靶材质量对大面积镀膜生产的影响
导致脱膜的几个要因素
导致脱膜的几个要因素千万脱膜大致有以下几个因素：原片、水质、真空度、清洗机、工艺气体、靶材。
2.1原片因素2.1.1原片存放因素玻璃表面越新鲜，表面活性越大，与膜层的结合力越强，反之则差。
使用存放期过长的玻璃，由于玻璃表面霉变和附着的污物会大量增加，而且附着力很强，清洗环节很难清除掉，这就造成膜层与基片的结合力大大降低，从而导致脱膜。
建议视季节采用存放期在一个月以内的制镜级或汽车级浮法玻璃。
2.1.2原片切割因素许多原片生产厂家为了提高玻璃的切裁率，在切割刀上注了过多的煤油，这些煤油残留在原片上，在清洗环节难以清除掉，造成脱膜。
在采购玻璃原片时，应要求无油切割。
若不能无油切割，应在正式清洗前用稀盐酸或阴离子去垢剂进行预清洗。
2.2水质因素2.2.1水处理设备水质的好坏对于镀膜是至关重要的。
去离子水纯度应控制在电阻率10M欧姆以上。
若低于该值，则应对阴阳离子交换树脂进行再生，否则，会因水质不纯导致原片清洗不净而脱膜。
2.2.2管道和水箱的杂质连接水处理设备和清洗机水箱的管道应定期吹扫清洗。
因为管道中若残留不流动的水时间久了，会滋生细菌、藻类，在使用时会带到水箱里，使清洗水本身水质不过关，造成镀膜不牢。
2.3清洗机2.3.1清洗刷清洗刷使用一段时间后，上面会残留一些污物，包括油污、絮状物、纸屑、甚至细菌，若不能有效地进行清洗，也会带来污染，造成脱膜。
所以，必须定期用蒸汽清洗机清洗毛刷，必要时，可用双氧水清洗。
2.3.2风机风压大小，风刀角度调整的好坏将影响到原片能否吹干，若吹不干，镀膜后，肯定脱膜。
必须保证进入真空室的玻璃干燥。
2.4真空度真空度必须达到一定标准方可镀膜，否则，会因气体中残留杂质气体，导致膜层成分不纯，结合力不强。
一般应控制在10-3Pa。
2.5扩散泵返油扩散泵冷却水水温偏高，易导致油蒸汽进入镀膜室附着在原片上，这是导致脱膜的生要因素之一。
定期观察扩散泵冷却水水温，做好记录，尤其在炎热的夏季和使用较高溅射功率的时候，更应如此。
磁控溅射镀膜公转对镀膜的影响
磁控溅射镀膜公转对镀膜的影响随着科学技术的不断进步，表面涂层技术也在不断创新。
磁控溅射镀膜技术是一种常用的表面涂层技术，它利用磁控溅射装置将固体材料蒸发并沉积在基材表面，以改善基材的性能。
公转是磁控溅射镀膜中的一个重要参数，它对镀膜过程和薄膜性能都有着重要的影响。
本文将从多个方面讨论公转对磁控溅射镀膜的影响。
1. 公转对薄膜均匀性的影响在磁控溅射镀膜过程中，公转是指靶材周围的基材沿着镀膜室轴线进行旋转运动。
公转的速度和方向对于薄膜的均匀性有着重要的影响。
当公转速度过慢时，蒸发材料只会沉积在基材的中心位置，使得薄膜边缘处厚度较薄，中心部位较厚；当公转速度过快时，蒸发材料会向外飞散，也会导致薄膜的厚度不均匀。
合适的公转速度和方向能够使得薄膜的厚度分布更加均匀，提高薄膜的质量和稳定性。
2. 公转对薄膜成分的影响在磁控溅射镀膜过程中，靶材表面的成分、温度和结构都会影响薄膜的成分。
而通过调节公转参数，可以改变靶材表面的成分和温度，进而影响薄膜的成分。
