薄膜的光学性质

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光学零件薄膜的分类方法

光学零件薄膜的分类方法

光学零件薄膜的分类方法光学零件薄膜是光学器件中重要的组成部分,广泛应用于光学仪器、光电子器件、光通信等领域。

根据其性质和功能的不同,光学零件薄膜可以分为多种类型,下面将从不同的角度对光学零件薄膜进行分类。

一、按照光学性质分类1. 反射膜:反射膜是将光线反射的薄膜,常用于镜片、反射镜等光学器件中。

其主要作用是将光线反射到特定的方向,具有高反射率和低散射率的特点。

2. 透射膜:透射膜是将光线透过的薄膜,常用于滤光器、透镜、光学滤光器等器件中。

透射膜可以根据需要实现特定波长的透射或滤波功能,具有高透射率和低反射率的特点。

3. 偏振膜:偏振膜是具有选择性透射或反射特定偏振方向光线的薄膜,常用于偏振片、偏振镜等器件中。

偏振膜可以将自然光中的非偏振光转化为偏振光,或者将特定偏振方向的光线滤除,具有良好的偏振效果。

二、按照薄膜材料分类1. 金属膜:金属膜是利用金属材料制备的薄膜,常用的金属包括铝、银、镀金等。

金属膜具有良好的导电性和反射性能,广泛应用于反射镜、反射板等光学器件中。

2. 介质膜:介质膜是利用非金属材料制备的薄膜,常用的材料包括二氧化硅、氮化硅、氧化铝等。

介质膜具有良好的光学性能和机械性能,广泛应用于滤光器、透镜、偏振片等光学器件中。

三、按照功能分类1. 抗反射膜:抗反射膜是通过在薄膜表面形成一层或多层特殊结构来减少反射,提高透射率的薄膜。

抗反射膜广泛应用于光学镜片、太阳能电池板等器件中,可以减少光的损失,提高光能利用效率。

2. 增透膜:增透膜是通过在薄膜表面形成一层或多层特殊结构来增加透射,提高透射率的薄膜。

增透膜广泛应用于透镜、显示屏等器件中,可以增强透射光的亮度和清晰度。

3. 分光膜:分光膜是将入射光按照不同波长进行分离的薄膜,常用于光谱仪、分光计等光学仪器中。

分光膜可以根据需要将入射光分为不同的波长,实现光谱分析和光学测量。

四、按照制备方法分类1. 蒸发膜:蒸发膜是利用蒸发技术将材料蒸发沉积在基底上形成的薄膜。

酚醛树脂塑料薄膜的光学性能及应用研究

酚醛树脂塑料薄膜的光学性能及应用研究

酚醛树脂塑料薄膜的光学性能及应用研究酚醛树脂塑料薄膜是一种常用的功能性薄膜材料,具有许多优异的光学性能,被广泛应用于光学器件、显示器件、光学薄膜等领域。

本文将对酚醛树脂塑料薄膜的光学性能进行探讨,并介绍其在不同领域的应用研究。

首先,酚醛树脂塑料薄膜具有良好的透明性和光学均匀性。

酚醛树脂具有高分子结构特点,使得其薄膜呈现出较好的透明性,能够在可见光和近红外光谱范围内保持较高的透光率。

同时,酚醛树脂塑料薄膜制备过程中的较强分子排列能力,使得薄膜内部的折射率均匀性较好,从而保证了光学性能的稳定性。

其次,酚醛树脂塑料薄膜具有较低的色散特性。

色散是指材料对不同波长光的折射率响应的差异,酚醛树脂塑料薄膜由于其特殊的化学结构,具有较低的色散特性,使得其能够在光学器件中作为低色散材料使用。

例如,它可以被用作折射率补偿光学薄膜的基础材料,以提高光学器件的像差校正效果。

此外,酚醛树脂塑料薄膜具有较高的耐热性和化学稳定性。

酚醛树脂塑料薄膜能够在较高的温度下保持稳定的光学性能,其玻璃化转变温度一般在150℃以上,因此可以满足一些高温环境下的应用需求。

同时,它还具有良好的化学稳定性,能够在酸、碱等环境中保持较好的耐腐蚀性能,适用于一些特殊环境下的应用。

在应用方面,酚醛树脂塑料薄膜被广泛用于显示器件中。

由于其高透明性、低色散特性和耐高温性,酚醛树脂塑料薄膜可用作显示器件中的补偿片、偏振片等关键组件,提高显示效果和稳定性。

此外,它还可以用作液晶显示器中的液晶分子排列调控层,通过调节液晶分子的取向来实现显示的精确控制和像素驱动。

除了显示器件,酚醛树脂塑料薄膜还被应用于光学薄膜制备中。

酚醛树脂塑料薄膜具有良好的透明性和光学均匀性,可以用作制备光学薄膜的基底材料。

通过在其表面上沉积一层或多层光学薄膜材料,如二氧化硅、氟化镁等,可以制备出具有特定光学性质的光学滤波器、偏振器等光学器件。

