集成电路测试员实习报告

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集成电路制造实习报告

集成电路制造实习报告

一、实习目的本次集成电路制造实习旨在使我深入了解集成电路的制造过程,掌握集成电路的基本原理和制造技术,提高自己的实践动手能力,为今后的学习和工作打下坚实的基础。

通过实习,我期望达到以下目标:1. 理解集成电路的基本原理和制造流程。

2. 掌握集成电路制造过程中的关键技术和设备操作。

3. 培养团队协作和解决问题的能力。

4. 增强对集成电路行业的认识,激发对相关领域的兴趣。

二、实习内容1. 理论学习:在实习初期,我通过阅读教材、参考书籍和参加讲座,学习了集成电路的基本原理、制造工艺和行业发展动态。

2. 参观学习:在导师的带领下,我参观了集成电路制造车间,了解了制造过程中的各个工序,如晶圆制备、光刻、蚀刻、离子注入、化学气相沉积等。

3. 实践操作:在导师的指导下,我参与了部分制造工艺的实际操作,如光刻、蚀刻、离子注入等,亲身体验了集成电路制造的过程。

4. 设备操作:我学习了半导体制造设备的基本操作,包括光刻机、蚀刻机、离子注入机等,掌握了设备的操作方法和注意事项。

5. 问题解决:在实习过程中,我遇到了一些问题,如设备故障、工艺参数调整等,通过与导师和同事的讨论,我学会了如何分析和解决这些问题。

三、实习总结1. 对集成电路制造过程的理解:通过实习,我对集成电路的制造过程有了更深入的了解,认识到制造过程中各个环节的紧密联系和相互影响。

2. 制造工艺的掌握:在实习过程中,我掌握了光刻、蚀刻、离子注入等关键制造工艺,为今后的学习和工作打下了基础。

3. 设备操作的熟练:通过实际操作,我熟悉了半导体制造设备的基本操作,提高了自己的动手能力。

4. 问题解决能力的提升:在实习过程中,我学会了如何分析和解决实际问题,提高了自己的问题解决能力。

5. 团队协作和沟通能力的增强:在实习过程中,我与同事和导师进行了充分的沟通和交流,提高了自己的团队协作和沟通能力。

四、心得体会1. 理论与实践相结合:通过实习,我深刻体会到理论与实践相结合的重要性。

集成电路实训报告

集成电路实训报告

集成电路课程设计目录1 .引言 (1)1.1 课题目的与意义 (1)1.2 设计题目与要求 (1)1.3 Tanner软件的介绍 (2)2反相器设计 (2)2.1 S-edit设计反相器 (2)2.2反相器的瞬时分析 (3)2.3反相器直流分析 (4)3 L-edit画PMOS和NMOS布局图 (5)3.1 L-edit的使用 (5)3.2 使用L-Edit画PMOS布局图 (5)3.3 使用L-Edit画NMOS布局图 (6)3.4 使用L-Edit画基板节点元件 (7)3.5 L-edit画反相器布局并作瞬时和直流分析 (7)3.6使用LVS对比反相器 (8)3.7关于功耗和延迟方面的计算 (9)4.仿真注意事项 (11)5 总结 (12)参考文献 (13)1 .引言集成电路产业是信息产业的核心,在全球集成电路产业重心转移的背景下,中国集成电路产业取得了前所唯有的发展,为信息产业向纵深发展奠定了一定的基础。

在全球集成电路竞争中,中国国产集成电路仍然处于较弱的地位,一方面供给无法满足中国电子整机产品的需求,另一方面则是自主创新能力不足。

同时,也应看到中国集成电路产业发展的希望与契机,作为全球集成电路产业增长最快的地区和全球最具发展潜力的市场,伴随市场需求的扩张、产业规模的升级、技术水准的提高,该看到中国集成电路产业发展的希望。

作为全球第三大集成电路市场中国占了20%的份额,而且产业发展速度和市场潜力在全球首屈一指。

如今,由于我国集成电路产业还处于发展初期,富有经验的中高层工程,技术人才、设计人才及企业管理运营人才缺口很大。

我国集成电路产业对专业设计、制造、营销、管理人才的需求量是25万一30万人,但目前国内这方面的人才数量远远不够。

人才短缺,将成为制约我国集成电路产业快速发展的另一个瓶颈。

然而,这也是作为一位学生,也是我们的机会,是我们为国家的集成电路信息安全做贡献的机会。

让我们国家的集成电路不受外国掣肘。

集成电路见习报告

集成电路见习报告

集成电路见习报告集成电路实习任务书一、实习时间2010年1月5日二、实习单位武汉集成电路设计工程技术研究中心三、实习目的通过实习,加深对电子产品与设备的认识,进一步熟悉电子产品的研发、设计、生产、调试、安装与维护整个过程。

