九类光学薄膜

九类光学薄膜
九类光学薄膜

光学薄膜在我们的生活中无处不在,从精密及光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜应用;比方说,平时戴的眼镜、数码相机、各式家电用品,或者是钞票上的防伪技术,皆能被称之为光学薄膜技术应用之延伸。倘若没有光学薄膜技术作为发展基础,近代光电、通讯或是镭射技术将无法有所进展,这也显示出光学薄膜技术研究发展的重要性。

光学薄膜系指在光学元件或独立基板上,制镀上或涂布一层或多层介电质膜或金属膜或这两类膜的组合,以改变光波之传递特性,包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改变。故经由适当设计可以调变不同波段元件表面之穿透率及反射率,亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性。

一般来说,光学薄膜的生产方式主要分为干法和湿法的生产工艺。所谓的干式就是没有液体出现在整个加工过程中,例如真空蒸镀是在一真空环境中,以电能加热固体原物料,经升华成气体后附着在一个固体基材的表面上,完成涂布加工。日常生活中所看到装饰用的金色、银色或具金属质感的包装膜,就是以干式涂布方式制造的产品。但是在实际量产的考虑下,干式涂布运用的范围小于湿式涂布。湿式涂布一般的做法是把具有各种功能的成分混合成液态涂料,以不同的加工方式涂布在基材上,然后使液态涂料干燥固化做成产品。在本文中仅讨论湿式涂布技术的光学薄膜产业。

光学薄膜根据其用途分类、特性与应用可分为:反射膜、增透膜/减反射膜、滤光片、偏光片/偏光膜、补偿膜/相位差板、配向膜、扩散膜/片、增亮膜/棱镜片/聚光片、遮光膜/黑白胶等。相关衍生的种类有光学级保护膜、窗膜等。

1、反射膜

反射膜一般可分为两类,一类是金属反射膜,一类是全电介质反射膜。此外,还有将两者结合的金属电介质反射膜,功能是增加光学表面的反射率。

一般金属都具有较大的消光系数。当光束由空气入射到金属表面时,进入金属内的光振幅迅速衰减,使得进入金属内部的光能相应减少,而反射光能增加。消光系数越大,光振幅衰减越迅速,进入金属内部的光能越少,反射率越高。人们总是选择消光系数较大,光学性质较稳定的金属作为金属膜材料。在紫外区常用的金属薄材料是铝,在可见光区常用铝和银,在红外区常用金、银和铜,此外,铬和铂也常作一些特种薄膜的膜料。由于铝、银、铜等材料在空气中很容易氧化而降低性能,所以必须用电介质膜加以保护。常用的保护膜材料有一氧化硅、氟化镁、二氧化硅、三氧化二铝等。

金属反射膜的优点是制备工艺简单,工作的波长范围宽;缺点是光损大,反射率不可能很高。为了使金属反射膜的反射率进一步提高,可以在膜的外侧加镀几层一定厚度的电介质层,组成金属电介质反射膜。需要指出的是,金属电介质射膜增加了某一波长(或者某一波区)的反射率,却破坏了金属膜中性反射的特点。

全电介质反射膜是建立在多光束干涉基础上的。与增透膜相反,在光学表面上镀一层折射率高于基体材料的薄膜,就可以增加光学表面的反射率。最简单的多层反射是由高、低折射率的二种材料交替蒸镀而成的,每层膜的光学厚度为某一波长的四分一。在这种条件下,参加叠加的各界面上的反射光矢量,振动方向相同。合成振幅随着薄膜层数的增加而增加。

铝箔反射膜Dike铝箔隔热卷材,又称阻隔膜、隔热膜、隔热箔、拔热膜、反射膜等。由铝箔贴面+聚乙烯薄膜+纤维编织物+金属涂膜通过热熔胶层压而成,铝箔卷材具有隔热保温、防水、防潮等功能。铝箔隔热卷材的日照吸收率(太阳辐射吸收系数)极低(0.07),具有卓越的隔热保温性能,可以反射掉93%以上的辐射热,被广泛应用于建筑屋面与外墙隔热保温。

相对应的是一种防反射膜,主要功效是提高光线的衍射,使人们能够长时间的观看文字和图形。这就需要表面平滑反射少的防反射薄膜。

2、增透膜/减反射膜

减反射膜又称增透膜,它的主要功能是减少或消除透镜、棱镜、平面镜等学表面的反射光,从而增加这些元件的透光量,减少或消除系统的杂散光。

减反射膜是以光的波动性和干涉现象为基础的。二个振幅相同,波长相同的光波叠加,那么光波的振幅增强;如果二个光波原由相同,波程相差,如果这二个光波叠加,那么互相抵消了。减反射膜就是利用了这个原理,在镜片的表面镀上减反射膜(AR-coating),使得膜层前后表面产生的反射光互相干扰,从而抵消了反射光,达到减反射的效果。最简单的增透膜是单层膜。一般情况下,采用单层增透膜很难达到理想的增透效果,为了在单波长实现零反射,或在较宽的光谱区达到好的增透效果,往往采用双层、三层甚至更多层数的减反射膜。

减反射膜的实际应用非常广泛,最常见的是镜片及太阳能电池-通过制备减反射膜来提高光伏组件的功率瓦值。目前晶体硅光伏电池使用的减反射膜材料是氮化硅,采用等离子增强化学气相淀积技术,使氨气和硅烷离子化,沉积在硅片的表面,具有较高的折射率,能起到较好的减反射效果。早期的光伏电池采用二氧化硅和二氧化钛膜作为减反射层。

3、滤光片

滤光片是塑料或玻璃片再加入特种染料做成的,红色滤光片只能让红光通过,如此类推。玻璃片的折射率原本与空气差不多,所有色光都可以通过,所以是透明的,但是染了染料后,分子结构变化,折射率也发生变化,对某些色光的通过就有变化了。比如一束白光通过蓝色滤光片,射出的是一束蓝光,而绿光、红光极少,大多数被滤光片吸收了。

滤光片产品主要按光谱波段、光谱特性、膜层材料、应用特点等方式分类。

光谱波段:紫外滤光片、可见滤光片、红外滤光片;

光谱特性:带通滤光片、截止滤光片、分光滤光片、中性密度滤光片、反射滤光片;

膜层材料:软膜滤光片、硬膜滤光片。硬膜滤光片不仅指薄膜硬度方面,更重要的是它的激光损伤阈值,所以它广泛应用于激光系统当中。软膜滤光片则主要用于生化分析仪当中。

带通型:选定波段的光通过,通带以外的光截止。

短波通型(又叫低波通):短于选定波长的光通过,长于该波长的光截止。比如红外截止滤光片,IBG-650。

长波通型(又叫高波通):长于选定波长的光通过,短于该波长的光截止比如红外透过滤光片,IPG-800。

彩色滤光片是TFT-LCD背光模组的重要组成部分。

4、偏光片

偏光片(PolarizingFilm)的全称应该是偏振光片。液晶显示器的成像必须依靠偏振光。偏光片的主要作用就是使不具偏极性的自然光变成产生偏极化,转变成偏极光,加上液晶分子扭转特性,达到控制光线的通过与否,从而提高透光率和视角范围,形成防眩等功能。

偏光片可广泛应用于现代的液晶显示产品:液晶电视、笔记本电脑、手机、PDA、电子词典、MP3、仪器仪表、投影仪等,也可用于时尚偏光眼镜。其中,LCD的应用是拉动偏光片产业发展的主要力量。