总体而言,酚醛树脂塑料薄膜具有优异的光学性能和广泛的应用前景。

光学薄膜的工作原理及光学性能分析

光学薄膜的工作原理及光学性能分析

光学薄膜的工作原理及光学性能分析一、引言光学薄膜是一种非常重要的光学材料,具有广泛的应用领域,如光学器件、光伏电池、激光技术等。

本文将重点介绍光学薄膜的工作原理以及对其光学性能的分析。

二、光学薄膜的工作原理光学薄膜是由一层或多层透明材料组成的膜层结构,在光学上表现出特定的光学性质。

其工作原理主要涉及薄膜的干涉效应和反射、透射等光学过程。

1. 干涉效应光学薄膜的干涉效应是指光波在不同介质之间反射、透射时,发生相位差导致光波叠加出现干涉现象。

光学薄膜利用干涉效应控制特定波长的光的传播,实现光的反射增强或衰减。

2. 反射和透射光学薄膜的反射和透射性能取决于入射光波的波长和薄膜的光学参数。

当入射光波与薄膜的折射率不同,一部分光波将发生反射,其反射强度与入射波和薄膜参数有关。

另一部分光波将透过薄膜,其透射强度也与入射波和薄膜参数有关。

三、光学薄膜的光学性能分析光学薄膜的光学性能分析是指对其反射、透射、吸收等光学特性进行定量研究。

1. 反射率与透射率的测量反射率和透射率是评价光学薄膜性能的重要指标。

可以通过光谱测量,通过测量入射光、反射光和透射光的强度,计算得到反射率和透射率。

2. 全波段光学性能分析除了对特定波长的光学性能分析外,还需要对光学薄膜在全波段范围内的性能进行研究。

这可以通过利用光学薄膜在不同波长下的反射和透射特性,进行光学模拟和仿真计算得到。

3. 色散性能研究光学薄膜的色散性能是指其折射率随波长的变化关系。

色散性能对光学器件的性能和应用有重要影响。

可以通过光谱色散测量系统测量得到光学薄膜的色散曲线。

4. 热稳定性分析光学薄膜在高温环境下的性能稳定性也是重要的考量指标。

可以通过热循环测试和热稳定性测量仪等设备,对光学薄膜的热稳定性进行评估和分析。

四、光学薄膜的应用光学薄膜由于其独特的光学性质和广泛的应用领域,得到了广泛的应用。

1. 光学器件光学薄膜在光学器件中广泛应用,如反射镜、透镜、滤光片等。

薄膜系统光学性质的理论分析及其应用探讨

薄膜系统光学性质的理论分析及其应用探讨

武汉工业学院毕业论文论文题目:薄膜系统光学性质的理论分析及其应用探讨姓名杨磷学号 071203203院(系)数理科学系专业电子信息科学与技术指导教师谢柏林2011年05月11日摘要 (I)Abstract (II)第一章绪论 (III)1.1薄膜光学形成和发展史 (1)1.2国内外主要发展现状与趋势 (1)1.3薄膜系统光学性质的原理 (2)1.4薄膜系统光学性质的特性分析 (2)第二章多光束干涉理论 (10)2.1多光束干涉的原理 (10)2.2光强计算 (11)2.3 极值条件 (11)2.4 法布里—珀罗干涉仪与迈克耳孙干涉仪的比较 (12)2.5 应用 (12)第三章矩阵理论 (14)3.1 目的和内容 (14)3.2动态系统的描述 (14)3.2.1电路系统 (14)3.2.2机械系统的振动 (15)3.2.3离散系统 (15)3.2.4 相关概念及定义 (15)3.2.5 矩阵运算 (17)第四章总结和展望 (17)致谢 (19)主要参考文献 (20)随着现代科学技术的飞速发展,光学薄膜器件得到了越来越广泛的应用,从日常生活到人造卫星乃至现代光通信,其中都有起着重要作用的光学薄膜器件,例如日常生活中眼镜的镜片膜、平板显示、光通信中的窄带滤波片、高精密光学仪器中各种薄膜元件等。

光学薄膜技术在得到广泛的应用同时也导致对其光学性质和制备工艺的要求越来越高。

光学薄膜的制作是一个涉及到多学科交叉协作的复杂过程,受到不同材料、不同工艺以及一些突发因素的影响。

制备一个高质量的功能性光学薄膜,首先需要对其进行精确的模拟计算,对每一层介质的光学常数和厚度进行控制。

当薄膜的厚度在1-100nm尺度时,薄膜具有纳米晶体结构。

纳米晶体材料结构不同于常规的晶的体晶体小的多,使得其光学常数表现出不同于常规体模块的光学性质。

特别是当薄膜厚度很小时,由于表面原子的影响作用显著,其折射率由于受到与表面原子层的耦合作用会发生显著的变化,人工生长薄膜控制的光学常数包括折射率等色散特性是影响光电子器件性能的关键因素。

