简述去离子水处理设备工艺流程概述

去离子水设备的工艺流程大致可分为四种：

第一种：采用阳阴离子交换树脂取得的去离子水，一般通过之后，出水电导率可降到10us/cm以下，再经过混床就可以达到1us/cm以下了。但是这种方法做出来的水成本极高，而且颗粒杂质太多，达不到理想的要求，目前已较少采用了。

第二种：预处理(即砂碳过滤器+精密过滤器)+反渗透+混床工艺

这种去离子水处理设备是目前采用最多的，因为反渗透投资成本也不算高，可以去除90%已上的水中离子，剩下的离子再通过混床交换除去，这样可使出水电导率：0.06-10us/cm左右。这样是目前最流行的方法。

第三种：采用两级反渗透方式

其流程如下：自来水→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→精密过滤器→一级高压泵→一级反渗透→二级高压泵→二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点

第四种：前处理与第二种方法一样使用反渗透，只是后面使用的混床采用EDI连续除盐膜块代替，这样就不用酸碱再生树脂，而是用电再生。这就彻底使整个过程无污染了，经过处理后的水质可达到：电阻率15M(兆欧)以上。但这种方法的前期投资比较多，运行成本低。

根据各公司的情况做适当的投资。最好不过了。其流程如下:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→PH值调节系统→中间水箱→精密过滤器→高压泵→高效反渗透→中间水

箱→EDI水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点

离子交换树脂系统概述

离子交换系统是通过阴、阳离子交换树脂对水中的各种阴、阳离子进行置换的一种传统水处理工艺，阴、阳离子交换树脂按不同比例进行搭配可组成离子交换阳床系统，离子交换阴床系统及离子交换混床系统，而混床系统又通常是用在反渗透等水处理工艺之后用来制取超纯水，高纯水的终端工艺，他是目前用来制备超纯水、高纯水不可替代的手段之一。

其出水电导率可低于1uS/cm以下，出水电阻率达到1MΩ.cm 以上，根据不同的水质及使用要求，出水电阻率可控制在

1~18MΩ.cm之间。被广泛应用在电子、电力超纯水，化工，电

镀超纯水，锅炉补给水及医药用超纯水等工业超纯水，高纯水的制备上。

EDI去离子水设备反应过程及优势简析

EDI去离子水设备反应过程及优势简析电去离子(EDI)是在电渗析器的淡化室中填充离子交换树脂，借助外直流电场的作用使离子选择性地定向迁移，同时利用水的解离再生混床树脂，从而使离子选择性迁移、深度除盐、树脂电化学再生三个过程同时发生，相当于连续获得再生的混床离子交换柱，可高效不间断地生产高纯水。去离子水机EDI膜堆是由夹在两个电极之间一定对数的单元组成。在每个单元内分别用阴、阳离子交换膜形成两类不同的室：淡水室和收集除去杂质离子的浓水室，淡水室中用均匀的阳、阴离子交换树脂填满。去离子水设备进水按一定比例通过浓水室和淡水室。离子在淡水室的反应可以分为4个过程： 1、交换树脂上的离子在电场作用下向浓水室迁移; 2、进水中的离子与树脂结合; 3、水的电离和迁移，迁移到浓水室中的H+和OH-离子又结合成水;

4、由于电场作用，离子不断从树脂上离解，同时在较高的电压梯度作用下，水会电解产生大量的H+和OH-，使树脂不断再生。它们在电场作用下达成平衡(以Na+为例)： Na++R-SO3-←→R-SO3-Na Na++R-SO3H←→H++ R-SO3-Na H++OH-←→H2O EDI与普通混床不同之处在于，进入淡水室中的阴、阳离子先是与树脂结合，而后在直流电场作用下从树脂上不断离解，分别通过阴、阳膜向阳极和阴极移动，树脂同时得以再生。由于上述平衡作用，在水流方向上形成浓度梯度，可根据进水情况和出水要求调节电流(电压)大小，使流出的水为不含阴、阳离子的纯水;由于膜对阴、阳离子的选择通透性，进入浓水室的离子不能通过另一极膜而在浓水室浓缩。典型的去离子水设备EDI系统中，90%的进水是通过淡水室的，10%的进水通过浓水室。为了防止结垢，浓水用泵强制循环。排放的浓水可返回RO再处理，增加了水的利用率。

A_O污水处理工艺流程

A/O工艺——原理、特点及影响因素 1.基本原理 A/O是Anoxic/Oxic的缩写，它的优越性是除了使有机污染物得到降解之外，还具有一定的脱氮除磷功能，是将厌氧水解技术用为活性污泥的前处理，所以A/O法是改进的活性污泥法。 A/O工艺将前段缺氧段和后段好氧段串联在一起，A段DO不大于0.2mg/L，O段DO=2～4mg/L。在缺氧段异养菌将污水中的淀粉、纤维、碳水化合物等悬浮污染物和可溶性有机物水解为有机酸，使大分子有机物分解为小分子有机物，不溶性的有机物转化成可溶性有机物，当这些经缺氧水解的产物进入好氧池进行好氧处理时，提高污水的可生化性，提高氧的效率；在缺氧段异养菌将蛋白质、脂肪等

污染物进行氨化（有机链上的N或氨基酸中的氨基）游离出氨（NH 3、NH4+），在充足供氧条件下，自养菌的硝化作用将NH3-N（NH 4+）氧化为HO3-，通过回流控制返回至A池，在缺氧条件下，异氧菌的反硝化作用将NO3-还原为分子态氮（N2）完成C、N、O在生态中的循环，实现污水无害化处理。 2.主要工艺特点 1.缺氧池在前，污水中的有机碳被反硝化菌所利用，可减轻其后好氧池的有机负荷，反硝化反应产生的减度可以补偿好氧池中进行硝化反应对碱度的需求。 2.好氧在缺氧池之后，可以使反硝化残留的有机污染物得到进一步去除，提高出水水质。 3.BOD5的去除率较高可达90～95%以上，但脱氮除磷效果稍差，脱氮效率70～80%，除磷只有20～30%。尽管如此，由于A/O 工艺比较简单，也有其突出的特点，目前仍是比较普遍采用的工艺。该工艺还可以将缺氧池与好氧池合建，中间隔以档板，降低工程造价，所以这种形式有利于对现有推流式曝气池的改造。