5、补偿膜/相位差板

补偿膜的补偿原理,是将各种显示模式下(TN/STN/TFT(VA/IPS/OCB))液晶在各视角产生的相位差做修正,简言之,即是让液晶分子的双折射性质得到对称性的补偿。若要从其功能目的来区分则可略为分单纯改变相位的相位差膜、色差补偿膜及视角扩大膜。补偿膜能降低液晶显示器暗态时的漏光量,并且在一定视角内能大幅提高影像之对比、色度与克服部分灰阶反转问题。

6、配向膜

配向膜是具有直条状刮痕的薄膜,作用是引导液晶分子的排列方向(图1.1)。在已蒸上透明导电膜(ITO)的玻璃基版上,用PI 涂液和转轮(roller),在ITO膜上印出一条一条平行的沟槽,到时候液晶可依此沟槽的方向横躺於沟槽内,达到使液晶呈同一方向排列之目的。此具有一条一条方向的膜,即為配向膜。

液晶之所以可应用于萤幕上,乃因其在平行分子方向与垂直分子方向之诱电率不同,因此可用电场驱动之,另一方面,由于液晶也具有视分子方向而变化之折射率(也就是具有双折射),可改变偏极光之偏极方向,最后更因液晶与配向膜之界面有很强之作用力(AnchoringStrength),在电场关闭后液晶就靠着弹性系数(恢复力)而恢复到原来之排列,由此可知没有配向膜之存在,液晶是无法工作的。但在液晶萤幕之应用上,其液晶分子与配向膜表面呈某一角度的倾斜(即预倾角,PretiltAngle),如此才能达到均一配向的效果。

配向膜涉及的涂布非卷式湿法涂布,方式有传统的定向刷磨法和现在的UV光配向法、电子浆配向和离子束配向。

7、扩散膜

扩散膜为TFT-LCD背光模块中之关键零组件,能够为液晶显示器提供一个均匀的面光源,一般传统的扩散膜主要是在扩散膜基材中,加入一颗颗的化学颗粒,作为散射粒子,而现有之扩散板其微粒子分散在树脂层间,所以光线在经过扩散层时,会不断于2个折射率相异的介质中穿过,故光线就会发生许多折射、反射与散射的现象,如此便造成了光学扩散的效果。详见第二章。

8、增亮膜/棱镜片/聚光片

增亮膜又叫棱镜片(PrismSheet),常简称BEF(BrightnessEnhancementFilm),为TFT-LCD背光模块中之关键零组件,主要是借由光的折射与反射原理,利用棱镜片修正光的方向,使光线正面集中,并将视角外未被利用的光线可以回收与利用,同时提升整体辉度与均匀度,达到增亮的效果,又称聚光片。复合型光学膜,主要是将原本聚光片的功能与扩散功能加以整合,如此将可减少使用1片扩散片,有利於下游厂商简化背光设计、节省工序、降低成本,同时亮度效率还可提升。对於光学膜厂商来说,虽然复合型增亮膜会取代传统聚光片(增亮膜),但单价和利润都较佳。

9、遮光膜/黑白胶

黑白遮光胶|遮光膜主要应用于背光源上,起固定、遮光作用(遮掉边光和灯位的光),也叫遮光片、黑白膜,简称黑白胶(可说是种双面胶带)。相对TFT-LCD所使用的背光源遮光要求较高,所以大部分的黑白胶都应用在TFT-LCD的背光源上面。除黑白胶外,还有黑黑胶(双面为黑色),主要作用仍然是固定,遮光;黑银胶(单面黑色,单面银色),除遮光外,银色面有反射作用。相对黑白胶是LCD市场的主流产品。黑面与白面的粘性对比,白面需要更大一些,因为白面与橡胶框相连接,而黑面与玻璃相连接,相对玻璃对胶的附着性,橡胶框更差一些,所以需要白面的粘性更大来保证整个模组的稳定性。

光学薄膜技术

光学薄膜概论 光学薄膜 光学薄膜泛指在光学器件或光电子元器件表面用物理化学等方法沉积的、利用光的干涉现象以改变其光学特性来产生增透、反射、分光、分色、带通或截止等光学现象的各类膜系。它可分为增透膜、高反膜、滤光膜、分光膜、偏振与消偏振膜等。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代,光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域,制造各种光学仪器。 光学薄膜的特点是:表面光滑,膜层之间的界面呈几何分割;膜层的折射率在界面上可以发生跃变,但在膜层内是连续的;可以是透明介质,也可以是吸收介质;可以是法向均匀的,也可以是法向不均匀的。 光学薄膜的基本原理: 1.利用光线的干涉效应,当光线入射於不同折射系数物质所镀成的薄膜,产生某种特殊光学特性。 分类:光学薄膜就其所镀材料之不同,大体可分为金属膜和非金属膜。 a.金属膜:主要是作为反射镜和半反射镜用。在各种平面或曲面反射镜,或各式稜镜等,都可依所需镀上Al、Ag、Au、Cu等各种不同的材料。不同的材料在光谱上有不同的特性。AI的反射率在紫外光、可见光、近红外光有良好的反射率,是镀反射镜最常使用的材料之一。Ag膜在可见光和近红外光部份的反射率比AI膜更高,但因其易氧化而失去光泽,只能短暂的维持高反射率,所以只能用在内层反射用,或另加保护膜。 b.非金属膜:用途非常广泛,例如抗反射镜片.单一波长滤光片、长或短波长通过滤光片、热光镜、冷光镜、各种雷射镜片等,都是利用多种不同的非金属材料,蒸镀在研磨好之镜杯上,层数由单层到数十、百层不等,视需要的不同,而有不同的设计和方法。目前这些薄膜中被应用得最广泛,最商业化,也是一般人接触到最多的,就是抗反射膜。例如眼镜、照相机镜头、显微镜等等都是在镜片上镀抗反射膜。因为若是不加以抗反射无法得到清晰明亮的影像了,因此如何增加其透射光线就是一个非常重要的课题。 2.利用光波干涉原理,在镜片的表面镀上一层薄膜,厚度为1/4 波长的光学厚度,使光线不再只被玻璃—空气界面反射,而是空气—薄膜、薄膜—玻璃二个界面反射,因此产生干涉现象,可使反射光减少。若镀二层的抗反射膜,使反射率更低,但是镀一层或二层都有缺点:低反射率的波带不移宽,不能在可见光范围都达到低反射率。1961年Cox、Hass和 Thelen 三位首先发表以1/4一1/2一1/4波长光学厚度作三层抗反射膜可以得到宽波带低反射率的抗反射膜。多层抗反射膜除了宽波带的,也可做到窄波带的。也就是针对其一波长如氨氟雷射632.8nm波长,要求极高的透射,可使63Z.8nm这一波长透射率高达99.8%以上,用之於雷射仪器。但若需要对某一波长的光线有看极高的反射率需要用高低不同折射系数的材料反覆蒸镀数十层才可达到此效果。 光学薄膜的制造方式:热电阻式、电子枪式和溅射方式。最普通的方式为热电阻式,是将蒸镀材料在真空蒸镀机内置於电阻丝或片上,在高真空的情况下,加热使材料成为蒸气,直接镀於镜片上。由於有许多高熔点的材料,不易使用此种方式使之熔化、蒸镀。而以电子枪改进此缺点,其方法是以高压电子束直接打击材料,由於能量集中可以蒸镀高熔点的材料。另一方式为溅射方式,是以高压使惰性气体离子化,打击材料使之直接溅射至镜片,以此方式

