第4章 (72) 场效应管放大电路

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第四章场效应管放大电路

第四章场效应管放大电路
一、N沟道MOS管的直流参数 (1).开启电压VT:
N沟道MOS管,在VGS<VT时,不能形成导电 沟道,管子处于截止状态;只有当VGS≥VT时,才有沟 道形成。 VT——开启电压。
这种在VGS=0时没有沟道,只有VGS≥VT时才能 形成感生导电沟道的MOS管称为增强型MOS管。
第四章 场效应管放大电路
→形成由栅极指向P型
衬底的纵向电场
+
→将靠近栅极下方的空 穴向下排斥
-
→形成耗尽层。
第四章 场效应管放大电路
现假设vDS=0V,在s、g间加一电压vGS>0V 当vGS增大时→耗尽层增宽,并且该大电场会 把衬底的自由电子吸引到
耗尽层与绝缘层之间,形
成一N型薄层,构成漏-源 之间的导电沟道,称为反
N沟道耗尽型 MOS管 与 N沟 道 增 强型MOS管基本相 似。
区别:耗尽型
MOS 管 在 vGS=0 时 ,漏-源极间已有 导电沟道产生;
增强型MOS管要
在vGS≥VT时才出现 导电沟道。
5.1.5
第四章 场效应管放大电路
N沟道耗尽型MOSFET 在栅极下方的SiO2 层中掺入了大量的金 属正离子。所以当 vGS=0 时 , 这 些 正 离 子 已经感应出反型层, 形成了沟道。
夹断区
VT
2VT
第四章 场效应管放大电路
①截止区: vGS<vT
无导电沟道,iD=0,管子处于截止区.
②可变电阻区: vDS< vGS-vT
iD

K n [2(GS
T
)DS

2 DS
]
Kn

nCox
2
(W L
)
单位:mA V 2

第四章 场效应晶体管及其放大电路

第四章 场效应晶体管及其放大电路

ID
IDSS(1源自U GS U GS(off)
)
2
3. 结型场效应管
结型场效应管的特性和耗尽型绝 缘栅场效应管类似。图4-7 a)、 b) 分别为N沟道和P沟道的结型场效 应管图形符号。
图4-7
使用结型场效应管时,应使栅极与源极间加反偏电压,漏 极与源极间加正向电压。对于N沟道的管子来说,栅源电压应 为负值,漏源电压为正值。
图4-1
(1)工作原理
增强型MOS管的源区(N+)、衬底(P型)和漏区(N+)三者之 间形成了两个背靠背的PN+结,漏区和源区被P型衬底隔开。
当栅-源之间的电压 uGS 0时,不管漏源之间的电源VDD 极 性如何,总有一个PN+结反向偏置,此时反向电阻很高,不能 形成导电通道。
若栅极悬空,即使漏源之间加上电压 uDS,也不会产生漏 极电流 iD ,MOS管处于截止状态。
2) 输出特性曲线 I D f (U DS ) UGS常数
图4-4b)是N沟道增强型MOS管的输出特性曲线,输出特性曲 线可分为下列几个区域。
① 可变电阻区
uDS很小时,可不考虑 uDS 对沟道的影响。于是 uGS一 定时,沟道电阻也一定, 故 iD 与 uDS 之间基本上是 线性关系。
uGS 越大,沟道电阻越
的变化而变化,iD 已趋于饱和, 具有恒流性质。所以这个区域 又称饱和区。
③ 截止区
uGS UGS(th)时以下的区域。
(夹断区)
当uDS增大一定值以后,漏源之间会发生击穿,漏极电流 iD急剧增大。
2. N沟道耗尽型绝缘栅场效应管的结构
上述的增强型绝缘栅场效应管只有当 uGS U GS(th) 时才能形成导电沟道,如果在制造时就使它具有一个原始 导电沟道,这种绝缘栅场效应管称为耗尽型。