废水处理工艺及流程说明

福建晶安光电有限公司1300吨/天生产废水处理工艺流程和设计说明一、处理对象和来源本项目废水为生产废水。由外缘切割机、晶棒掏取机、滚切机、各道磨工序的磨床、切片机、倒角机、研磨机、铜抛机、粗抛机和细抛机等工序后的清洗环节产生废水。此外，还有废气处理装臵的外排水、车间地面清洗水、纯水设备冲洗水等生产废水。生产废水总排放量一期为649.07m3/d，二期建成后全厂总量为1298.14m3/d，目前湖头污水处理厂尚未建成，因此近期项目废水经处理达一级标准后排入西溪。二、废水处理系统进水水质、水量废水产生量及对应的处理设施设计规模单位：t/d 有机研磨抛光酸碱一期废水产生量88.6 269.78 133.65 157.04 二期废水产生量88.6 269.78 133.65 157.04 处理设施设计规模180 540 280 300 注：废水处理系统一天运行20h，总设计水量应在1300t/d。项目运营期间产生的酸洗废液、氨洗废液、切削废液作为危废分类集中收集处臵，暂存在厂区内危险废物储存场（设臵于废水处理站旁，设3 个塑料储罐，容积均为20m3，同时设一个地下储池，容积为100m3），每两周由有资质的危废处理单位清运一次；其它各工序废液可进入废水处理站处理（生活污水单独处理）。项目废水的进水水质 CODCr BOD5 SS 氨氮总磷LAS 有机废水3000 1800 800 50 10 50 研磨废水1000 800 2300 40 3 45 抛光废水1500 900 1000 45 3 60 酸碱废水450 100 250 456 -- 80

三、废水处理系统出水水质根据环评要求，该项目产生的废水经处理排放执行国家《污水综合排放标准》中GB8978-96 表4一级标准，具体数值见下表。排放执行GB8978-96表4一级标准项目单位标准限值（一级） pH值无量纲6～9 悬浮物(SS) mg/L ≤70 五日生化需氧量(BOD5) mg/L ≤20 化学需氧量（COD）mg/L ≤100 氨氮（NH3-N）mg/L ≤15 总磷mg/L ≤0.5 LAS mg/L ≤5 备注：本项目仅针对以上水质指标进行监测，其余指标不在本处理范围内。

去离子水设备工艺原理及应用领域概述

去离子水设备工艺原理及应用领域概述去离子水设备是通过阴、阳离子交换树脂对水中的各种阴、阳离子进行置换的一种传统水处理工艺，阴、阳离子交换树脂按不同比例进行搭配可组成离子交换阳床系统，离子交换阴床系统及离子交换混床系统，而混床系统又通常是用在反渗透等水处理工艺之后用来制取超纯水，高纯水的终端工艺，他是目前用来制备超纯水、高纯水不可替代的手段之一。其出水电导率可低于1uS/cm以下，出水电阻率达到1MΩ.cm以上，根据不同的水质及使用要求，出水电阻率可控制在1~18MΩ.cm之间。被广泛应用在电子、电力超纯水，化工，电镀超纯水，锅炉补给水及医药用超纯水等工业超纯水，高纯水的制备上。离子交换设备是传统的去离子水设备，它的产水水质稳定，造价相对较低。在以往的电厂锅炉补给水都是采用阳床+阴床+ 混床处理工艺。近年来，随着反渗透、EDI等工艺的发展，去离子水设备操作复杂，不容易实现自动化，浪费酸碱，运行成本高等缺点更加突出，目前更多的应用于反渗透的深度处理。

小型的去离子水设备常采用有机玻璃交换柱，有利于观察树脂运行情况。如混合离子交换器再生分层是否充分，阳离子是否“中毒”等，树脂损耗情况等。大型的去离子水设备则采用碳钢内衬环氧树脂或衬胶，中间预留可视装置，以便于离子再生时在线观测再生液水位状况。 1、工业超纯水处理工艺，是目前工业用超纯水的制备上应用最多的一种工艺之一。 2、食品工业离子交换树脂可用于制糖、味精、酒的精制、生物制品等工业装置上。 3、制药工业离子交换树脂对发展新一代的抗菌素及对原有抗菌素的质量改良具有重要作用。链霉素的开发成功即是突出的例子。 4、合成化学和石油化学工业在有机合成中常用酸和碱作催化剂进行酯化、水解、酯交换、水合等反应。 5、电镀废液中的金属离子，回收电影制片废液里的有用物质等。去离子水设备工作原理

