离心法提纯硅的原理
高纯硅提取原理
高纯硅提取原理高纯硅的制备一般首先由硅石（SiO2）制得工业硅（粗硅），再制成高纯的多晶硅，最后拉制成半导体材料单晶硅。
工业生产中使用硅石（SiO2）和焦炭以一定的比例混合，在电炉中加热至1600~1800℃而制得纯度为95%~99%的粗硅，其反应如下：SiO2+2C=Si+2CO 粗硅中一般含有铁、铝、碳、硼、磷、铜等杂质，这些杂质多以硅化构成硅酸盐的形式存在，为了进一步提高工业粗硅的纯度，可采用酸浸洗法，使杂质大部分溶解（有少数的碳化硅不溶）。
其生产工艺过程是：将粗硅粉碎后，依次用盐酸、王水、（HF+H2SO4）混合酸处理，最后用蒸馏水洗至中性，烘干后可得含量为99.9%的工业粗硅。
高纯多晶硅的制备方法很多，据不完全统计有十几种，但所有的方法都是从工业硅（或称硅铁，因为含铁较多）开始，首先制取既易提纯又易分解（即还原）的含硅的中间化合物如SiCl4、SiHCl3、SiH4等，再使这些中间化合物提纯、分解或还原成高纯度的多晶硅。
目前我国制备高纯硅多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、硅烷热解法和四氯化硅氢还原法。
一般说来，由于三氯氢硅还原法具有一定的优点，目前比较被广泛的应用。
此外，由于SiH4具有易提纯的特点，因此硅烷热分解法是制备高纯硅的很有发展潜力的方法。
下面我们就分别介绍上述三种方法制备高纯硅的化学原理。
1 三氯氢硅还原法（1）三氯氢硅的合成第一步：由硅石制取粗硅硅石（SiO2）和适量的焦炭混合，并在电炉内加热至1600~1800℃可制得纯度为95%~99%的粗硅。
其反应式如下：SiO2+3C=SiC+2CO（g）↑2SiC+SiO2=3Si+2CO（g）↑总反应式：SiO2+2C=Si+2CO（g）↑生成的硅由电炉底部放出，浇铸成锭。
用此法生产的粗硅经酸处理后，其纯度可达到99.9%。
第二步：三氯氢硅的合成三氯氢硅是由干燥的氯化氢气体和粗硅粉在合成炉中（250℃）进行合成的。
其主要反应式如下：Si+3HCl=SiHCl3+H2（g）（2）三氯氢硅的提纯由合成炉中得到的三氯氢硅往往混有硼、磷、砷、铝等杂质，并且它们是有害杂质，对单晶硅质量影响极大，必须设法除去。
高纯硅制备的化学原理
高纯硅制备的化学原理首先是炼硅过程。
炼硅是通过化学反应将硅矿石中的硅氧化物还原为金属硅。
传统的炼硅过程包括冶炼炉炼炉法和炭电炉法两种。
冶炼炉炼炉法是一种重要的高纯硅制备方法。
它利用矿石中的硅氧化物与还原剂产生一系列的化学反应来制备高纯硅。
首先，通过加入风化硅矿石、煤、焦炭等在炼炉中进行还原反应，使硅氧化物还原为气态的二氧化硅。
然后，这些气态的二氧化硅进一步通过冷凝等处理方法收集和净化。
最后，通过加热收集的纯化气态的二氧化硅，使其分解为金属硅和二氧化碳。
金属硅随后从反应体中析出，被收集下来。
炭电炉法是另一种常用的炼硅方法。
这种方法将石英砂和焦炭作为原料，放入封闭的炭电炉中进行电化学反应。
在高温高压的环境中，焦炭被加热并电离，生成强还原性的气体（如一氧化碳），而石英砂则被还原为气态的二氧化硅。
随后，这些气体被经过净化和收集处理，其中的二氧化硅再次进行加热和分解反应，最终得到金属硅。