薄膜材料及其在光电领域中的应用

薄膜材料及其在光电领域中的应用

薄膜材料及其在光电领域中的应用引言:随着科技的飞速发展,光电领域在各个领域中扮演着至关重要的角色。

薄膜材料是光电领域中的重要组成部分,具有广泛的应用前景。

本文将深入探讨薄膜材料的特性以及在光电领域中的应用,并探究其未来发展的趋势。

1. 薄膜材料的特性薄膜材料是一种厚度在纳米到微米的材料,具有以下特性:1.1 良好的光学性能:薄膜材料具有独特的光学性质,如高透射率、低反射率和高折射率。

这些性能使其成为制备高效光电器件的理想选择。

1.2 高比表面积:薄膜材料具有大比表面积,这使得其在吸附分子、电化学催化和光催化反应中具有显著的优势。

同时,高比表面积也提高了薄膜材料的光敏度,使其在光电器件中具有更高的效率。

1.3 可控的化学性质:薄膜材料的制备过程可以通过控制反应条件来精确调控其化学性质。

这种可控性使得薄膜材料能够适应不同的应用需求,并提供定制化的解决方案。

2. 薄膜材料在太阳能电池中的应用由于其出色的光学性能和可控的化学性质,薄膜材料在太阳能电池中有着广泛的应用。

2.1 透明导电膜:透明导电膜是太阳能电池中的关键组件之一,用于实现电荷的收集和传输。

氧化铟锡(ITO)薄膜是目前最常用的透明导电膜,但其成本较高且含有稀有金属。

近年来,氧化铟锌(IZO)薄膜和导电聚合物薄膜逐渐成为替代品,具有更好的导电性能和成本效益。

2.2 光吸收层:在太阳能电池中,薄膜材料可以用作光吸收层,用于吸收太阳能并转化为电能。

硒化镉(CdTe)和硫化铜铟镓(CIGS)是常用的光吸收层材料,具有较高的光电转换效率和较低的制造成本。

2.3 保护层:薄膜材料还可以作为太阳能电池的保护层,用于保护光吸收层免受外界环境的损害,如氧化、湿氧化和光热等。

二氧化硅(SiO2)和聚合物薄膜是常用的保护层材料,具有良好的化学稳定性和机械强度。

3. 薄膜材料在光电显示器件中的应用薄膜材料在光电显示器件中具有广泛的应用,其中最具代表性的是液晶显示器(LCD)和有机发光二极管显示器(OLED)。

Paper_ITO薄膜的光学性质及其测量

Paper_ITO薄膜的光学性质及其测量
had the biggest light intensity.
(4)Studied the thickness of,、2,ITO film.According to the simulating result of
refractive i11dex.me thickness of—尘IT0 film is 1 900a.so the initial value of
we can simplify the grads structure as a bottom layer with loose structure and a top
layer、析m compact structure.
And then,the transparency of ITO thin films is above 90%in the visible range.
(3)退火温度对ITO光学常数的影响。在低温进行退火时,ITO的折射率 会有所减小,但随着退火温度的提高,折射率会随之提高。ITO的消光系数随着 退火温度的提高持续减小。当在4350C以上进行较长时间退火时(80s),ITO的 消光系数较未经退火时有所增加。
(4)薄膜厚度对ITO光学常数的影响。ITO的折射率随厚度的增大而减小, 消光系数随厚度的增大而增大。 3. 对ITO增透膜厚度的研究
to establish model:simplifying and MSE minimal.We should establish model
according to the thickness of lTO and optical rang.
2.Studying on factors effecting optical parameters of lTO

