3_薄膜多层膜的反射
薄膜技术与测量2

r = r1 + r2e
2 iδ 1
+ r3e
2 i (δ 1 +δ 2 )
+ r4e
2 i (δ 1 +δ 2 +δ 3 )
如果膜层没有吸收那么各个界面的振幅反射系数为实数
η0 η1 η1 η2 r1 = , r2 = , η0 + η1 η1 + η2 η 2 η3 η3 η 4 , r4 = r3 = η 2 + η3 η3 + η 4
所以: 所以:
M 21 E=+ M 12
从M=pqp可以推广到任意多层的对称膜系在数学上 可以推广到任意多层的对称膜系在数学上 都可以用一个单层膜的特征矩阵所表示。 都可以用一个单层膜的特征矩阵所表示。 例如:M=h(u(v(pqp)v)u)h 例如:
最常用的周期膜系如: 最常用的周期膜系如:M=HLHLHLHLHLH 一方面表示为: 一方面表示为 也可表示为: 也可表示为: M=H(L(H(L(H)L)H)L)H M=H/2(H/2 L H/2)5H/2 ( H/2 L H/2是一个对称单元 是一个对称单元
对于以中间一层为中心, 两边对称安置的多层膜, 对于以中间一层为中心 , 两边对称安置的多层膜 , 却 具有单层膜特征矩阵的所有特点, 具有单层膜特征矩阵的所有特点 , 在数学上存在着一个等 效层。 效层。 以pqp为例说明对称膜系在数学上存在一个等效折射率的 为例说明对称膜系在数学上存在一个等效折射率的 概念。这个称膜系的特征矩阵为: 概念。这个称膜系的特征矩阵为:
反射系数 分别为: 分别为:
η0 r1 = η0 η r3 = 2 η2
η1 η1 η 2 = 0 . 16 , r2 = = 0 . 16 , + η1 η1 + η 2 η3 η η4 = 0 . 07 , r4 = 3 = 0 . 04 + η3 η3 + η4
光学薄膜的反射率与透过率

光学薄膜的反射率与透过率光学薄膜是一种应用于光学器件中的特殊薄膜材料,它具有调节光的传输和反射特性的功能。
在光学领域中,人们经常关注的是光的反射和透过过程,而薄膜材料的反射率与透过率是评估其性能的重要指标。
一、反射率的定义和影响因素反射率是指入射光束中被反射的光的强度与入射光束中的光强度之比。
在光学薄膜中,反射率的大小受材料的光学性质和薄膜结构的影响。
1. 光学性质的影响不同材料对于不同波长的光具有不同的吸收和折射特性,导致反射率的差异。
例如,某种材料对于可见光的吸收较强,其反射率可能会较高。
2. 薄膜结构的影响薄膜材料经过特定的制备过程,形成了一定的结构。
该结构由多层薄膜组成,每一层材料的厚度和折射率不同。
通过调节薄膜层的数量和厚度,可以实现对反射率的控制。
当光束穿过薄膜时,会发生多次反射和透射,薄膜的结构能够影响光束的合成效果,从而改变反射率。
二、透过率的定义和影响因素透过率是指入射光束中通过薄膜透过的光的强度与入射光束中的光强度之比。
与反射率类似,透过率也受光学性质和薄膜结构的影响。
1. 光学性质的影响与反射率类似,光学薄膜材料对于不同波长的光具有不同的吸收和折射特性,从而影响透过率。
有些薄膜材料较为透明,可使大部分光束透过,其透过率较高。
2. 薄膜结构的影响薄膜的结构也会对透过率产生影响。
通过调节薄膜层的数量和厚度,光在穿过薄膜的过程中会发生多次反射和透射。
当薄膜的结构能够使透射光束的干涉衰减,透过率会降低。
相反,如果薄膜结构使透射光束的干涉增强,透过率会增加。
三、应用和优化光学薄膜的反射率与透过率在实际应用中有着广泛的用途。
以下是一些示例:1. 光学镀膜光学镀膜是应用最广泛的光学薄膜技术之一。
通过镀膜技术,可以在光学器件上制造具有特殊反射和透射特性的薄膜。
例如,将光学薄膜施加于镜片上,可以增加镜片的反射率,提高光学设备的工作效率。
