纯胶介绍及应用
纯胶介绍及应用纯胶学名为:辛烯基琥珀酸酯淀粉（简称SSOS），商品名为：纯胶。纯胶是一种酯类变性淀粉，在水包油型的乳浊液中有着特殊的乳化稳定性，是其他产品无法取代的。是一类新型的食品乳化稳定剂和增稠剂。该类产品现已被美洲、欧洲和亚太地区的主要国家批准使用。WHO/FAO（INS：14501982年）评价：日许量：无需作特殊的规定，可用于食品中，并对该类淀粉使用范围没有限制。在我国1997年批准该产品作为食品添加剂在食品上使用，2001年又批准扩大了该产品在食品中使用的范围，用量可根据需求添加，无需控制。一、产品介绍1、纯胶的基本特性1.1纯胶为白色粉末，无毒无臭无异味。纯胶可在冷水中溶解，在热水中可加快溶解，呈现透明液体。在酸、碱性的溶液中都有好的稳定性。根据用户不同的需求可生产不同粘度的品种。1.2纯胶由于有较大的分子量，在油水界面处可形成一层强度很大的薄膜，可以稳定水包油型的乳浊液。它与乳化剂的区别在于不仅有很好的乳化性，还有良好的稳定性和增稠性，在水包油型的乳液中有着特殊的作用，可用于不同要求粘度的各种乳浊液。1.3纯胶有优良的自由流动的疏水性，能防止淀粉颗粒的附聚，在水的乳液中能均匀分散，稳定规定的淀粉含量和所需的粘度的乳化液，并且有良好的流动性。1.4纯胶和其它的表面活性剂有很好的协同增效作用，没有配伍禁忌。2、纯胶的作用纯胶具有以下的作用：2.1具有降低表面张力和降低界面张力；2.2具有很好的乳化稳定作用；2.3用于维生素中具有很好的包埋作用；2.4可与淀粉形成稳定的体系，防止淀粉的老化和硬结；2.5可使乳液润滑并有光泽；2.6具有润湿、分散、渗透、悬浮、增溶的作用；2.7能防止蛋白质凝聚和冷、热引起的变性；2.8在酸碱溶液中具有很好的稳定性；2.9用于饮料中能增加口感。二、纯胶的应用纯胶代表了一种新型的食用变性淀粉乳化剂的出现，它具有优良的乳化性，特别在水包油的乳浊液中有着重要的作用。由于它所特有的乳化功能，被广泛用于各类食品中。如：乳化香精、微胶囊粉末制品、软饮料、酸乳和乳酪、罐头食品、色拉调料、糖果、药品、面粉改良剂等方面。作水包油型乳浊液的乳化稳定剂；作各种油、脂肪和水不溶性纤维素等干粉制品的包胶剂；作各种溶液的增稠剂及各种复配型乳化、稳定、增稠剂的配方基料等。纯胶在各个食品中的应用时的使用量及所起的作用；1、乳化香精和饮料乳剂：1.0-13%，起乳化、稳定、增稠作用；纯胶一般可用于无醇饮料和乳化香精中作乳浊稳定剂用。在我国乳化香精行业，自乳化香精问世以来，所使用的水包油的乳化稳定剂一直是纯胶，至今还没有可取代它的产品出现。在这一方面，它在乳浊液的使用上有特殊的作用。如乳浊液有良好的光泽度，在容器壁上不会挂壁，这是它的特殊的功能。其使用效果优于阿拉伯胶。使用时。先将纯胶溶解在水中，再加入柠檬酸、防腐剂，使其溶解后，调节好水量，再与调整好比重的油相组份，即香精成份相混合，进行预乳化和高压均质即可。2、微胶囊制品：2.0-10.0%，起包胶、乳化、稳定、增稠作用；纯胶从其结构上看在其淀粉的长链上同时引进了亲水基和疏水基，并且二者的比例是1：1。其次由于长链的作用，当用于油水乳状液时，亲水的羧酸基团伸入水中，亲油的烯基长链伸入油中，使长链在油水界面形成一层很厚的界面膜，而小分子乳化剂只能形成单分子的界面膜，因而纯胶的乳化稳定性要高于小分子的乳化剂。在微胶囊的制备中，要求壁材浓度大，包埋的效果就好，形成的外胶囊膜就厚。因而要求使用的壁材是高浓度低粘度的，而典型的原料如阿拉伯胶粘度太大，需要用麦芽糊精来降低粘度。为此低粘度的纯胶，由于其粘度低，可以增加使用量，所得的产品的乳化性能强，所形成的乳液乳化状态好，心材的微薄粒子分散的很小，均匀的分布在乳液中。乳液的纯胶分子大都吸附在油/水界面上。在乳液进行喷雾干燥时，可立即在心材的表面凝聚固化，其包埋效率很高。所以低粘度的纯胶为壁材制得的微胶囊产品从干燥速度，油的包埋率，货架稳定性，粉未在水中的分散溶化能力及自油流动性和斥水性来看，都优于阿拉伯胶、精精、麦芽糊精等壁材原料作成的产品，可以全部代替阿拉伯胶的使用。在粉末香精中，纯胶作为包埋壁材除上述优点外，对香精香料还具有缓释的作用。使用时将纯胶先溶解于水中，再与其它成份或与油相混合均质（见示例）。3、色拉调味油：0.5-5.0%，起乳化、稳定、增稠、强化作用；高粘度的纯胶是诸如色拉调味油等高粘高油体系的优良的稳定剂。在典型的色拉调味油中，油的用量大约在35%左右，使用纯胶不仅能使调味油具有一定的粘度和稠度，而且还能使油有效
的分散开，得到的产品呈稀奶油状，在口中有滑润的感觉，乳化状态稳定。纯胶还具有代脂产品的功能。在干酪产品中可用来取代酪朊盐类的物质，其代脂品与天然的干酪产品（26.6%）的质量和外观都很相近。在各类调味料中（如调味酱）使用纯胶可使产品长期存放稳定不分层，外观有光泽，口感细腻。4、饮料制品：0.003-0.05%，起增稠、稳定作用，增加口感。纯胶在碳酸饮料中使用，如类似可乐性的饮料，可提高饮料口感的厚度和润滑感，赋于饮料有光泽的感觉。纯胶在我国食品添加剂卫生使用标准的申报企业就是百事可乐（中国）公司。现在我国自己生产的可乐饮料也应该可以添加纯胶产品。使用时将其与其它乳化增稠剂或与其它添加剂一起加入。
5、焙烤食品：0.05-0.5%起乳化、保湿、保鲜作用，增加食品疏松度。使用时先将纯胶溶解于适量水中，再添加到其它组分中去。
6、咖啡伴侣：1.5-2.0%，起乳化、稳定作用；使用时可与其它成份拌和均匀或先溶解于水中，再与其它组份相溶，再喷雾干燥来制取。
7、粉末油脂、植脂末：1.5-5.0%，起乳化、稳定、包胶作用；使用时将其与其它水溶性的添加剂一起在水中溶解后，再与油相组份混合进行均质。
8、酸乳、色拉酱、甜品制品的配料：0.5-5.0%起乳化稳定、增稠、强化作用；使用时可将纯胶先与其它乳化稳定剂相混均匀。再将它们溶解于适量的水中，再与物料相混后均质。
9、糖果：0.5-3.0%起乳化、稳定、增稠、强化作用；使用时先用适量的水将其溶解，再与糖浆混合搅拌均匀。10、化妆品：1.0-5.0%，起乳化、稳定、增稠作用；纯胶在化妆品中可作为胶合剂、悬浮剂、增稠剂和乳化剂来使用，可使化妆品在其特定的下有好的稳定性，以防止乳化分子和粉末发生分离。在性能上纯胶具有乳化性和增稠性，溶解后不回生，透明度好，在上对热和冷的剪切力也很稳定，呈现假塑性流体的特性，加上纯胶具有很大的粘度选择范围，在生产上可以调节，使其在应用上就更显灵活，它的性能由于优于天然树胶，因而它可以取代天然树胶（如阿拉伯胶等）。使用时应将纯胶溶解在纯净水中，再与其它组份混合后再均质。11、面粉改良剂：1.5-5.0%增加面筋增强面制品韧性；使用时直接加入混合。12、医药制品：1.0-5.0%。起乳化、稳定、增稠、包胶作用；使用时按药品生产要求添加，先将纯胶与适量的水相溶，再添加到其它成份中去。13、在复配的乳化稳定剂中：5.0-20%，起乳化、稳定、增稠的协同增效强化作用；使用时与其它粉末相混合均匀；也可与其它乳化稳定剂一起溶解于水中，然后再喷雾干燥得粉末。14、纯胶在肉类制品中使用，可增强肉浆的弹性，粘性和持水性；使用时将纯胶与其它配料进行混合，包裹在肉块外进行焙烤，能得到类似油炸的外观效果。纯胶是一个新的产品，纯胶的应用还刚处于一个起步阶段，有待于业内人士共同去摸索。使这一产品能使用到各个方面去。我们愿与用户一起不断探索提高其应用技术，做好应用服务工作，扩大纯胶的应用范围。三、应用示例：纯胶在乳化香精中应用（500g乳化甜橙为例）a.称取365g蒸馏水，再加60g纯胶；b.搅拌使纯胶粉完全溶解后加0.2g苯钾酸钠；c.加0.25g柠檬酸，再加10-15g