2017年光学级功能性聚酯薄膜行业分析报告

2017年光学级功能性聚酯薄膜行业分析报告 2016年12月 目录

一、行业管理 1、行业主管部门和监管体制 2、行业相关产业政策及主要法律法规 二、行业市场规模 1、聚酯薄膜/片材行业情况及市场竞争格局 光学级聚酯薄膜 2、聚甲基丙烯酸甲酯薄膜/片材行业情况及市场竞争格局 3、光学膜市场前景分析 三、影响行业发展的因素 1、有利因素 (1)产业政策助力 (2)下游应用领域需求旺盛 (3)技术和市场后发优势 (4)聚酯薄膜的不可替代性 2、不利因素 (1)国内行业技术水平不高 (2)国内行业竞争压力较大 四、进入本行业的主要障碍 1、技术壁垒 2、资金壁垒 3、品牌壁垒 五、行业风险特征

1、行业竞争风险 2、市场风险 3、政策风险 4、专业人才流失风险 5、原材料价格波动风险 六、行业主要企业简况 1、龙华薄膜 2、锦富新材

一、行业管理 1、行业主管部门和监管体制 工业和信息化部和国家发改委为光学级功能性聚酯薄膜的主管部门,工业和信息化部组织拟订高技术产业中涉及生物医药、新材料航空航天信息产业等规划、政策和标准并组织实施;指导行业技术创新进步,组织实施有关国家科技重大专项,推荐相关科研成果产业化,推动软件业、信息服务和新兴产业发展。国家发展和改革委员会组织拟订综合性产业政策,负责协调产业发展的重大问题并衔接平衡相关发展规划和重大政策,做好与国民经济和社会发展规划、计划的衔接平衡。 此外,中国塑料加工工业协会和中国光学光电子行业协会作为政府与企业单位之间的桥梁与纽带,主要职责包括:贯彻国家产业政策,研究行业发展方向、协助编制行业发展规划和经济技术政策;协调行业内外关系、参与行业重大项目决策;组织科技成果鉴定和推广应用;组织技术交流和培训、开展技术咨询服务;参与产品质量监督和管理及标准的制定和修订工作;编辑出版行业刊物;提供国内外技术和市场信息;承担政府有关部门下达的各项任务,通过信息咨询、技术经验交流等各种形式为企业提供服务,维护会员的合法权益。中国塑协BOPET 专委会是中国塑料加工工业协会下属的专业委员会。 2、行业相关产业政策及主要法律法规 光学级功能性聚酯薄膜生产属于技术密集型企业,国家已设立多项支持产业发展的基金并出台多项产业政策大力扶持行业发展,鼓励企业技术创新,相关产业政策列举如下:

光学薄膜技术第二章课件

典型膜系介绍 根据其作用可以将光学薄膜的类型简单的分为: 1、减反射膜或者叫增透膜 2、分束膜 3、反射膜 4、滤光片 5、其他特殊应用的薄膜 一. 减反射膜(增透膜) 在众多的光学系统中,一个相当重要的组成部分是镜片上能降低反射的镀膜。在很多应用领域中,增透膜是不可缺少的,否则,无法达到应用的要求。 就拿一个由18块透镜组成的35mm 的自动变焦的照相机来说,假定每个玻璃和空气的界面有4%的反射,没有增透的镜头光透过率为23%,镀有一层膜(剩余的反射为%)的镜头光透过率为%,镀多层膜(剩余的反射为%)的为%。 大功率激光系统要求某些元件有极低的表面反射,以避免敏感元件受到不需要的反射光的破坏。此外,宽带增透膜可以提高象质量、色平衡和作用距离,而使系统的全部性能增强。 当光线从折射率为n0的介质射入折射率为n1的另一介质时,在两介质的分界面上就会产生光的反射, 如果介质没有吸收,分界面是一光学表面,光线又是垂直入射,则反射率R 为: 例,折射率为的冕牌玻璃,每个表面的反射约为%,折射率较高的火石玻璃表面的反射更为显著。 这种表面反射造成了两个严重的后果: ①光能量损失,使像的亮度降低; ②表面反射光经过多次反射或漫射,有一部分成为杂散光,最后也达到像平面,使像的衬度降低,分辨率下降,从而影响光学系统的成像质量。 减反射膜,又称增透膜,它的主要功能是减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光,从而增加这些元件的透光量,减少或消除系统的杂散光。 最简单的增透膜是单层膜,它是镀在光学零件光学表面上的一层折射率较低 的介于空气折射率和光学元件折射率之间的薄膜。以使某些颜色的单色光在表面 R T n n n n R -=???? ??+-=12 1010透射率

2017年光学薄膜行业分析报告

2017年光学薄膜行业 分析报告 2017年10月

目录 一、薄膜综述 (4) 二、光学薄膜介绍 (7) 1、光学薄膜的分类:偏光片、背光模组用光学膜 (7) 2、光学膜是LCD背光模组的关键组件 (10) 3、TFT-LCD液晶面板经济切割数目要达到6个以上 (10) 三、TFT-LCD产业链 (12) 1、TFT-LCD产业是资金密集型、技术密集型、产业链聚集型产业 (12) 2、TFT-LCD产业中有一个著名的理论叫微笑曲线 (12) 3、从生产厂商情况来看,京东方是全球最大的大尺寸TFT-LCD 生产商 (14) 四、面板行业快速发展带动光学薄膜需求增长 (15) 1、全球偏光片供应集中在美日韩,进口替代空间大 (15) 2、增亮膜、扩散膜是背光模组重要构成,美日韩优势明显 (20) 3、预计2017年全球LCD背光模组用光学膜市场空间约112亿元,至2019 年偏光片全球市场规模有望千亿 (21) 五、相关行业公司简析 (26) 1、三利谱:偏光片国内龙头,产能释放带来业绩高增长 (26) 2、康得新:先进高分子材料平台型企业 (27) 3、激智科技:光学膜国内领先企业 (28) 4、南洋科技:膜主业发展稳健,同时切入军用无人机领域 (28)

光学薄膜是广义具有光学性质的薄膜产品,主要分为偏光片和背光模组(BLU)中用光学膜产品,主要应用领域为TFT-LCD 面板(合计占成本比重约20%+),偏光片亦需要用在OLED 面板中。面板产能不断向大陆转移,一方面LCD 面板尤其是大尺寸产品投资增长,带动光学膜需求增长;另一方面对偏光片的国产化也带来较大的机遇。 世界范围内偏光片供给主要集中在日韩企业,全球偏光片市场空间近千亿。偏光片是LCD三大关键原材料之一,约占面板成本的10%左右,而且面板越大,偏光片所占成本比例就越高。受益于TFT-LCD 大尺寸面板增长带来的平均面积增长,全球偏光片需求 2014-2019CAGR 约6.28%;全球偏光片产能预计将从2014年的5.88亿平米增加到2019年的7.87亿平米,年复合增长率为6.01%,主要集中在日韩企业供应。但从未来偏光片的生产趋势来看,一方面国内公司产能逐步扩张,另一方面日韩企业陆续在中国大陆建设生产线,全球的偏光片生产逐步向国内转移,国内厂商主要以盛波光电、三利谱等为代表,未来国产偏光片的竞争力将逐步提升。 国产品牌发展==>国内面板投资增加==>带动上游原材料的国产化。随着自主品牌发展,带动上游面板企业不断加大高世代面板线的投资,有助于刺激国内偏光片需求的高速增长,但目前仍存在较大的供需缺口。目前国产偏光片占国内需求比例不足40%,至2019年自给率有望提升至65%,预计到2019年国内面板厂对TFT-LCD 偏光片的需求约1.85亿平米,OLED 偏光片需求约958万平米,且几乎均为增