2. 光学滤波利用光学薄膜的反射率和透过率特性,可以设计出各种滤波器。
什么是光的光学薄膜和光学多层膜

什么是光的光学薄膜和光学多层膜?光的光学薄膜和光学多层膜是一种特殊的光学器件,用于控制光的传播和反射特性。
光学薄膜是指由一层或多层具有特定光学性质的薄膜组成的器件。
光学多层膜是由多个光学薄膜层叠而成的器件。
下面将详细介绍光的光学薄膜和光学多层膜的原理、特点和应用。
一、光学薄膜1. 原理光学薄膜是一种由一层或多层具有特定光学性质的薄膜组成的器件。
光学薄膜的光学性质取决于薄膜的折射率、厚度和表面形态。
通过适当选择材料和控制薄膜的厚度,可以实现对光的传播、反射和吸收等特性的控制。
光学薄膜的制备通常使用物理蒸发、化学气相沉积和溅射等技术。
2. 特点光学薄膜具有以下特点:(1)波长选择性:光学薄膜可以选择性地传播、反射或吸收特定波长的光。
通过调节薄膜的厚度和折射率,可以实现对光的波长选择性。
(2)光学性能可调:光学薄膜的光学性能可以通过改变薄膜的组成、结构和厚度等参数进行调节。
这使得光学薄膜在光学器件中具有广泛的应用潜力。
(3)高光学透过率:光学薄膜通常具有高的光学透过率,可以实现对光的高效传输和收集。
3. 应用光学薄膜在光学器件、光学涂层、光学传感和光学显示等领域中有广泛应用。
其中一些重要的应用包括:(1)光学镀膜:光学薄膜可以用于光学镀膜,改变光的反射和透射特性。
例如,将透明薄膜镀在眼镜片上可以减少反射,提高透过率,增加光学舒适度。
光学镀膜还可以用于太阳能电池板、摄像头镜头和车窗等光学器件上,改善光学性能和耐久性。
(2)光学滤光片:光学薄膜可以制备滤光片,用于选择性地吸收或反射特定波长的光。
滤光片可以用于摄影、光学仪器和光学传感器等领域,实现对光谱的控制和调整。
(3)光学反射镜:光学薄膜可以制备反射镜,用于反射特定波长的光。
反射镜广泛应用于激光器、望远镜、显微镜和光学传感器等设备中,实现对光的精确控制和定向。
(4)光学薄膜传感器:光学薄膜可以用于制备光学传感器,用于检测和测量环境中的光学信号。
光学传感器具有高灵敏度、快速响应和广泛检测范围等特点,可应用于环境监测、生物医学和工业控制等领域。
布拉格光栅反射率的计算

由边界条件可得到等效折射率Y:
其中δ1为: 故能量反射率为:
1 … k 3 2 + 1
多层薄膜的反射率
考虑k层薄膜的情况
可以从第k层递推到第1层,求出多层膜的有效折射率
第k层和基底的有效折射率为:
递推关系为:
这样递推到所有膜层都算完,得到整个膜系的 组合折射率
其中
有吸收情况下,膜系的反射率
有吸收情况下,菲涅尔公式也是有效的。 所不同的是介质的折射率为复数,即
2) TE波(S-偏振)── 最终,菲涅尔反射系数和透射系数可以写成:
能量反射率分别是:
1 2 单 层 薄 膜 的 等 效 界 面 图
单层薄膜的反射率
垂直入射很容易推广到斜入射时的情况: 只要将折射率N用修正折射率η代替,且在计算P-分量的反 射率时用 ,而在计算S-分量时用 (i=0,1)
假定所有介质均是非磁性的 单层薄膜的两个界面在数学上可以用一个等效界面来表示。 膜层和基底的组合折射率是Y。 即单层薄膜的振幅反射系数可以表示为:
由折射定律 得
即θ1为复数,且除了θ0=θ1=0的特殊情况外,θ1不再代表 折射角。 同时,菲涅尔投射西数也没有实际意义,因为波的衰减同 时取决于它在介质中传播的行进距离。
各膜层的相位厚度
令 则
同样令
则
这样原来的多层膜的递推公式
就可以相应地改写为
不过里面的各个参数都不再是实数而要代换成复数 膜层相邻两界面上的能流密度之比:
多层膜体系反射率 计算
Index
一)背景理论 1)单界面的反射率 2)单层薄膜的反射率 3)多层薄膜的反射率 4)有吸收情况下,多层薄膜的反射率 二)数值计算 1) 流程图 2) 计算结果