丙二醇，最后加10g日落黄，完全溶解。搅拌15-30min,使水相完全均匀。d.水相在10000n/min 乳化机中，乳化1-2min后，慢慢加油相，乳化10-15min，同时乳化体系不能超出60℃。e.剪切乳化后，在低压20kgN，高压400 kgN下均质1-2次，便可得乳化甜橙香精，同时做相应应用试验等。纯胶在调味色拉油料中的应用：高粘度的纯胶 1.8%；植物油36.3%；糖19%；白醋19.3%甜调味品 5.5%；西红柿酱 3.15%；蛋黄（10%糖腌）2.5%；盐 2.1%；黄原胶0.05%；水
余量生产工艺如下：将高粘度的纯胶加入到水中溶解后，加入白醋和西红柿的酱进行混合，中度搅拌15-20min,然后将黄源胶、糖和盐进行干混后加入上述混合物中，持续混合搅拌20min。再加入蛋黄，搅拌使其分散开后，加入油再混合15min，在间隙为0.025cm的胶体磨上进行研磨，然后加入调味品和填料得到产品。纯胶在微胶囊化粉末香精中的应用：壁材：纯胶，用量在40-50%左右。心材：香精油及其它用于调节比重或稀释的油相成份，用量20%左右。工艺流程：低粘度的纯胶其它壁材原料（加纯净水溶解）（加心材）用胶体磨进行预乳化用均质机进行二次高压均质喷雾干燥成品。工艺条件为：溶解乳化温度在50-70℃，二次均质压力是：第一次为15-20Mpa，第二次为20-30 Mpa`，喷雾进风温度为180-190℃，出口温度为80-90℃，可
得到细度为150微米左右的流动性好的微胶囊粉末精。纯胶在以上方面的应用方法法仅供参考，希望广大用户能给我们提出宝贵意见和建议。纯胶在其它方面的应用也是很广的，这有待于大家其同去探索、研究，能为纯胶应用提高到更深一层，为我国的食品添加剂行业的发展做出我们的贡献。四、产品指标、包装、保质期a)产品质量符合：Q/DQSF 002-2209主要指标：外观：白色粉末或类似白色的粉末；取代度≤0.02；PH值（6%的水溶液）4.5-7.0；粘度（6%的水溶液）3.5-6.0mpa.s（根据用户的实际需要可以进行调整）b)产品包装：25kg/袋，内衬透明食品用塑料包装袋
光刻胶行业现状分析
光刻胶行业现状分析 ▌国产光刻胶现状 光刻胶是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一，按应用领域可分为PCB（线路板）用、平板显示（LCD、LED）用和半导体用三类，目前国内市场上绝大多数厂商生产的产品为前两者。 在大规模集成电路的制造过程中，光刻和刻蚀技术是精细线路图形加工中最重要的工艺，占芯片制造时间的40%~50%，光刻胶是光刻工艺得以实现选择性刻蚀的关键材料。 为适应集成电路线宽不断缩小的要求，光刻胶的波长由紫外宽谱向g线（436nm）→i线（365nm）→KrF（248nm）→ArF（193nm）→F2（157nm）的方向转移，并通过分辨率增强技术不断提升光刻胶的分辨率水平。 目前半导体市场上主要使用的光刻胶包括g线、i线、KrF、ArF四类光刻胶，其g线和i线光刻胶是市场上使用量最大的光刻胶。 半导体用光刻胶技术壁垒较高、市场高度集中，日美企业基本垄断了g/i线光刻胶、KrF/ArF光刻胶市场，生产商主要有JSR、信越化学工业、TOK、陶氏化学等。 国产光刻胶发展起步较晚，与国外先进光刻胶技术相比国内产品落后4代，目前主要集中在PCB光刻胶、TN/STN-LCD 光刻胶等中低端产品，虽然PCB领域已初步实现进口替代，但LCD 和半导体用光刻胶等高端产品仍需大量进口，正处于由中低端向中高端过渡阶段。 随着国家层面对半导体在资金、政策上的大力支持，国内光刻胶企业正在努力追赶，企业数量从2012年的5家增长到2017年15家，少数企业在中高端技术领域已取得一定突破。 其中半导体用光刻胶领域代表性企业有苏州瑞红和北京科华，两者分别承担了02专项i线（365nm）光刻胶和KrF线（248nm）光刻胶产业化课题。目前，苏州瑞红实现g/i线光刻胶量产，可以实现0.35μm的分辨率，248nm光刻胶中试示范线也已建成；北京科华KrF/ArF光刻胶已实现批量供货。 如今国际半导体产能正在逐渐向国内转移，受益于产业大趋势，国产光刻胶需求将日益提升，随着苏州瑞红、北京科华等企业在技术上的不断突破，国产化替代趋势愈加明显。
光刻胶知识简介
光刻胶知识简介 光刻胶知识简介: 一.光刻胶的定义(photoresist) 又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像（见图光致抗蚀剂成像制版过程）。 二.光刻胶的分类 光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。 基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为三种类型。 ①光聚合型 采用烯类单体，在光作用下生成自由基，自由基再进一步引发单体聚合，最后生成聚合物，具有形成正像的特点。 ②光分解型 采用含有叠氮醌类化合物的材料，经光照后,会发生光分解反应,由油溶性变为水溶性，可以制成正性胶. ③光交联型 采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其分子中的双键被打开，并使链与链之间发生交联，形成一种不溶性的网状结构，而起到抗蚀作用，这是一种典型的负性光刻胶。柯达公司的产品KPR胶即属此类。 三.光刻胶的化学性质 a、传统光刻胶：正胶和负胶。 光刻胶的组成：树脂（resin/polymer），光刻胶中不同材料的粘合剂，给与光刻胶的机械与化学性质（如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等）；感光剂，感光剂对光能发生光化学反应；溶剂（Solvent），保持光刻胶的液体状态，使之具有良好的流动性；添加剂（Additive），用以改变光刻胶的某些特性，如改善光刻胶发生反射而添加染色剂等。 