薄膜和多层膜的光学性质

薄膜和多层膜的光学性质

薄膜和多层膜的光学性质薄膜和多层膜是光学材料中非常重要的组成部分,它们的光学性质在科学研究以及工程应用中有着广泛的应用。

本文将探讨薄膜和多层膜的光学性质及其应用。

首先,我们先来了解一下薄膜的基本概念。

薄膜是指在其厚度相比于其它尺寸而言非常小的材料。

一般来说,我们所说的薄膜是在纳米级别或微米级别的材料。

薄膜天然存在于物质的表面,如水的表面存在一个薄膜。

此外,人工制备的薄膜也有很多应用,比如用于光学镀膜、光电子器件等。

薄膜的光学性质是指薄膜对光的吸收、反射、透射等现象。

其中,反射和透射是薄膜最常见的光学性质。

通过反射和透射可以观察到薄膜的厚度和折射率对光学性质的影响。

其次,让我们来了解一下多层膜的光学性质。

多层膜指的是由多个薄膜层次堆叠而成的结构。

多层膜的光学性质与薄膜相比更为复杂多样。

多层膜的光学性质主要与膜层的厚度、折射率以及薄膜的层数有关。

多层膜主要有两种类型,一种是周期多层膜,它由两种材料交替排列而成,如衬底材料和薄膜材料的交替堆叠。

另一种是非周期多层膜,它由多种材料交替排列。

不同类型的多层膜具有各自独特的光学性质。

在多层膜中,不同的薄膜层会产生干涉现象,从而导致光的衍射和透射。

这种干涉现象可以利用在光学器件中,比如反射镜、滤光片等。

利用多层膜的干涉效应,我们可以实现光的波长选择性,即只透过特定波长的光。

这种技术在光通信、激光器、光显示器等领域有着广泛的应用。

此外,多层膜还可以用于光学传感器的设计。

光学传感器是一种通过测量光的特性来获取被测物理量的传感器。

通过设计合适的多层膜结构,可以使光的特性对被测量敏感,进而实现对光学传感器性能的优化。

这在生物医学、环境监测、工业检测等领域的传感器应用中具有重要意义。

总之,薄膜和多层膜的光学性质是一个引人注目且具有广泛应用的研究领域。

通过对薄膜和多层膜光学性质的研究,我们能够深入了解材料的光学行为,进而开发出各种高效的光学器件和传感器。

随着科学技术的不断发展,我们相信薄膜和多层膜的光学性质将会发挥更加重要的作用,为人类社会的进步做出更大的贡献。

光学薄膜材料的光学性能研究

光学薄膜材料的光学性能研究

光学薄膜材料的光学性能研究光学薄膜材料是一种具有特殊结构的材料,其研究对象主要是光的传播、反射和吸收等光学性质。

正因为其独特的性能,光学薄膜材料在光电子技术、光学传输等领域有着广泛的应用。

本文将探讨光学薄膜材料的光学性能研究,包括其原理、方法和应用。

首先,光学薄膜材料的研究需要了解其光学性质的基本原理。

光学薄膜材料的光学性质主要包括折射率、透过率、反射率和吸收率等。

折射率是光射入材料中时的折射行为,是衡量材料对光的传播速度影响的指标。

透过率指的是光传递时,材料对其中的透过光的量。

反射率则是测量光射入材料表面后反射的光的比例。

吸收率则是指材料对光的吸收程度。