污水处理工艺流程

污水处理工艺流程工业废水处理理论一、工业废水（Industrial Wastewater）的含义和分类定义：指工业企业各行业生产过程中产生和排放的废水。包括：生产污水（包括生活污水）和生产废水两大类。二、工业废水的分类、种类、指标 1分类按行业的产品加工对象：冶金、造纸、纺织、印染等。按工业废水中主要污染物分：无机废水（电镀、矿物加工），有机废水（食品加工）按废水中污染物的主要成分：酸性、碱性、含酚等按处理难易程度和危害性分：易处理危害性小的废水，易生物降解无明显毒性的废水，难生物降解又有毒性的废水。 2工业废水造成环境污染的种类 1)含无毒物质的有机废水和无机废水的污染； 2)含有毒物质的有机废水和无机废水的污染； 3)含有大量不溶性悬浮物废水的污染； 4)含油废水产生的污染； 5)含高浊度和高色度废水产生的污染； 6)酸性和碱性废水产生的污染； 7)含有多种污染物质废水产生的污染； 8)含有氮、磷等工业废水产生的污染。三、工业废水处理方法概述 1 工业废水的物理处理（Physical Treatment）定义：应用物理作用没有改变废水成分的处理方法称为物理处理法；操作单元（Operating Units）：调节（Adjust）、离心分离（CentrifugalSeparation）、除油（Oil Elimination）、过滤（Filtration）等。废水经过物理处理过程后并没有改变污染物的化学本性，而仅使污染物和水分离。 2 工业废水的化学处理（Chemical Treatment）定义：应用化学原理和化学作用将废水中的污染物成分转化为无害物质，使废水得到净化的方法称为化学处理。操作单元（Operating Units）：中和（ Neutralization）、化学沉淀（ Chemical Precipitation）、药剂氧化还原（Chemical Oxidation Reduction）、臭氧氧化(Ozone Oxidation )、电解(Electrolysis)、光氧化法(Photo- Oxidation)等。污染物在经过化学处理过程后改变了化学本性，处理过程中总是伴随着化学变化。 3工业废水的物理化学处理（Physic-chemicalTreatment）定义：废水中的污染物在处理过程中是通过相转移的变化而达到去除的目的的处理方法称为物理化学处理。操作单元（Operating Units）：混凝（Coagulation）、气浮（Floatation）、吸附(Adsorption)、离子交换(Ion Exchange)、电渗析(Electro-dialysis)、扩散渗析(Diffusion Dialysis)、反渗透(Reverse Osmosis)、超滤(Ultra Filtrate)等。污染物在物化过程中可以不参与化学变化或化学反应，直接从一相转移到另一相，也可以经过化学反应后再转移。

污水处理厂的工艺流程设计

目录设计任务书 2 第一章环境条件 4 第二章设计说明书 5 第三章污水厂工艺设计及计算 7 第一节格栅 7 第二节推流式曝气池 9 第三节沉淀池 11 第四节混凝絮凝池 14 第五节气浮池 15 第六节污泥浓缩池 17 第七节脱水机房 19 第八节其他 19 第四章水头损失 21 第五章总结与参考文献 22

设计任务书 1 设计任务：某化工区2.5万m3/d污水处理厂设计 2 任务的提出及目的，要求： 2.1 任务的提出及目的：随着经济飞速发展，人民生活水平的提高，对生态环境的要求日益提高，要求越来越多的污水处理后达标排放。在全国乃至世界范围内，正在兴建及待建的污水厂也日益增多。有学者曾根据日处理污水量将污水处理厂分为大、中、小三种规模：日处理量大于10万m3为大型处理厂，1-10m3万为中型污水处理厂，小于1万m3的为小型污水处理厂。近年来，大型污水处理厂建设数量相对减少，而中小型污水厂则越来越多。如何搞好中、小型污水处理厂，特别是小型污水厂，是近几年许多专家和工程技术人员比较关注的问题。根据所确定的工艺和计算结果，绘制污水处理厂总平面布置图，高程图，工艺流程图。 2.2 要求： 2.2.1 方案选择合理，确保污水经处理后的排放水质达到国家排放标准 2.2.2 所选厂址必须符合当地的规划要求，参数选取与计算准确 2.2.3 全图布置分区合理，功能明确；厂前区，污水处理区污泥处理区条块分割清楚。延流程方向依次布置处理构筑物，水流创通。厂前区布置在上风向并用绿化隔离带与生产区隔离，以尽量减少对厂前区的影响，改善厂前区的工作环境。 2.2.4 构筑物的布置应给厂区工艺管线和其他管线设有余地，一般情况下，构筑物外墙距道路边不小于6米。 2.2.5 厂区设置地坪标高尽量考虑土方平衡，减少工程造价，同时满足防洪排涝要求。 2.2.6 水力高程设计一般考虑一次提升，利用重力依次流经各个构筑物，配水管的设计需优化，以尽量减少水头损失，节约运行费用， 2.2.7 设计中应该避免磷的再次产生，一般不主张采用重力浓缩池，而是采用机械浓缩脱水的方式，随时将排出的污泥进行处理。 2.2.8 所选设备质优、可靠、易于操作。并且设计必须考虑到方便以后厂区的改造。 2.2.7 附有平面图，高程图各一份。 3 设计基础资料：该区为A市重要的工业及化工区，化工业门类比较齐全，主要为石油化工类，并规模较大，具有的化工厂目前为十多家，每天排出生活污水量8000m3左右，工业废水量为18000m3，污水BOD、COD、SS、酸、碱、硫化物、石油、苯等浓度较高，若未经处理处理直接排海，将会对生态环境造成重大影响，根据化工区规划，必须建设一座污水处理厂。 3.1 水量最大时水量：1042m3/h 总设计规模为25000m3/d。(远期设计规模为：100000 m3/d)

电子行业去离子水处理设备的行业必要性

电子行业去离子水处理设备的行业必要性电子行业去离子水处理设备的行业必要性体现在很多方面。去离子水/超纯水在电子工业主要是线路板、电子元器件生产中的重要作用日益突出，去离子/超纯水水质已成为影响线路板、电子元器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一，水质要求也越来越高。在电子元器件生产中，去离子水/超纯水主要用作清洗用水及用来配制各种溶液、浆料，不同的电子元器件生产中纯水的用途及对水质的要求也不同。在晶体管、集成电路生产中，去离子水/超纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片，水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低，Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，Ⅴ族元素(P、As、Sb等)会使 P型半导体特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的 20-50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏，水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片表面，就会引起电1 路短路或特性变差。集成电路生产对纯水水质的要求见表．

表1 集成电路(DRAM)对纯水水质的要求去离子水/超纯水中杂质的污染源 1.水源的影响由于水是一种溶解能力很强的溶剂,因此天然水中含有各种盐类和化合物,溶有CO2, 还有胶体(包括硅胶和腐殖质胶体),天然水中还存在大量的非溶解性质,包括粘土、砂石、细菌、微生物、藻类、浮游生物、热源等。 2.材料的影响制备离子水/超纯水的材料设备的材质都是用金属和塑料制成的,金属在水中会有痕量溶解,造成金属离子污染。一些高分子材料,在合成时常常加入各种添加剂、增塑剂、紫外吸光剂、着同时还会带来有机污染。非金属杂质，也引入大量的金属、色剂， RO纯水系统和EDI超纯水系统可广泛应用于光伏光电、液晶显示、偏光片、ITO导电膜、电子电器、半导体、线路板、食品饮料、医学化工、电厂、生活饮水、化妆品等行业。

