽阀V1（V7），开复合真空计，对溅射真空室（进样
室）进行抽真空（粗抽真空）；
3.当气压低于20 Pa时，关旁抽阀V1（V7）；
4.开电磁阀DF1（DF2），开闸板阀G2（G3），启动分子泵T1（T2）；
5.开电离真空计（细抽真空）。