研究表明，适当调节公转速度和方向，可以改善镀膜过程中的靶材表面温度分布和成分分布，使得薄膜的成分更加均匀和稳定。
3. 公转对薄膜微观结构的影响薄膜的微观结构对其性能有着重要的影响。
通过调节公转参数，可以影响薄膜在基材上的晶粒大小、取向和结构。
研究发现，适当的公转参数能够有效地调控薄膜的微观结构，使得薄膜的晶粒更加致密和均匀，提高薄膜的力学性能和耐腐蚀性能。
4. 公转对镀膜速率的影响在磁控溅射镀膜过程中，蒸发材料的沉积速率直接影响着薄膜的厚度和成分。
而公转速度和方向可以调节蒸发材料的沉积速率。
研究表明，适当的公转参数可以提高蒸发材料的沉积效率，使得薄膜的沉积速率更加稳定和均匀。
总结：磁控溅射镀膜公转对镀膜的影响是多方面的，包括对薄膜均匀性、成分、微观结构和沉积速率等方面都有着重要的影响。
通过合理调节公转参数，可以实现对薄膜质量和性能的有效控制，为磁控溅射镀膜技术的应用提供了重要的理论基础和技术支持。
高靶材利用率高镀膜均匀性条形溅射靶的设计与实现
1 建立仿真模型
磁控溅射靶表面的水平磁场 是影响等离子体分布的主要因 素，它决定了溅射电流和刻蚀形 貌，进而决定薄膜沉积的均匀性、 靶材利用率，建立仿真模型时，只 需关注靶表面等离子体区域的电 磁场。将条形溅射靶的“跑道”分 为 中 间 直 线 跑 道 区 和 端 部 区 ，俯
制造
CIC 中国集成电路
China lntegrated Circult
高靶材利用率高镀膜均匀性条形溅射靶 的设计与实现
陈长平，佘鹏程，陈峰武，程文进，陈庆广 中国电子科技集团公司第四十八研究所
摘要：针对传统条形磁控溅射靶磁场分布不理想、靶材利用率低、镀膜不均匀等不足，通过优化磁场分 布，缩小条形靶端部与中部的磁场差距，增大靶材的刻蚀均匀性，增大有效镀膜区，从而提高靶材利用率 和改善镀膜均匀性。本文结合模拟仿真、结构设计与工艺验证的方式，开发出一种镀膜均匀性优于 3%、 靶材利用率超过 30%的条形磁控溅射靶。 关键词：磁控溅射；镀膜均匀性；靶材利用率；薄膜混合集成电路
70 （总第 266 期） 2021·7·
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CIC 中国集成电路 China lntegrated Circult
制造
0 引言
视图如图 1 所示，磁场模块由内外磁体组成，外磁体 由四块磁体拼装而成。
磁控溅射镀膜技术具有溅射速率高、基片沉积 温度低、薄膜沉积质量好等特点[1-2]，广泛应用于微电 子、光电子、光学镀膜等行业，适合大面积镀膜生产， 企业对磁控镀膜设备的靶材利用率、沉积速率、镀膜 均匀性、溅射过程稳定性等最为关注。但平面磁控溅 射系统仍存在靶材利用率低[3]、磁场均匀性差[4] 等系 列问题，因此有必要对磁控溅射靶的磁场分布进行 优化设计，其中磁控靶的优化就是最为关键的一环， 国外在靶分析和设计方面优势明显，已经实现专业 化和产业化，国内从事该方面系统研究较少，多数仍 处于引进消化吸收再创新的阶段，原始创新等基础 能力比较薄弱。
导致脱膜的几个要因素