接下来是精炼过程。
炼硅所得的金属硅通常还含有少量的杂质（如铝、钙、铁等），无法满足高纯硅的要求。
因此，需要通过精炼过程进一步提高硅的纯度。
一种常用的精炼方法是多晶硅法。
这种方法是利用多晶硅的晶界比金属硅活性大，因此能迅速吸附和固定金属杂质。
在多晶硅法中，先将金属硅与氯化氢反应，得到不纯的多晶硅。
然后，将这些多晶硅加入到氯化硅或三氯硅烷等硅炼料中，通过炉内加热反应，使其转化为气态硅化物和金属硅。
金属硅作为轻质金属被保留在气态硅化物中，而金属硅则结晶在多晶硅的表面，吸附和固定金属杂质，从而提高硅的纯度。
除了多晶硅法，还有其他的精炼方法，如单晶法、重熔法等。
这些方法可以在炼硅过程中进一步提高硅的纯度。
综上所述，高纯硅制备的化学原理主要包括炼硅和精炼两个过程。
通过化学反应将硅矿石中的硅氧化物还原为金属硅，然后通过精炼方法去除杂质，最终得到高纯度的硅材料。
粗硅提纯的原理
粗硅提纯的原理
粗硅提纯的过程通常包括冶金法和化学法两种方法。
以下是粗硅提纯的原理：
1.冶金法：
冶金法是通过物理方法将杂质从硅中分离出来的方法之一。
其中，最常用的方法是冶金还原法，通常用于提取金属硅。
冶金还原法中，将含有硅的原料（如二氧化硅SiO2）与还原剂（如焦炭或木炭）在高温下反应，生成金属硅和气态氧化物（如CO2）。
金属硅在反应后会凝固形成块状，而氧化物等杂质则以气态形式排出，从而实现硅的提纯。
2.化学法：
化学法是通过化学反应将硅中的杂质转化为易溶于溶剂的形式，然后进行溶解和沉淀分离的方法。
一种常见的化学提纯方法是用氢氟酸（HF）或氢氧化钠（NaOH）等溶剂溶解硅，使杂质形成易溶性化合物，然后通过过滤或沉淀分离硅和杂质。
另一种方法是氧化还原反应，通过氧化杂质或硅本身，使其转化为易溶性或易挥发性化合物，然后进行分离。
3.结晶法：
结晶法是通过溶解硅并逐渐结晶析出纯硅的方法。
在这个过程中，杂质通常会留在溶液中，而纯硅会逐渐结晶出来。
结晶法可以通过逐步降低温度或者控制溶剂的挥发来实现硅的结晶和提纯。
离心原理PPT课件
1. 在离心管中加入适量淋巴细胞分离液。
2. 取肝素抗凝静脉血与等量Hank‘s液或RPMI1640 充分混 匀，用滴管沿管壁缓慢叠加于分层液面上，注意保持清 楚的界面，水平离心2000rpm×20分钟。
3. 离心后管内分为三层，上层为血浆和Hank‘s液，下层主 要为红细胞和粒细胞，中层为淋巴细胞分离液，在上、 中层界面处有一以单个核细胞为主的白色云雾层狭窄带 ，单个核细胞包括淋巴细胞和单核细胞。此外，还含有 血小板。
Ø 分离、纯化样品; Ø 对已纯化的样品进行结构和性质的分析。
.
2
一、离心的一般原理
颗 颗粒的密度、形状、大小
粒
运 液体介质的密度、粘度和重力场
动
的 的强度
方
向 悬浮颗粒在液体介质的扩散运动
和
速
颗粒越小，则沉降越慢，
度
扩散. 现象越严重。
3
1、离心力和相对离心力
离心力(centrifugal force，F)
.
9
离心机的构造
†转头 †驱动装置 †速度控制系统 †冷却装置 †真空装置 †光学检测系统
preparative
ultracentrifuge
.
10
离 心 转 头
a 水平转头
b 角式转头 c 垂直转头
角度在14-40℃ 之间
.