负性光刻胶。树脂是聚异戊二烯，一种天然的橡胶；溶剂是二甲苯；感光剂是一种经过曝光后释放出氮气的光敏剂，产生的自由基在橡胶分子间形成交联。从而变得不溶于显影液。负性光刻胶在曝光区由溶剂引起泡涨；曝光时光刻胶容易与氮气反应而抑制交联。 正性光刻胶。树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛，提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性，当没有溶解抑制剂存在时，线性酚醛树脂会溶解在显影液中；感光剂是光敏化合物（PAC，Photo Active Compound），最常见的是重氮萘醌（DNQ），在曝光前，DNQ是一种强烈的溶解抑制剂，降低树脂的溶解速度。在紫外曝光后，DNQ在光刻胶中化学分解，成为溶解度增强剂，大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。这种曝光反应会在DNQ中产生羧酸，它在显影液中溶解度很高。正性光刻胶具有很好的对比度，所以生成的图形具有良好的分辨率。
密封胶效果的评判和密封胶有哪些种类
密封胶效果的评判和密封胶有哪些种类 1、表面效果 固体垫片无论怎样压紧，也不会完全填满接合面上的凹凸不平，在界面上总会存有间隙，而液态密封胶却能将全部凹陷填平，呈现出良好的密封效果。 2、粘附效果 液态密封胶呈液态状，具有一定的粘性，对金属接合面具有一定的粘附力，有利于密封。密封胶 3、薄膜效果 处于接合面间的液态密封胶被螺纹紧固后，形成与间隙相同的薄膜，同时与表面十分吻合。同时越薄的膜，复原能力越大，越有利于密封。 4、流动和耐压性 使用液态密封胶的金属接合面，间隙一般都在0.1mm以下，而且液态密封胶又是粘度很高的液体，很难发生流动，从而保持了其良好的密封性。 5、容积变化和流动性 固体垫片的防泄漏作用是靠垫片的压缩而产生的弹性变形。而液态密封胶的防漏是在受压和拉伸时容积发生变形，它不存在固体垫片的压缩变形，从而也就没有压缩疲劳、弹性破坏、应力松弛等现象，而且它总是与连接界面粘附着的，所以能防止界面泄漏。 密封胶具有良好的密封性能，又有良好的耐温、耐压、耐密介质等特点，使用方法简便，常用于机电产品的静止接合面间的密封，以及接合面较复杂的螺纹等的密封，密封胶一般分为液态密封胶与厌氧胶两大类。 密封胶分类 1、按照化学成分分类，可以分为橡胶型、树脂型、油基型和天然高分子密封胶。这种分类法能更具高分子材料的特性推测出其乃温馨、密封性及对各种介质的适应能力。 橡胶型：此类密封胶以橡胶为基料。常用橡胶有聚硫橡胶、硅橡胶、聚氨酯橡胶、氯丁橡胶和丁基橡胶等。 树脂型：此类密封胶以树脂为基料。常用树脂有环氧树脂、不饱和聚酯树脂、酚醛树脂、聚丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂等。 油基型：此类密封胶以油料为基料。常用的油类有各种植物油如亚麻油、蓖麻油和桐油、以及动物油、如鱼油等。 密封胶分类
光刻胶的发展及应用
Vo.l14,No.16精细与专用化学品第14卷第16期 F i n e and Specialty Che m ica ls2006年8月21日市场资讯 光刻胶的发展及应用 郑金红* (北京化学试剂研究所,北京100022) 摘 要:主要介绍了国内外光刻胶的发展历程及应用情况,分析了国内外光刻胶市场状况及未来走向,并在此基础上阐述了我国光刻胶今后的研发重点及未来的发展方向。 关键词:集成电路;光刻胶;感光剂 D evelop m ent T rends and M arket of Photoresist Z HENG J in hong (Be iji ng Instit u te o f Che m ica l R eagents,Be iji ng100022,Chi na) Abstrac t:The deve l op m ent course and app licati on o f photoresist i n Chi na and abroad we re i ntroduced.The m arket sta t us and head i ng d irec tion o f pho toresist in Ch i na and abroad w ere also analyzed.T he research f o cuses and deve l op m ent trends of pho t o res i st i n Ch i na w ere descri bed. K ey word s:i n teg ra ted c ircuit;photoresist;photosensiti zer 光刻胶(又称光致抗蚀剂)是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X射线等光源的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。主要用于集成电路和半导体分立器件的微细加工,同时在平板显示、LED、倒扣封装、磁头及精密传感器等制作过程中也有着广泛的应用。由于光刻胶具有光化学敏感性,可利用其进行光化学反应,将光刻胶涂覆半导体、导体和绝缘体上,经曝光、显影后留下的部分对底层起保护作用,然后采用蚀刻剂进行蚀刻就可将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工的衬底上。因此光刻胶是微细加工技术中的关键性化工材料。 现代微电子(集成电路)工业按照摩尔定律在不断发展,即集成电路(I C)的集成度每18个月翻一番;芯片的特征尺寸每3年缩小2倍,芯片面积增加1 5倍,芯片中的晶体管数增加约4倍,即每过3年便有一代新的集成电路产品问世。现在世界集成电路水平已由微米级(1 0 m)、亚微米级(1 0~0 35 m)、深亚微米级(0 35 m以下)进入到纳米级(90~65nm)阶段,对光刻胶分辨率等性能的要求不断提高。因为光刻胶的可分辨线宽 =k /NA,因此缩短曝光波长和提高透镜的开口数(NA)可提高光刻胶的分辨率。光刻技术随着集成电路的发展,也经历了从g线(436nm)光刻,i线(365nm)光刻,到深紫外248nm光刻,及目前的193nm光刻的发展历程,相对应于各曝光波长的光刻胶也应运而生。随着曝光波长变化,光刻胶的组成与结构也不断地变化,使光刻胶的综合性能满足集成工艺制程的要求。 表1为光刻技术与集成电路发展的关系,其中光刻技术的变更决定了光刻胶的发展趋势。 1 国外光刻胶发展历程及应用 光刻胶按曝光波长不同可分为紫外(300~ 450nm)光刻胶、深紫外(160~280n m)光刻胶、电子束光刻胶、离子束光刻胶、X射线光刻胶等。根据曝 24 *收稿日期:2006 07 19 作者简介:郑金红(1967 ),女,北京化学试剂研究所有机室主任,教授级高工,主要从事微电子化学品光刻胶的研究工作。