导致脱膜的几个要因素千万脱膜大致有以下几个因素：原片、水质、真空度、清洗机、工艺气体、靶材。
2.1原片因素2.1.1原片存放因素玻璃表面越新鲜，表面活性越大，与膜层的结合力越强，反之则差。
使用存放期过长的玻璃，由于玻璃表面霉变和附着的污物会大量增加，而且附着力很强，清洗环节很难清除掉，这就造成膜层与基片的结合力大大降低，从而导致脱膜。
建议视季节采用存放期在一个月以内的制镜级或汽车级浮法玻璃。
2.1.2原片切割因素许多原片生产厂家为了提高玻璃的切裁率，在切割刀上注了过多的煤油，这些煤油残留在原片上，在清洗环节难以清除掉，造成脱膜。
在采购玻璃原片时，应要求无油切割。
若不能无油切割，应在正式清洗前用稀盐酸或阴离子去垢剂进行预清洗。
2.2水质因素2.2.1水处理设备水质的好坏对于镀膜是至关重要的。
去离子水纯度应控制在电阻率10M欧姆以上。
若低于该值，则应对阴阳离子交换树脂进行再生，否则，会因水质不纯导致原片清洗不净而脱膜。
2.2.2管道和水箱的杂质连接水处理设备和清洗机水箱的管道应定期吹扫清洗。
因为管道中若残留不流动的水时间久了，会滋生细菌、藻类，在使用时会带到水箱里，使清洗水本身水质不过关，造成镀膜不牢。
2.3清洗机2.3.1清洗刷清洗刷使用一段时间后，上面会残留一些污物，包括油污、絮状物、纸屑、甚至细菌，若不能有效地进行清洗，也会带来污染，造成脱膜。
所以，必须定期用蒸汽清洗机清洗毛刷，必要时，可用双氧水清洗。
2.3.2风机风压大小，风刀角度调整的好坏将影响到原片能否吹干，若吹不干，镀膜后，肯定脱膜。
必须保证进入真空室的玻璃干燥。
2.4真空度真空度必须达到一定标准方可镀膜，否则，会因气体中残留杂质气体，导致膜层成分不纯，结合力不强。
一般应控制在10-3Pa。
2.5扩散泵返油扩散泵冷却水水温偏高，易导致油蒸汽进入镀膜室附着在原片上，这是导致脱膜的生要因素之一。
定期观察扩散泵冷却水水温，做好记录，尤其在炎热的夏季和使用较高溅射功率的时候，更应如此。
azo靶材镀膜参数
azo靶材镀膜参数摘要：一、什么是azo 靶材镀膜二、azo 靶材镀膜的参数1.靶材种类2.镀膜厚度3.沉积速率4.镀膜质量5.应用领域正文：一、什么是azo 靶材镀膜azo 靶材镀膜是一种用于制造电子器件的特殊薄膜，其主要成分为氧化亚铁（FeO）和氧化锌（ZnO）。
这种材料具有良好的导电性和透明性，广泛应用于太阳能电池、平板显示器、触控面板等领域。
通过在基材上镀覆azo 靶材，可以提高器件的性能，如提高太阳能电池的光电转换效率、降低平板显示器的功耗等。
二、azo 靶材镀膜的参数1.靶材种类：azo 靶材的主要成分为氧化亚铁（FeO）和氧化锌（ZnO），它们的比例决定了靶材的性能。
通常情况下，FeO 和ZnO 的比例为9:1。
2.镀膜厚度：镀膜厚度是影响器件性能的关键参数。
过薄的镀膜会导致器件性能下降，而过厚的镀膜则会增加器件的成本。
因此，在生产过程中需要精确控制镀膜厚度。
3.沉积速率：沉积速率决定了镀膜的生产效率。
提高沉积速率可以缩短生产周期，降低生产成本。
但同时，过高的沉积速率可能会影响镀膜的质量。