四、实习任务1、做好实习笔记。

2、联系所学专业知识,多思考,多请教。

3、总结实习中所学的知识及心得体会,完成实习报告五,公司介绍武汉集成电路设计工程技术研究中心成立于2003年9月,是由武汉市科技局、武汉东湖新技术开发区、华中科技大学及华中曙光软件园有限公司共同出资设立的具有独立法人资格的企业。

中心作为集成电路设计武汉产业化基地的核心力量,是武汉市政府为了推进集成电路产业的发展,顺应市场运行规律,遵循政府引导、专业管理、企业化运作的原则,发挥政府、大学、专业技术企业的优势,借助武汉市高新技术产业发展的政策、环境,在兼顾经济效益和社会效益的总原则下探索产业化基地建设的新模式。

中心拥有一批优秀的科研人员和经营管理人才,主要负责基地技术平台的运作、技术服务、技术管理与技术培训。

中心拥有先进EDA(电子设计自动化)软件和测试平台的开放实验室,供IC设计企业共享使用;中心还将建立面向全国的多项目晶圆支援计划;开展项目研发;组织各类培训、开设专业课程。

武汉集成电路设计工程技术研究中心将以一流的设计服务、以人为本的企业精神,与各界人事共同合作,创建具有国际影响的、国内一流的集成电路设计服务与培训机构!第一阶段:基于ARM的嵌入式系统开发武汉集成电路设计工程技术研究中心和华中地区唯一的ARM授权培训中心推出的课程在涵盖了ARM公司授权培训课程全部内容基础上,结合20个实验项目,进一步增加了更多丰富的实用内容。

通过本课程的学习,学员即能够具备介于ARM的嵌入式软件开发能力。

第二阶段:Linux软件开发帮助初学者快速了解嵌入式开发的入门培训课程,使学员能快速熟悉linux系统,熟练使用各种常用命令和相应的内核知识,以及如何使用linux应用产品开发,为进一步学习后续开发打下坚实的基础。

集成电路实验日常实训报告

集成电路实验日常实训报告

一、实训时间2022年X月X日至2022年X月X日二、实训地点XX大学电子实验室三、实训目的1. 熟悉集成电路的基本原理和实验方法;2. 培养动手能力和实验操作技能;3. 深入了解集成电路的设计与制造过程;4. 提高对电子电路的分析与解决实际问题的能力。