第4章 场效应管及其基本放大电路

第4章 场效应管及其基本放大电路

恒流区
IDSS/V
G
D S
+
-
VGG
+
V uGS
VDD
-
O
UGS = 0V -1 -2 -3 -4 -5 -6 夹断区 -7 U P 8V
击穿区
uDS /V
特性曲线测试电路
漏极特性
漏极特性也有三个区:可变电阻区、恒流区和夹断区。
各类场效应管的符号和特性曲线 种类 结型 耗 尽 N 沟道 型 结型 耗 尽 P 沟道 型 绝缘 增 栅型 强 N 沟道 型 符号
S
S
VGG
(c) UGS <UGS(off)
(b) UGS(off) < UGS < 0
(2) 漏源电压uDS 对漏极电流iD的控制作用
uGD = uGS -uDS (a)
P+
D
iD
(b)
D
iD
G
N
P+
VDD
+ P+ GP N
P+
VDD
S iS uGS = 0,uGD > UGS(Off) ,iD 较大。
uDS /V
O
UT 2UT
uGS /V
二、N 沟道耗尽型 MOSFET
制造过程中预先在二氧化硅的绝缘层中掺入正离子, 这些正离子电场在 P 型衬底中“感应”负电荷,形成“反 型层”。即使 UGS = 0 也会形成 N 型导电沟道。 UGS = 0,UDS > 0,产生 较大的漏极电流; UGS < 0,绝缘层中正离 子感应的负电荷减少,导电 沟道变窄,iD 减小; UGS = UP , 感应电荷被 “耗尽”,iD 0。
导电沟道是 N 型的, 称 N 沟道结型场效应管。

第4章场效应管放大电路.

第4章场效应管放大电路.

如果用 id、ugs、uds 分别表示 iD、uGS、uDS 的变化部分, 则式(4-51可写为id = g mugs + gm = − 2 I DSS UP 1 uds rD ⎞⎟⎟⎠⎛ U GS ⎜⎜1 − U P ⎝ gm0 = − 2 I DSS UP ⎞⎟⎟⎠⎛ U GS gm = gm0 ⎜⎜1 − U P ⎝ 4.5.3 共源极放大电路与晶体管的共射放大电路相对应,由 N 沟道结型场效应管和 MOS 场效应管组成的共源放大电路分别如图(a和(b所示。

共源放大电路 (a N 沟道结型场效应管共源放大电路(b MOS 场效应管共源放大电路静态分析场效应管组成放大电路和晶体管一样,要建立合适的静态工作点,所不同是,场效应管是电压控制器件,因此它需要有合适的栅极电压。

通常场效应管的偏置电路形式有两种:自偏压电路和分压式自偏压电路,分别如图(a﹑(b所示。

自偏压电路只适用于结型场效应管或耗尽型MOS 管:分压式自偏压电路既适用于增强型场效应管,也能用于耗尽型场效应管。

栅极电压:对场效应管放大电路静态工作点的确定,可以采用图解法或公式计算,图解法的原理和晶体管相似。

用公式进行计算可通过特性方程:或交流分析共源放大电路的微变等效电 Ri=(Rg1//Rg2)+Rg3 Ro=Rd 共源放大电路与共射电路形式相类似。

只是共源放大电路的输入电阻要比共射电路的大得多(Rgs 通常很大),故需要高输入电阻时多宜采用场效应管放大电路。

(2)共漏放大电路共漏放大电路是与共集放大电路类似的一种电路形式。

电路如图所示。

共漏放大电路也常称为源极跟随器或源极输出器。

共漏放大电路(a)共漏放大电路 (b 微变等效电路确定静态工作点时,可列出回路方程与特性方程联立求解:交流性能分析共漏电路的特点与共集电极电路相似,电压极放大倍数小于 1,但场效应管的导跨比双极型晶体管的 ß低,所以共漏电路的电压放大倍数一般比共射电路低,另外它的输出电阻也较低。