污水处理的方法和工艺流程介绍

污水处理的方法和工艺流程介绍污水处理按照处理程度划分，可分为一级、二级和三级处理。一级处理，属于物理处理，主要去除污水中呈悬浮状态的固体污染物质，物理处理法大部分只能完成一级处理的要求。经过一级处理的污水，BOD一般可去除30%左右，达不到排放标准。一级处理属于二级处理的预处理。二级处理，主要去除污水中呈胶体和溶解状态的有机污染物质(BOD，COD物质)，去除率可达90%以上，使有机污染物达到排放标准。三级处理，进一步处理难降解的有机物、氮和磷等能够导致水体富营养化的可溶性无机物等。主要方法有生物脱氮除磷法，混凝沉淀法，砂滤法，活性炭吸附法，离子交换法和电渗分析法等。整个过程为通过粗格栅的原污水通过污水提升泵提升后，流经格栅或者砂滤器，之后进入沉砂池，经过砂水分离的污水进入初次沉淀池，以上为一级处理，初沉池的出水进入生物处理设备，有活性污泥法和生物膜法，(其中活性污泥法的反应器有曝气池，氧化沟等，生物膜法包括生物滤池、生物转盘、生物接触氧化法和生物流化床)，生物处理设备的出水进入二次沉淀池，二沉池的出水经过消毒排放或者进入三级处理，一级处理结束到此为二级处理，三级处理包括生物脱氮除磷法，混凝沉淀法，砂滤法，活性炭吸附法，离子交换法和电渗析法。二沉池的污泥一部分回流至初次沉淀池或者生物处理设备，一部分进入污泥浓缩池，之后进入污泥消化池，经过脱水和干燥设备

后，污泥被最后利用。典型的五种工艺 (1)间歇活性污泥法(SBR) 间歇活性污泥法也称序批式活性污泥法(SequencingBatchreactor-SBR)，它由个或多个SBR池组成，运行时，废水分批进入池中，依次经历5个独立阶段，即进水、反应、沉淀、排水和闲置。进水及排水用水位控制，反应及沉淀用时间控制，一个运行周期的时间依负荷及出水要求而异，一般为4～12h，其中反应占40%，有效池容积为周期内进水量与所需污泥体积之和。比连续流法反应速度快，处理效率高，耐负荷冲击的能力强;由于底物浓度高，浓度梯度也大，交替出现缺氧、好氧状态，能抑制专性好氧菌的过量繁殖，有利于生物脱氮除磷，又由于泥龄较短，丝状菌不可能成为优势，因此，污泥不易膨胀;与连续流方法相比，SBR法流程短、装置结构简单，当水量较小时，只需一个间歇反应器，不需要设专门沉淀池和调节池，不需要污泥回流，运行费用低。 (2)吸附再生(接触稳定)法这种方式充分利用活性污泥的初期去除能力，在较短的时间里(10～40min)，通过吸附去除废水中悬浮的和胶态的有机物，再通过液固分离，废水即获得净化，BOD5可去除85%～90%左右。吸附饱和的活性污泥中，一部分需要回流的，引入再生池进一步氧化分解，恢复其活性;另一部分剩余污泥不经氧化分解即排入污泥处理系统。分别在两池(吸附池和再生他)或在同一池的两段进行。它适应负荷冲

超纯去离子水设备安全操作规程(标准版)

( 操作规程 ) 单位：_________________________ 姓名：_________________________ 日期：_________________________ 精品文档 / Word文档 / 文字可改超纯去离子水设备安全操作规程(标准版) Safety operating procedures refer to documents describing all aspects of work steps and operating procedures that comply with production safety laws and regulations.

超纯去离子水设备安全操作规程(标准版) ①：设备操作人员必须接受专业培训,熟读《安全操作规程》和《操作说明书》后才能管理操作该设备生产工艺用水； ②：每天上下班前须检查接地连接是否良好,设备箱内线路是否有松落,电路是否通畅,如有相关异常及时与电工联系; ③：上下班前检查各仪表是否完好,各显示屏是否有不明确,检查各阀门开放情况是否正确和各软接管道的完好情况,如有异常必须及时修理; ④：上班前须先清理设备上的灰尘,以免影响生产; ⑤：工艺用水在生产时必须有专人在场关注设备上各个仪表和各个显示屏的情况,如有压力表压力过大,则停止生产工艺水,处理和更换相应设备后再启动设备,其中PH值(6-9).极水流量和浓水流量必须大于等于1.0L/min;

⑥：设备运行时要检查电机的风扇和温度，电机的温度不应过热； ⑦：设备的机箱应常处于关笔状态，请勿将水和汗液洒入机箱和电机上； ⑧：停电3天以上需要重新设置多介质过滤器和碳过滤器上的仪表； ⑨：当设备出现故障，请紧急致动停机。一定要查明原因后处理再启动，必要时反映到公司领导和设备厂家；（故障排除见操作说明） ⑩：非操作人员请勿触摸设备的开关按钮和阀门以免影响设备运行。制定：曾耀审核：审批：云博创意设计 MzYunBo Creative Design Co., Ltd.