11
实验中常用的是普通离心机（转速一般 不高于4000rpm），用于分离血清和 沉淀细胞、大的沉淀物等。
等特性的影响。
†预计沉降时间；
†测定物质相对分. 子质量。
6
3、沉降速度（sedimentation velocity, v）
沉降速度是指在离心力作用下，单位 时间内颗粒沉降的距离。
硅的提取与纯化方法
生物纯化法
微生物法
利用微生物吸附和富集硅化合物中的杂质，再通过离心、过滤等方法将硅化合物与微生物分离。该方法具有环保 、低成本的优点，但处理时间较长。
酶法
利用酶的催化作用，加速硅化合物中杂质的分解和去除。该方法反应条件温和，对环境友好，但酶的来源和制备 较为困难，成本较高。
04
硅提取与纯化的应用
02
硅的提取方法
物理提取法
磁选法
利用硅矿物与其它矿物的磁性差异，在强磁 场中实现矿物的分离。
光电选矿法
利用硅矿物与其它矿物的光电性质差异，通 过光电效应进行分离。
重力分选法
利用硅矿物与其它矿物的密度差异，通过水 力或空气浮选技术进行分离。
热选法
利用硅矿物与其它矿物的热膨胀系数差异， 在加热条件下进行分离。
废弃物处理
硅提取和纯化过程中会产生大量的废弃物，如废气、废水 和废渣等。这些废弃物可能对环境造成污染，因此需要采 取有效的处理和处置措施。
资源循环利用
为了实现可持续发展，需要建立硅资源的循环利用体系， 将废弃物进行回收和再利用，减少对自然资源的依赖。
市场前景
半导体行业
随着电子产业的快速发展，半导体行业对高纯度硅的需求不断增 长。硅的提取与纯化技术的不断进步将进一步推动半导体行业的
通过控制温度梯度，使杂质在硅棒中逐步富集并分离，最终获得高纯度硅。该 方法操作简单，但设备成本较高。
化学纯化法
酸洗法
利用酸与硅化合物中的杂质反应，生 成可溶性物质，再用水冲洗去除。该 方法适用于去除金属杂质，但对非金 属杂质效果不佳。
氯气法
将硅化合物与氯气反应，生成可溶性 的氯化物，再用水冲洗去除。该方法 可去除多种杂质，但会产生有毒气体 ，对环境造成污染。
离心技术的原理及应用
离心技术的原理及应用1. 离心技术的概述离心技术是一种以离心力为基础的分离过程，通过利用离心力将混合物的不同组分分离出来。
离心技术被广泛应用于生物化学、制药、环保、食品加工等领域，可用于固体颗粒的分离、液相溶液的分离、精炼和浓缩等。
2. 离心技术的原理离心技术的原理基于离心力的作用。
离心力是由于转动物体的离心力产生的一种力。
物体在离心力作用下，会被推向物体固定轴线的外侧，形成离心效应，使得混合物的不同组分被分离开来。
离心技术通常通过离心机实现。
离心机的核心部件是转子，可以用来容纳试样。
转子围绕着离心机轴线高速旋转，产生强大的离心力，使得试样中的不同组分被分离开来。
3. 离心技术的应用离心技术在各个领域都有广泛的应用，下面列举了其中几个常见的应用：3.1 生物化学领域•分离DNA / RNA：离心技术可以用于从细胞中分离出DNA或RNA，用于基因测序、基因工程等领域的研究。
•分离蛋白质：离心技术可以用于从混合的生物样本中分离出特定的蛋白质，用于进一步的分析和研究。
3.2 制药领域•药物纯化：离心技术可以用于从化学合成或发酵得到的混合药物中分离出纯的活性成分。
•药物制剂：离心技术可以用于将固体颗粒与液体分离，制备出药物颗粒或胶体。
3.3 环保领域•污水处理：离心技术可以用于将污水中的固体颗粒与液体分离，提高水质。
•垃圾处理：离心技术可以用于将垃圾中的有机物与无机物分离，实现垃圾的资源化利用。
3.4 食品加工领域•榨汁：离心技术可以用于将水果中的果汁与果渣分离，制作果汁。
•提取物质：离心技术可以用于从食材中提取有营养或有药用价值的物质，用于食品加工。
4. 离心技术的优点•分离效果好：离心技术可以将混合物中的不同组分快速、高效地分离出来。
•操作简单：离心技术的操作相对简单，不需要复杂的设备和步骤。
•适用性广：离心技术可以适用于多种样本类型和领域，具有广泛的应用性。