四、实训内容1. 集成电路基本原理及实验(1)半导体材料与器件:了解半导体材料的特性,掌握PN结、二极管、晶体管等基本器件的原理和特性。

(2)集成电路基本电路:学习放大器、稳压器、滤波器等基本电路的设计与实验。

(3)集成电路制造工艺:了解集成电路的制造工艺流程,包括光刻、蚀刻、离子注入、扩散等。

2. 集成电路设计及实验(1)模拟集成电路设计:学习模拟电路的基本原理,掌握运算放大器、滤波器、稳压器等模拟电路的设计方法。

(2)数字集成电路设计:学习数字电路的基本原理,掌握逻辑门、触发器、计数器等数字电路的设计方法。

(3)集成电路版图设计:学习版图设计软件,掌握版图设计的基本规则和技巧。

3. 集成电路制造工艺实验(1)光刻实验:学习光刻原理,掌握光刻机的操作方法和光刻工艺流程。

(2)蚀刻实验:学习蚀刻原理,掌握蚀刻机的操作方法和蚀刻工艺流程。

(3)离子注入实验:学习离子注入原理,掌握离子注入机的操作方法和离子注入工艺流程。

五、实训过程及结果1. 集成电路基本原理及实验在实训过程中,我们学习了半导体材料与器件的基本原理,掌握了PN结、二极管、晶体管等基本器件的特性和应用。

通过实验,我们验证了放大器、稳压器、滤波器等基本电路的性能。

2. 集成电路设计及实验在模拟集成电路设计方面,我们学习了运算放大器、滤波器、稳压器等模拟电路的设计方法,并成功设计出满足要求的电路。

在数字集成电路设计方面,我们掌握了逻辑门、触发器、计数器等数字电路的设计方法,并成功设计出满足要求的电路。

3. 集成电路制造工艺实验在光刻实验中,我们学会了光刻机的操作方法和光刻工艺流程,成功完成了光刻实验。

集成电路制造公司实习报告

集成电路制造公司实习报告

实习报告一、前言随着科技的不断发展,集成电路(IC)行业在我国经济中的地位日益重要。

作为集成电路设计的重要环节,集成电路制造技术的发展对提高我国半导体产业竞争力具有重要意义。

在此背景下,我有幸加入了一家集成电路制造公司进行实习,本文将结合我的实习经历,对集成电路制造公司的现状和发展进行探讨。

二、公司概况实习公司成立于2010年,位于我国某高新技术产业园区,是一家专业从事集成电路制造的高新技术企业。

公司秉承“创新、品质、服务”的企业理念,为国内外客户提供高品质的集成电路产品。

主要业务涵盖集成电路设计、晶圆制造、封装测试等环节。

三、实习内容1. 集成电路制造流程在实习期间,我深入了解了集成电路的制造流程,包括晶圆制备、光刻、蚀刻、离子注入、金属化、封装和测试等环节。

通过对每个环节的实地观察和操作,我认识到集成电路制造的复杂性和精细程度,同时也感受到制造过程中对环境、设备、材料等方面的严格要求。

2. 设备操作与维护在实习过程中,我参与了部分设备的操作和维护工作。

通过实际操作,我掌握了设备的基本操作方法,了解了设备的工作原理和维护技巧。

同时,我还学会了如何阅读设备说明书,进行设备调试和故障排查。

3. 品质管理实习期间,我参与了公司品质管理的相关工作,包括对生产过程中的产品进行抽检、分析品质数据、制定改善措施等。

通过这些工作,我认识到品质管理在集成电路制造行业的重要性,学会了如何运用统计学方法对品质数据进行分析,以及如何制定有效的品质改善措施。

四、实习感悟1. 技术水平在实习过程中,我深刻体会到我国集成电路制造技术在某些领域已达到国际先进水平,但与国外领先企业相比,在设备、材料、研发等方面仍有一定差距。