单界面的反射率
薄膜光学基础

p=1, 2, 3 …
其中,G和A分别代表玻璃基片和空气;H和L分别代表高 折射率膜层和低折射率膜层;p表示一共有p组高低折射率
交替层,总膜层数为(2p+1)。半波长的光学厚度应写成HH
或LL。
λ0/4膜系的多层高反射膜示意图
GHLHL…HLHA=G(HL)pHA
这种膜系之所以能获得高反射率,从多光束干涉原理看是
2 2 2 2 2 2 2 2
1 2 1 2 3
2
2
分界面的反射率:
等效折射率:
2
n1 n 2 RM n n 2 1
n nx n2
2 1
3 多层增反膜
常用的多层高反膜是由光学厚度nd都是λ0/4的高折射率膜 层和低折射率膜层交替镀制的膜系,可表示为:
GHLHL…HLHA=G(HL)pHA
E2 ER Em E0r12 1 r21r23 exp( j ) m 1
总的反射系数:
Hale Waihona Puke ER r12 r23 exp( j ) r E0 1 r21r23 exp( j )
ER r12 r23 exp( j ) r E0 1 r12 r23 exp( j )
容易理解的:根据平板多光束干涉的讨论,当膜层两侧介质的 折射率大于(或小于)膜层的折射率时, 若膜层的诸反射光束中
相继两光束的相位差等于π(λ0/4 膜系),则该波长的反射光获
得最强烈的反射。而上图所示的膜系恰恰能使它包含的每一层 膜都满足上述条件,所以入射光在每一膜层上都获得强烈的反 射,经过若干层的反射之后, 入射光就几乎全部被反射回去。 这种膜系的优点是计算和制备工艺简单,镀制时容易采用 极值法进行监控;缺点是层数多,R不能连续改变。目前发展了 一种非λ0/4膜系,即每层膜的光学厚度不是λ0/4,具体厚度要由
薄膜和多层膜的光学性质

薄膜和多层膜的光学性质薄膜和多层膜是光学材料中非常重要的组成部分,它们的光学性质在科学研究以及工程应用中有着广泛的应用。
本文将探讨薄膜和多层膜的光学性质及其应用。
首先,我们先来了解一下薄膜的基本概念。
薄膜是指在其厚度相比于其它尺寸而言非常小的材料。
一般来说,我们所说的薄膜是在纳米级别或微米级别的材料。
薄膜天然存在于物质的表面,如水的表面存在一个薄膜。
此外,人工制备的薄膜也有很多应用,比如用于光学镀膜、光电子器件等。
薄膜的光学性质是指薄膜对光的吸收、反射、透射等现象。
其中,反射和透射是薄膜最常见的光学性质。
通过反射和透射可以观察到薄膜的厚度和折射率对光学性质的影响。
其次,让我们来了解一下多层膜的光学性质。
多层膜指的是由多个薄膜层次堆叠而成的结构。
多层膜的光学性质与薄膜相比更为复杂多样。
多层膜的光学性质主要与膜层的厚度、折射率以及薄膜的层数有关。
多层膜主要有两种类型,一种是周期多层膜,它由两种材料交替排列而成,如衬底材料和薄膜材料的交替堆叠。
另一种是非周期多层膜,它由多种材料交替排列。
不同类型的多层膜具有各自独特的光学性质。
在多层膜中,不同的薄膜层会产生干涉现象,从而导致光的衍射和透射。
这种干涉现象可以利用在光学器件中,比如反射镜、滤光片等。
利用多层膜的干涉效应,我们可以实现光的波长选择性,即只透过特定波长的光。
这种技术在光通信、激光器、光显示器等领域有着广泛的应用。
此外,多层膜还可以用于光学传感器的设计。
光学传感器是一种通过测量光的特性来获取被测物理量的传感器。
通过设计合适的多层膜结构,可以使光的特性对被测量敏感,进而实现对光学传感器性能的优化。
这在生物医学、环境监测、工业检测等领域的传感器应用中具有重要意义。
总之,薄膜和多层膜的光学性质是一个引人注目且具有广泛应用的研究领域。
通过对薄膜和多层膜光学性质的研究,我们能够深入了解材料的光学行为,进而开发出各种高效的光学器件和传感器。