修补胶产品介绍
铁道科学研究院产品介绍 一、产品说明 ZV型混凝土修补胶是以高分子共聚物为基本原料，掺加适量改性剂、有机助剂配制成的水乳状产品，无毒、不燃、无腐蚀性，PH值为6～6.5，粘度200～500厘泊。 ZV型混凝土修补胶对混凝土、砖、石、金属、织物都有很强的粘结强度，它可以直接掺入水泥砂浆和混凝土中，配制成聚合物砂浆和聚合物混凝土，大大增加粘结强度、抗拉抗折强度，提高抗渗性能，也可以掺入水泥浆中配制薄层涂料和界面处理浆。 ZV型修补胶贮运时不得受冻，应在＋5oC以上温度时使用，其有效期为一年。 二、用途 用于混凝土的修补、粘贴面砖、作彩色地坪；新旧混凝土的界面处理；混凝土结构物的表面防护、装饰和封闭裂缝。 三、使用方法 1.配制聚合物水泥砂浆，用于混凝土修补、粘贴面砖、作防水层。 ①将混凝土基面或缺陷部分清洗干净; ②拌制聚合物水泥浆和水泥砂浆，配合比参考下表： ③首先在基面或缺陷部位涂刷一层聚合物水泥浆，再将聚合物水泥砂浆用抹刀填补缺陷、压抹防水层或粘贴面砖。 2.配制聚合物水泥浆，用于混凝土表面涂膜、装饰和封闭细裂缝。 ①先清除混凝土表面的粉尘、油污。孔洞和裂缝处预先补平。用水湿润混凝土表面。 ②参考下表的重量比拌制聚合物水泥浆，并用铁窗纱过滤，除去团块杂物待用。
③用聚合物水泥浆涂刷。可采用圆滚刷进行滚涂，也可用毛刷进行刷涂，或滚涂与刷涂结合。一般涂3～4道，前一道干后再涂后一道，涂刷方向前后二次互相垂直。 ④聚合物水泥浆中可以掺入色料，用于彩色装饰。 ⑤为了增加表面硬度和光泽性，提高防水效果，可在涂膜的外面罩涂1～2道透明的ZB 型罩面胶。 ⑥ZB型罩面胶为乳白色液体，PH值为7.5~9.0，粘度500~2000cP，具有优异的耐水性能。本品应在0oC以上保存，避免曝晒，保质期六个月，成膜温度15oC。 3.配制界面处理水泥浆，用于增加新旧混凝土界面强度，代替凿毛处理的传统 作法。 ①旧混凝土基面要冲刷干净，排除积水。 ②界面处理水泥浆和水泥砂浆参考下表拌制。 ③在旧基面上涂刷界面处理浆，在其凝结之前，接打新混凝土或抹砂浆。 ④如果新混凝土不可能马上灌筑，为了增加旧基面的粗糙度，可进行如下糙化处理：先在旧基面上涂一道界面处理浆，然后再刷一道糙化处理砂浆，待其硬化后，形成带粗砂的糙面层。再接打新混凝土，新旧混凝土间的粘结强度将大大提高。 ⑤界面水泥浆所用水泥应与新灌混凝土或砂浆的水泥一致，多为硅酸盐类水泥。但如在路面快速修补等情况时，界面水泥浆应与新混凝土一样采用快硬硫铝酸盐水泥。 四、主要性能 1.聚合物砂浆性能 注：水泥:中砂:ZV胶:水＝1:2.5:0.4:0.20
紫外光固化技术及UV压敏胶的介绍
紫外固化技术及UV压敏胶的介绍 广州市常疆商贸有限公司 https://www.360docs.net/doc/f61005202.html,/
什么是紫外光固化技术 UV固化油墨或涂料（上光油）由：液态预聚固化油墨或涂料（上光油）由液态预聚物、单体、颜料、添加剂和光活性化合物（光引发剂）混合而成。当有适当波长和光强的紫外光投射该涂层时，其中的光引发剂便分解成游离基，游离基引发预聚物和单体上的不饱和基团发生快速的加成聚合反应。上的不饱和基团发生快速的加成聚合反应由于采用的是多功能单体和预聚物，以及游离基反应（例如接枝）的化学特性（快速加成聚合），使涂层迅速转化成不可溶性交联网状结构。
3该增长键近一步反应形成类似于乙烯基溶液聚合物3. 该增长键近步反应，形成类似于乙烯基溶液聚合物的那些聚合物链。如果增长着的分子含有一个以上的双键，则就会产生交联网状结构。 例如 例如：P* + CH 2=CHOOC—COOCH=CH 2 + CH 2=CH—R—CH= CH 2游离基稀释剂（单体）预聚物→~CH 2—CH—R—CH—CH 2—CHOOC—COOHC—CH 2P |||| CH 2CH 2交联聚合物网络|| CH CH R CH —CH—CH 2—R—CH | | 4UV 体系会因紫外灯源的红外辐射而经受额外的温升 4. UV 体系会因紫外灯源的红外辐射，而经受额外的温升。
紫外（UV）光谱 注：任何一种紫外线灯，都会同时产生紫外（UV）、可见光（VL）、红外线（IR ），紫外线和红外线都不可见，其中紫外线是固化过程所需要的，而红外线则是热量的主要来源。
UV灯（高压汞灯）灯管结构
密封胶的种类及介绍
密封胶的种类及介绍 七十年代以后，密封胶已开始用于建筑结构接缝密封，逐渐成为主体材料。该类材料可功能和基础聚合物两种方法分类，重要的是根据用途及密封功能对产品分类，已经编制标准的有玻璃幕墙接缝密封胶、混凝土接缝密封胶、石材密封胶、防霉密封胶、金属彩板密封胶、窗用密封胶等，随着需要可能还有防火密封胶、绝缘密封胶、阻蚀密封胶等，其物理力学性均按ISO 11600标准分级外，分别规定出功能特有的技术要求。对设计选材、产品研究和工程应用来讲，按基础聚合物类型分类已显得不为重要，关键是各该产品满足用途和特定的功能要求。先列出几种分类的密封胶和相关技术要求。 1) 幕墙玻璃接缝密封胶 具有粘接密封幕墙玻璃接缝的密封胶，目前基本是硅酮型密封胶。外观为单组份支装可挤注的粘稠流体，挤出后不下垂、不变形，颜色以黑色为主。用于长期承受日光、雨雪和风压等环境条件的交变作用、承受较大接缝位移的幕墙玻璃-玻璃接缝的粘接密封，也可用于建筑玻璃的其他接缝密封。按位移能力及模量分为4个级别。 2) 建筑窗用密封胶 用于窗洞、窗框及窗玻璃密封镶装的密封胶。外观为单组份支装可挤注的粘稠流体，挤出后不下垂、不变形。颜色有透明、半透明、茶色、白色、黑色等。产品按模量及位移能力大小分为3个级别。该类密封胶主要用于接缝密封，不承受结构应力。适应要求的密封胶可以是硅酮、改性硅酮、聚氨酯、聚硫型等，洞口-窗框密封可以是硅化丙烯酸型或丙烯酸型。 3) 混凝土建筑接缝密封胶 定义：用于混凝土建筑屋面、墙体变形缝密封的密封胶。 外观为单组份支装可挤注粘稠流体。 由于构件材质、尺寸、使用温度、结构变形、基础沉降影响等使用条件范围宽，对密封胶接缝位移能力及耐久性要求差别较大，产品包括25级至7.5级的所有6个级别。按流动性分为N型--用于垂直接缝，挤出后不下垂、不变形；S 型—用于水平接缝能自流平。主要包括中性硅酮密封胶、改性硅酮、聚氨酯、聚
国外光刻胶及助剂的发展趋势