5. 离心技术的局限性•样品量有限：离心技术的样品容量一般有限制，不适合处理大量的样品。
离心分离的原理
离心分离的原理
离心分离是一种常用的物质分离方法，它基于物质在旋转场中的离心力差异，通过控制离心力对混合物中的各个组分进行分离。
离心分离的原理是利用离心力对样品中的组分产生差异的作用。
当混合物在离心机中高速旋转时，离心力会使得组分在离心管中沉淀或分散，从而实现分离。
离心分离中使用的离心机通常由一个旋转轴和离心管组成。
样品注入离心管后，离心机转速逐渐加速，使得样品产生离心力。
离心力的大小取决于转速和离心机的几何结构。
离心力的方向指向轴心，使样品中的重物质沉淀到离心管底部，而较轻的物质则在上层悬浮。
离心分离广泛应用于不同领域的物质分离和纯化过程中。
例如，在生物化学实验中，常常用离心分离来分离细胞、细胞器和其他细胞组分。
此外，离心分离还被广泛用于制备洗衣机中的液体洗涤剂、汽车发动机中的汽油和油水混合物等。
总之，离心分离的原理是基于离心力对混合物中各个组分产生差异的作用。
通过控制离心力的大小和方向，不同密度或体积的物质可以在离心过程中被有效分离，实现纯化和分析的目的。
硅的提纯工艺
高纯硅的制备一般首先由硅石（SiO2）制得工业硅（粗硅），再制成高纯的多晶硅，最后拉制成半导体材料硅单晶。
工业上是用硅石（SiO2）和焦炭以一定比例混合，在电炉中加热至1600~1800℃而制得纯度为95%~99%的粗硅，其反应如下：SiO2+2C=Si+2CO粗硅中一般含有铁、铝、碳、硼、磷、铜等杂质，这些杂质多以硅化构成硅酸盐的形式存在，为了进一步提高工业粗硅的纯度，可采用酸浸洗法，使杂质大部分溶解（有少数的碳化硅不溶）。
其生产工艺过程是：将粗硅粉碎后，依次用盐酸、王水、（HF+H2SO4）混合酸处理，最后用蒸馏水洗至中性，烘干后可得含量为99.9%的工业粗硅。
高纯多晶硅的制备方法很多，据布完全统计有十几种，但所有的方法都是从工业硅（或称硅铁，因为含铁较多）开始，首先制取既易提纯又易分解（即还原）的含硅的中间化合物如SiCl4、SiHCl3、SiH4等，再使这些中间化合物提纯、分解或还原成高纯度的多晶硅目前我国制备高纯硅多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、硅烷热解法和四氯化硅氢还原法。
一般说来，由于三氯氢硅还原法具有一定优点，目前比较广泛的被应用。
此外，由于SiH4具有易提纯的特点，因此硅烷热分解法是制备高纯硅的很有发展潜力的方法。
下面我们就分别介绍上述三种方法制备高纯硅的化学原理。
1. 三氯氢硅还原法（1）三氯氢硅的合成第一步：由硅石制取粗硅硅石（SiO2）和适量的焦炭混合，并在电炉内加热至1600~1800℃可制得纯度为95%~99%的粗硅。
其反应式如下：SiO2+3C=SiC+2CO（g）↑2SiC+SiO2=3Si+2CO（g）↑总反应式：SiO2+2C=Si+2CO（g）↑生成的硅由电炉底部放出，浇铸成锭。
用此法生产的粗硅经酸处理后，其纯度可达到99.9%。
第二步：三氯氢硅的合成三氯氢硅是由干燥的氯化氢气体和粗硅粉在合成炉中（250℃）进行合成的。
其主要反应式如下：Si+3HCl=SiHCl3+H2（g）（2）三氯氢硅的提纯由合成炉中得到的三氯氢硅往往混有硼、磷、砷、铝等杂质，并且它们是有害杂质，对单晶硅质量影响极大，必须设法除去。
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离心机工作原理
一、发展历程
离心机是利用离心力，分离液体与固体颗粒或液体与液
体的混合物中各组分的机械。
离心机主要用于将悬浮液中的固体颗粒与液体分开；或
将乳浊液中两种密度不同，又互不相溶的液体分开(例如从
牛奶中分离出奶油)；它也可用于排除湿固体中的液体，例
如用洗衣机甩干湿衣服；特殊的超速管式分离机还可分离不