随着科学技术的不断发展,我们相信薄膜和多层膜的光学性质将会发挥更加重要的作用,为人类社会的进步做出更大的贡献。
什么是光的光学薄膜和多层膜

什么是光的光学薄膜和多层膜?光的光学薄膜和多层膜是一种特殊的光学器件,用于控制光的传播和反射。
它们由透明材料制成,具有特定的厚度和折射率分布,可以实现光的干涉、衍射和透射等效应。
下面我将详细介绍光的光学薄膜和多层膜的原理和应用。
1. 光学薄膜的原理:光学薄膜是由透明材料制成的厚度较小的薄膜。
当光波射入光学薄膜时,部分光被反射,而部分光被透射。
反射和透射光之间的干涉效应决定了光学薄膜的光学性质。
光学薄膜的光学性质与薄膜的厚度和折射率有关。
通过控制薄膜的厚度和折射率,可以实现光的干涉和衍射效应,从而实现对光的传播和反射的控制。
2. 多层膜的原理:多层膜是由多个光学薄膜层叠加而成的光学器件。
每个薄膜层的厚度和折射率都可以不同,通过调整每个层的参数,可以实现对光的更精确的控制。
多层膜的工作原理基于光的多次反射和干涉效应。
当光波穿过多层膜时,它会在不同的薄膜层之间发生多次反射和透射。
这些反射和透射光之间的干涉效应决定了多层膜的光学性质。
3. 光学薄膜和多层膜的应用:-光学薄膜和多层膜广泛应用于光学涂层、反射镜和透镜等光学器件中。
通过控制薄膜的厚度和折射率,可以实现对光的反射和透射的控制,从而实现对光学器件的性能的优化。
-光学薄膜和多层膜在光学滤波器和光学镀膜中也具有重要应用。
例如,通过选择合适的薄膜层的参数,可以实现对特定波长区域的光的选择性透射或反射,从而实现光学滤波器的功能。
-光学薄膜和多层膜还被广泛应用于光学传感器和光学记录介质等领域。
通过调整膜层的参数,可以实现对光的敏感度、分辨率和信噪比等性能的优化。
总之,光的光学薄膜和多层膜是一种特殊的光学器件,用于控制光的传播和反射。
它们通过控制薄膜的厚度和折射率,实现光的干涉、衍射和透射等效应。
深入了解光的光学薄膜和多层膜的原理和应用,有助于优化光学器件的设计和性能,推动光学技术的研究和应用。
增透膜原理的原理

增透膜原理的原理
增透膜原理是一种利用多层薄膜的反射和干涉现象来增强特定波长的透射的技术。
其主要原理如下:
1. 反射:当光线经过两种介质界面时,一部分光线会被反射,形成反射光。
根据菲涅尔公式,反射光的强度与入射角度和介质折射率之间的关系有关。
2. 干涉:当多层薄膜叠加在一起时,反射光和透射光之间会发生干涉现象。
干涉是由于不同波长的光在薄膜内部多次反射和折射导致的。
3. 折射:当光线从一个介质进入另一个折射率不同的介质时,光线会发生折射,入射角和折射角之间存在一定的关系,由斯涅尔定律描述。
根据以上原理,增透膜由多层薄膜组成,每一层薄膜的厚度和折射率选择合适的数值,使得特定波长的光线经过多次反射和折射后相位差最小,以增强这个波长的透射,而对其他波长的光线则相位差不同,导致干涉后减弱透射。
这样,增透膜可以实现选择性增强特定波长的透射,可应用于光学领域,如增透镜片、光电显示屏等。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
α′ α′ aI − aR sin α ′ = n ≅n ≅ α α aT sin α
上面的等式中应用了条件: 掠入射角很小; n ≅ 1 这一事实。 利用 aI
+ aR = aT ,上式可以变为: aI − aR α ′ = aI + aR α
同步辐射应用基础 15
2011/11/22
定义振幅反射率 r 及透射率t:
cos α = n cos α ′
2011/11/22 同步辐射应用基础 13
由于 α 和 α’ 都为小量,可将余弦函数展开为幂级数:
cos α = n cos α ′
α ′2 1− + ≅ (1 − δ + i β ) 1 − + 2! 2!