设备故障应急处理预案完整版本

设备故障应急处理预案 1 设备维修程序 1.1 设备需要维修，使用部门如实填报报修单，部门负责人签字后送工程部。 1.2 急需维修时，使用部门也可直接电话通知工程部。 1.3 工程部接报修单或电话后应在5分钟内及时派工，维修人员到达现场后，凭报修单进行维修。特殊情况可先维修，然后补报修单。 1.4 修复后使用部门应在报修单上签字认可。 1.5 无法修复时，维修工应将无法修复的原因写在报修单上，签字并送工程部负责人手中 1.6 工程部负责人根据情况，属零配件问题的，可按程序填报申报表；属技术原因无法修复的，在2-4小时内报主管总经理。 1.7 关于维修时现场维修应注意的礼仪，按《维修服务规范》执行。 2 公共部位巡查检修对于几个部门共同使用且较难界定由谁负责的公共部位设施设备，工程部派人进行巡查检修。每周一次，做好记录，一般故障由巡查员现场修复，重大故障由巡查员汇报当班负责人后安排检修。当设备发生故障时 1、先停用故障设备，起动备用设备，防止故障设备的故障扩大及防止影响服务区域。 2、自动化的设备失灵后，即安排人员进行手动操作确保服务区域正常，与此同时再积极组织抢修。 3、降低设备的负荷，减少服务范围，尽力保证不影响对客服务。 4、如空调设备发生问题时，应严格控制新风量，确保空调区域的温度。停电一、事故停电 1、事故停电是指外供电线路发生事故造成停电，这种停电分大面积停电无法恢复和瞬间闪断两种。 2、事故停电由于属于突发事件，所以情况一般都非常紧急需要各部门协调工作。 3、配电值班人员发现停电后要第一时间询问供电部门停电原因，及时通知大堂副理、夜间要通知值班经理、部门经理、及酒店各相关值班岗位。

污水处理厂工艺流程简述

进水口工艺规程进水口作用及组成 1、作用：调节污水处理水量，满足设计要求（将多余污水挡在粗格栅前）。 2、系统组成：进水口分为二个水渠，每个水渠由前后二台闸门控制流量，正常时两个闸门基本保持全开状态，保证污水的通过性。二、工艺控制 1、运行：闸门控制为手动，通过转动驱动装置上的手轮开启和关闭。 2、工艺控制：闸门开度根据需要水量确定，原则上闸门应保持全开。调整好后不应随意调整。为确保水渠的前后闸门完好，每月将会对每个水渠的前后闸门进行检查，检查时应两个水渠分次单独检查，先关闭进水口的闸门，后关闭出水口的闸门，检查闸门手轮是否能转动，闸门关闭后是否还能过水；检查完毕应先打开出水口的闸门，后打开进水口的闸门。三、运行人员按照巡视制度定时观察并记录进水水渠和闸门使用情况，闸门前后水位情况。粗格栅工艺规程粗格栅作用及组成 1.粗格栅作用：拦截污水中大的漂浮物，以免堵塞后续单元的设备和工艺渠（管）道。 2.系统组成：粗格栅井分为两格，每格内设回转式格栅除污机一台，互为备用。格栅井深 8m，栅条净间隙 b=20mm，栅条倾角70°。污水提升泵房工艺规程污水泵房作用及组成 1．污水提升泵的作用：将污水一次提升至细格栅，使后续处理单元实现重力自流。 2．系统组成泵集水井设有超声波液位计和浮球开关。液位为直读式，浮球用于保护水泵，低液位时停机。细格栅工艺规程

细格栅系统作用和组成 1.细格栅作用：进一步拦截粗格栅未能去除的较小漂浮物，以免堵塞后续单元的设备和工艺渠道。 2.系统组成细格栅间共设3条水道，各设回转式固液分离机一台（一期2台，二期1台）,细格栅机栅条净间隙b=6mm，2用1备。细格栅配有一套螺旋输渣机和压渣机，输送细格栅拦截的渣物和栅渣（污物）脱水。曝气沉砂池工艺规程曝气沉砂池系统作用和组成 1. 曝气沉砂池功能：采用平流式曝气沉砂工艺，将积于池底的砂定时用吸砂泵抽至砂水分离器进行砂水分离，表面浮渣被刮到清空池中处理。 2.系统组成曝气沉砂池共2座，同时使用。每座沉砂池设桥式刮渣抽砂系统各一套和砂水分离器两套（一、二期各一套），空气由鼓风机房罗茨鼓风机供给。连续曝气，抽砂为连续抽砂，当砂量较多时，应改为延时抽砂，抽砂间隔时间可根据具体情况设定。初沉池系统工艺规程初沉池系统作用及组成 1.初沉池作用：去除污水中部分固体污染物，同时在整个工艺系统中起到调节池的作用。 2.系统组成初沉池共四座（一期两座，二期两座），二沉池采用中心进水周边出水圆形辐流形式沉淀池，每池设吸刮泥机一台，其中一期初沉池水力停留时间：，表面负荷： m3/m2·h，池内径：D＝33 m；有效水深：h＝4 m；二期初沉池水力停留时间：，表面负荷： m3/m2·h，池内径：D＝30 m；有效水深：h＝ m 生物池工艺规程生物池作用及组成

生活污水处理工艺流程

生活污水处理工艺流程随着人们生活水平的提高，生活污水排放越来越严重。在这样的形式下，生活污水处理工艺也在不断改进，下面我们来了解一下最新的污水处理工艺流程。曝气生物滤池生活污水处理工艺流程污水处理工艺流程简介：曝气生物滤池，就是在生物滤池处理装置中设置填料，通过人为供氧，使填料上生长大量的微生物。这种污水处理工艺流程装置由滤床、布气装置、布水装置、排水装置等组成。曝气装置采用配套专用曝气头，产生的中小气泡经填料反复切割，达到接近微控曝气的效果。由于反应池内污泥浓度高，处理设施紧凑，可大大节省占地面积，减少反应时间。城市污水SPR除磷工艺污水处理工艺流程简介：水体富营养化主要原因是人类向水体排放了大量的氨氮和磷，磷更是水体富营养化的最主要因素。纵观国内污水处理流程工艺，除磷技术一直是困扰污水处理厂运行的难题。传统的物化除磷技术需要大量的药剂，具有运行成本高，污泥产量大的缺点；前置厌氧的生物除磷工艺具有运行费用低的优点，但是由于完全依赖于微生物的摄磷、释磷作用，难以达到国家污水处理工艺流程的要求。当考虑中水回用时，则更难以达到要求。