因此,提高我国集成电路制造技术水平,需要加强产业链上下游的协同创新,提高自主研发能力。

2. 人才培养集成电路制造行业对人才的需求越来越高,特别是技术研发、品质管理、生产管理等方面的专业人才。

实习期间,我认识到公司在人才培养方面的投入不足,建议公司加强人才培养,提高员工的专业技能和综合素质。

封测装片实习报告

封测装片实习报告

封测装片实习报告一、实习背景和目的作为一名电子信息工程专业的学生,我深知实践操作对于理论知识的重要性。

为了更好地了解和学习集成电路封测行业的前沿技术和工艺,提高自己的实际操作能力,我参加了为期一个月的封测装片实习。

此次实习的目的在于熟悉封测的基本流程,掌握装片、打标、贴膜等基本操作,并了解封测行业的发展现状和趋势。

二、实习内容和过程实习期间,我主要参与了以下几个方面的内容:1. 装片操作:在导师的指导下,我学会了使用装片机进行芯片的装片。

装片机是一种自动化程度较高的设备,可以实现芯片的高速、高精度装片。

在操作过程中,我掌握了装片机的结构原理、操作步骤和注意事项,并能够独立完成芯片的装片工作。

2. 打标操作:我学会了使用打标机对芯片进行打标。

打标机可以实现在芯片上打印批号、生产日期等信息,以便于追溯和管理。

在操作过程中,我了解了打标机的原理、操作方法和维护保养知识。

3. 贴膜操作:我掌握了使用贴膜机对芯片进行贴膜的技能。

贴膜机可以将保护膜贴在芯片表面,保护芯片在运输和加工过程中不受损害。

在操作过程中,我学会了贴膜机的结构原理、操作步骤和注意事项。

4. 了解封测流程:实习期间,我跟随导师参观了封测生产线,了解了封测的基本流程,包括芯片的装片、打标、贴膜、封装、测试等环节。

通过实地观察,我对封测行业有了更深入的认识。

5. 学习封测技术:在实习过程中,我学习了封测行业的一些新技术,如TSV (Through-Silicon Via)技术、三维封装技术等。

这些技术是封测行业的发展趋势,具有很高的应用价值。

三、实习收获和体会通过本次实习,我收获颇丰。

首先,我掌握了封测装片的基本操作,提高了自己的实际操作能力。

其次,我了解了封测行业的发展现状和趋势,为今后的学习和工作积累了宝贵的经验。

最后,我认识到理论知识与实践操作的重要性,今后将继续努力学习,提高自己的综合素质。

同时,我也深刻体会到封测行业竞争激烈,对从业人员的技能要求越来越高。

集成电路制造实习报告

集成电路制造实习报告

实习报告一、实习背景与目的随着信息技术的快速发展,集成电路(IC)作为现代电子产品的核心部件,其制造技术日益得到广泛关注。

我国政府也在政策上加大对集成电路产业的支持力度,推动产业的发展。

在此背景下,我参加了集成电路制造实习,旨在了解集成电路制造的基本流程,提高实践动手能力,并为今后从事相关工作打下基础。

本次实习的主要目的是:1. 掌握集成电路的基本概念、分类和性能指标。

2. 熟悉集成电路制造的基本流程和工艺。

3. 了解集成电路产业的发展现状和趋势。

4. 提高实际操作能力和团队协作能力。

二、实习内容与过程1. 集成电路基本知识学习在实习初期,我们首先学习了集成电路的基本概念、分类和性能指标。

通过学习,我了解到集成电路根据集成度可分为小规模集成电路、中规模集成电路和大规模集成电路;根据制造工艺可分为双极型集成电路和MOS型集成电路。

同时,我还掌握了集成电路的主要性能指标,如晶体管数量、功耗、频率、噪声等。

2. 集成电路制造流程学习接下来,我们学习了集成电路的制造流程。

集成电路制造主要包括以下几个步骤:(1)晶圆制备:采用硅锭生长、切片等工艺制备出合格的硅晶圆。

(2)氧化:在晶圆上生长一层氧化硅薄膜,作为后续工艺的基底。

(3)光刻:利用光刻机在晶圆上刻画出电路图案。

(4)刻蚀:去除光刻后不需要的物质,形成集成电路的沟道和接触孔。

(5)离子注入:引入掺杂离子,改变晶圆的导电性质。

(6)化学气相沉积:沉积绝缘膜和导电膜,形成晶体管和金属连线。

(7)平坦化:去除表面不平整的物质,为后续工艺提供平整的表面。

(8)化学机械抛光:使晶圆表面更加光滑,提高成品率。

(9)封装:将晶圆切割成单个芯片,进行封装。

(10)测试:对封装后的芯片进行性能测试,确保其满足要求。

3. 实习操作在理论学习的基础上,我们进行了实际操作。

操作内容包括:晶圆制备、光刻、刻蚀、离子注入、化学气相沉积、平坦化、化学机械抛光等。

通过操作,我们更深入地了解了集成电路制造的各个环节,提高了实践动手能力。

集成测试工程师实习报告

集成测试工程师实习报告

实习报告一、实习单位我目前在XX科技有限公司实习,担任集成测试工程师一职。

XX科技有限公司成立于2010年,是一家专注于软件研发与技术服务的高科技企业,业务涵盖了金融、医疗、教育等多个领域。

二、实习工作职责在实习期间,我的主要工作职责包括:1. 参与项目需求分析,制定集成测试计划和测试用例。

2. 执行集成测试,发现并记录缺陷,跟踪缺陷修复情况。

3. 配合开发团队进行问题定位和解决,确保软件质量。