第四章:场效应管及放大电路讲解

第四章:场效应管及放大电路讲解

iD
vGS 0 VT
(1-34)
模拟电子
输出特性曲线 iD
vGS>0
0
v DS
(1-35)
耗尽型N沟道MOS管的特性曲线
模拟电子
耗尽型的MOS管VGS=0时就有导电沟道, 加反向电压才能夹断。
iD
转移特性曲线
vGS VT 0
(1-36)
模拟电子
输出特性曲线 iD
vGS>0
vGS=0
vGS<0
P NN
P沟道结型场效应管 D
G
S源极
S
(1-6)
模拟电子
(2)工作原理(以P沟道为例) VDS=0时
PN结反偏,
VGS越大则耗
D
尽区越宽,导 电沟道越窄。G
P
VDS
NN
VGS S
(1-7)
VGS越大耗尽区越 宽,沟道越窄, 电阻越大。
G
但 尽区当宽VG度S较有V小限DS时=,0,时模存耗拟电子 在导电沟道。DS间 D 相当于线性电阻。
Vgs
-
gmVgs
s
+
Rg2
R RL Vo -
(1-56)
中频电压增益
模拟电子
Vo gmVgs (R // RL )
Vgs Vi Vo
Vo gm (Vi Vo )( R // RL )
A Vm

Vo Vi

gm (R // RL ) 1 gm (R // RL )


Rg2 47k
Rg1 2M
Rd 30k
d
g
Rg3
s
10M

R
2k

场效应管放大电路介绍课件

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⑦ 输出电阻rd:
rd
vDS iD
VG S
12
4.3 金属-氧化物-半导体场效应管
FET 场效应管
JFET 结型
MOSFET 绝缘栅型
N沟道 (耗尽型)
P沟道 N沟道
增强型 P沟道
N沟道 耗尽型
P沟道
13
4.3.1 N沟道增强型MOSFET
1. 结构
14
4.1.1 N沟道增强型MOSFET
2. 工作原理 s 二氧化硅
d
d
d
P+
P+
P+
P+
P+
P+
g
g
g
N
N
N
s
s
s
8
2. 工作原理 ③ VGS和VDS同时作用时
9
4.1.1 JFET的结构和工作原理 综上分析可知
• JFET栅极与沟道间的PN结是反向偏置的,因此 iG0,输入电阻很高。
• JFET是电压控制电流器件,iD受vGS控制 • 预夹断前iD与vDS呈近似线性关系;
反偏的PN结 —— 反偏电压控制耗尽层
栅极G(g)
源极S(s)
6
4.1.1 JFET的结构和工作原理
2. 工作原理 ① VGS对沟道的控制作用
② VDS对沟道的影响
• VGS=0
• VGS<0 (反偏)
• VGS= VP
|VGS | 增加 耗尽层加厚 沟道变窄 沟道电阻增大
全夹断(夹断电压)
耗尽层 d
Rc
CC:Re
//
(
Rs
// Rb )
1
rbe
CB:

04.场效应管放大电路

返回>>第四章场效应管放大电路由于半导体三极管工作在放大状态时,必须保证发射结正偏,故输入端始终存在输入电流。

改变输入电流就可改变输出电流,所以三极管是电流控制器件,因而三极管组成的放大器,其输入电阻不高。

场效应管是通过改变输入电压(即利用电场效应)来控制输出电流的,属于电压控制器件,它不吸收信号源电流,不消耗信号源功率,因此输入电阻十分高,可高达上百兆欧。

除此之外,场效应管还具有温度稳定性好,抗辐射能力强、噪声低、制造工艺简单、便于集成等优点,所得到广泛的应用。

场效应管分为结型场效应管(JFET)和绝缘栅场效应管(IGFET),目前最常用的MOS管。

由于半导体三极管参与导电的两种极性的载流子,电子和空穴,所以又称为半导体三极管双极性三极管。

场效应管仅依靠一种极性的载流子导电,所以又称为单极性三极管。

FET-Field Effect transistorJFET-Junction Field Effect transistorIGFET-Insulated Gate Field Effect TransistorMOS-Metal-Oxide-Semiconductor§1 结型场效应管一、结构结型场效应管有两种结构形式。