实物流程图图一：格栅间。初次沉淀池。图三：曝气池。

二次沉淀池。消化池

微波化学污水处理工艺不同于传统的污水处理工艺，其优点是工艺流程大大简化，且减少大量的管网工程，对进水的pH，浓度、温度等无特殊要求，工艺流程图见图。流程说明： 1格栅：（对水中有较大颗粒物的水质，如城市生活污水），清除砂石、木块、塑料等大块杂物； 2调节池：调节水量和水质，降低对后续处理构筑物的冲击负荷； 3混合器：将污水与投加的1＃、2＃添加剂进行充分混合与振荡； 4微波反应器：污染物与添加剂进行物理化学反应以及微波低温催化的物化反应； 5沉降过滤一体化设备：实现固液分离，达到排放或回用目的，污泥则脱水外运或用作其他用途。水中污染物是在添加剂与微波的共同作用下，发生剧烈的催化、物理化学反应，转化成不可溶物质或气体从水中分离，水中的大分子、难降解的有机污染物在微波及添加剂的共同作用下，被分解为小分子，与添加剂结合生成速沉絮体物去除；金属离子可直接与添加剂结合生成速沉絮体物沉淀；氨氮转化为氨气逸出；水中磷转化为不可溶解磷酸盐沉淀去除。

去离子水设备四种不同的膜分离

去离子水设备四种不同的膜分离去离子水设备运用技术中，膜处理工艺占绝大部分比重，目前市场上稳定运行的设备，98%的离子依靠膜分离去除。 1、微滤(MF)，又称微孔过滤，它属于精密过滤，其基本原理是筛孔分离过程。微滤膜的材质分为有机和无机两大类，有机聚合物有醋酸纤维素、聚丙稀、聚碳酸酯、聚砜、聚酰胺等。无机膜材料有陶瓷和金属等。鉴于微孔滤膜的分离特征，微孔滤膜的应用范围主要是从气相和液相中截留微粒、细菌以及其他污染物，以达到净化、分离、浓缩的目的。 2、超滤(UF)，是介于微滤和纳滤之间的一种膜过程，膜孔径在0.05um至1000分子量之间。超滤是一种能够将溶液进行净化、分离、浓缩的膜分离技术，超滤过程通常可以理解成与膜孔径大小相关的筛分过程。以膜两侧的压力差为驱动力，以超滤膜为过滤介质，在一定的压力下，当水流过膜表面时，只允许水及比膜孔径小的小分子物质通过，达到溶液的净化、分离、浓缩的目的。 3、纳滤(NF)，是介于超滤与反渗透之间的一种膜分离技术，其截留分子量在80-1000的范围内，孔径为几纳米，因此称纳滤。基于纳滤分离技术的优越特性，其在制药、生物化工、食品工业等诸多领域显示出广阔的应用前景。

4、反渗透(RO)，是利用反渗透膜只能透过溶剂(通常是水)而截留离子物质或小分子物质的选择透过性，以膜两侧静压为推动力，而实现的对液体混合物分离的膜过程。反渗透是膜分离技术的一个重要组成部分，因具有产水水质高、运行成本低、无污染、操作方便运行可靠等诸多优点，而成为海水和苦咸水淡化，以及纯水制备的最节能、最简便的技术。目前已广泛应用于医药、电子、化工、食品、海水淡化等诸多行业。反渗透技术已成为现代工业中首选的水处理技术。技术资料由莱特莱德合肥去离子水设备公司提供

污水处理厂的工艺流程WORD

污水处理厂的工艺流程- 污水处理摘要：随着科技的发展和社会的不断进步，人们的生活质量和水平不但提高，但日益发展的科技和工业生产等，使得社会中的污水量越来越多，破坏了社会环境和生态平衡。所以要想提高社会的生态环境质量，就需要加大对污水的处理问题进行研究和探讨。污水处理主要是通过对污水进行集中、过滤、消毒等一系列的程序进行，最后得到达标的处理水。由于在处理中会涉及到很多个环节和处理工艺，再加上条件的复杂性等，降低了污水处理厂的工作效率和工作质量。该文主要针对污水处理厂的工艺流程问题进行研究和探讨，并根据存在的问题提出合理化的建议和措施。关键词：污水处理厂生产技术工艺流程研究探讨建议措施随着科技的发展和技术的成熟，污水处理厂的生产工艺和生产技术也在不断的革新和发展，但具体还是要通过粗格栅、污水泵、细格栅、沉沙池、生化池、终沉池和过滤池等环节，通过各个程序的连续操作，采用一系列的处理方式来达到净水的目的。 1 污水处理 1.1 污水处理污水处理主要是指通过采用合理有效的处理手段，采用有效的设备和空间对收集的污水进行过滤和消毒等，排出后可以供再次使用，或者排入到某个特定的区域，不构成环境和生态的污染。 1.2 污水处理等级通常按照污水处理的等级将污水处理分为三个等级，分别一级、

二级和三级处理等。（1）一级处理主要是消除污水中的悬浮颗粒物和固体物质等，一级处理可以采用物理处理法进行处理，通过可以达到30%的处理，满足不了排放的标准和要求，一般为二级处理的前奏。（2）二级处理主要是消除污水中的有机污染物或者溶解状态的物质，包括BOD.COD物质，消除90%以上的污染，满足排放要求。（3）三级处理属于高等级的污水处理，将污水中的可溶性无机物和氮磷等元素消除掉，具体的可以采用砂率法、混凝沉淀法和活性炭吸附法等，另外还可以使用电渗分析法和离子交换法等技术来处理。 1.3 污水处理方法污水处理的一般过程是通过厂区获取一定量的待处理污水，然后通过截流井让污水进入到厂区处的粗栅格中，去除过大的渣滓，经过污水泵后经污水提升到一定高度，然后在流入到细格栅，去除掉较小的渣滓，利用重力分离的原理在沉沙池将污水跟沙分离，排除较大的颗粒物，然后再转到生化池，此时采用活性强的污泥将水中的SS、BOD5和其他的氮和磷等消除掉，通过终沉池排除剩下淤泥后进入到D型过滤池，彻底消除掉SS，最后进行紫外线消毒来消灭水中的大肠杆菌等细菌，排除过滤后的水。在进行污水处理时采用物理处理法、生化处理法和化学处理法等，通常生化处理法将被运用在城市生活污水的主流处理上，例如具体的方式可以采用mbr和活性污泥法等。 1.4 污水处理中各构筑物的作用和能耗分析（1）污水提升泵房。污水提升泵房的耗能占据了污水处理厂生