4.镀膜质量：镀膜质量是衡量azo 靶材镀膜性能的重要指标。
高质量的镀膜可以提高器件的性能，如提高太阳能电池的光电转换效率、降低平板显示器的功耗等。
5.应用领域：azo 靶材镀膜广泛应用于太阳能电池、平板显示器、触控面板等领域。
随着科技的不断发展，azo 靶材镀膜的应用领域还将不断拓展。
总之，azo 靶材镀膜是一种重要的电子材料，其性能和质量对器件的性能和可靠性具有重要影响。
浅析大面积镀膜中旋转阴极的优缺点
浅析大面积镀膜中旋转阴极的优缺点Dan Crowley, 黄新盈(021‐20902916)磁控溅射旋转阴极在现今大面积玻璃镀膜中广泛采用，与平面阴极相比，各有其优缺点。
本文尝试对旋转阴极的优缺点进行以下分析。
旋转阴极的优点主要有以下几点：1 靶材利用率高，可达90%。
同时也意味着更长的运行时间。
2 溅射速率高（通常是平面阴极的2‐3倍，具体视靶材种类而定）。
3 有效减少打弧和靶面掉渣，工艺稳定性好。
可以消除平面靶较易形成的再沉积区，这些被污染的靶面，极易产生掉渣然后落到玻璃基板上。
同样这些地方很容易产生打弧，打弧又造成了更多掉渣和大颗粒的形成。
所以旋转阴极消除了再沉积区，从而保证了镀膜工艺的长期稳定性。
4 无需“烧靶”，可以节省靶材消耗和烧靶时间。
5 快速便捷的换靶操作，在设计简捷的旋转阴极上可以实现,如SCI等。
这对配备多个旋转阴极的镀膜生产线特别有意义，节省时间意味着产能的提升。
6 低熔点靶材亦能使用高功率溅射。
因为靶材旋转，所以靶面没有一直处于等离子体区内，使溅射速率得以提高。
7 旋转靶材比平面靶材更加昂贵，但其极高的靶材利用率使得旋转靶的性价比更好。
而旋转阴极的缺点主要是：1 旋转阴极更加复杂，需要更多部件，需要驱动系统配合。
所以最初的设备投资要高于平面阴极。
2 旋转阴极有移动部件，生产中真空密封不时会有泄漏，即便是成熟的旋转阴极，能够可以做到简单，最小程度的更换密封，但相比平面阴极而言，仍需要更高的维护成本。
3 旋转阴极增加了系统中的不稳定因素，因为在生产中需要不停的旋转。
结论旋转阴极在大面积玻璃镀膜工业中，特别是Low‐e镀膜中扮演了重要的脚色，光伏和平板显示行业也逐步采用。
因为旋转阴极解决了平面阴极掉渣和靶材利用率的问题，并且提高了溅射速率。
但虽之而来的是增加了阴极机构的复杂性和初期投资。
旋转阴极所带来的好处将在后续的长期生产得到充分体现。
至于靶材成本，需要分别比较分析每种靶材的制造成本，利用率，回收价值…等因素来综合考虑。
溅射靶材的厚度标准
溅射靶材的厚度标准溅射靶材在溅射镀膜过程中是一个非常重要的材料，其厚度直接影响到溅射速率、靶材利用率、厚度均匀性、颗粒度、溅射气体消耗、溅射功率、溅射压力和溅射稳定性等方面。
因此，确定溅射靶材的厚度标准是至关重要的。
一、溅射速率溅射速率是指单位时间内从靶材上溅射出的粒子数目的多少。
溅射速率与溅射电流、气体压力、气体组成和靶材的物理性质等因素有关。
在一定的条件下，溅射速率与靶材的厚度成正比，因此，确定靶材的厚度标准需要考虑溅射速率的要求。