应用科技 国外光刻胶及助剂的发展趋势 中国化工信息中心 王雪珍编译 光刻是半导体产业常用的工艺，借助光刻胶可将印在光掩膜上的图形结构转移到硅片表面上。光掩膜制备也是一个光刻过程，不过其所用化学品不同。 每一层集成电路芯片都需要不同图案的光掩膜。在一些高级的集成电路中，硅片经历了50多步非常精细的光刻工艺。在过去10年里，光刻费用飞速上涨，其中最重要的花费在半导体领域。光刻工艺花费了硅片生产大约35%的费用，一个典型的例子是，在一个价格在50万欧元（合65万美元）的90nm 的光掩膜技术中，其光刻机花费是1000万欧元（合 1300万美元）。而这个费用比例在以后的生产装置和工艺中 还将不断提高。 在半导体产业中，常用的光刻胶有正型光刻胶与负型光刻胶两种。正型光刻胶的销售额大概是负型光刻胶的100倍，这是因为正型光刻胶具有更高的分辨率，可以用于微小精细的电路，同时，正型光刻胶与等离子干法刻蚀技术的相容性也更好一些。 光刻胶根据其辐照源进行分类，对于光致抗蚀技术来说，集成电路的最小特征尺寸受光源波长所限。由于集成电路越来越小，因此新光源和光刻胶联合使用以达到这一目的。一项联合了曝光波长为248nm 和193nm 的技术可以得到高分辨率的图案，其结果甚至比90nm 曝光波长的技术要来得好一些。一些光学技术可以扩大这个范围，但是其最终限制条件是光的频率。 光刻胶技术和制造 光刻胶指光照后能具有抗蚀能力的高分子化合物，用于在半导体基件表面产生电路的形状。其配方通常是一个复杂的体系，主要包括感光物质（PAC ）、树脂和一些其他利于使用的材料如稳定剂、阻聚剂、粘度控制剂、染料、增塑剂和化学增溶剂等。 当光刻胶暴露在光源或者是紫外辐照源条件下时，其溶解度发生了改变：负型光刻蚀剂变为不溶，正型光刻胶变为可溶。大多数负型光刻蚀剂可以归为两种类型，一种是二元体系：大量的聚异戊二烯树脂和叠氮感光化合物；另外一种是一元体系：缩水甘油甲基丙烯酯和乙基丙烯酸酯的共聚物。前者是建立在酚醛树脂和重氮萘醌感光物质的基础之上的。使用248nm 曝光波长要求光刻胶使用乙酰氧基苯乙烯单体。通过4-乙酰氧基苯乙烯单体的自由基聚合，醋酸酯选择性地转换成酚醛，以及将其与其他反应性单体的化合，可以制备出许多用于远紫外光刻的聚合物。硅氧烷/硅倍半氧烷和碳氟化合物等材料在157nm 曝光波长时是相对透明的。 预计未来5年，使用聚羟基苯乙烯树脂的化学增幅抗蚀剂将成为主流。远紫外光刻胶也是基于聚甲基丙烯酸甲酯和氟化高分子或者是二者之一。 通常说来，感光化合物例如二芳基叠氮和重氮萘醌是易爆化学制品。所以，光刻胶的生产商一定要足够小心以防爆炸。目前用于负型光刻胶的有机溶剂和显影液对环境具有危害性，以致人们倾向于使用正型光刻胶。并且，其发展趋势是替换掉具有危害的溶剂，而选用对环境无污染的无毒产品。 在低密度远紫外辐照和其他替代i 线和g 线辐照源发展大趋势的刺激下，化学增幅抗蚀剂成为一个发展快速的热点领域。在化学增幅抗蚀剂领域，由于辐照源的匮乏，势必导致一种催化的东西产生，通常为中子源。在曝光的加热处理后，催化剂会引起树脂中组分发生复杂反应，这种反应将最终产生光刻图案。目前正型光刻胶体系和负型光刻胶体系都有了较好的发展。 集成电路 收稿日期：2009-04-23 作者简介：王雪珍（1983-），女，主要从事电子化学品、可降解塑料和食品添加剂的信息研究工作 。 12
2021年光刻胶介绍模板
````4. 光刻胶 欧阳光明（2021.03.07） 光刻胶主要由树脂（Resin）、感光剂（Sensitizer）、溶剂（Solvent）及添加剂（Additive）等不同的材料按一定比例配制而成。其中树脂是粘合剂（Binder），感光剂是一种光活性（Photoactivity）极强的化合物，它在光刻胶内的含量与树脂相当，两者同时溶解在溶剂中，以液态形式保存，以便于使用。 4.1 光刻胶的分类 ⑴负胶 1.特点 ·曝光部分会产生交联（Cross Linking），使其结构加强而不溶于现像液； ·而未曝光部分溶于现像液； ·经曝光、现像时，会有膨润现像，导致图形转移不良，故负胶一般不用于特征尺寸小于3um的制作中。 2.分类（按感光性树脂的化学结构分类） 常用的负胶主要有以下两类： ·聚肉桂酸酯类光刻胶 这类光刻胶的特点，是在感光性树脂分子的侧链上带有肉 桂酸基感光性官 能团。如聚乙烯醇肉桂酸酯（KPR胶）、聚乙烯氧乙基肉桂酸酯（OSR胶）等。
·聚烃类—双叠氮类光刻胶 这种光刻胶又叫环化橡胶系光刻胶。它由聚烃类树脂（主 要是环化橡胶）、 双叠氮型交联剂、增感剂和溶剂配制而成。 3.感光机理 ①肉桂酸酯类光刻胶 KPR胶和OSR胶的感光性树脂分子结构如下：在紫外线作用下，它们侧链上的肉桂酰官能团里的炭－炭双键发生二聚反应，引起聚合物分子间的交联，转变为不溶于现像液的物质。KPR胶的光化学交联反应式如下： 这类光刻胶中的高分子聚合物，不仅能在紫外线作用下发生交联，而且在一定温度以上也会发生交联，从而在现像时留下底膜，所以要严格控制前烘的温度与时间。 ②聚烃类—双叠氮类光刻胶 这类光刻胶的光化学反应机理与前者不同，在紫外线作 用下，环化橡胶 分子中双键本身不能交联，必须有作为交联剂的双叠氮化合物参加才能发生交联反应。交联剂在紫外线作用下产生双自由基，它和聚烃类树脂相作用，在聚合物分子之间形成桥键，变为三维结构的不溶性物质。其光化学反应工程如下： 首先，双叠氮交联剂按以下方式进行光化学分解反应： 双叠氮交联剂分解后生成的双氮烯自由基极易与环化橡胶分子发生双键交联（加成）和炭氢取代反应，机理如下：
光刻胶大全
光刻胶产品前途无量（半导体技术天地） 1 前言 光刻胶(又名光致抗蚀剂)是指通过紫外光、电子束、准分子激光束、X射线、离子束等曝光源的照射或辐射，使溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，主要用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工，近年来也逐步应用于光电子领域平板显示器（FPD）的制作。由于光刻胶具有光化学敏感性，可利用其进行光化学反应，经曝光、显影等过程，将所需要的微细图形从掩模版转移至待加工的衬底上，然后进行刻蚀、扩散、离子注入等工艺加工，因此是电子信息产业中微电子行业和光电子行业微细加工技术的关键性基础加工材料。作为经曝光和显影而使溶解度增加的正型光刻胶多用于制作IC，经曝光或显影使溶解度减小的负型光刻胶多用于制作分立器件。 2 国外情况 随着电子器件不断向高集成化和高速化方向发展，对微细图形加工技术的要求越来越高，为了适应亚微米微细图形加工的要求，国外先后开发了g线（436nm）、i线（365nm）、深紫外、准分子激光、化学增幅、电子束、X射线、离子束抗蚀剂等一系列新型光刻胶。这些品种较有代表性的负性胶如美国柯达（Kodak）公司的KPR、KMER、KLER、KMR、KMPR等；联合碳化学（UCC）公司的KTI系列；日本东京应化（Tok）公司的TPR、SVR、OSR、OMR；合成橡胶（JSR）公司的CIR、CBR 系列；瑞翁（Zeon）公司的ZPN系列；德国依默克（E.Merk）公司的Solect等。