纳米材料的光学特性

纳米材料的光学特性 美国著名物理学家,1965年诺贝尔物理奖获得者R.P Feynman在1959年曾经说过:“如果有一天能按人的意志安排一个个原子分子将会产生什么样的奇迹”,纳米科学技术的诞生将使这个美好的设想成为现实。 纳米材料是纳米科学技术的一个重要的发展方向。纳米材料是指由极细晶粒组成,特征维度尺寸在纳米量级(1~100nm)的固态材料。由于极细的晶粒,大量处于晶界和晶粒内缺陷的中心原子以及其本身具有的量子尺寸效应、小尺寸效应、表面效应和宏观量子隧道效应等,纳米材料与同组成的微米晶体(体相)材料相比,在催化、光学、磁性、力学等方面具有许多奇异的性能,因而成为材料科学和凝聚态物理领域中的研究热点。 1 纳米材料的分类和结构 根据不同的结构,纳米材料可分为四类,即:纳米结构晶体或三维纳米结构;二维纳米结构或纤维状纳米结构;一维纳米结构或层状纳米结构和零维原子簇或簇组装。纳米材料的分类如图表1所示。纳米材料包括晶体、赝晶体、无定性金属、陶瓷和化合物。 2 纳米材料的光学性质 纳米材料在结构上与常规晶态和非晶态材料有很大差别,突出地表现在小尺寸颗粒和庞大的体积百分数的界面,界面原子排列和键的组态的较大无规则性。这就使纳米材料的光学性质出现了一些不同于常规材料的新现象。

纳米材料的光学性质研究之一为其线性光学性质。纳米材料的红外吸收研究是近年来比较活跃的领域,主要集中在纳米氧化物、氮化物和纳米半导体材料上,如纳米Al2O3、Fe2O3、SnO2中均观察到了异常红外振动吸收,纳米晶粒构成的Si膜的红外吸收中观察到了红外吸收带随沉积温度增加出现频移的现象,非晶纳米氮化硅中观察到了频移和吸收带的宽化且红外吸收强度强烈地依赖于退火温度等现象。对于以上现象的解释基于纳米材料的小尺寸效应、量子尺寸效应、晶场效应、尺寸分布效应和界面效应。目前,纳米材料拉曼光谱的研究也日益引起研究者的关注。 半导体硅是一种间接带隙半导体材料,在通常情况下,发光效率很弱,但当硅晶粒尺寸减小到5nm或更小时,其能带结构发生了变化,带边向高能态迁移,观察到了很强的可见光发射。研究纳米晶Ge的光致发光时,发现当Ge晶体的尺寸减小到4nm以下时,即可产生很强的可见光发射,并认为纳料晶的结构与金刚石结构的Ge 不同,这些Ge纳米晶可能具有直接光跃迁的性质。Y.Masumato发现掺CuCl纳米晶体的NaCl在高密度激光下能产生双激子发光,并导致激光的产生,其光学增益比CuCl 大晶体高得多。不断的研究发现另外一些材料,例如Cds、CuCl、ZnO、SnO2、Bi2O3、Al2O3、TiO2、SnO2、Fe2O3、CaS、CaSO4等,当它们的晶粒尺寸减小到纳米量级时,也同样观察到常规材料中根本没有的发光观象。纳米材料的特有发光现象的研究目前正处在开始阶段,综观研究情况,对纳米材料发光现象的解释主要基于电子跃迁的选择定则,量子限域效应,缺陷能级和杂质能级等方面。 纳米材料光学性质研究的另一个方面为非线性光学效应。纳米材料由于自身的特性,光激发引发的吸收变化一般可分为两大部分:由光激发引起的自由电子-空穴对所产生的快速非线性部分;受陷阱作用的载流子的慢非线性过程。其中研究最深入的为CdS纳米微粒。由于能带结构的变化,纳米晶体中载流子的迁移、跃迁和复合过程均呈现与常规材料不同的规律,因而其具有不同的非线性光学效应。 纳米材料非线性光学效应可分为共振光学非线性效应和非共振非线性光学效应。非共振非线性光学效应是指用高于纳米材料的光吸收边的光照射样品后导致的非线性效应。共振光学非线性效应是指用波长低于共振吸收区的光照射样品而导致的光学非线性效应,其来源于电子在不同电子能级的分布而引起电子结构的非线性,电子结构的非线性使纳米材料的非线性响应显著增大。目前,主要采用Z-扫找(Z-SCAN)和DFWM技术来测量纳米材料的光学非线性。

光学薄膜的研究进展和应用

光学薄膜的研究进展和应用 【摘要】本文介绍了光学薄膜的工作原理,并对光学薄膜的传统光学领域的应用做了简要的概述。又简要说明现代光学薄膜典型应用,对光学薄膜的制备加以介绍,最后介绍了光学薄膜的发展前景。 【关键词】光学薄膜;薄膜应用;薄膜制造; 1.光学薄膜原理简述 所谓光学薄膜是指其厚度能够光的波长相比拟,其次要能对透过其上的光产生作用。具体在于其上下表面对光的反射与透射的作用。光学薄膜的定义是:涉及光在传播路径过程中,附著在光学器件表面的厚度薄而均匀的介质膜层,通过分层介质膜层时的反射、透(折)射和偏振等特性,以达到我们想要的在某一或是多个波段范围内的光的全部透过或光的全部反射或是光的偏振分离等各特殊 形态的光。 光学薄膜的特点是:表面光滑,膜层之间的界面呈几何分割;膜层的折射率在界面上可以发生跃变,但在膜层内是连续的;可以是透明介质,也可以是吸收介质;可以是法向均匀的,也可以是法向不均匀的。实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多。这是因为:制备时,薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料,其表面和界面是粗糙的,从而导致光束的漫散射;膜层之间的相互渗透形成扩散界面;由于膜层的生长、结构、应力等原因,形成了薄膜的各向异性;膜层具有复杂的时间效应。不同物质对光有不同的反射、吸收、透射性能,光学薄膜就是利用材料对光的这种性能,并根据实际需要制造的。 2.光学薄膜的传统应用 光学薄膜按应用分为反射膜、增透膜、滤光膜、光学保护膜、偏振膜、分光膜和位相膜。减反射膜,是应用最广泛的光学薄膜,它可以减少光学表面的反射率而提高其透射率。对于单一波长,理论上的反射率可以降到零,透射率为100%;对于可见光谱段,反射率可以降低到0.5%,甚至更低,以保证一个由多个镜片组成的复杂系统有足够的透射率和极低的杂散光。现代光学装置没有一个是不经过减反射处理的。由于其具有极低的反射率和鲜艳的表面颜色,现代人们日常生活中的眼镜普遍都镀有减反射膜。 高反射膜,能将绝大多数入射光能量反射回去。当选用介质膜堆时,由于薄膜的损耗极低,随着膜层数的不断增加,其反射率可以不断地增加(趋近于100%)。这种高反射膜在激光器的制造和激光应用中都是必不可少的。 能量分光膜,可将入射光能量的一部分透射,另一部分反射分成两束光,最