二、靶材利用率靶材利用率是指在溅射过程中，靶材的有效利用程度。
在相同的溅射条件下，靶材的厚度越大，其利用率越高。
但是，过厚的靶材会导致溅射速率的降低，同时还会增加制造成本。
因此，在确定靶材的厚度标准时，需要综合考虑溅射速率和靶材利用率的要求。
三、厚度均匀性厚度均匀性是指溅射靶材表面各处的厚度是否一致。
如果靶材的厚度不均匀，会导致溅射速率的不稳定，从而影响镀膜的质量。
因此，在确定靶材的厚度标准时，需要保证其厚度均匀性符合要求。
四、颗粒度颗粒度是指溅射靶材表面的颗粒大小和分布情况。
颗粒度的大小对溅射速率和镀膜质量都有一定的影响。
在确定靶材的厚度标准时，需要考虑其颗粒度是否满足要求。
五、溅射气体消耗溅射气体是用来产生等离子体的气体，其消耗量与靶材的厚度有一定的关系。
在一定的条件下，靶材的厚度越大，所需的溅射气体流量就越大。
因此，在确定靶材的厚度标准时，需要考虑溅射气体的消耗情况。
六、溅射功率溅射功率是指用于产生等离子体的电源功率。
在一定的条件下，靶材的厚度越大，所需的溅射功率就越大。
但是，过高的溅射功率可能会导致靶材表面的熔融和蒸发，从而影响镀膜的质量。
因此，在确定靶材的厚度标准时，需要考虑其与溅射功率的匹配情况。
磁控溅射镀膜靶材料
磁控溅射镀膜靶材料磁控溅射镀膜技术作为一种重要的表面修饰方法，在电子、光电、材料等领域有着广泛的应用。
而作为磁控溅射镀膜技术的核心材料——靶材，其选择和使用直接关系到溅射膜层的质量和性能。
本文将介绍磁控溅射镀膜靶材料的分类、常见材料及其特点，并讨论靶材的制备工艺和质量控制方法，旨在为磁控溅射镀膜相关科研和工业应用提供指导。
首先，磁控溅射镀膜靶材料可以按照化学性质和物理性质进行分类。
从化学性质上看，主要分为金属靶材、合金靶材和化合物靶材等。
金属靶材主要包括铜、铝、钛等，合金靶材常见的有镍铬合金、钴铬合金等，化合物靶材则包括氮化物、氧化物等。
从物理性质上看，靶材可以分为导体靶材和绝缘体靶材。
常见的磁控溅射镀膜靶材包括铝、铜、钛等金属靶材。
这些材料具有较高的导电性和良好的热稳定性，可以在真空环境下长时间稳定地发挥作用。
另外，氮化铝、二氧化硅等绝缘体靶材也广泛应用于磁控溅射镀膜领域。
绝缘体靶材的使用可以改变溅射过程中的离子束能量分布，提高溅射膜层的质量和均匀性。
靶材的制备工艺对镀膜质量及性能起着至关重要的作用。
首先，靶材的制备要求其成分纯净，无杂质。
通常采用电弧熔炼、电子束熔炼等方法制备金属靶材；而化合物靶材的制备则需要采用化学气相沉积、固相反应等特殊工艺。
其次，制备过程中要确保靶材的均匀性，避免出现微观或宏观缺陷。
同时，靶材的密度和结构也需要进行严格控制，以确保其在溅射过程中的稳定性和利用率。
为了保证磁控溅射镀膜的质量，还需要对靶材进行质量控制。
首先，靶材的表面需要进行表面处理，以去除氧化物和杂质，提高溅射效率。
其次，靶材的形状和尺寸需要进行严格控制，以确保靶材与阴极的匹配度和镀膜的均匀性。
最后，溅射过程中需要监测靶材的损耗情况，及时更换和调整靶材，以保证膜层的一致性和稳定性。
综上所述，磁控溅射镀膜靶材是影响溅射膜层质量和性能的重要因素。