α2
忽略高级小量:
α = α ′ + 2δ − 2iβ
自然光的全反射
Total Internal Reflection
n1 sin θ1 = n2 sin θ2
n1 > n2
θ2 = π/2
n1 sin θc = n2 sin π/2 sin θc = n2 /n1
θ1 =θc
同步辐射应用基础
4
自然光的色散现象
Dispersion of Light
国家同步辐射实验室
2011年研究生课
《同步辐射应用基础》(2011年11月15日)
3. 薄膜、多层膜的X射线反射 1. X射线在界面中的传播与折射 2. 在X射线区域的 Snell 公式及 Fresnel 方程 3. 均匀薄层(薄膜)的X射线反射 4. 多层膜的镜面反射(Specular Reflectivity) 5. 有限梯度界面的反射率 6. 具有粗糙度的界面和表面的反射率
在界面交界处(z=0)利用边界的连续性条件,包括波函 数
Ψ =ae
ik ⋅r
以及它们导数的连续性条件,可得到X射线区
域反射定律、Snell 公式及费涅耳( Fresnel )方程。 在 z=0(界面)各处平行的场分量都是连续的,则沿界面所有 波的相位和振幅变化必然完全相同。这就要求电磁波函数里 的波矢的 x 方向分量满足:
2011/11/22
同步辐射应用基础
7
δ、β 都是些小量,这点可以通过一个简单的例子来证
实。我们来考虑碳: Density ρm= 2.27 g/cm3 ; 光子能量 = 3123.26 eV;
f10 (ω ) = 6.09130 f 20 (ω ) = 0.071408
na re λ 2 0 −5 ( ) 4.8998 10 = = × δ f ω 1 2π 2 n r λ −7 0 β a e = × ( ) 5.7441 10 f= ω 2 2π
nred < nyellow < ngreen < nblue
同步辐射应用基础 5
这里依赖频率(能量)的折射率 n(ω) 为
= ) n(ω e 2 na gs 1− ∑ ε 0 m s (ω 2 − ωs2 ) + iγω
gs 1 e 2 na → ≅ 1− ∑ 2 ε 0 m s (ω 2 − ωs2 ) + iγω 1 e 2 na 2π c = 1− 2 ε 0m λ
f10 (ω ) = 6.00806 f (ω ) = 0.00358382
0 2
= na
2.27 6.022 ×1023 = Na 12.01 A =1.1382 ×1023 atoms / cm3
ρm
= 0.11382 atoms / A3
3 0.68292 / = = electrons A ρ Zn a
2011/11/22
同步辐射应用基础
22
下面考虑几种极端情况,为简单起见假设 bµ << 1
2 2 ′ q ( q ) = + 1 − i 2bµ 可以近似为: q >> 1 1) ,则由
q 2 ≅ [Re(q′) + i Im(q′)]2 − i 2bµ
综合上面的两个公式的结果即是 Fresnel 方程式:
α − α ′ α − α 2 − 2δ + 2i β α − (α 2 − α 2 ) + 2i β c r = = = α + α ′ α + α 2 − 2δ + 2i β α + (α 2 − α c2 ) + 2i β 2α 2α 2α t = = = α + α ′ α + α 2 − 2δ + 2i β α + (α 2 − α 2 ) + 2i β c
相应的强度反射率 R(折射率 T )即为振幅反射率(折射率) 的模平方: R= | r |2= r ⋅ r *
2 * T = | t | = t ⋅ t
2011/11/22
同步辐射应用基础
17
由式
α ′=
(α − α ) + 2i β
2 2 c
可知 α ′ 为复数,可以表示为:
= α ′ Re(α ′) + i Im(α ′)
cos α = n cos α ′
α c 定义为全反射的临界角。由
cos α c ≅ (1 −
Snell 公式和折射率公式
展开后可忽略高阶项,这样我们得到:
αc2
2!