光学薄膜技术第三章 薄膜制造技术

第三章薄膜制造技术 光学薄膜可以采用物理汽相沉积(PVD)和化学液相沉积(CLD)两种工艺来获得。CLD工艺简单,制造成本低,但膜层厚度不能精确控制,膜层强度差,较难获得多层膜,废水废气对环境造成污染,已很少使用。 PVD需要使用真空镀膜机,制造成本高,但膜层厚度能够精确控制,膜层强度好,目前已广泛使用。 PVD分为热蒸发、溅射、离子镀、及离子辅助镀等。 制作薄膜所必需的有关真空设备的基础知识 用物理方法制作薄膜,概括起来就是给制作薄膜的物质加上热能或动量,使它分解为原子、分子或少数几个原子、分子的集合体(从广义来说,就是使其蒸发),并使它们在其他位置重新结合或凝聚。 在这个过程中,如果大气与蒸发中的物质同时存在,那就会产生如下一些问题: ①蒸发物质的直线前进受妨碍而形成雾状微粒,难以制得均匀平整的薄膜; ②空气分子进入薄膜而形成杂质; ③空气中的活性分子与薄膜形成化合物; ④蒸发用的加热器及蒸发物质等与空气分子发生反应形成 化合物,从而不能进行正常的蒸发等等。 因此,必须把空气分子从制作薄膜的设备中排除出去,这个 过程称为抽气。空气压力低于一个大气压的状态称为真空, 而把产生真空的装置叫做真空泵,抽成真空的容器叫做真空 室,把包括真空泵和真空室在内的设备叫做真空设备。制作 薄膜最重要的装备是真空设备. 真空设备大致可分为两类:高真空设备和超高真空设备。二 者真空度不同,这两种真空设备的抽气系统基本上是相同 的,但所用的真空泵和真空阀不同,而且用于真空室和抽气 系统的材料也不同,下图是典型的高真空设备的原理图,制 作薄膜所用的高真空设备大多都属于这一类。 下图是超高真空设备的原理图,在原理上,它与高真空设备 没有什么不同,但是,为了稍稍改善抽气时空气的流动性, 超高真空设备不太使用管子,多数将超高真空用的真空泵直 接与真空室连接,一般还要装上辅助真空泵(如钛吸气泵) 来辅助超高真空泵。 3.1 高真空镀膜机 1.真空系统 现代的光学薄膜制备都是在真空下获得的。普通所说的 真空镀膜,基本都是在高真空中进行的。 先进行(1)然后进行(2)。因为所有的(超)高真空泵只有在真空室的压力降低到一定程度时才能进行工作,而且在高真空泵(如油扩散泵)中,要把空气之类的分子排出,就必须使排气口的气体压力降低到一定程度。 小型镀膜机的真空系统 低真空机械泵+高真空油扩散泵+低温冷阱

光学薄膜技术及其应用

光学薄膜技术及其应用 张三1409074201 摘要:介绍了传统光学薄膜的原理,根据薄膜干涉的基本原理及其特点,介绍了光学薄膜的性能、制备技术,研究了光学薄膜在的应用和今后的发展趋势。 关键词:光学薄膜、薄膜干涉、应用、薄膜制备 引言: 光学薄膜是指在光学玻璃、光学塑料、光纤、晶体等各种材料的表面上镀制一层或多层薄膜,基于薄膜内光的干涉效应来改变透射光或反射光的强度、偏振状态和相位变化的光学元件,是现代光学仪器和光学器件的重要组成部分。 光学薄膜技术的发展对促进和推动科学技术现代化和仪器微型化起着十分重要的作用,光学薄膜在各个新兴科学技术中都得到了广泛的应用。 本文在简单叙述薄膜干涉的一些相关原理的基础上,介绍了光学薄膜常见的几种制备方法,研究了光学薄膜技术的相关应用,并且展望了光学薄膜研究的广阔前景。 正文: 1.光学薄膜的原理 光学薄膜的直接理论基础是薄膜光学, 它是建立在光的干涉效应基础上的、论述光在分层介质中传播行为。一列光波照射到透明薄膜上,从膜的前、后表面或上、下表面分别反射出两列光波,这两列相干光波相遇后叠加产生干涉。该理论可以比较准确地描述光在数十微米层、纳米层甚至原子层厚的薄膜中的传播行为,由此设计出不同波长、不同性能、适应不同要求的光学薄膜元件。 2.光学薄膜的性质及功能 光学薄膜最基本的功能是反射、减反射和光谱调控。依靠反射功能, 它可以把光束按不同的要求折转到空间各个方位;依靠减反射功能,它可以将光束在元件表面或界面的损耗减少到极致, 完美地实现现代光学仪器和光学系统的设计功能;依靠它的光谱调控功能, 实现光学系统中的色度变换, 获得五彩缤纷的颜色世界。 不仅如此, 光学薄膜又是光学系统中的偏振调控、相位调控以及光电、光热和光声等功能调控元件, 光学薄膜的这些功能, 在激光技术、光电子技术、光通信技术、光显示技术和光存储技术等现代光学技术中得到充分的应用, 促进了相关技术和学科的发展。 3.传统光学薄膜和新型光学薄膜 3.1传统光学薄膜 传统的光学薄膜是以光的干涉为基础。光波是一种电磁波,根据其波长的不同可分成红外线、可见光和紫外线等,当光波投射到物体上时,有一部分在它表面上被反射,其余部分经折射进入到该物体中,其中有一部分被吸收变为热能,剩的部分透射。不同的物质对光有不同的反射、吸收、透射性能,光学薄膜就是利用材料对光的这种性能,并根据实际需要制造的。 传统光学薄膜就是利用材料的这种特性,对光线产生特异性行为。传统光学薄膜有反射膜、增透膜、滤光膜、纳米光学薄膜、偏振膜、分光膜、和位相膜等。 3.2新型光学薄膜 现代科学技术特别是激光技术和信息光学的发展,光学薄膜不仅用于纯光学器件,在光电器件、光通信器件上也得到广泛的应用。近代信息光学、光电子技术及光子技术的发展,对光学薄膜产品的长寿命、高可靠性及高强度的要求越来越高,从而发展了一系列新型光学薄膜及其制备技术,并为解决光学薄膜产业化面临的问题提供了全面的解决方案,包括高强度激光器、金刚石及类金刚石膜、软X射线多层膜、太阳能选择性吸收膜和光通信用光学膜等。

光学薄膜现代分析测试方法

一、金相实验室 ? Leica DM/RM 光学显微镜 主要特性:用于金相显微分析,可直观检测金属材料的微观组织,如原材料缺陷、偏析、初生碳化物、脱碳层、氮化层及焊接、冷加工、铸造、锻造、热处理等等不同状态下的组织组成,从而判断材质优劣。须进行样品制备工作,最大放大倍数约1400倍。 ? Leica 体视显微镜 主要特性:1、用于观察材料的表面低倍形貌,初步判断材质缺陷; 2、观察断口的宏观断裂形貌,初步判断裂纹起源。 ?热振光模拟显微镜 ?图象分析仪 ?莱卡DM/RM 显微镜附 CCD数码照相装置 二、电子显微镜实验室 ?扫描电子显微镜(附电子探针) (JEOL JSM5200,JOEL JSM820,JEOL JSM6335) 主要特性: 1、用于断裂分析、断口的高倍显微形貌分析,如解理断裂、疲劳断裂(疲劳辉纹)、晶间断裂(氢脆、应力腐蚀、蠕变、高温回火脆性、起源于晶界的脆性物、析出物等)、侵蚀形貌、侵蚀产物分析及焊缝分析。 2、附带能谱,用于微区成分分析及较小样品的成分分析、晶体学分析,测量点阵参数/合金相、夹杂物分析、浓度梯度测定等。 3、用于金属、半导体、电子陶瓷、电容器的失效分析及材质检验、放大倍率:10X—300,000X;样品尺寸:0.1mm—10cm;分辩率:1—50nm。 ?透射电子显微镜(菲利蒲 CM-20,CM-200) 主要特性: 1、需进行试样制备为金属薄膜,试样厚度须<200nm。用于薄膜表面科学分析,带能谱,可进行化学成分分析。 2、有三种衍射花样:斑点花样、菊池线花样、会聚束花样。斑点花样用于确定第二相、孪晶、有序化、调幅结构、取向关系、成象衍射条件。菊池线花样用于衬度分析、结构分析、相变分析以及晶体精确取向、布拉格位移矢量、电子波长测定。会聚束花样用于测定晶体试样厚度、强度分布、取向、点群、空间群及晶体缺陷。 三、X射线衍射实验室 ? XRD-Siemens500—X射线衍射仪 主要特性: 1、专用于测定粉末样品的晶体结构(如密排六方,体心立方,面心立方等),晶型,点阵类型,晶面指数,衍射角,布拉格位移矢量,已及用于各组成相的含量及类型的测定。测试时间约需1小时。 2、可升温(加热)使用。 ? XRD-Philips X’Pert MRD—X射线衍射仪 主要特性: 1、分辨率衍射仪,主要用于材料科学的研究工作,如半导体材料等,其重现性精度达万分之一度。 2、具备物相分析(定性、定量、物相晶粒度测定;点阵参数测定),残余应力及织构的测定;薄膜物相鉴定、薄膜厚度、粗糙度测定;非平整样品物相分析、小角度散射分析等功能。 3、用于快速定性定量测定各类材料(包括金属、陶瓷、半导体材料)的化学成分组成及元素含量。如:Si、P、S 、Mn、Cr、Mo、Ni、V、Fe、Co、W等等,精确度为0.1%。 4、同时可观察样品的显微形貌,进行显微选区成分分析。