污水处理厂工艺流程图

污水处理工艺流程图污水进入厂区先通过截流井（让厂能处理的污水进入厂区进行处理）进入粗格栅（打捞较大的渣滓）到污水泵（提升污水的高度）到细格栅（打捞较小的渣滓）到沉沙池（以重力分离为基础，将污水的比重较大的无机颗粒沉淀并排除）到生化池（采用活性污泥法去除污水里的BOD5、SS和以各种形式的氮或磷）进入终沉池（排除剩余污泥和回流污泥）进入D型滤池（进一步减少SS，使出水达到国家一级标准）进入紫外线消毒（杀灭水中的大肠杆菌）然后出水生化池、终沉池出的污泥一部分作为生化池的回流污泥，剩下的送入污泥脱水间脱水外运主要有物理处理法，生化处理法和化学处理法，生化处理法经常被使用，主流处理方法主要看被处理水质和受纳水体情况，一般城市生活污水的主流处理方法为生化处理法，如活性污泥法，mbr 等方法。污水处理 sewage treatment.wastewater treatment 为使污水经过一定方法处理后.达到设定的某些标准.排入水体.排入某一水体或再次使用等的采取的某些措施或者方法等. 现代污水处理技术.按处理程度划分.可分为一级.二级和三级处理. 一级处理.主要去除污水中呈悬浮状态的固体污染物质.物理处理法大部分只能完成一级处理的要求.经过一级处理的污水.BOD一般可去除30%左右.达不到排放标准.一级处理属于二级处理的预处理. 二级处理.主要去除污水中呈胶体和溶解状态的有机污染物质(BOD.COD 物质).去除率可达90%以上.使有机污染物达到排放标准. 三级处理.进一步处理难降解的有机物.氮和磷等能够导致水体富营养化的可溶性无机物等.主要方法有生物脱氮除磷法.混凝沉淀法.砂率法.活性炭吸附法.离子交换法和电渗分析法等. 整个过程为通过粗格删的原污水经过污水提升泵提升后.经过格删或者筛率器.之后进入沉砂池.经过砂水分离的污水进入初次沉淀池.以上为一级处理(即物理处理).初沉池的出水进入生物处理设备.有活性污泥法和生物膜法.(其中活性污泥法的反应器有曝气池.氧化沟等.生物膜法包括生物滤池.生物转盘.生物接触氧化法和生物流化床).生物处理设备的出水进入二次沉淀池.二沉池的出水经过消毒排放或者进入三级处理.一级处理结束到此为二级处理.三级处理包括生物脱氮除磷法.混凝沉淀法.砂滤法.活性炭吸附法.离子交换法和电渗析法.二沉池的污泥一部分回流至初次沉淀池或者生物处理设备.一部分进入污泥浓缩池.之后进入污泥消化池.经过脱水和干燥设备后.污泥被最后利用.

污水处理方法和工艺流程

一、污水处理工艺流程污水处理按照处理程度划分，可分为一级、二级和三级处理。一级处理，属于物理处理，主要去除污水中呈悬浮状态的固体污染物质，物理处理法大部分只能完成一级处理的要求。经过一级处理的污水，BOD一般可去除30%左右，达不到排放标准。一级处理属于二级处理的预处理。二级处理，主要去除污水中呈胶体和溶解状态的有机污染物质(BOD，COD物质)，去除率可达90%以上，使有机污染物达到排放标准。三级处理，进一步处理难降解的有机物、氮和磷等能够导致水体富营养化的可溶性无机物等。主要方法有生物脱氮除磷法，混凝沉淀法，砂滤法，活性炭吸附法，离子交换法和电渗分析法等。整个过程为通过粗格栅的原污水通过污水提升泵提升后，流经格栅或者砂滤器，之后进入沉砂池，经过砂水分离的污水进入初次沉淀池，以上为一级处理，初沉池的出水进入生物处理设备，有活性污泥法和生物膜法，(其中活性污泥法的反应器有曝气池，氧化沟等，生物膜法包括生物滤池、生物转盘、生物接触氧化法和生物流化床)，生物处理设备的出水进入二次沉淀池，二沉池的出水经过消毒排放或者进入三级处理，一级处理结束到此为二级处理，三级处理包括生物脱氮除磷法，混凝沉淀法，砂滤法，活性炭吸附法，离子交换法和电渗析法。二沉池的污泥一部分回流至初次沉淀池或者生物处理设备，一部分进入污泥浓缩池，之后进入污泥消化池，经过脱水和干燥设备后，污泥被最后利用。二、典型的五种工艺（1）间歇活性污泥法（SBR）间歇活性污泥法也称序批式活性污泥法（SequencingBateactor-SBR），它由个或多个SBR池组成，运行时，废水分批进入池中，依次经历5个独立阶段，即进水、反应、沉淀、排水和闲置。进水及排水用水位控制，反应及沉淀用时间控制，一个运行周期的时间依负荷及出水要求而异，一般为4～12h，其中反应占40％，有效池容积为周期内进水量与所需污泥体积之和。比连续流法反应速度快，处理效率高，耐负荷冲击的能力强；由于底物浓度高，浓度梯度也大，交替出现缺氧、好氧状态，能抑制专性好氧菌的过量繁殖，有利于生物脱氮除磷，又由于泥龄较短，丝状菌不可能成为优势，因此，污泥不易膨胀；与连续流方法相比，SBR法流程短、装置结构简单，当水量较小时，只需一个间歇反应器，不需要设专门沉淀池和调节池，不需要污泥回流，运行费用低。（2）吸附再生(接触稳定)法这种方式充分利用活性污泥的初期去除能力，在较短的时间里(10～40min)，通过吸附去除废水中悬浮的和胶态的有机物，再通过液固分离，废水即获得净化，BOD5可去除85％～90％左右。吸附饱和的活性污泥中，一部分需要回流的，引入再生池进一步氧化分解，恢复其活性；另一部分剩余污泥不经氧化分解即排入污泥处理系统。分别在两池(吸附池和再生池)或在同一池的两段进行。它适应负荷冲击的能力强，还可省去初次沉淀池。主要优点是