4. 编写测试报告,总结测试过程和结果。

5. 学习和掌握各种测试工具和技术,提高测试效率。

三、实习内容1. 需求分析:在项目开始阶段,我参与了需求分析会议,与产品经理、业务分析师和开发团队沟通,了解项目目标和功能需求。

通过分析需求文档,我梳理出关键功能点和潜在风险,为后续测试工作做好准备。

2. 测试计划和用例编写:根据需求分析和项目进度,我制定了集成测试计划,明确了测试目标、测试范围、测试方法、测试周期等。

同时,我编写了详细的测试用例,确保覆盖各个功能模块和业务场景。

3. 测试执行:在测试执行阶段,我严格按照测试计划和用例进行测试,发现了一些功能缺陷和性能问题。

我及时记录并报告给开发团队,与他们一起分析问题原因,并跟进修复进度。

4. 缺陷跟踪:在缺陷修复过程中,我负责跟踪缺陷状态,验证修复效果,确保问题得到妥善解决。

同时,我对测试过程中遇到的问题进行总结,提出改进意见和建议。

5. 测试报告编写:在实习期间,我撰写了详细的测试报告,其中包括测试概况、测试结果、缺陷统计、问题分析和改进建议等内容。

测试报告为公司提供了有力的质量保障,也为后续项目改进提供了参考。

四、实习收获通过这次实习,我收获颇丰:1. 掌握了集成测试的基本流程和方法,提高了测试技能。

2. 学会了与开发团队和产品经理沟通协作,提高了团队协作能力。

3. 熟悉了软件开发环境和工具,为今后的工作打下了基础。

4. 深入了解了软件质量保障的重要性,增强了质量意识。

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集成电路测试员实习报告篇一:测控技术与仪器专业生产实习报告测控技术与仪器专业《生产实习报告》一、实习概况实习时间:XX.7.28-XX.8.8实习地点:无锡市公共实训基地实习要求:掌握如下的专业知识和技能并通过考核。

1.集成电路及测试常识2.模拟集成电路测试原理、方法及设备详细构成;3.集成电路主要参数及测试设备框架构成;4.评估集成电路的具体技术指标;5.集成电路测试实际操作。

二、实习企业介绍北京信诺达泰思特科技股份有限公司成立于XX年11月,注册资本为632万人民币,主要从事集成电路测试系统的研发。

在集成电路测试领域具有深厚的技术实力与市场储备,同时承接集成电路测试服务、电路板测试维修业务。

公司是集研制、开发、销售、服务于一体的高新技术企业。

由研发人员发明了“一种快速获取DSP测试向量的方法及装置”并取得国防专利证书。

公司核心研发团队多年来一直从事半导体测试系统的研发工作,参与并完成的项目包括国家六.五重点科技攻关项目“大规模/超大规模存储器集成电路测试系统研制”;国家“七五”、“八五”重点科技攻关项目“测试程序库的开发与实用化”;北京市科学院“100M超大规模数字电路测试系统研制”项目等,以上项目均顺利通过验收。

公司所研发的产品涵盖数字集成电路测试、模拟集成电路测试、数模混合集成电路测试、存储器测试、继电器测试、电源模块测试等,曾为多家封装测试企业、军工企业及科研院所提供产品及服务,广泛应用于航空、航天、铁路、船舶、兵器、电子、核工业等领域。

还可以针对用户实际需求,量身为客户提供最优的测试解决方案。

公司秉承“敬业、奉献、协同、创新”的精神,为客户提供高质高效的测试展品和服务。

三、实习内容第一周:7月28日上午我们来到无锡公共实训基地学习集成电路测试的相关知识。

下午基地领导带我们参观了公司、介绍了相关产品。

产品描述:ST5000是一款高精度的半导体分立器件测试系统,该系统采用了标准的PXI总线,能够兼容CPCI和PXI设备。

它是一款浮动资源的测试工作站,这种特殊的架构方式使得用户可以最有效的利用系统资源,配置出最经济、高效的测试系统。

测试原理符合相应的国家标准、国家军用标准。

ST5000旨在帮助您最大限度地提高系统的正常运行时间、性能,大幅降低器件的测试时间,提高测试效率,同时最大限度地降低运营成本,支持广泛的业务。

而且,我们的服务可以完全灵活的满足您的需求。

系统基本特征:1.最低的拥有成本,可靠的、可扩展的体系结构。

2.CPU内嵌在系统主机内,并通过PXI总线控制和管理测试主机。

3.Windows XP/XX操作系统,窗口式编程,直观、友好的图形用户界面极大的方便了用户。

4.支持两测试站乒乓测试,两测试站可测试不同的器件类型,并支持不同的工作模式。

5.系统采用四线开尔文连接方式及屏蔽措施保证被测器件端的测试精度和稳定性。

6.兼容各类机械手、探针台。

7.系统可以兼容所有CPCI和PXI设备,可以扩展数字资源,客户对机器的使用方式有多种选择。

8.设备所有板卡和测试盒都是可以插拔的,是用户在使用过程中方便维护。

9.机器体积的减小,缩短主机与DUT卡的距离,提高了设备的稳定性和精确度。

篇二:08生产实习报告长安大学生产实习报告院系:电控学院电子科学与技术系专业:电子科学与技术班级:32050801学号:3205080104学生姓名:匡春燕指导教师:肖剑张林李清华谷文萍一、实习目的通过生产实习,了解本专业的生产过程,巩固所学专业知识。