LiNbO3薄膜光学特性

C轴取向的LiNbO3薄膜的光学特性 Swati Shandilya a, Anjali Sharma a, Monika Tomar b, Vinay Gupta a,* a 物理和天铁物理系,德里大学,德里-110007,印度 b米兰达女子学院,德里大学,德里 110007,印度 摘要 C-轴取向铌酸锂(LiNbO3晶体)薄膜被沉积到外延匹配(001)蓝宝石基 板采用脉冲激光沉积技术。的薄膜的结构和光学特性已分别使用的X-射线衍(XRD)和紫外 - 可见光谱研究。拉曼光谱已被用来研究的c轴取向LiNbO3薄膜的光学声子模和缺陷电影。 XRD分析表明在所生长的LiNbO3薄膜,这是由 于压力的存在铌酸锂晶体和蓝宝石之间的晶格失配小。折射率(n =2.13在640 nm处)(006)铌酸锂晶体薄膜的要稍低一些相应的体积值(N =2.28)。各个负责在从相应的(006)LiNbO3薄膜的折射率的偏差的因素散装讨论和值的偏 差的主要原因是,由于存在晶格收缩沉积膜中的应力。 关键词光学特性脉冲激光沉积薄膜铌酸锂 1.引言 铌酸锂(LiNbO3) 铌酸锂(LiNbO3晶体)是一个巨大的技术材料光学器件的利息。大量的文献可在铌酸锂单晶等领域的基础研究和应用研究,其优异的光学性能的晶体沿观察c轴[1-3]。铌酸锂单晶的已知表现出通用的非线性光学性质,因此它继续是一个极好的材料,各种光子的应用,如频率转换器,光开关,光调制器,多路复用器等人[4-7]。在他们的薄膜是有利的批量对应不同的设备应用程序。了解是众所周知的发挥了重要的作用的薄膜的折射率实现的光学设备,并且即使一个小的变化在其值会影响其应用。铌酸锂晶体薄膜的折射率通过各种工人使用紫外可见光谱进行了测量和光导波技术。对于声光和电光器件的制造,这是非常重要的研究的光学与c轴取向的LiNbO3薄膜的性能的。几个报告的c轴取向LiNbO3薄膜的生长电影使用各种沉积技术[8,9],正在努力连续主要集中向增长的各种基板上包括,外延匹配蓝宝石,硅,熔融石英等蓝宝石衬底上已用于LiNbO3薄膜的沉积影片由不同的工人光学器件的应用,因为其低折射率和相似的晶体结构,尽管小晶格失配和较低的热膨胀系数差在比较的LiNbO3 [2]。Shibata等。成长外延铌酸锂晶体薄膜的(001)和(110)蓝宝石晶体脉冲激 光沉积法[10]。他们报告说,化学计量从李丰富的铌酸锂薄膜只能存放中得到的目标(与Li / Nb的= 2),和李缺陷相asdeposited陶瓷靶,铌酸锂薄膜的制备Li/Nbb2。高频(460-810 MHz)的表面声波(SAW)器件,已经实现了利 用LiNbO3/sapphire层状结构[10]。笕等。 [11]已经报道了外延生长的铌酸锂晶体薄膜的α-Al2O3衬底上用脉冲激光沉积技术。氧自由基的量的控制由改变激光能量密度的源,其影响Li浓度的沉积铌酸锂晶体薄膜。光学财产的脉冲激光沉积(0012)织构铌酸锂晶体薄膜(001),研究了SiO2基板使用光导波技术和一个较小的值的折射率(ηTE= 2.144和ηTM= 2.036)散装铌酸锂相比已被报道[12]。 schwyn等。 [1]沉积铌酸锂晶体薄膜的外延匹配的蓝宝石衬底

2018年光学薄膜行业深度研究报告

2018年光学薄膜行业深度研究报告

目录 引言:薄膜综述 (4) 1.光学薄膜介绍 (5) 1.1光学薄膜的分类:偏光片、背光模组用光学膜 (5) 1.2 光学膜是LCD背光模组的关键组件 (7) 1.3 TFT-LCD液晶面板经济切割数目要达到6个以上 (8) 2. TFT-LCD产业链 (9) 3. 面板行业快速发展带动光学薄膜需求增长 (11) 3.1 全球偏光片供应集中在美日韩,进口替代空间大 (11) 3.2 增亮膜、扩散膜是背光模组重要构成,美日韩优势明显 (14) 3.3 预计2017年全球LCD背光模组用光学膜市场空间约112亿元,至2019年偏光片全球市场规模有望千亿 (15) 4. 相关行业的公司 (18) 4.1 三利谱(002876):偏光片国内龙头,产能释放带来业绩高增长 (18) 4.2 康得新(002450):先进高分子材料平台型企业 (19) 4.3 激智科技(300566):光学膜国内领先企业 (19) 4.4 南洋科技(002389):膜主业发展稳健,同时切入军用无人机领域 19

图表目录 图1:功能薄膜产品应用 (4) 图2:液晶面板结构 (6) 图3:LCD面板成本构成 (6) 图4:微笑曲线 (9) 图5:大尺寸TFT-LCD面板出货量(单位:千片) (10) 图6:大尺寸TFT-LCD面板应用占比 (10) 图7:偏光片基本结构 (11) 图8:偏光片的成本构成 (11) 图9:偏光片市场份额 (13) 图10:全球棱镜片市场份额分析 (14) 图11:全球企业扩散膜的市场份额 (14) 图12:平板设备已成主流,PC产品增速下滑 (15) 图13:智能手机增速逐渐放缓 (15) 图14:偏光片产能分布情况及预测(按生产企业所属国家分) (17) 图15:偏光片产能分布情况及预测(按生产线所在区域分) (17) 表1:中国膜产业相关政策 (4) 表2:不同尺寸背光模组的成本构成 (7) 表3:液晶面板世代线划分 (8) 表4:液晶面板的经济切割数与有效利用率 (8) 表5:2016年全球制造商大尺寸TFT-LCD面板出货量占比 (10) 表6:偏光片膜材特性及作用 (11) 表7:偏光片基本性能 (12) 表8:2017年消费电子产品LCD面板面积预测 (16) 表9:2017年消费电子产品光学膜需求及市场空间预测 (16) 表10:主要厂商偏光片产能规划情况(单位:百万平米) (17)