简述去离子水设备优点及应用领域分析

简述去离子水设备优点及应用领域分析 1、去离子水设备介绍去离子水机采用技术成熟，先进的反渗透设备主要是通过膜两侧的压差为动力，只允许水通过而截留除了氢离子和氧离子的其他离子，对各种离子除去率也不一样，这个也是由于其结构和原理所决定的，据统计反渗透对3+离子的去除率大概在95%-99%,对2+离子的去除率在92%-99%%，对1+离子去除率在70%-95%左右。对2-阴离子去除率80%-90%，1-阴离子去除率在75%-95%左右，除硝酸根离子去除率50%-75%。 2、去离子水设备应用领域： 1、制取电子工业生产水处理设备如单晶硅纯水设备、半导体纯水处理、集成电路块用水设备、IC芯片封装用水工程、显像管用水处理、玻壳超纯水处理、LCD清洗用水、光学水处理、光电用水处理、热电厂用水处理、冶金工业用水、化工纯水设备、轻工工程用水、汽车制造清洗用水、制药纯化水、医疗卫生等制造工业用纯水。 2、单晶硅超纯水处理、半导体纯水设备、集成电路块用水、IC芯片封装行业纯水设备、太阳能硅片清洗水设备

3、医药行业用水，制药无菌注射用水、制剂工艺用水，医疗血液透析用水、生化分析纯水处理、输液医药用水等。 4、制取热力、火力发电锅炉用水，厂矿企业中、低压锅炉给水所需软化水、除盐纯水。 5、制取饮料行业的饮用纯净水、蒸馏水、天然水、矿泉水、矿化水设备、酒类生产白酒勾兑用纯水、啤酒糖化投料用水及纯生啤酒过滤等。 6、宾馆、楼宇、社区优质供水网络系统及游泳池水质净化。 7、制取电镀工艺用去离子水、电池用水，蓄电池超纯水、锂电池用水设备，太阳能电池工业用水，生产工艺纯水，汽车表面清洗用水、家用电器纯水设备、建材产品表面涂装、清洗纯水，镀膜玻璃用纯水，纺织印染工艺所需的除硬盐水。 8、石油化工如化工反应冷却用水、化学药剂工业用水，工艺用水、化肥及精细化工、化妆品制造过程用工艺纯水。 9、去离子水、CEDI水、超纯水、软化水、电子工业用超纯水、单/多晶硅超纯水、半导体晶片切割制造用水工艺、半导体芯片清洗用水、半导体封装用水设备、引线框架、集成电路、LCD

污水处理工艺流程图

些措施或者方法等. 现代污水处理技术.按处理程度划分.可分为一级.二级和三级处理. 一级处理.主要去除污水中呈悬浮状态的固体污染物质.物理处理法大部分只能完成一级处理的要求.经过一级处理的污水.BOD一般可去除30%左右.达不到排放标准.一级处理属于二级处理的预处理. 二级处理.主要去除污水中呈胶体和溶解状态的有机污染物质(BOD.COD物质).去除率可达90%以上.使有机污染物达到排放标准. 三级处理.进一步处理难降解的有机物.氮和磷等能够导致水体富营养化的可溶性无机物等.主要方法有生物脱氮除磷法.混凝沉淀法.砂率法.活性炭吸附法.离子交换法和电渗分析法等. 整个过程为通过粗格删的原污水经过污水提升泵提升后.经过格删或者筛率器.之后进入沉砂池.经过砂水分离的污水进入初次沉淀池.以上为一级处理(即物理处理).初沉池的出水进入生物处理设备.有活性污泥法和生物膜法.(其中活性污泥法的反应器有曝气池.氧化沟等.生物膜法包括

终端设备故障处理流程

ZXA10-EPON终端设备故障处理流程（V1.0） 2008-08 中兴通讯网络事业部固网交换用服部修改记录

目录第1章前言 (1) 1.1适用范围 (1) 1.2重要性 (1) 第2章常用操作 (2) 2.1镜像抓包 (2) 2.1.1 工具介绍 (2) 2.1.2 F820镜像抓包方法 (2) 2.1.3 D系列终端抓包方法 (4) 2.2使用UDPWATCH打印日志 (6) 2.2.1 udpwatch工具介绍 (6) 2.2.2 F820的udpwatch打印日志方法 (7) 2.2.3 D系列终端的udpwatch打印日志方法 (8) 2.3光功率检测 (8) 2.3.1 工具介绍 (8) 2.3.2 光功率范围 (9) 第3章 ONU注册故障处理 (10) 3.1ONU注册不稳定 (10)

3.2无法搜索ONU (10) 第4章相关技术通知单的执行 (11) 4.1技术通知单列表（包含OLT） (11) 第5章 F820及D系列终端语音故障 (13) 5.1语音不能注册上软交换 (13) 5.2摘机忙音 (14) 5.2.1 查看ONU未注册 (14) 5.2.2 查看ONU已注册 (15) 5.3摘机无音 (15) 5.3.1 摘机无馈电 (15) 5.3.2 摘机有馈电 (15) 5.4呼叫失败 (16) 5.4.1 未拨完号码后失败 (16) 5.4.2 拨完号码失败 (16) 5.4.3 二次拨号，失败 (16) 5.5语音质量问题 (17) 5.5.1 语音断续 (17) 5.5.2 杂音 (17) 5.5.3 回音 (17) 5.6VOIP吊死 (18) 5.6.1 整个VOIP单板吊死 (18)