N型沟道结型场效应管和P型沟道结型场效应管。

以N沟道为例。

在一块N型硅半导体材料的的两边,利用合金法、扩散法或其它工艺做成高浓度的P+型区,使之形成两个PN结,然后将两边的P+型区连在一起,引出一个电极,称为栅极G。

在N型半导体两端各引出一个电极,分别作为源极S和漏极D。

夹在两个PN结中间的N型区是源极与漏极之间的电流通道,称为导电沟道。

由于N型半导体多数载流子是电子,故此沟道称为N 型沟道。

同理,P型沟道结型场效应管中,沟道是P型区,称为P型沟道,栅极与N型区相连。

电路符号如图所示,箭头方向可理解为两个PN结的正向导电方向。

二、工作原理从结型场效应管的结构可看出,我们在D、S间加上电压U DS,则在源极和漏极之间形成电流I D。

第4章 场效应管放大电路

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4.1 场效应管
4.1.1 4.1.2 4.1.3 4.1.4 4.1.5 金属-氧化物-半导体(MOS)场效应管 结型场效应管 场效应管的主要参数 各种场效应管的特性比较 场效应管使用注意事项
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4.1 场效应管
场效应管的分类:
N沟道
P沟道
FET 场效应管
耗尽型 N沟道
N沟道
P沟道
(耗尽型)
P沟道
增强型:场效应管没有加偏置电压时,没有导电沟道 耗尽型:场效应管没有加偏置电压时,就有导电沟道存在
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4.1.1 金属-氧化物-半导体(MOS)场效应管
金属-氧化物-半导体场效应管(MOSFET),是由金属(铝)、 氧化物(二氧化硅)及半导体材料构成的,简称MOS管,又称绝 缘栅场效应管 (IGFET)。 1. N沟道增强型MOS场效应管 (1) 结构 漏极 d 源极 S 栅极 g
1)输出特性 ② 可变电阻区 图4.1.3中的虚线为预夹断 临界点轨迹,它是各条曲 线上 vDS vGS VT 的点连 接而成的。 在此区域内,漏、源之间 可看成受vGS控制的可变电阻, 故称为可变电阻区。
图4.1.3 N沟道增强型MOS管的输出特性
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1)输出特性 ② 可变电阻区
•耗尽型MOS管特性曲线分为截止区、可变电阻区 和饱和区。 •N沟道耗尽型MOS管的夹断电压VP为负值。 •N沟道增强型MOS管的开启电压VT为正值。
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耗尽型MOSFET的电流方程:

《场效应管放大电路》课件


场效应管放大电路的组成
01
场效应管放大电路主要由场效应管、输入信号源、偏置电路和 负载组成。
02
输入信号源提供输入信号,偏置电路为场效应管提供合适的偏
置电压,负载则将放大后的信号输出。
场效应管是放大电路的核心元件,负责将输入信号放大并输出
03 。
场效应管放大电路的工作过程
01
输入信号通过输入信号源加在场效应管的栅极上,引起场效应管的电 流变化。
场效应管类型选择
根据应用需求选择合适的场效应管类型,如N沟道或P沟道。
场效应管参数确定
根据电路性能要求,确定场效应管的直流参数、交流参数和极限 参数。
场效应管工作状态
了解场效应管的工作状态,如饱和区、放大区和截止区,以确保 正确使用。
场效应管放大电路的电路设计
01
02
03
电路设计原则
遵循放大电路的基本原则 ,如电压放大倍数、电流 放大倍数、输入电阻和输 出电阻等。
《场效应管放大电路》PPT 课件
contents
目录
• 场效应管放大电路概述 • 场效应管放大电路的工作原理 • 场效应管放大电路的设计与实现 • 场效应管放大电路的性能分析 • 场效应管放大电路的调试与优化 • 场效应管放大电路的应用实例
01 场效应管放大电 路概述
场效应管放大电路的定义
场效应管放大电路是一种利用场效应管(Field-Effect Transistor,简称FET)的电压控制电流特性,将微弱的信号 电压放大到足够驱动负载的电路。
功率放大器设计
总结词
功率放大器是场效应管放大电路的重要应用之一,用于将微弱的信号放大并驱动负载,如扬声器、电机等。
详细描述
功率放大器通常采用场效应管作为放大元件,通过设计合适的偏置电路和反馈电路,使得放大器能够提供足够的 功率来驱动负载,同时保持较好的线性度和效率。功率放大器广泛应用于音频设备、通信设备、雷达等领域。