LCD用光学薄膜技术与市场简介(20100828)

LCD用光学薄膜技术与市场概述 合肥乐凯科技产业有限公司李宇航 一、我国LCD及光学薄膜产业概述 进入二十世纪,平板显示(FPD)正逐渐取代阴极射线管显示(CRT),成为显示产业的主流。在FPD中以液晶显示(LCD)、等离子体显示器(PDP)和有机电致发光显示器(OLED)等应用比较广泛,其中尤以LCD所占比重最大。 LCD在经历TN(扭曲向列液晶显示)、STN(超扭曲向列液晶显示)、彩色STN阶段后,已发展到TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示)阶段,并且尺寸在不断扩大,目前TFT-LCD已占整个液晶产业收入的87%以上。 TFT-LCD产业是目前世界上产品应用最广、投资最大、发展最快的显示产业,产品主要应用在桌面显示器、笔记本电脑、电视、车载显示器、手机及其他电子显示产品上。在平板显示器各组件的生产过程中和最终产品中,大量使用各种类型的光学级薄膜。 TFT-LCD产业链包括上游薄膜晶体管液晶显示器用各种材料、中游面板及组件、下游电子产品三部分,目前中国大陆下游电子产品市场巨大,并拥有很大的发展潜力,中游面板及组件也在迎头赶上,但上游材料产业明显滞后,部分关键材料产量很少,甚至为零,整个产业链严重失衡。特别是作为LCD及其他平板显示器材所需的光学薄膜材料几乎全部依赖进口,这与我国作为全球最大的LCD终端产品生产国的地位极不相称。。 二、LCD产业链基本结构与LCD模块构造

LCD 产品制造涉及光学、半导体、电机、化工、机械、塑料等等各个领域,产品链中上下游产品所需技术层面级广,没有一个厂商能够从原材料到成品全部都做。因此,各领域分工明显,以下是LCD 产业链的基本结构及LCD 模块构造。 1、LCD 产业链的基本结构 上 游 材 料 中 游 面 板 下 游 应 用 产 品 在LCD 的产业链中,各种不同用途的光学功能薄膜处于产业链的最前端 (基础薄膜的制造厂家群),是LCD 产品的最主要初始原材料。 一般的LCD 模块由液晶组件(LCD cell )和背光模组(Backlight module )二大部分组成。 2、LCD 模块基本构造

光学薄膜技术复习提纲讲解

光学薄膜技术复习提纲 、典型膜系 减反射膜(增透膜) 1、减反射膜的主要功能是什么? 是减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光,从而增加这些元件的透光量, 减少或消除系统的杂散光。 ★ 2、单层减反射膜的最低反射率公式并计算 厂 宀 >2 llo —111 /11;#-1 R= ------------ <山+爲沁+/ ★ 3、掌握常见的多层膜系表达,例如 G| H L | A 代表什么? G| 2 H L | A ? ★ 4、什么是规整膜系?非规整膜系? 把全部由入0/4整数倍厚度组成的膜系称为规整膜系,反之为非规整膜系。 ★ 5、单层减反射膜只能对某个波长和它附近的较窄波段内的光波起增透作用。 为了在较宽的 光谱范围达到更有效的增透效果,常采用双层、三层甚至更多层数的减反射膜。 ★ 6 V 形膜、W 形膜的膜系结构以及它们的特征曲线。P16-17 ㈡高反射膜 ★ 1、镀制金属反射膜常用的材料有铝(AI )、银(Ag )、金(Au )、铬等。 ★ 2、金属反射膜四点特性。P29 ① 高反射波段非常宽阔,可以覆盖几乎全部光谱范围,当然,就每一种具体的金属而言,它 都有自己最佳的反射波段。 V --G I HL| A / M |=! !膜 / fix 一上 —\ >< WG | 2HL | A 0 400 450 500 550 600 650 700 VUavelsnqth (rm ) 43 2 yuf5o2lpu 家

②各种金属膜层与基底的附着能力有较大差距。如Al、Cr、Ni (镍)与玻璃附着牢固;而Au、 Ag与玻璃附着能力很差。 ③金属膜层的化学稳定性较差,易被环境气体腐蚀。 ④膜层软,易划伤。 ㈢分光膜 1什么是分光膜? 中性分束镜能够在一定波段内把一束光按比例分成光谱成分相同的两束光,也即它在一定的 波长区域内,如可见区内,对各波长具有相同的透射率和反射率之比值一一透反比。因而反射光和透射光不带有颜色,呈色中性。 ★2、归纳金属、介质分束镜的优缺点: 金属分束镜p32 优点:中性好,光谱范围宽,偏振效应小,制作简单 缺点:吸收大,分光效率低。 使用注意事项:光的入射方向 介质分束镜p30 优点:吸收小,几乎可以忽略,分光效率高。 缺点:光谱范围窄,偏振分离明显,色散明显。 5、偏振中性分束棱镜是利用斜入射时光的偏振,实现50/50中性分光。 ㈣、截止滤光片 ★1、什么是截止滤光片?什么是长波通、短波通滤光片?p33 截止滤光片是指要求某一波长范围的光束高效透射,而偏离这一波长的光束骤然变化为高反 射的干涉截止滤光片。 抑制短波区、透射长波区的截止滤光片称为长波通滤光片。 抑制长波区、透射短波区的截止滤光片称为短波通滤光片。 2、截止光滤片的应用:彩色分光膜。P51 ①图2.4.13分光原理;②解决棱镜式分光元件偏振效应的方法是合理设计分光棱镜的形式,尽可能减小光束在膜面上的入射角。 ㈤、带通滤光片 ★1、什么是带通滤光片?P58

光学薄膜现状研究及发展趋势样本

-2020年中国光学薄膜市场调查研究及发展前景趋势分析报告 报告编号: 1689537

行业市场研究属于企业战略研究范畴, 作为当前应用最为广泛的咨询服务,其研究成果以报告形式呈现, 一般包含以下内容: 一份专业的行业研究报告, 注重指导企业或投资者了解该行业整体发展态势及经济运行状况, 旨在为企业或投资者提供方向性的思路和参考。 一份有价值的行业研究报告, 能够完成对行业系统、完整的调研分析工作,使决策者在阅读完行业研究报告后, 能够清楚地了解该行业市场现状和发展前景趋势, 确保了决策方向的正确性和科学性。 中国产业调研网https://www.360docs.net/doc/f87155111.html,基于多年来对客户需求的深入了解, 全面系统地研究了该行业市场现状及发展前景, 注重信息的时效性, 从而更好地把握市场变化和行业发展趋势。