同密度的气体混合物；利用不同密度或粒度的固体颗粒在液
体中沉降速度不同的特点，有的沉降离心机还可对固体颗粒
按密度或粒度进行分级。
离心机大量应用于化工、石油、食品、制药、选矿、煤
炭、水处理和船舶等部门。
中国古代，人们用绳索的一端系住陶罐，手握绳索的另
一端，旋转甩动陶罐，产生离心力挤压出陶罐中蜂蜜，这就
是离心分离原理的早期应用。
工业离心机诞生于欧洲，比如19世纪中叶，先后出现
纺织品脱水用的三足式离心机，和制糖厂分离结晶砂糖用的
上悬式离心机。这些最早的离心机都是间歇操作和人工排渣
的。
由于卸渣机构的改进，20世纪30年代出现了连续操作
的离心机，间歇操作离心机也因实现了自动控制而得到发
展。
工业用离心机按结构和分离要求，可分为过滤离心机、
沉降离心机和分离机三类。
离心机有一个绕本身轴线高速旋转的圆筒，称为转鼓，
通常由电动机驱动。悬浮液(或乳浊液)加入转鼓后，被迅速
带动与转鼓同速旋转，在离心力作用下各组分分离，并分别
排出。通常，转鼓转速越高，分离效果也越好。
离心分离机的作用原理有离心过滤和离心沉降两种。离
心过滤是使悬浮液在离心力场下产生的离心压力，作用在过
滤介质上，使液体通过过滤介质成为滤液，而固体颗粒被截
留在过滤介质表面，从而实现液-固分离；离心沉降是利用
悬浮液(或乳浊液)密度不同的各组分在离心力场中迅速沉
降分层的原理，实现液-固(或液-液)分离。
还有一类实验分析用的分离机，可进行液体澄清和固体
颗粒富集，或液-液分离，这类分离机有常压、真空、冷冻
条件下操作的不同结构型式。
衡量离心分离机分离性能的重要指标是分离因数。它表
示被分离物料在转鼓内所受的离心力与其重力的比值，分离
因数越大，通常分离也越迅速，分离效果越好。工业用离心
分离机的分离因数一般为100～20000，超速管式分离机的分
离因数可高达62000，分析用超速分离机的分离因数最高达
610000。决定离心分离机处理能力的另一因素是转鼓的工作
面积，工作面积大处理能力也大。
过滤离心机和沉降离心机，主要依靠加大转鼓直径来扩
大转鼓圆周上的工作面；分离机除转鼓圆周壁外，还有附加
工作面，如碟式分离机的碟片和室式分离机的内筒，显著增
大了沉降工作面。
此外，悬浮液中固体颗粒越细则分离越困难，滤液或分
离液中带走的细颗粒会增加，在这种情况下，离心分离机需
要有较高的分离因数才能有效地分离；悬浮液中液体粘度大
时，分离速度减慢；悬浮液或乳浊液各组分的密度差大，对
离心沉降有利，而悬浮液离心过滤则不要求各组分有密度
差。
选择离心分离机须根据悬浮液(或乳浊液)中固体颗粒
的大小和浓度、固体与液体(或两种液体)的密度差、液体粘
度、滤渣(或沉渣)的特性，以及分离的要求等进行综合分析，
满足对滤渣(沉渣)含湿量和滤液(分离液)澄清度的要求，初
步选择采用哪一类离心分离机。然后按处理量和对操作的自
动化要求，确定离心机的类型和规格，最后经实际试验验证。
通常，对于含有粒度大于0.01毫米颗粒的悬浮液，可
选用过滤离心机；对于悬浮液中颗粒细小或可压缩变形的，
则宜选用沉降离心机；对于悬浮液含固体量低、颗粒微小和
对液体澄清度要求高时，应选用分离机。
离心分离机未来的发展趋势将是强化分离性能、发展大
型的离心分离机、改进卸渣机构、增加专用和组合转鼓离心
机、加强分离理论研究和研究离心分离过程最佳化控制技术
等。
强化分离性能包括提高转鼓转速；在离心分离过程中增
加新的推动力；加快推渣速度；增大转鼓长度使离心沉降分
离的时间延长等。发展大型的离心分离机，主要是加大转鼓
直径和采用双面转鼓提高处理能力使处理单位体积物料的
设备投资、能耗和维修费降低。理论研究方面，主要研究转
鼓内流体流动状况和滤渣形成机理，研究最小分离度和处理
能力的计算方法。
制造核武器必须得用大量的离心机来提纯铀,所以这也
是美国制裁伊朗的原始借口.因为伊朗拥有大量的离心机,
大约有5万台左右。
二、工作原理
（一）离心分离
1、离心分离和旋液分离的基本概念