正性胶如：美国西帕来（Shipely）公司的AZ系列、DuPont公司的Waycot系列、日本合成橡胶公司的PFR等等。 2000~2001年世界市场光刻胶生产商的收益及市场份额 公司 2001年收益 2001年市场份额（%） 2000年收益 2000年市场份额（%） Tokyo Ohka Kogyo 150.1 22.6 216.5 25.2 Shipley 139.2 21.0 174.6 20.3 JSR 117.6 17.7 138.4 16.1 Shin-Etsu Chemical 70.1 10.6 74.2 8.6 Arch Chemicals 63.7 9.6 84.1 9.8 其他 122.2 18.5 171.6 20.0 总计 662.9 100.0 859.4 100.0 Source: Gartner Dataquest 目前，国际上主流的光刻胶产品是分辨率在0.25μm～0.18μm的深紫外正型光刻胶，主要的厂商包括美国Shipley、日本东京应化和瑞士的克莱恩等公司。中国专利
玻璃胶种类知识
1、玻璃胶好坏可以从粘度、拉力、是否防霉、是否容易清洁、是否会变色等方面考察，从颜色上看，玻璃胶有各种颜色，白色、黑色、彩色等，还有透明的颜色。 2、酸性硅酮玻璃胶：粘接范围广，对大部分建筑材料如玻璃、铝材、不含油质的木材等具有优异的粘接性。但是不能用于粘接陶瓷、大理石等。 3、中性硅酮玻璃胶：可以用于粘接陶瓷洁具、大理石等。 4、市场上玻璃胶的品种很多，有酸性玻璃胶、中性耐候胶、硅酸中性结构胶、硅酮石材胶、中性防霉胶、中空玻璃胶、铝塑板专用胶、水族箱专用胶、大玻璃专用胶、浴室防霉专用胶、酸性结构胶等等。 硅酮玻璃胶 一、分类： 硅酮玻璃胶从产品包装上可分为两类：单组份和双组份。单组份的硅酮胶，其固化是靠接触空气中的水分而产生物理性质的改变；双组份则是指硅酮胶分成A、B两组，任何一组单独存在都不能形成固化，但两组胶浆一旦混合就产生固化。
目前市场上常见的是单组份硅酮玻璃胶，本文以介绍此种玻璃胶为主。 单组份硅酮玻璃胶按性质又分为酸性胶和中性胶两种。 酸性玻璃胶主要用于玻璃和其它建筑材料之间的一般性粘接。而中性胶克服了酸性胶腐蚀金属材料和与碱性材料发生反应的特点，因此适用范围更广，其市场价格比酸性胶稍高。 市场上比较特殊的一类玻璃胶是硅酮结构密封胶，因其直接用于玻璃幕墙的金属和玻璃结构或非结构性粘合装配，故质量要求和产品档次是玻璃胶中最高的，其市场价格也最高。 二、简述： 单组份硅酮玻璃胶是一种类似软膏，一旦接触空气中的水分就会固化成一种坚韧的橡胶类固体的材料。 硅酮玻璃胶的粘接力强，拉伸强度大，同时又具有耐候性、抗振性，和防潮、抗臭气和适应冷热变化大的特点。加之其较广泛的适用性，能实现大多数建材产品之间的粘合，因此应用价值非常大。
光刻胶 液晶显示材料生产工艺流程
光刻胶 photoresist 又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增 感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液 体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化 反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合 性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部 分，得到所需图像（见图光致抗蚀剂成像制版过程）。 光刻胶广泛用于印刷电路和集成电路的制造以及印刷制 版等过程。光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学 反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照 后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不 可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。利用这 种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的 电路图形。基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为 三种类型。①光聚合型，采用烯类单体，在光作用下生 成自由基，自由基再进一步引发单体聚合，最后生成聚 合物，具有形成正像的特点。②光分解型，采用含有叠 氮醌类化合物的材料，经光照后,会发生光分解反应,由 油溶性变为水溶性，可以制成正性胶。③光交联型，采 用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其 分子中的双键被打开，并使链与链之间发生交联，形成 一种不溶性的网状结构，而起到抗蚀作用，这是一种典 型的负性光刻胶。柯达公司的产品KPR胶即属此类。 感光树脂在用近紫外光辐照成像时，光的波长会限 制分辨率（见感光材料）的提高。为进一步提高分辨率 以满足超大规模集成电路工艺的要求，必须采用波长更 短的辐射作为光源。由此产生电子束、X 射线和深紫外 (＜250nm)刻蚀技术和相应的电子束刻蚀胶，X射线刻蚀 胶和深紫外线刻蚀胶，所刻蚀的线条可细至1□m以下。 LCD生产线工艺及材料简介 LCD生产线工艺及材料简介 LCD为英文Liquid Crystal Display的缩写，即液晶显示器，是一种数字显示技术，可以通过液晶和彩色过滤器过滤光源，在平面面板上产生图象。当前LCD液晶显示器正处于发展的鼎盛时代，技术发展非常迅速，已由最初的TN－LCD（扭曲向列相），发展到STN－LCD （超扭曲向列相），再到当前的TFT－LCD（薄膜晶体管）。LCD现已发展成为技术密集、资金密集型的高新技术产业。液晶显示器主要由ITO导电玻璃、液晶、偏光片、封接材料（边框胶）、导电胶、取向层、衬垫料等组成。液晶显示器制造工艺流程就是这些材料的加工和组合过程。
建筑密封胶的分类与用途