通过对这些光学性质的研究,我们可以深入了解材料的光学特性。

其次,研究光学薄膜材料的光学性能需要借助一些实验方法。

常用的实验方法包括透射光谱、反射光谱、椭偏仪测量等。

透射光谱是测量材料在光通过时透过光的光谱分布,可以帮助分析材料的透明度和吸收率。

反射光谱则是测量材料的反射光的光谱分布,用以分析材料的反射率。

椭偏仪测量则是通过测量材料对椭偏光的旋转角度,来分析材料的旋光性质,从而研究材料的结构和性能。

光学薄膜材料的研究不仅仅停留在理论层面,还有着广泛的应用价值。

其中最为重要的应用之一是在光电子设备中的应用。

光电子器件可以利用光学薄膜材料的折射率和反射率等性质来改变光的传输和转换行为。

比如,通过使用光学薄膜材料制作光学滤波器,可以实现在特定波长范围内的光的选择性透过或反射,从而实现光信号的调控。

此外,光学薄膜材料还可以用于制作光学镜片、薄膜光学器件等,广泛应用于光学传输、光学显示和光纤通信等领域。

在光学薄膜材料的研究中,还存在着一些挑战和问题。

首先,光学薄膜材料的制备和加工技术要求十分高,需要掌握严格的工艺和材料处理方法。

其次,光学薄膜材料的光学性能与材料的结构密切相关,因此需要对材料的微观结构进行研究。

此外,光学薄膜材料的光学性能也受到环境因素的影响,如温度、湿度等。

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等效介质:薄膜系统和基底组合而成。 将入射介质和等效介质之间的界面称为等效界面,即 等效界面两侧分别是入射介质和等效介质。 入射介质的折射率仍旧是N0,等效介质具有等效光学 导纳Y。

因此,整个薄膜系统的反射率就是等效界面的反射率, 等效界面的反射率计算公式为:
R n0 Y n0 Y
2
1.1 基本概念
单一界面的反射率和透射率

两种介质形成的界面对光波的能量反射率和透射率分别 为:
2
R
I I
r

E E
r 2 i
i
n n n n r n n n n
2 0 1 0 1 0 1 0 1
2 t 2 i 1

T

2)光由透明介质进入金属膜时,折射角度成为一个复向 量。当金属吸收系数很大,且光的波长又不是很短时,光 将沿着接近垂直界面的方向传播;当金属吸收系数不是很 大,且光的波长比较短时,光将偏离垂直界面的方向,偏 离的程度与入射角有关。这时,金属的光学常数也随着入 射角的变化而变化。

3)光在金属界面上的反射系数比在透明介质界面上的反 射系数大得多。当光进入金属后,自由电子吸收光能转变 成动能,导致光的指数衰减,衰减的快慢决定于自由电子 密度的大小。自由电子密度越高,吸收系数越大,光衰减 越快。对于100nm厚的金属膜,透射率只有1%。
R p r1 p
2
垂直入射时:
n 0 n1 R n 0 n1
T 4 n 0 n1
2
R s r1 s
2
n1 cos 1 2 Tp t1 p n 0 cos 0 n1 co s 1 2 Ts t1 s n 0 co薄膜的等效界面