（1）定义：离心分离和旋液分离都是利用离心惯性力实现
物料中固－液相或液－液相的分离操作。
分离操作的设备称为离心机和旋液分离器
（2）离心机的应用
制糖工业：砂糖分蜜
制盐工业：晶盐脱卤
淀粉工业：淀粉与蛋白质分离
油脂工业：食油精制
啤酒和饮料液：澄清
2离心沉降
分离旋转时，悬浮液在离心力的作用下，相当密度较大
的颗粒先向鼓壁沉降形成沉渣，澄清液由转鼓顶端溢出甩离
转鼓，从而达到悬浮液澄清的目的。
3离心分离
旋转时乳浊液在离心力的作用下分为两层，相对密度大
的液体首先沉降紧贴在转鼓的外层，相对密度小的液体则在
里层，在不同的部位分别将其引出转鼓而达到液、液分离的
目的。
当乳浊液中含有少量固体颗粒时，则能进行液、液、固
三相。
（二）离心分离理论
离心分离的基本理论：是利用悬浮粒子与周围液体间存在
的密度差进行的。
离心力与分离因数
设质量m的颗粒,绕半径为r作等角速度ω作回转运动，
该颗粒受到两种力的作用
①在径向受到离心力：
(n:转数)
②在垂直方向上受重力作用：mg
离心力与重力之比用Fr ’表示，则
Fr ’为是离心机内半径r处分离能力的衡量尺度，其值
越大，则该处的分离能力越大。
离心机设备
按分离因素大小分类
常速（普通）离心机： <3000，根据转鼓结构有
过滤式和沉降式两种，转鼓直径较大，转速较低，适用于含
当量直径0.01mm~1.0mm颗粒悬浮液的分离和物料的脱水。
高速离心机：3000< <50000 ，转鼓直径较小，
长度较大，通常是沉降式和分离式，适用于极细颗粒的稀薄
悬浮液及乳浊液的分离。
超高速离心机： >50000，主要适用于分离极
不易分离的超微粒细修复系统和高分子的胶体悬浮液。
根据分离过程的原理不同
过滤式离心机：离心转鼓周壁有孔，适用于易
过滤的晶体和较大颗粒悬浮液的分离。
沉降式离心机： 离心转鼓周壁无孔，适用于固
体含量少， 颗粒较细的不易过滤的悬浮液。
分离式离心机： 转速极大，适用于乳浊液的分
离和悬浮液的增浓或澄清
按操作方式分类
间歇式离心机：三足式沉降离心机、刮刀卸料沉
降离心机、上悬式沉降离心机等
连续式离心机：螺旋卸料沉降离心机
1、 离心技术在金属液中的应用
（1）离心加速条件下金属液中粒子的相互作用
建立了金属液中第二相粒子在离心加速条件下的运动
规律理论模型，并根据该理论模型分析了金属液中第二相粒
子的相互作用规律。结果表明：再离心加速场中粒子一直处
于加速状态，不会达到匀速运动状态；粒子直径越大、密度
越大。在同样时间内，粒子移动的距离越远；在传播过程中，
不但有因尺寸不同引起的粒子追逐现象，而且有因密度不同
引起的追逐现象，该现象是引起粒子碰撞、聚集及尺寸大（或
密度大）粒子偏聚到试样外侧的主要原因。径向上初始位置
不同的两个粒子，其间距随时间延长逐渐增大。如果在径向
一条直线上有多个同间距的粒子，离心移动一段时间后，虽
然任意两相邻粒子的间距比开始态增大，但各相邻粒子间距
在新的时刻仍是相等的。
3 结论
1） 建立了离心加速场中粒子在金属液中运动所处位置、速度
及加速度与运动时间的函数关系。在离心加速场中粒子一直
处于加速状态，不会达到匀速运动状态。
2） 粒子直径越大、密度越大，在同样时间内，粒子移动的距
离越远。
3） 径向上初始位置不同的两个粒子，其间距随时间延长逐渐
增大。如果在径向一条直线有多个同间距的粒子，离心移动
一段时间后，虽然任意两相邻粒子的间距比开始态增大，但
各相邻粒子间距在新的时刻仍是相等的。
4）
如果粒子为密度、直径均不同的混杂粒子，则处于后
面的密度大（或尺寸大）的粒子可以赶上并超过前边密度小
（或尺寸小）的粒子。粒子间的追逐现象是引起粒子碰撞、
聚焦及尺寸大（或密度大）粒子偏聚到试样外侧的主要原因。
为减少这些现象的产生，采用尺寸一致的同种粒子是非常必
要的。
5）
SiCp/Al-8.8%Si合金梯度材料外侧大尺寸的SiC粒子含量
较多，这是由离心加速场中不同尺寸粒子的追逐现象引起的。