一、基本信息 报告名称: -2020年中国光学薄膜市场调查研究及发展前景趋势分析报告 报告编号: 1689537←咨询时, 请说明此编号。 优惠价: ¥7020 元可开具增值税专用发票 网上阅读: https://www.360docs.net/doc/f87155111.html,/R_ShiYouHuaGong/37/GuangXueBoMoChanYeXianZhuang YuFaZhanQianJing.html 温馨提示: 如需英文、日文等其它语言版本, 请与我们联系。 二、内容介绍 由薄的分层介质构成的, 经过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代, 光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域,制造各种光学仪器。 虽然, 光学薄膜产业广泛的被看好, 但当前中国光学薄膜产业还处于起步阶段, 研发力量比较薄弱而且比较分散。中国光学薄膜产业与国外光学薄膜强国相比在技术、设备方面还有很大的差距。而且基础研究及针对光学功能性薄膜的光学设计与开发尚未得到充分重视。当前, 国内光学薄膜产业所需大部分关键原材料特别是学级切片和光学薄膜特种添加剂等原材料, 主要依靠进口。因此国产设备相较于进口设备, 在精度等要求上还不能达标。因关键环节生产制程技术、经验的缺失, 加之原料的差异, 使得当前中国光学薄膜产品主要以中低档产品为主。 随着众多企业的纷纷进军光学薄膜产业, 使得国内的光学薄膜产品质量良莠不齐, 因此需要制定相应的标准, 对光学薄膜产品质量进行规范。近年来中国自主制定了一系列的标准, 不但能够规范光学薄膜产业的质量也为光学薄膜进行检测提供了判断的依据, 还为上光学薄膜下游产业链的联合, 对光学薄膜行业的健康快速的发展起到了很大的促进作用。

光学薄膜完整版

光学薄膜技术复习提纲 闭卷考试 120分钟 考试时间:17周周三下午3:00---5:00(12月30号)题型:选择题(10*2)填空题(10题24分)判断题(10题)简答题(4题24分)综合题(2题22分,计算1题,论述1题)考试内容包含课本与课件,简答和综合题包含作业和例题 1、判断题 1. 光束斜入射到膜堆时,S-偏振光的反射率总是比p-偏振光的反射率高(正确) 2. 对称膜系可以完全等效单层膜(错误,仅在通带中有类似特性) 3. 对于吸收介质,只要引入复折射率,进行复数运算,那么就可以完全使用无吸收 时的公式(正确) 4. 膜层的特征矩阵有两种表达方式:导纳矩阵和菲涅尔系数矩阵(错误) 5. 简单周期性多层膜,在其透射带内R<<1(错误) 6. 在斜入射情况下,带通滤光片S-偏振光的带宽比p-偏振光的带宽为大(正确) 7. 在包含吸收介质时,光在正反两个入射方向上的透过率是一样的(正确) 8. 发生全反射时,光的能量将不进入第二介质(错误) 9. 斜入射时,银反射膜的偏振效应比铝反射膜大(Al:0.64-i5.50,Ag:0.050- i2.87)(错误,因为银的折射率远小于铝) 10. 高反射介质膜的截止深度是指在截止波长处的反射率(错误,是指截止带中心处 的反射率) 第1章薄膜光学特性计算基础 1、干涉原理:同频率光波的复振幅矢量叠加。 2、产生干涉的条件:频率相同、振动方向一致、位相相同或位相 差恒定。 3、薄膜干涉原理:层状物质的平行界面对光的多次反射和折 射,导致同频率光波的多光束干涉叠加。 4、光学薄膜:薄到可以产生干涉现象的膜层、膜堆或膜系。 5、麦克斯韦方程组: 6、物质方程: 7、光学导纳: 8、菲涅尔系数:菲涅尔系数就是界面上的振幅反射系数和振幅 透射系数。 9、特征矩阵:表征薄膜特性的矩阵,仅包含薄膜的特征参数 10、虚设层:当膜层厚度对于中心波长来说是或其整数倍时,该 层存在对于中心波长处的透过率/反射率无影响,因此称为虚 设层。但该层其他波长处的透过率/反射率还是有影响的。

中国光学薄膜WDM产业前景与投资战略研究报告

中国光学薄膜WDM产业前景与投资战略研究 报告 报告前言

光学薄膜WDM是由薄的分层介质构成的,通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜WDM的应用始于20世纪30年代。现代,光学薄膜WDM已广泛用于光学和光电子技术领域,制造各种光学仪器。光学薄膜WDM的特点是:表面光滑,膜层之间的界面呈几何分割;膜层的折射率在界面上可以发生跃变,但在膜层内是连续的;可以是透明介质,也可以是吸收介质;可以是法向均匀的,也可以是法向不均匀的。实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多。这是因为:制备时,薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料,其表面和界面是粗糙的,从而导致光束的漫散射;膜层之间的相互渗透形成扩散界面;由于膜层的生长、结构、应力等原因,形成了薄膜的各向异性;膜层具有复杂的时间效应。 根据国家统计局统计的数据,2007年我国光学仪器的产量为26570913台,同比增长了17.94%;2008年我国光学仪器的产量变为30322092台,同比增长了14.12%;到了2018年,全国光学仪器产量达到了26620723台,同比增长了-12.21%。 图表:2007-2018年我国光学仪器产量变化图单位:台

数据来源:国家统计局光学薄膜WDM应用领域及市场前景非常广阔。数字化浪潮对很多传统产业带来的冲击,使很多企业都面临着发展转型的困扰。一方面数字化时代对技术的要求越来越高,另外数字化技术更新换代速度快,这既带来机遇,也带来很多挑战。 正文目录 第一章光学薄膜WDM相关概述 (18) 第一节光学薄膜WDM基础阐述 (18) 一、光学薄膜WDM特性分析 (18) 二、薄膜的参数介绍 (18) 第二节常用光学薄膜WDM特性与应用 (18) 一、反射膜 (18) 二、增透膜 (19)

氮化硅薄膜光学性质的研究

氮化硅薄膜光学性质的研究摘要:氮化硅薄膜具有优良的光学性能,常用作太阳能电池表面的减反射材料。采用传统的退火炉和快速热退火炉进行了不同时间和温度下的退火比较,并研究了退火对薄膜光学性能的影响。研究发现:氮化硅薄膜经热处理后厚度降低,折射率先升高后降低。 关键词:太阳能电池;氮化硅薄膜;热处理 引言 由于有着良好的绝缘性,致密性,稳定性和对杂质离子的掩蔽能力,氮化硅薄膜作为一种高效器件表面的钝化层已被广泛应用在半导体工艺中。人们同时发现,在多晶硅太阳电池表面生长高质量氮化硅薄膜不仅可以十分显著地提高多晶硅太阳电池的转换效率,而且还可以降低生产成本。作为一种减反射膜,氮化硅不仅有着极好的光学性能(λ =6 3 2 . 8 n m时折射率在 1 . 8 ~2. 5之间,而最理想的封装太阳电池减反射膜折射率在 2 . 1 ~2. 2 5 之间) 和化学性能,还能对质量较差的硅片起到表面和体内钝化作用,提高电池的短路电流。因此,采用氮化硅薄膜作为晶体硅太阳电池的减反射膜已经成为光伏界的研究热点。 1 . 氮化硅薄膜的光学性质 1 .1实验 本实验采用2cm×2cm×400um的单面抛光的P型<100>Cz硅片,在沈阳科仪中心PECVD400型真空薄膜生长系统中生长氮化硅薄膜。氮化硅薄膜制备过程如下:实验前使用乙醇和丙酮超声清洗样品15min以去除油污,然后用1号液(H20: H202:NH3·H20=5:1:1)和2号液(H 20:H 2 O 2 :HCl=5:1:1)清洗,最后再使用 5%稀氢氟酸(HF)漂洗5min以去除氧化层,去离子水洗净烘干后放人反应室。采用硅烷(10%氮气稀释)和高纯氨气作为反应气体沉积氮化硅薄膜,其中沉积薄膜的生长参数如下:气体流量为硅烷30sccm、氨气60sccm、工作气压30Pa、射频频率 13.5MHz、沉积时间10min。沉积薄膜后,采用传统的退火炉和新兴的快速热退火炉进行了氩气保护下不同时间和温度下的退火比较,并测试了薄膜退火前后的厚度、折射率。 1.2结果和讨论

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