单层薄膜的两个界面在数学上可以用一个等效的界面来 表示,如下图所示。膜层和基底组合的导纳是Y。
根据边界条件,在等效界两侧的电场、磁场强度的切线 分量连续,即:
E 0 E 2
H 0 H 2
H 2 / E 2 H 0 / E 0

等效介质的光学导纳定义为 Y
2
光垂直入射时, P,S分量重叠
1.1.3 金属界面上的反射与折射

常常碰到透明介质和金属薄膜的组合,金属膜的特性 用复折射率来表征:
n n ik

折射率这种形式上的变化,不仅使量发生变化,而且 使波的性质产生变化,特别是波在金属膜内部传播时会 出现一些新的概念:如非均匀波、广义折射定律等。因 此,在这里仅讨论金属薄膜的界面效应。

薄膜的光学性质
薄膜的界面特性也可用能量关系来表示,得到相应的能 量反射率R和能量透射率T,直接可用光强来表征。
R=Ir / Ii
T=It / Ii
It :界面的透射光强
Ir :界面的反射光强 Ii :界面的入射光强
1.1 基本概念
能量反射率R和能量透射率T与振幅反射系数和振幅透射系数间的关 系如下:
1.1 基本概念
与透明媒质完全相同,所以式(1.1)仍然成立。这种复数 形式的折射率成为复数折射率。同时,这种媒质中的折射 角也是复数形式,本章中复数折射率写成 n :
n n ik

其中,n,k为光学常数(optical constants) 当波长为 的光通过折射率为n的某种厚度的媒质(这考 虑的是透明体,当为吸收体时,n为复折射率的实部) 而产生
Z
.E1
n1 n2 X H1
i1 i1
E1 ´
.
H1 ´ Y

O
i2
.E2
H2
这时,下式成立:
rp tg ( i 2 i1 ) tg ( i 2 i1 )
sin( i 2 i1 ) sin( i 2 i1 )
2
tp
2 sin i 2 cos i1 sin( i1 i 2 ) cos( i1 i 2 )
薄膜的光学性质
内容提纲 1.0 光学薄膜的历史 1.1 基本概念
1.0 光学薄膜的历史
1904年,英国的Taylor用某种条件腐蚀透镜的表面,当 表面形成薄膜时,就有“彩色”出现,而丐发现对某一范 围的波长有消反射的效果。他据此取得了有关腐蚀法的丏 利。由于薄膜的光学性质有了实用意义,所以就变得非常 引人注目。三十年代后,随着真空蒸发技术的发展,已能 用蒸发法制成消反射的薄层--消反射膜。到四十年代以前 的这段时间里已能制成多层膜,薄膜的应用得到了飞速的 发展。 薄膜光学性质的研究基本上是受薄膜实用性的影响而发 展起来的。大概正是由于这一原因,所谓薄膜光学性质的 研究就几乎都是研究折射率这一最一般的光学常数。

1.0 光学薄膜的历史
本章以薄膜的光学常数为主,也接触与此有关的概念, 如光学厚度和填充率。此外,还将简单介绍取得显著成果 的光等离子体的共振问题。薄膜物质是透明体还是吸收体 以及其结构是连续的还是不连续的均对薄膜的光学性质有 很大影响。因此,我们将对薄膜的物理性质、构造及光学 性质之间的联系迚行一些基本的说明。
当光由透明介质进入金属膜时,界面上的菲聂耳系数公式 仍具有透明介质界面上的形式,不过这时的折射率和折射 角不再是实数,而变成复数。菲涅尔系数都变成了复数, 透射光和反射光中的S和P分量都有了位相的变化。 任何金属的光学常数均可以测量得到。知道金属光学常 数后,就可以根据菲涅尔公式计算出光在金属表面的反射 系数和位相跃变。由此得出一些重要结论: 1)金属界面上的反射光不管入射角如何,其相位变化不 再是0或,而是一个中间值。同时P分量和S分量之间有一个 不为零的相位差。当入射光为线偏振光时,反射光将变成 椭圆偏振光。
2