第4章场效应管讲义放大电路


4.场效应管构成的恒流源电路
• 输输样与无出入电负关电 电 阻 载 ,流 压 只RR2L的要iu有LI仅和变保关跟采化证, u保的本I稳证输稳定流 出 定,过 电 ,就负 流 从可载 而iL基以实RL 现恒流输出。
4.5 MOS场效应管使用注意事项
• 由于输入阻抗高,极易被静电击穿,因 此,在运输、使用MOS器件时,要严格 遵守防静电的操作规范。
场效应管的种类和符号
• 场效应管分为结型 场效应管 (Junction field effect transistor, 简称JFET)和绝缘 栅型场效应管 (Insulated gate field effect transistor,简称 IGFET)两大类。
• 绝缘栅型场效应管 有增强型和耗尽型 两类。
本章回顾
• (1)场效应管是电压控制器件,用栅-源电
压uGS控制漏极电流iD,栅极的电流基
本为零,这是与晶体三极管最大的差别。 场效应管由于输入阻抗高,极易被静电 击穿,使用时要特别注意防静电。
本章回顾
• (2)场效应管是仅靠半导体中的一种载流子导 电,它又被称为单极性晶极管,分为结型场效 应管(JFET)和绝缘栅场效应管(MOS管), 每一种分为N沟道和P沟道两种类型,绝缘栅 场效应管又分为增强型和耗尽型两种,它们的 特性都不同,在测试或使用时要特别注意分清 楚。详细比较可参照表4.6。在测试判定电极 及类型或管子的好坏时,要注意了解场效应管 的内部结构。
易水寒江雪敬奉 Thanks
Thanks
的反向电压,发生击穿现象,这时漏极电流
i区D迅速上升,场效应管进入击穿区。④夹 – 当 道u完GS全≤被UG夹S(断of,f)i时D≈,0,耗管尽子层进闭入合夹,断导区电。沟
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第4章 场效应管放大电路
4.0 场效应管的引入 4.1 结型场效应管 4.2 绝缘栅场效应管 4.3 场效应管主要参数 4.4 场效应管的特点 4.5 场效应管放大电路
场效应管的引入
用作放大的双极型三极管,由于它的输入 回路属于PN结(Je)的正向接法,当有电压信号输 入时,必然要伴随着有一定的输入电流iB ,这 在某种应用场合中,将导致较大的误差,因此 要采取各种措施来减小它。其中一个带有根本 的措施,就是改用另一种器件-----场效应管。
N区
两侧正负离子数目应相等
6
当N沟道JFET工作时,需: 沟道JFET工作时, JFET工作时 在栅极和源极 间加一个负电压 ),使栅极 (vGS<0),使栅极 ), 与N沟道间的PN 沟道间的PN 结反偏, 结反偏,则场效 应管呈现出很高 的输入电阻, 的输入电阻,Ri 可达10 可达107Ω以上
13
2. vDS对iD的影响
这里要讨论的关系是: 这里要讨论的关系是:
vGS g
d
+
vDS
i D = f (v DS ) v
GS
= 常数
s
14
在漏源间加电压v 为便于讨论,先令v 在漏源间加电压 DS ,为便于讨论,先令 GS =0 由于vGS=0,所以导电沟道最宽。 由于 ,所以导电沟道最宽。 导电沟道最宽 ①当vDS=0时, iD=0。 时 。
d
g
│↑到一定值 ③当│vGS│↑到一定值 沟道会完全合拢。 时 ,沟道会完全合拢。
夹断电压VP ——使导电沟道 使导电沟道 完全合拢(消失) 完全合拢(消失)所需要的栅 源电压v 源电压 GS。
p+
p+
VGG
N
s
注意
对于N沟道JFET,VP<0
12
可以归纳, 可以归纳,vDS=0时vGS对导电沟道的控制作用: 时 对导电沟道的控制作用:
电阻比沟道电阻大很多,故 ①当vDS=0时, iD=0。 时 。 VDS增加时,其变化量几乎全 ↑→i ②vDS↑→ D↑ 部降在耗尽层上,在VGS 一定 靠近漏极处的耗尽层加宽, →靠近漏极处的耗尽层加宽, 时,使得沟道两端的电压基 沟道变窄, 沟道变窄,呈楔形分布 本不变。故iD趋于饱和。 ③当vDS↑,使vGD=vGS- vDS=- vDS =VP时,在靠漏极 点处夹断 在靠漏极A点处夹断 ——预夹断。 预夹断。 预夹断
vGS g
d
+
vDS
s
7
当N沟道JFET工作时,需: 沟道JFET工作时, JFET工作时 在漏极和源极 间加一个正电压 ),使 (vDS>0),使N沟 ), 道中电子在电场 作用下由源极向 漏极运动, 漏极运动,形成 电流i 电流 D。 iD的大小受 GS控制 的大小受v
vGS g
d +
iD
+
vDS
梯形分布: 梯形分布:因为沟道中各 点与栅极间的电压不相等, 点与栅极间的电压不相等, 越靠近D极 反向电压越大。 越靠近 极,反向电压越大。 所以相应的耗尽层就越宽。 所以相应的耗尽层就越宽。 反之则反之。 反之则反之。
g
p+ p+
VDD
N
s
16
在漏源间加电压v 为便于讨论,先令v 在漏源间加电压 DS ,为便于讨论,先令 GS =0 由于vGS=0,所以导电沟道最宽。 由于 ,所以导电沟道最宽。
4.1结型 结型 场效应管
4.1 结型场效应管
栅极, 栅极,用G 或 源极, 源极,用S或s表示 g表示 或 表示 表示 漏极, 漏极,用 D或d表示 或 表示
1. 结构 ( 剖面图 剖面图)
N型导电沟道 型导电沟道 符号
P型区 P型区 型区 型区
4
工作原理
以N沟道JFET为例: 漏极 耗尽层 P+
P
开启电压U 的几种定义: 开启电压 T 的几种定义: (它是增强型MOS管的的参数) 当UDS一定时,使ID到达某一个数值时所需的UGS。 刚刚产生沟道所需的栅源电压UGS。 在规定的漏源电压下,使漏,源电流达到规定值的栅,源电压。
24
应用
日本尼康公司的D2H单反数字相机中使用了一种新 型的固体图像传感器LBCAST JFET。
热激发出少 数载流子
vDS很小时 即预夹断前 ,ID与vDS成正比,呈纯阻性 很小时(即预夹断前 即预夹断前), 成正比, 预夹断时,当vDS到一定程度,ID=IDSS(最大饱和电流 预夹断时, 一定程度, 最大饱和电流) 最大饱和电流 vDS继续增加,ID不变 继续增加, vDS再增加,当vDS=V(BR)DS时击穿, ID↑↑ 再增加, 时击穿,
i D = I D SS ( uGS - 1 )2 UP I D SS 是 uGS = 0时,当VDS> U 时的iD
P
23
* 夹断电压U 夹断电压
的几种定义: 的几种定义 (它是结型场效应管(只有耗尽型)和耗尽型MOS管的参数) 当UDS一定时,使ID减小到一个微小的电流时所需的UGS 。 沟道刚刚消失所需的栅源电压UGS 。 当VDS=10V,ID=50mA时的VGS值。 在规定的漏源电压下,使漏,源电流下降到规定值的栅,源电 压。 当UGS=UP时,ID=0。 对应ID="0"的VGS称为夹断电压,用符号VGS(off)表示,有时也用 VP表示。
VGG
d
g
p+ p+
N
s
11
在栅源间加负电压v 为便于讨论,先令v 在栅源间加负电压 GS,为便于讨论,先令 DS =0
①当vGS=0时,为平衡 结, 时 为平衡PN结 导电沟道最宽。 导电沟道最宽。 结反偏, ②当│vGS│↑时,PN结反偏, 时 结反偏 耗尽层变宽,导电沟道变窄, 耗尽层变宽,导电沟道变窄, 沟道电阻增大。 沟道电阻增大。
21