现今建筑胶的应用越来越广泛,但对胶的认识上既便是从事建筑多年的建筑人士也大多是一知半解,希望这篇文字能给各位同行做个参考,如有不妥的地方,也请大家多多指教。 谈到胶,要先说胶的分类，建筑用胶基本可以分为下面几大类： 1、建筑密封胶：用于简单的墙体嵌缝。 2、硅酮耐侯密封胶(中性胶)：用于防水密封。 3、硅酮结构密封胶：用于结构性粘结、固定。 4、放火密封胶：用于防火密封。 5、丁基胶：用于中空玻璃第一道密封。 6、发泡胶：用于塞缝，兼防水作用。 根据胶的分类，各生产厂家具体的型号也各个不同，下面简单介绍一下胶的基本知识。 1、硅酮玻璃胶从产品包装上可分为两类：单组份和双组份。单组份的硅酮胶，其固化是*接触空气中的水分而产生物理性质的改变;双组份则是指硅酮胶分成A、B两组，任何一组单独存在都不能形成固化，但两组胶浆一旦混合就产生固化。目前市场上常见的是单组份硅酮玻璃胶。 单组份硅酮玻璃胶按性质又分为酸性胶和中性胶两种。 酸性玻璃胶主要用于玻璃和其它建筑材料之间的一般性粘接。而中性胶克服了酸性胶腐蚀金属材料和与碱性材料发生反应的特点，因此适用范围更广，其市场价格比酸性胶稍高。 市场上比较特殊的一类玻璃胶是硅酮结构密封胶，因其直接用于玻璃幕墙的金属和玻璃结构或非结构性粘合装配，故质量要求和产品档次是玻璃胶中最高的，其市场价格也最高。 2、简述： 单组份硅酮玻璃胶是一种类似软膏，一旦接触空气中的水分就会固化成一种坚韧的橡胶类固体的材料。 硅酮玻璃胶的粘接力强，拉伸强度大，同时又具有耐候性、抗振性，和防潮、抗臭气和适应冷热变化大的特点。加之其较广泛的适用性，能实现大多数建材产品之间的粘合，因此应用价值非常大。 硅酮玻璃胶由其不会因自身的重量而流动，所以可以用于过顶或侧壁的接缝而不发生下陷，塌落或流走。它主要用于干洁的金属、玻璃，大多数不含油脂的木材、硅酮树脂、加硫硅橡胶、陶瓷、天然及合成纤维，以及许多油漆塑料表面的粘接。质量好的硅酮玻璃胶在摄氏零度以下使用不会发生挤压不出、物理特性改变等现象。充分固化的硅酮玻璃胶在温度到204℃(400oF)的情况下使用仍能保持持续有效，但温度高达218℃(428oF)时，有效时间会缩短。 硅酮玻璃胶有多种颜色，常用颜色有黑色、瓷白、透明、银灰、灰、古铜六种。其它颜色可根据客户要求订做。 3、胶的用途 (一)、酸性玻璃胶 1、适宜作密封、堵塞防漏及防风雨用途，室内室外两者皆宜(室内效果更佳)，防渗防漏效果显著。 2、粘接汽车的各种内部装饰，包括：金属、织物和有机织物及塑料。 3、接合加热和制冷设备上的垫片。 4、在金属表面加装无螺孔的筋条、铭牌以及漆加塑料材料。 5、对烘箱门上的窗口、气体用具上的烟道、管道接头、通道门进行封口。 6、为齿轮箱、压缩机、泵提供即时成形的防漏垫。 7、
湿电子化学品产品简介
湿电子化学品产品概述 1.1 电子化学品概述 1.1.1 电子化学品及其分类 电子化学品（electronic chemicals），也称为电子化工材料，泛指专为电子工业配套的精细化工材料，即集成电路、电子元器件、印刷线路板、工业及消费类整机生产和包装用各种化学品及材料。电子化学品系化学、化工、材料科学、电子工程等多学科结合的综合学科领域。 电子化学品产品和技术范围非常广泛。产品按用途可分为微电子化学品、光电子化学品、显示用化学品、印制线路板用化学品、表面组装用化学品、电池化学品等几大门类。 电子化学品按照不同的应用领域，可以划分为十几大类产品。它们通常包括：微细加工的光刻胶、湿电子化学品、电子特种气体、电子封装材料、硅片的抛磨光材料、印制线路板用电子化学品、电子塑封材料、无机电子化学品、混成电路用化学品、电容器用材科、稀土化合物材料、电器涂料、导电聚合物及其它电子电气用化学品、电池材料、平板显示产业配套电子化学品等。所涉及到的电子化学品的品种超过16000种，约占整个电子材料总品种数的65%。电子化学品按使用范围又可分为微电子化工材料（集成电路和分立器件专用）、印制线路板表面处理与组装技术用化工材料和显示器件用化工材料等。 电子化学品上游是基础化工产品。基础化工产品对电子化学品的质量及生产成本有着重要的影响。电子化学品的下游是电子信息产业（信息通讯、消费
电子、家用电器、汽车电子、节能照明（LED等）、平板显示、太阳电池、工业控制、航空航天、军工等领域），电子信息产业在一定程度上影响和决定着电子化学品的发展。因此，电子化学品成为世界上各国为发展电子工业而优先开发的关键材料之一。 电子化学品产业链如图1-1所示。 图1-1 电子化学品的产业链 1.1.2 电子化学品在发展电子信息产业中重要地位 随着技术创新的不断发展，电子化学品应用领域也在不断扩大，已渗透到国民经济和国防建设的各个领域。电子化学品在一定程度上决定或影响着下游及终端产业的发展与进步，对于国内产业结构升级、国民经济及国防建设具有要意义。 目前电子化学品的品种已达上万种，具有质量要求高、用量少、对生产及使用环境洁净度要求高和产品更新换代快等特点。“一代材料、一代产品”，有先进的材料，才能生产出先进的产品。新一代电子技术出现，就会有新一代电子化学品与之相适应。
浅谈光刻胶应用过程中的注意事项
浅谈光刻胶应用过程中的注意事项 前段时间一些使用我司光刻胶的客户反映，在使用光刻胶过程中存在这样，那样的问题，后来进一步了解，发现客户对光刻胶的使用过程中存在或多或少的容易忽视的地方，从而造成光刻效果不理想；下面我就简单的介绍一下光刻胶在应用过程中的一些注意事项。 1、保存： 光刻胶中的光敏组分是非常脆弱的，除了有温度的要求外，对于储存时间和外包装材料有很严格的要求。一般使用 棕色的玻璃瓶包装，再套上黑色塑料袋，光刻胶确实是在半 年内使用为好。过期后最好同厂家沟通进行调换，因为只有 生产商知道里面的组分，才能进行产品的重新调整。还有就 是光敏组分是广谱接受光反应的，并不是仅仅紫外光能够使 其失效，只是其它波长光需要的时间长而已。 2、光刻胶的涂布温度： 光刻胶涂布温度一般要和你的室温相同，原因是与室温相同可以最大减少光刻胶的温度波动，从而减少工艺波动。而 净化间室温一般是23度，所以一般为23度，一般在旋涂的 情况下，高于会中间厚，低于会中间薄。同时涂布前，wafer 也需要冷板，保证每次涂布wafer的温度一致。 3、涂布时湿度的控制： 现在光刻胶涂覆工段一般都与自动纯水清洗线连在一起，很多时候都只考虑此段的洁净度，而疏忽了该段的湿 度控制，使得光刻胶涂覆的良品率比较低，在显影时光刻 胶脱落严重，起不到保护阻蚀的效果。
4、涂胶后产品的放置时间的控制 在生产设备出现故障等特殊情况下，涂完光刻胶的产品需要保留，保留的时间一般不超过8 小时，曝光前如已被感（即 胶膜已失效），不能作为正品，需返工处理。 5、前烘温度和时间的控制 前烘的目的是促使胶膜内溶剂充分挥发，使胶膜干燥以增强胶膜与基板表面的粘附性和胶膜的耐磨性。曝光时，掩模 版与光刻胶即使接触也不会损伤光刻胶膜和沾污掩模膜，同 时只有光刻胶干净、在曝光时，光刻胶才能充分地和光发生 反应。同时注意前烘的温度不能过高，过高会造成光刻胶膜 的碳化，从而影响光刻效果。一般情况下，前烘的温度取值 比后烘坚膜温度稍低一些，时间稍短一些。 6、显影条件的控制 显影时必须控制好显影液的温度、浓度及显影的时间。在一定浓度下的显影液中，温度和时间直接影响的速度，若显 影时间不足或温度低，则感光部位的光刻胶不能够完全溶解， 留有一层光刻胶，在刻蚀时，这层胶会对膜面进行保护作用， 使应该刻蚀的膜留下来。若显影时间过长或温度过高，显影 时未被曝光部位的光刻胶也会被从边缘里钻溶。使图案的边 缘变差，再严重会使光刻胶大量脱落，形成脱胶。 以上几点就是客户在使用光刻胶过程中容易忽视的地方，希望在今后使用过程中能引起重视，以便取得良好的光刻效果。