了解半导体产业发展现状;熟悉半导体元器件和集成电路制造、测试技术;熟悉集成电路封装技术。

二、实习时间XX年6月 27日~XX年7月8日三、实习地点天水天光半导体有限责任公司、天水华天科技股份有限公司四、单位基本情况天光电子半导体有限责任公司是国家重点工程的配套生产研制单位,先后承担了亿次计算机,风云气象卫星,东方红3号,资源卫星,“神舟”号飞船和其他重点工程和军事吸纳灌木的配套任务,提供了大量可靠的七专产品,以质量可靠,性能稳定而著称,主要生产肖特基二极管管芯,也生产少量集成电路,同时也在积极进行发光二极管的开发等先进项目。

天水华天科技股份有限公司主要生产塑封集成电路、模拟集成电路、混合集成电路、DC/DC电源、集成压力传感器、变压器共五大类400多个品种。

其中主导产品塑封集成电路年封装能力已达30亿块。

公司产品以其优良的品质而被广泛应用于航天、航空、军事工程、电子信息和工业自动控制等领域。

四、实习内容根据老师及企业的安排,我们于XX.6.28-XX.6.29在甘肃天光电子半导体有限责任公司参观学习,在相关人员的带领下,我们知道了半导体工艺制造的流程以及测试封装的相关知识,同时了解该公司的一些技术设备及相关的杂质处理及生产用水的制备。

XX.6.30-XX.7.1在天水华天科技股份有限公司参观学习,通过第一天相关知识的讲解,我们更加熟悉晶圆的制作流程以及封装的流程,测试的要求,还了解到压力传感器的制作流程以及电镀的相关知识。

总的来说,通过这次的实习,对它们的工厂的参观,了解到以后我们工作的性质。

而且我们学到一些知识,大致可以分为以下几个方面。

1、芯片的制造过程及晶圆制作的工艺流程2、塑封集成电路封装3、工艺中的相关测试4、压力传感器的制作流程5、电镀的相关知识6、对天光公司的了解通过他们的讲解以及查阅相关资料,整理成如下信息:1 芯片的制造过程及晶圆制作的工艺流程1.1晶圆制造的工艺流程外延扩散的重复,然后进行金属化,后进行钝化,最后反刻,这一系列的工艺结合最终制成晶圆。

其详细流程如下:1、表面清洗2、初次氧化3、CVD(Chemical Vapor deposition) 法沉积一层Si3N4 (Hot CVD 或 LPCVD) 。

(1)常压 CVD (Normal Pressure CVD)(2)低压 CVD (Low Pressure CVD)(3)热 CVD (Hot CVD)/(thermal CVD)(4)电浆增强 CVD (Plasma Enhanced CVD)(5)MOCVD (Metal OrganicCVD) & 分子磊晶成长(Molecular Beam Epitaxy)(6)外延生长法 (LPE) ,淀积一层Si3N4。

4、涂敷光刻胶(1)光刻胶的涂敷(2)预烘 (pre bake)(3)曝光(4)显影(5)后烘 (post bake)(6)腐蚀 (etching)(7)光刻胶的去除光刻也就是有选择的扩散。

在光刻工艺中,要注意分辨力、清晰度以及套刻程度。

5、此处用干法氧化法将氮化硅去除6 、离子布植将硼离子 (B+3) 透过 SiO2 膜注入衬底,形成 P 型阱7、去除光刻胶,放高温炉中进行退火处理8、用热磷酸去除氮化硅层,掺杂磷 (P+5) 离子,形成 N 型阱9、退火处理,然后用 HF 去除 SiO2 层10、干法氧化法生成一层 SiO2 层,然后 LPCVD 沉积一层氮化硅11、利用光刻技术和离子刻蚀技术,保留下栅隔离层上面的氮化硅层12、湿法氧化,生长未有氮化硅保护的 SiO2 层,形成PN 之间的隔离区13、热磷酸去除氮化硅,然后用 HF 溶液去除栅隔离层位置的 SiO2 ,并重新生成品质更好的 SiO2 薄膜 , 作为栅极氧化层。