不同的靶材具有不同的特点和适用范围，其制备和质量控制工艺也需要注意。
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平 面靶 材在磁 控 溅射 过程 中 ， 由于磁 场 分布存 在 强 度 的不 同（ 磁 场 切 线方 向的磁 场 最强 ） ， 靶 材溅 射 过 程 中表面 区域 存 在溅 射 集 中 的环形 “度 上 限制 了其 应 用 ， 国 内玻 璃 加 工 企 业有 义 务不 断降低 镀膜 产 品 的生 产成 本 ， 使低 辐射 玻璃加快普及进程 、 节约能源 、 改善 环 境 、 实 现社 会
节 功能 。
【 ４ ］ Ｈｕ ａ ｎ ｇ Ｐ Ｙ， Ｋｕ ｒ ａ ｓ ｃ ｈ Ｓ ， Ｓ ｒ ｉ ｖ ａ ｓ ｔ ａ ｖ ａ Ａ， ｅ ｔ ａ １ ． Ｄｉ ｒ ｅ ｃ ｔ ｉ ｍａ ｇ ｉ ｎ ｇ ｏ ｆ ａ ｔ Ｗ Ｏ — ｄ ｉ ｍｅ ｎ ｓ ｉ ｏ ｎ ａ ｌ ｓ ｉ ｌ ｉ ｃ ａ ｇ ｌ ａ ｓ ｓ ｏ ｎ ｇ ｒ ａ ｐ ｈ ｅ ｎ ｅ ［ Ｊ ］ ． Ｎａ ｎ ｏ Ｌ ｅ ｔ ｔ ｅ ｒ ｓ ， ２ ０ １ ２ ，
Ａ ｒｃ ｈｉ ｔ ｅ ｃ ｔ ｕｒ ａｌ ＆ Ｆ ｕｎ ｃ ｔｉ ｏ ｎ ａｌ Ｇｌ ａｓ ｓ Ｎｏ ＿ ５ ２ ０１ ５
靶材质量对 大面积镀膜生产 的影 响
天津 南玻 工程玻 璃有 限公 司 胡冰 摘 王 烁
要： 真 空磁 控 溅射 镀 膜现 在 已经成 为工 业镀 膜 生产 中最主要 的技 术之 一 。靶 材 作 为磁 控 溅射 镀
靶 和旋 转 靶 ， 常用 的平 面 靶 包 括铜 靶 、 银靶 、 镍 铬 靶 和石墨靶 ， 常用 的旋 转 靶 包 括 锌 铝靶 、 锌 锡靶 、 硅 铝 靶、 锡靶 、 氧化 钛 靶 和氧 化锌 铝 靶 等 。靶材 形 状影 响 磁 控溅 射镀 膜 的稳 定 性和 膜层 特性 ， 以及靶 材 的利用 率， 因此可 以通 过改 变靶 材 的形 状设 计 提高 镀膜 质量
真空磁控溅射镀膜能有效地降低靶室 的工作压 强和靶的工作电压 ， 提高溅射和沉积速率 ， 降低基片 温度 ， 减 小 等离 子 体对 膜 层 的破 坏 ， 特 别适 合 于 大 面
积 镀 膜 生产 。影 响溅 射 成 膜 速度 和质 量 的因 素 除包 括真空度 、 溅射气氛 、 气压 、 使 用 功 率 和靶 基 距 等 一
１ 引 言
现代建筑大多已开始采用大面积玻璃采光 ， 这一
方 面带 给我 们更 明亮 的房 间 以及 更宽 阔 的视野 ， 另 一 方 面 由于透 过玻璃 传递 的热 能远 高 于周 围墙体 ， 导 致
料 其本 身 的特性 ， 包 括靶 材形 状 、 纯度 、 密度 、 孔 隙度 、 晶粒 度 及 绑定 质 量 都 对成 膜 品质 和溅 射 速 率 有 非 常 大 的影 响 。优 质 的靶材 不但 可 以保证 好 的膜 层质 量 ， 也 可 以延长 Ｌ ｏ ｗ — Ｅ 产 品的使用 周期 ， 更 重要 的可 降低