x
的相位差时,把由下式
x nd
所决定的厚度称为光学厚度(optical thinckness)。
1.1 基本概念
1.1.2 菲涅尔公式 斯奈尔定律只是一个有关 光路的定律。如果要表示反射 和折射现象时能量的传递状态 ,就要用菲涅尔公式,这个公 式是从电磁学中的麦克斯韦方 程和斯奈尔定律导出的。 当一束自然光照射到两种 介质的界面上时,可分解为光 矢量在入射面内的偏振光(P 光)和光矢量与入射面垂直的 偏振光(S光)。
1.1.4 光学导纳


电磁场是横波,电场矢量 E 和磁场矢量 H 相互垂直
,且各自都与波的传播方向k0垂直并符合右手法则。
对于介质中的任意一点,E 与 H
H
不但垂直,而且数
值上也有一定的比例:
Y k0 E
N 0 / 0
光是一种电磁波,它可以用电矢量E和磁矢量H来描述, 对于一束斜入射的单色平面光,总可以把它的电矢量和磁 矢量分解成相互垂直的两部分:一部分的振动方向与入射 面垂直,称为S分量;另一部分的振动方向与入射面平行, 称为P分量。 电磁波的传播也是能量的传播。电磁波传递的能量密度( 波印廷矢量)与振幅的平方及所在的介质的光学导纳的实部 成正比。在只比较光强的大小(相对值)时,可以用振幅的平 方来表征光强(用I表示)。
式中,
H0 H0 H0


E0 E0
E0

为便于处理,我们归并所有同方向的波,正方向取+ 号,负方向取–号。
图1.5 单层薄膜的等效界面
根据边界条件可以知道:Y=H0/E0。于是如同单一界 面的情形,单层膜的反系数可表示为:
r n0 Y n0 Y
2 sin i 2 cos i1 sin( i1 i 2 )
Tp 1 Rp
rs
ts
R p rp
R s rs
2
Ts 1 R s
上式称为菲涅尔公式。该式含有反射中的相位变化部分。 r、t也称为菲涅尔(反射、透射)系数。
1.1 基本概念
特别对于垂直入射光来说,因为 →0,根据 0
r
将Y称为介质的光学导纳,在光波段,即 r 足够接近于 1的情况下,介质的光学导纳为:Y N y 0 。
式中,自由空间导纳
y0
0 /
0
,若以自由空
间导纳为单位,则光学导纳也可表示为Y=N。

因此,今后在数值上,我们将用介质的复折射率表示 它的光学导纳而不作任何说明。显然,在微波区,我们不 能假定磁导率 r 接近于1,因而,此时介质的光学导纳和 折射率没有简单的关系。
1.1 基本概念
首先介绍作为本章基础的光学基本公式及其概念。
1.1.1 反射定律和折射定律
0 r (1.1a) 反射定 律: n 折射定律: 0 sin 0 n1 sin 1 (1.1b)
对透明媒质(电介质)而言, n0和n1分别是各媒质中光的相速 度与真空中光的相速度之比,称 其为媒质的折射率。对于吸收性 媒质(导体),只要把介电常数 或折射率看成复数,电磁波的基 本方程麦克斯韦方程在形式上就
I I
t

n cos E
1
i
n cos E
0 0

t n ( n n)
1 0 1 2 0 0 1
n
2
4n n
T+R+A=1,其中A称为能量吸收率。对全介质薄膜系统, 无吸收,则有T+R=1。
1.1.4 等效界面思想

等效界面思想:任意光学多层膜,无论是介质薄膜或 是金属薄膜组合,都可以用一虚拟的等效界面代替,而且 等效界面的导纳为Y=H0/E0,如下图所示:
n 0 sin 0 n1 sin 1
所以可得出:
r p rs n1 n 0 n1 n 0

t p ts
2 n0 n1 n 0
而且
0 1 90
ta n 0
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