14、LPCVD 沉积多晶硅层,然后涂敷光阻进行光刻,以及等离子蚀刻技术,栅极结构,并氧化生成 SiO2 保护层。

15、表面涂敷光阻,去除 P 阱区的光阻,注入砷 (As) 离子,形成 NMOS 的源漏极。

用同样的方法,在 N 阱区,注入 B 离子形成 PMOS 的源漏极。

16、利用 PECVD 沉积一层无掺杂氧化层,保护元件,并进行退火处理。

17、沉积掺杂硼磷的氧化层18、濺镀第一层金属(1)薄膜的沉积方法根据其用途的不同而不同,厚度通常小于 1um 。

(2)真空蒸发法( Evaporation Deposition )(3)溅镀( Sputtering Deposition )19、光刻技术定出 VIA 孔洞,沉积第二层金属,并刻蚀出连线结构。

然后,用 PECVD 法氧化层和氮化硅保护层。

20、光刻和离子刻蚀,定出 PAD 位置21、最后进行退火处理,以保证整个 Chip 的完整和连线的连接性。

晶圆制造工艺中,要注意周边环境的影响,特别是静电,采取措施将人体产生的静电及环境中的静电排除出去,减少对器件的影响。

1.2芯片的制造过程芯片的制造过程可概分为晶圆处理工序(Wafer Fabrication)、晶圆针测工序(Wafer Probe)、构装工序(Packaging)、测试工序(Initial Test and Final Test)等几个步骤。

其中晶圆处理工序和晶圆针测工序为前段(Front End)工序,而构装工序、测试工序为后段(Back End)工序。

1)晶圆处理工序:本工序的主要工作是在晶圆上制作电路及电子元件(如晶体管、电容、逻辑开关等),其处理程序通常与产品种类和所使用的技术有关,但一般基本步骤是先将晶圆适当清洗,再在其表面进行氧化及化学气相沉积,然后进行涂膜、曝光、显影、蚀刻、离子植入、金属溅镀等反复步骤,最终在晶圆上完成数层电路及元件加工与制作。

2)晶圆针测工序:经过上道工序后,晶圆上就形成了一个个的小格,即晶粒,一般情况下,为便于测试,提高效率,同一片晶圆上制作同一品种、规格的产品;但也可根据需要制作几种不同品种、规格的产品。

在用针测(Probe)仪对每个晶粒检测其电气特性,并将不合格的晶粒标上记号后,将晶圆切开,分割成一颗颗单独的晶粒,再按其电气特性分类,装入不同的托盘中,不合格的晶粒则舍弃。

3)构装工序:就是将单个的晶粒固定在塑胶或陶瓷制的芯片基座上,并把晶粒上蚀刻出的一些引接线端与基座底部伸出的插脚连接,以作为与外界电路板连接之用,最后盖上塑胶盖板,用胶水封死。

其目的是用以保护晶粒避免受到机械刮伤或高温破坏。

到此才算制成了一块集成电路芯片(即我们在电脑里可以看到的那些黑色或褐色,两边或四边带有许多插脚或引线的矩形小块)。

4)测试工序:芯片制造的最后一道工序为测试,其又可分为一般测试和特殊测试,前者是将封装后的芯片置于各种环境下测试其电气特性,如消耗功率、运行速度、耐压度等。

经测试后的芯片,依其电气特性划分为不同等级。

而特殊测试则是根据客户特殊需求的技术参数,从相近参数规格、品种中拿出部分芯片,做有针对性的专门测试,看是否能满足客户的特殊需求,以决定是否须为客户设计专用芯片。

经一般测试合格的产品贴上规格、型号及出厂日期等标识的标签并加以包装后即可出厂。

而未通过测试的芯片则视其达到的参数情况定作降级品或废品。

2塑装集成电路的封装2、1封装的介绍所谓封装就是指安装半导体集成电路芯片用的外壳,它不仅起着安放、固定、密封、保持芯片和增强电热性能的作用,而且芯片上的接点用导线连接到封装外壳的引脚上,这些引脚又通过印制板上的导线与其他器件建立连接,从而实现内部芯片与外部电路的连接. 目前集成电路的封装主要还是采用锡铅焊料,封装业进入国际主流领域后,实现焊球阵列封装(BGA)、系统封装(SiP)、芯片级封装(CSP)、多芯片组件(MCM)等新型封装形式。

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