1− δ + ) =
α c = 2δ
根据典型的数值, 大约在几个毫弧度左右。
2011/11/22 同步辐射应用基础 10
2. 在X射线区域的 Snell 公式及 Fresnel 方程
在真空中 = = k |k I | | k= R | 2π / λ 在介质材料中 nk =| k T | ;
;
3. 分量的表达式,对于平行、垂直于边界表面的分量:
− aT (nk ) sin α ′ − aI k sin α + aR k sin α = aT (nk )cos α ′ aI k cos α + aR k cos α = ⇓ (aI + aR )cos α = aT n cos α ′ aT , 即可得Snell公式: 应用边界条件 aI + aR =
2 na re λ 0 −6 = δ f1 (ω ) 3.0609 ×10 2π 2 na re λ 0 −9 = 1.8258 ×10 β f= 2 (ω ) 2π
2011/11/22 同步辐射应用基础 9
下面的公式是联系真空(n=1)与不同介质(n<1)界面 的掠入射角α 和α’ 的Snell公式:
aR aT r ≡ ,t ≡ aI aI
′ − a a α I R 将前面的式子 化简: = aI + aR α
1− r α ′ = ⇒ (1 − r )α = (1 + r )α ′ 1+ r α
所以有:
α −α′ r= α +α′
同步辐射应用基础 16
2011/11/22
再将 aI
+ aR = aT 两边同除 aI 即得关系式 1+r = t , 所以 2α α −α′ = t =1 + r =1 + α +α′ α +α′
cos α = n cos α ′
斯涅耳 (Snell)公式,也称为折射定律。
由连续性条件,我们不难 得到 振幅(参见右下图): 振幅的边界条件:
aI + aR = aT aT k T aI k I + aR k R =
2011/11/22 同步辐射应用基础 12
1. 2.
2 2
= α′ =
同步辐射应用基础
α − 2δ + 2i β
2
= α ′ + α − 2i β
2 2 c
2011/11/22
α − α + 2i β
2 2 c
14
下面由边界条件:
− aI k sin α + aR k sin α = − aT (n k )sin α ′
推导 Fresnel 方程。
代入波函数,可了解透射波在介质中随深度的衰减情况:
α ′ Re(α ′ ) +i Im(α ′ ) = aT eikα ′z → aT eik Re(α ′) z e − k Im(α ′) z
贯穿深度 Λ 定义为强度下降为 1/e =0.36788 时的深度, 由上式我们得到:
e
2011/11/22
ˆˆˆ kI ⋅ x = k R ⋅ x = kT ⋅ x = k k= kT cos αT I cos α I R cos α R k cos α I = k cos α R ⇒ α I = α R = α
2011/11/22
入射角等于反射角:反射定律 同步辐射应用基础
11
′ = k cos α k= α nk α cos cos T T
2011/11/22
= na
2.27 6.022 ×1023 = Na 12.01 A =1.1382 ×1023 atoms / cm3
ρm
= 0.11382 atoms / A3 0.68292 electrons / A3 = = ρ Zn a
同步辐射应用基础
8
我们来考虑碳另一光子能量情况: Density ρm= 2.27 g/cm3 ; 光子能量 = 12412.8 eV (~1.0 埃);
2
临界处的 Qc 为:
= Qc 2= kα c 2k 2δ
2011/11/22 同步辐射应用基础 20
由这些公式,及一些基本的物理常数如电子密度、吸收系数 和原子散射因子的反常散射的色散修正项 f’,可以算出 Qc 和 bµ ,复数 q’ 可由前式求得。