密封材料的种类及用途
密封材料的种类及用途 一、密封的分类密封可分为相对静止接合面间的静密封和相对运动接合面间的动密封两大类。静密封主要有点密封、胶密封和接触密封三大类。根据工作压力，静密封由可分为中低压静密封和高压静密封。中低压静密封常用材质较软，垫片较宽的垫密封，高压静密封则用材料较硬，接触宽度很窄的金属垫片。动密封可以分为旋转密封和往复密封两种基本类型。按密封件与其作用相对运动的零部件是否接触，可以分为接触式密封和非接触式密封。 一般说来，接触式密封的密封性好，但受摩擦磨损限制，适用于密封面线速度较低的场合。非接触式密封的密封性较差，适用于较高速度的场合。 二、密封的选型对密封的基本要求是密封性好，安全可靠，寿命长，并应力求结构紧凑，系统简单，制造维修方便，成本低廉。大多数密封件是易损件，应保证互换性，实现标准化，系列化。 三、密封材料3、1 密封材料的种类及用途密封材料应满足密封功能的要求。由于被密封的介质不同，以及设备的工作条件不同，要求密封材料的具有不同的适应性。对密封材料的要求一般是：1）材料致密性好，不易泄露介质；2）有适当的机械强度和硬度；3）压缩性和回弹性好，永久变形小；4）高温下不
软化，不分解，低温下不硬化，不脆裂；5）抗腐蚀性能好，在酸，碱，油等介质中能长期工作，其体积和硬度变化小，且不粘附在金属表面上；6）摩擦系数小，耐磨性好；7）具有与密封面结合的柔软性；8）耐老化性好，经久耐用；9）加工制造方便，价格便宜，取材容易。 橡胶是最常用的密封材料。除橡胶外，适合于做密封材料的还有石墨等，聚四氟乙烯以及各种密封胶等。3、2 通用的橡胶密封制品材料通用的橡胶密封制品在国防，化工，煤炭，石油，冶金，交通运输和机械制造工业等方面的应用越来越广泛，已成为各种行业中的基础件和配件。 四、橡胶密封制品常用材料如下:1 硅橡胶硅橡胶具有突出的耐高低温，耐臭氧及耐天候老化性能，在-70～260℃的工作温度范围内能保持其特有的使用弹性及耐臭氧，耐天候等优点，适宜制作热机构中所需的密封垫，如强光源灯罩密封衬圈，阀垫等。由于硅橡胶不耐油，机械强度低，价格昂贵，因此不宜制作耐油密封制品。 2 丁腈橡胶丁腈橡胶具有优良的耐燃料油及芳香溶剂等性能，但不耐酮，酯和氯化氢等介质，因此耐油密封制品以及采用丁腈橡胶为主。 3氯丁橡胶氯丁橡胶具有良好的耐油和耐溶剂性能。它有较好的耐齿轮油和变压器油性能，但不耐芳香族油。氯丁橡胶还具有优良的耐天候老化和臭氧老化性能。氯丁橡胶的交联断裂温度
光刻技术及其应用的状况和未来发展
光刻技术及其应用的状况和未来发展 光刻技术及其应用的状况和未来发展1 引言 光刻技术作为半导体及其相关产业发展和进步的关键技术之一，一方面在过去的几十年中发挥了重大作用；另一方面，随着光刻技术在应用中技术问题的增多、用户对应用本身需求的提高和光刻技术进步滞后于其他技术的进步凸显等等，寻找解决技术障碍的新方案、寻找COO更加低的技术和找到下一俩代可行的技术路径，去支持产业的进步也显得非常紧迫，备受人们的关注。就像ITRS对未来技术路径的修订一样，上世纪基本上3～5年修正一次，而进入本世纪后，基本上每年都有修正和新的版本出现，这充分说明了光刻技术的重要性和对产业进步的影响。如图1所示，是基于2005年ITRS对未来几种可能光刻技术方案的预测。也正是基于这一点，新一轮技术和市场的竞争正在如火如荼的展开，大量的研发和开发资金投入到了这场竞赛中。因此，正确把握光刻技术发展的主流十分重要，不仅可以节省时间和金钱，同时可以缩短和用户使用之间的周期、缩短开发投入的回报时间，因为光刻技术开发的投入比较庞大。 2 光刻技术的纷争及其应用状况 众说周知，电子产业发展的主流和不可阻挡的趋势是"轻、薄、短、小"，这给光刻技术提出的技术方向是不断提高其分辨率，即提高可以完成转印图形或者加工图形的最小间距或者宽度，以满足产业发展的需求；另一方面，光刻工艺在整个工艺过程中的多次性使得光刻技术的稳定性、可靠性和工艺成品率对产品的质量、良率和成本有着重要的影响，这也要求光刻技术在满足技术需求的前提下，具有较低的COO和COC。因此，光刻技术的纷争主要是厂家可以提供给用户什么样分辨率和产能的设备及其相关的技术。 以Photons为光源的光刻技术 2.1 以Photons为光源的光刻技术 在光刻技术的研究和开发中，以光子为基础的光刻技术种类很多，但产业化前景较好的主要是紫外(UV)光刻技术、深紫外(DUV)光刻技术、极紫外(EUV)光刻技术和X射线(X-ray)光刻技术。不但取得了很大成就，而且是目前产业中使用最多的技术，特别是前两种技术，在半导体工业的进步中，起到了重要作用。 紫外光刻技术是以高压和超高压汞(Hg)或者汞-氙(Hg-Xe)弧灯在近紫外(350～450nm)的3条光强很强的光谱(g、h、i线)线，特别是波长为365nm的i线为光源，配合使用像离轴照明技术(OAI)、移相掩模技术(PSM)、光学接近矫正技术(OPC)等等，可为0.35～0.25μm的大生产提供成熟的技术支持和设备保障，在目前任何一家FAB中，此类设备和技术会占整个光刻技术至少50％的份额；同时，还覆盖了低端和特殊领域对光刻技术的要求。光学系统的结构方面，有全反射式(Catoptrics)投影光学系统、折反射式(Catadioptrics)系统和折射式(Dioptrics)系统等，如图2所示。主要供应商是众所周知的ASML、NIKON、CANON、ULTRATECH 和SUSS MICROTECH等等。系统的类型方面，ASML以提供前工程的l:4步进扫描系统为主，分辨率覆盖0.5～0.25μm：NIKON以提供前工程的1：5步进重复系统和LCD的1：1步进重复系统为主，分辨率覆盖0.8～0.35μm和2～0.8μm；CANON以提供前工程的1：4步进重复系统和LCD的1：1步进重复系统为主，分辨率也覆盖0.8～0.35μm和1～0.8μm；ULTRATECH以提供低端前工程的1：5步进重复系统和特殊用途(先进封装／MEMS／，薄膜磁头等等)的1：1步进重复系统为主；而SUSS MICTOTECH以提供低端前工程的l：1接触／接近式系统和特殊用途(先进封装／MEMS／HDI等等)的1：1接触／接近式系为主。另外，在这个领域的系统供应商还有USHlO、TAMARACK和EV Group等。 深紫外技术