膜使用的大宗原材料 ， 其质量对膜层性能有很 大的影响 ， 同时会影响到镀膜的生产效率和成本 ， 对大 面积 玻 璃镀 膜 企业 有很 大的 影响 。本 文 结合 生产 实 际使 用情 况 ， 将 靶 材 对镀 膜 生产 影 响 的主要 特征 参数 ， 包括靶材的密度、 晶粒尺寸、 纯度、 与衬 管（ 背板） 连接质量等因素进行 了分析和研 究， 并在其参 数 控 制 方面给 予相 关建议 。
整个建筑物 的使用能耗 明显增大。经过几十年 的发 展， 低辐射（ Ｌ ｏ ｗ — Ｅ ） 镀 膜 玻 璃在 建 筑领 域 得 到 了广 泛 的应用 ， 对 降低建筑能耗和节约能源有着显著的作
用 。 目前 制 备 低辐 射 薄 膜 成熟 的技 术 包 括化 学 气 相
沉积（ 在线 Ｌ ｏ ｗ — Ｅ ） 和真 空磁 控 溅 射 镀膜 （ 离线 Ｌ ｏ ｗ — Ｅ ）
的可持 续发 展 。
靶材利用率低（ 仅有 ３ ５ ％左右） 。虽然旋转靶 的利用 率很高， 但制 备 成 本较 高 ， 对 于 一些 金 属靶 材 依然 设
计 为平 面靶 。使用 平 面靶 时 ， 可 以根据 实 际磁场 分布 情况 ， 加 厚跑 道 部分 材 料 厚度 以提高 靶 材利 用 率 ， 提
高生产效率。而尺寸较大的平面靶很难整靶成型 ， 需 要制备成尺寸较小 的靶材进行拼接使用 ， 拼接的缝 隙 可以为靶材热膨胀提供空间 ， 但缝 隙较大时， 容易有
空气 残 留 ， 造 成抽 真空 困难 。镀 膜过 程 中残余 气体 的
释放 会影 响膜 层 的质量 和均 匀性 ， 所 以在 靶材 尺 寸设
和 生产效 率 ， 节 约成 本 。
璃， 离线 Ｌ ｏ ｗ — Ｅ 玻璃辐射率和隔热系数更低 ， 颜色种 类多 ， 遮 阳系数 和透光 率均 可根 据设计 师 的要 求进 行
调整 ， 制备 成 中空玻 璃 或夹 层玻 璃 进 行使 用 ， 更 适 合
社会发展对节能越来越高的要求 ， 是社会持续发展的
系列设 备 工 艺条件 外 ， 靶 材作 为镀膜 使 用 的大宗 原材
一
计过 程 中应考 虑缝 隙大 小 ， 一般 在 ０ ． ５ ｍ ｍ左 右较 佳 。
１ ８一
建 筑玻 璃与 工业 玻璃 ２ ０ １ ５ ， Ｎ ＿ ｏ ５
来讲 ， 目前 已做 到 前 两个 阶段 ， 即 自我 测试 和 自我 调
必 然趋 势 。相对 发 达 国家 高达 ９ ０ ％以 上低 辐 射 玻 璃 的使 用 率 ， 中 国的 Ｌ ｏ ｗ — Ｅ玻璃 普 及 率仅 １ ２ ％左 右 ， 其 在 中 国还 有 非 常 大 的发 展 空 间 。但 是相 对 于 普 通玻
璃和 在线 Ｌ ｏ ｗ — Ｅ 玻璃 ， 离线 Ｌ ｏ ｗ — Ｅ玻璃 的生产成 本 比
生产成本 ， 提高生产效率 ， 对镀膜玻璃行业有很大的 经 济 效益 。因此 ， 对 于大 面 积镀 膜行 业 ， 靶 材 的相 关
研 究也 显得 尤 为重要 。
２ 靶 材 形 状 的 影 响
对 于 大 面 积镀 膜 常 用 的靶材 按 形 状 分 包 括平 面
两种 。相 对 于颜色 单一 ， 辐射 率 较高 的在 线 Ｌ ｏ ｗ — Ｅ玻