4.1结型 结型 场效应管
(4)BJT的输入回路中,Je为正偏,所以iB≠ 0;而JFET 的输入回路中,PN结必须反偏,所以iG≈ 0。 (5)由于沟道的存在,VDS就不会很大,所以它对导电 沟道的靠拢作用和VGS相比居于次要地位,即沟道的电阻 主要由VGS决定。VGS一定,沟道电阻就基本一定,漏电 流ID就基本上与VDS成正比(可变电阻区)。
+ + --- + -+ - + -+ -- - + + + + + + + + + + --+ ++ + - -+ + + +
P+
N
栅极
源极
5
P+区内侧与P+区和N沟道交界侧PN结形成比较:
可见P+区内侧耗 尽层非常窄,故 分析时各教材往 P+区 往都不画出这部 分PN结。
- ++ + - ++ + - ++ + -
本质:提高输入电阻 本质:
2
场效应管分类: 场效应管分类:
JFET 耗尽型) 结型 (耗尽型) FET 场效应管 Байду номын сангаасOSFET (IGFET) 绝缘栅型 增强型 N沟道 沟道 P沟道 沟道 N沟道 沟道 P沟道 沟道 N沟道 沟道 P沟道 沟道
3
耗尽型
常用!因为导通电阻小, 常用 因为导通电阻小,且容易制造 因为导通电阻小
为一固定常数时, 当vGS为一固定常数时,VP=vGD=vGS- vDS 典型值: (典型值:-1~ -10V) )
VDD
p+
N
s
表示栅源极间短路 17
在漏源间加电压v 为便于讨论,先令v 在漏源间加电压 DS ,为便于讨论,先令 GS =0 由于v预夹断后,因为耗尽层 由于 GS=0,所以导电沟道最宽。 ,所以导电沟道最宽。
4.1结型 结型 场效应管
课本 P145 3.结构、工作原理动画 结构、 结构 注意 JFET 结构示意图动画 结构示意图动画 JFET 工作原理动画 工作原理动画
工作原理详见课本。要点: (1)VDS=0,随着 V GS 的增大,因为P区为P+区,浓度高于N区,所以 PN结主要向N区扩展。 (2)预夹断后,因为耗尽层电阻比沟道电阻大很多,故VDS增加时, 其变化量几乎全部降在耗尽层上,在 V GS 一定时,使得沟道两端的电压基 本不变。iD趋于饱和。 (3)预夹断后,随着VDS的增加,由于夹断处场强也增大,仍能将电 子拉过夹断区(耗尽层)。这和NPN三极管的JC相似。
4.输出特性、转移特性 输出特性、 输出特性
课本 P148 JFET 输出特性动画 输出特性动画 JFET 转移特性动画 转移特性动画
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4.1结型 结型 场效应管
综上分析可知
沟道中只有一种类型的多数载流子参与导电, 所以场效应管也称为单极型三极管。 JFET栅极与沟道间的PN结是反向偏置的,因 此iG≈0,输入电阻很高,107 以上。 JFET是电压控制电流器件,iD受vGS控制。 预夹断前iD与vDS呈近似线性关系;预夹断后, iD趋于饱和 (恒流区 恒流区)。近似公式: 恒流区
①当vDS=0时,iD=0。 时 。 ↑→i ②vDS↑→ D↑ 注意: 注意:该结一 靠近漏极处的耗尽层加宽, →靠近漏极处的耗尽层加宽, ! 定要反偏! 定要反偏 沟道变窄, 沟道变窄,呈楔形分布
d
id
A
g
p+
③当vDS↑,使vGD=vGS- vDS =-vDS= VP时,在靠漏极A 在靠漏极 点处夹断——预夹断。 预夹断。 点处夹断 预夹断 此时i 达到了饱和漏电流 饱和漏电流I 此时 D达到了饱和漏电流 DSS
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